JP4925101B2 - ビーム照射方法、及び、ビーム照射装置 - Google Patents
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Description
11 光学機構
12 可動ミラー
13 マスク
13a マスク移動機構
13b 開口部
14 結像レンズ
15 XYステージ
16 制御装置
30 レーザビーム
35 矩形状領域
50 半導体ウエハ
51 部分照射領域
Claims (6)
- (a)加工領域中に、第1の形状の入射領域を形成して入射するパルスレーザビームを、入射領域が部分的に重複するように入射位置をずらしながら、かつ、該加工領域の全域が隈なく照射され、パルスレーザビームの入射領域が該加工領域の外側にははみ出さないように、複数ショット照射する工程と、
(b)前記加工領域内のうち、前記工程(a)でパルスレーザビームのショット数が不足する不足領域に、該不足領域の形状に対応した第2の形状の入射領域を形成して入射するパルスレーザビームを照射する工程と
を有し、
前記加工領域の全域にわたって等しいショット数のパルスレーザビームを入射させるビーム照射方法。 - 前記第1及び第2の形状は、透過領域を備えるマスクに、パルスレーザビームを入射させ、その一部を遮ることにより形成する請求項1に記載のビーム照射方法。
- 前記第1の形状は、前記マスクの透過領域の全域にパルスレーザビームを入射させて形成し、前記第2の形状は、前記マスクの透過領域の一部にパルスレーザビームを入射させて形成する請求項2に記載のビーム照射方法。
- 前記工程(a)において、前記加工領域を一定速度で移動させることにより、前記加工領域中にパルスレーザビームを、入射領域が部分的に重複するように照射する請求項1〜3のいずれか1項に記載のビーム照射方法。
- パルスレーザビームを出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源を出射したパルスレーザビームを偏向する、偏向角可変のビーム偏向器と、
前記ビーム偏向器で偏向されたパルスレーザビームが入射する位置に配置された、透過領域を備えるマスクと、
前記マスクの透過領域を透過したパルスレーザビームが入射する位置に配置され、加工対象物を保持し、保持した加工対象物を、パルスレーザビームの進行方向と交差する方向に移動させることのできる可動ステージと、
前記マスクの透過領域がパルスレーザビーム断面に内包される状態と、前記マスクの透過領域の一部分のみがパルスレーザビーム断面と重なる状態とが切り替えられるように、前記ビーム偏向器の偏向角を変化させ、前記加工対象物上に画定された加工領域の全域にわたって等しいショット数のパルスレーザビームを入射させる制御装置と
を有するビーム照射装置。 - 更に、前記マスクを、パルスレーザビームの進行方向と交差する方向に移動させるマスク移動装置を含む請求項5に記載のビーム照射装置。
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