JP3224942B2 - 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の輝点欠陥修正方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方法Info
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- JP3224942B2 JP3224942B2 JP14610494A JP14610494A JP3224942B2 JP 3224942 B2 JP3224942 B2 JP 3224942B2 JP 14610494 A JP14610494 A JP 14610494A JP 14610494 A JP14610494 A JP 14610494A JP 3224942 B2 JP3224942 B2 JP 3224942B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液晶表示装置の輝点
欠陥を修正する方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表
示装置の製造方法に関するものである。
欠陥を修正する方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表
示装置の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】アクティブマトリクス型液晶表示装置
は、図４に示すように、液晶１を挟んで相対向する２枚
のガラス基板２，３を備えている。これらのガラス基板
２，３のうちガラス基板２はアレイ基板と称されるもの
で、このガラス基板２の液晶側表面には、多数本の信号
ラインと走査ラインがマトリクス状に形成されている。
そして、これら信号ラインと走査ラインとの交差部に画
素電極に電荷を充放電するためのＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）４が設けられており、これらのＴＦＴ４に隣接し
て１００×１００〜４００×４００μｍ程度の大きさを
有する多数の画素電極５が図５に示す如くマトリクス状
に設けられている。
は、図４に示すように、液晶１を挟んで相対向する２枚
のガラス基板２，３を備えている。これらのガラス基板
２，３のうちガラス基板２はアレイ基板と称されるもの
で、このガラス基板２の液晶側表面には、多数本の信号
ラインと走査ラインがマトリクス状に形成されている。
そして、これら信号ラインと走査ラインとの交差部に画
素電極に電荷を充放電するためのＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）４が設けられており、これらのＴＦＴ４に隣接し
て１００×１００〜４００×４００μｍ程度の大きさを
有する多数の画素電極５が図５に示す如くマトリクス状
に設けられている。
【０００３】一方、前記ガラス基板３はカラーフィルタ
基板と称されるもので、このガラス基板３の液晶側表面
には、図４に示すように、着色層６、保護膜７が形成さ
れているとともに、透明導電膜８が形成されている。こ
の透明導電膜８は液晶表示装置の共通電極を形成するも
のであり、ガラス基板３の表面全体を覆っている。
基板と称されるもので、このガラス基板３の液晶側表面
には、図４に示すように、着色層６、保護膜７が形成さ
れているとともに、透明導電膜８が形成されている。こ
の透明導電膜８は液晶表示装置の共通電極を形成するも
のであり、ガラス基板３の表面全体を覆っている。
【０００４】また、前記ガラス基板２およびガラス基板
３の液晶側表面には、図４に示すように、ポリイミドか
らなる配向膜９，１０が液晶１と接するように形成され
ている。
３の液晶側表面には、図４に示すように、ポリイミドか
らなる配向膜９，１０が液晶１と接するように形成され
ている。
【０００５】なお、前記ガラス基板２，３の液晶側と反
対側の表面には、偏光板１１，１２が設けられている。
ところで、このような構成のアクティブマトリクス型液
晶表示装置は、製造工程において不良が発生し易い。Ｔ
ＦＴが動作不良を起こす場合や、画素電極または配向膜
が正常に形成されていない場合には、画素において透過
光を遮断することができなくなり、その部分が輝点欠陥
となって現れることが知られている。
対側の表面には、偏光板１１，１２が設けられている。
ところで、このような構成のアクティブマトリクス型液
晶表示装置は、製造工程において不良が発生し易い。Ｔ
ＦＴが動作不良を起こす場合や、画素電極または配向膜
が正常に形成されていない場合には、画素において透過
光を遮断することができなくなり、その部分が輝点欠陥
となって現れることが知られている。
【０００６】このような輝点欠陥は液晶表示装置に表示
される画像の画質を低下させるため、液晶表示装置の製
造工程においては不良を発生させないように注意を要す
る。しかし、輝点欠陥が全く存在しない液晶表示装置を
作ることは技術的に極めて困難である。
される画像の画質を低下させるため、液晶表示装置の製
造工程においては不良を発生させないように注意を要す
る。しかし、輝点欠陥が全く存在しない液晶表示装置を
作ることは技術的に極めて困難である。
【０００７】そこで、このような液晶表示装置の輝点欠
陥を修正する方法として、レーザ光を用いてＴＦＴのゲ
ート電極とドレイン電極とを接続し、常に欠陥画素の表
示電極部に直流電圧を印加し、画素の透過光を減少させ
て目立たなくする方法が考案されている（特開平５−２
１０１１１号公報参照）。
陥を修正する方法として、レーザ光を用いてＴＦＴのゲ
ート電極とドレイン電極とを接続し、常に欠陥画素の表
示電極部に直流電圧を印加し、画素の透過光を減少させ
て目立たなくする方法が考案されている（特開平５−２
１０１１１号公報参照）。
【０００８】しかし、このリペア方法は画素電極部に印
加される直流電圧によって液晶中のイオンがリペア部の
片側電極に集中し、液晶表示装置の寿命を短くするとい
う難点がある。
加される直流電圧によって液晶中のイオンがリペア部の
片側電極に集中し、液晶表示装置の寿命を短くするとい
う難点がある。
【０００９】また、欠陥部の画素電極に直流電圧を印加
せずに輝点欠陥を修正する方法として、液晶表示装置の
配向膜にレーザ光を照射し、図６に示すように配向膜９
を画素単位で部分的に除去することによって欠陥画素部
の透過光を選択的に減少させ、目立たなくする方法が考
案されている（特開昭６０−２４３６３５号公報参
照）。
せずに輝点欠陥を修正する方法として、液晶表示装置の
配向膜にレーザ光を照射し、図６に示すように配向膜９
を画素単位で部分的に除去することによって欠陥画素部
の透過光を選択的に減少させ、目立たなくする方法が考
案されている（特開昭６０−２４３６３５号公報参
照）。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
６０−２４３６３５号公報に記載された方法は、図７に
示すように、液晶表示装置の画素（画素電極５）とほぼ
同じ大きさのスポットサイズのレーザ光１３を照射して
いたため、平均入熱量が高い。このため、配向膜以外の
膜（例えば保護膜、オーバーコート、着色層等）がレー
ザ光によって熱的損傷を受け易いという問題があった。
この保護膜、オーバーコート、着色層等が熱的損傷を受
けると、光の透過率が十分に低下しないばかりか、リペ
アした製品の信頼性が著しく損なわれる。
６０−２４３６３５号公報に記載された方法は、図７に
示すように、液晶表示装置の画素（画素電極５）とほぼ
同じ大きさのスポットサイズのレーザ光１３を照射して
いたため、平均入熱量が高い。このため、配向膜以外の
膜（例えば保護膜、オーバーコート、着色層等）がレー
ザ光によって熱的損傷を受け易いという問題があった。
この保護膜、オーバーコート、着色層等が熱的損傷を受
けると、光の透過率が十分に低下しないばかりか、リペ
アした製品の信頼性が著しく損なわれる。
【００１１】また、平均入熱が高い条件で加工するもう
１つの弊害は、熱によって液晶が急激に気化し、加工し
ている画素部の表面が液晶によって冷却されないため、
熱的損傷がより顕著となるということであった。
１つの弊害は、熱によって液晶が急激に気化し、加工し
ている画素部の表面が液晶によって冷却されないため、
熱的損傷がより顕著となるということであった。
【００１２】この発明は上述した事情に鑑みてなされた
もので、その目的は配向膜以外の膜（例えば保護膜、オ
ーバーコート、着色層等）にレーザ光による熱的な損傷
を与えることなく液晶表示装置の輝点欠陥を修正するこ
とのできる液晶表示装置の輝点欠陥修正方法およびその
装置を提供しようとするものである。
もので、その目的は配向膜以外の膜（例えば保護膜、オ
ーバーコート、着色層等）にレーザ光による熱的な損傷
を与えることなく液晶表示装置の輝点欠陥を修正するこ
とのできる液晶表示装置の輝点欠陥修正方法およびその
装置を提供しようとするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明の液晶表示装置の輝点欠陥修正
方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方
法は次のように構成されている。 （１）アクティブマトリクス型の液晶表示装置の配向膜
にレーザ光を照射して前記液晶表示装置の輝点欠陥を修
正する液晶表示装置の輝点欠陥修正方法において、前記
レーザ光の照射は、前記液晶表示装置の画素の１／２以
下のスポットのレーザ光を所定の繰り返し周波数で二次
元方向に走査させながら前記配向膜に照射することによ
り前記配向膜を部分的に除去して前記輝点欠陥を修正す
ることを特徴とする。 （２）上記（１）に記載された液晶表示装置の輝点欠陥
修正方法であって、前記レーザ光のスポット径は、１μ
ｍ〜５μｍであることを特徴とする。 （３）上記（１）に記載された液晶表示装置の輝点欠陥
修正方法であって、前記レーザ光のエネルギは、０．１
μＪ／Ｐ〜１０μＪ／Ｐであることを特徴とする。 （４）上記（１）に記載された液晶表示装置の輝点欠陥
修正方法であって、前記レーザ光の繰り返し周波数は、
１００Ｈｚ〜５００００Ｈｚであることを特徴とする。 （５）上記（１）に記載された液晶表示装置の輝点欠陥
修正方法であって、前記レーザ光の走査速度は、０．１
ｍｍ／ｓ〜１０ｍｍ／ｓであることを特徴とする。 （６）アクティブマトリクス型の液晶表示装置の配向膜
にレーザ光を照射し、このレーザ光により前記配向膜を
部分的に除去して前記液晶表示装置の輝点欠陥を修正す
る液晶表示装置の輝点欠陥修正装置において、前記レー
ザ光のスポットを前記液晶表示装置の画素の１／２以下
の大きさに集光させて所定の繰り返し周波数で前記配向
膜に照射させる照射手段と、前記レーザ光を前記液晶表
示装置の表示面と平行な面内の二次元方向に走査する走
査手段とを具備したことを特徴とする。 （７）欠陥画素の配向膜にレーザ光を照射することによ
り輝点欠陥を修正する修正工程を備えるアクティブマト
リクス型の液晶表示装置の製造方法において、前記修正
工程における前記レーザ光の照射は、前記液晶表示装置
の画素の１／２以下のスポットのレーザ光を所定の繰り
返し周波数で二次元方向に走査させながら前記配向膜に
照射することにより前記配向膜を部分的に除去して前記
輝点欠陥を修正することを特徴とする。 （８）上記（７）に記載された液晶表示装置の製造方法
であって、前記レーザ光のエネルギは、０．１μＪ／Ｐ
〜１０μＪ／Ｐであることを特徴とする。
達成するために、本発明の液晶表示装置の輝点欠陥修正
方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方
法は次のように構成されている。 （１）アクティブマトリクス型の液晶表示装置の配向膜
にレーザ光を照射して前記液晶表示装置の輝点欠陥を修
正する液晶表示装置の輝点欠陥修正方法において、前記
レーザ光の照射は、前記液晶表示装置の画素の１／２以
下のスポットのレーザ光を所定の繰り返し周波数で二次
元方向に走査させながら前記配向膜に照射することによ
り前記配向膜を部分的に除去して前記輝点欠陥を修正す
ることを特徴とする。 （２）上記（１）に記載された液晶表示装置の輝点欠陥
修正方法であって、前記レーザ光のスポット径は、１μ
ｍ〜５μｍであることを特徴とする。 （３）上記（１）に記載された液晶表示装置の輝点欠陥
修正方法であって、前記レーザ光のエネルギは、０．１
μＪ／Ｐ〜１０μＪ／Ｐであることを特徴とする。 （４）上記（１）に記載された液晶表示装置の輝点欠陥
修正方法であって、前記レーザ光の繰り返し周波数は、
１００Ｈｚ〜５００００Ｈｚであることを特徴とする。 （５）上記（１）に記載された液晶表示装置の輝点欠陥
修正方法であって、前記レーザ光の走査速度は、０．１
ｍｍ／ｓ〜１０ｍｍ／ｓであることを特徴とする。 （６）アクティブマトリクス型の液晶表示装置の配向膜
にレーザ光を照射し、このレーザ光により前記配向膜を
部分的に除去して前記液晶表示装置の輝点欠陥を修正す
る液晶表示装置の輝点欠陥修正装置において、前記レー
ザ光のスポットを前記液晶表示装置の画素の１／２以下
の大きさに集光させて所定の繰り返し周波数で前記配向
膜に照射させる照射手段と、前記レーザ光を前記液晶表
示装置の表示面と平行な面内の二次元方向に走査する走
査手段とを具備したことを特徴とする。 （７）欠陥画素の配向膜にレーザ光を照射することによ
り輝点欠陥を修正する修正工程を備えるアクティブマト
リクス型の液晶表示装置の製造方法において、前記修正
工程における前記レーザ光の照射は、前記液晶表示装置
の画素の１／２以下のスポットのレーザ光を所定の繰り
返し周波数で二次元方向に走査させながら前記配向膜に
照射することにより前記配向膜を部分的に除去して前記
輝点欠陥を修正することを特徴とする。 （８）上記（７）に記載された液晶表示装置の製造方法
であって、前記レーザ光のエネルギは、０．１μＪ／Ｐ
〜１０μＪ／Ｐであることを特徴とする。
【００１４】
【００１５】
【作用】液晶表示装置の画素よりも小さいスポットのレ
ーザ光を配向膜に照射すると、レーザ光の単位時間当り
の入熱量が低くなり、保護膜、オーバーコート、着色層
が損傷を受け難くなる。
ーザ光を配向膜に照射すると、レーザ光の単位時間当り
の入熱量が低くなり、保護膜、オーバーコート、着色層
が損傷を受け難くなる。
【００１６】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図１を参照して
説明する。なお、図４に示したものと同一部分には同一
符号を付し、その部分の説明は省略する。この発明の一
実施例に係る液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、図１
（ａ）に示すように、画素よりも小さいスポットのレー
ザ光１３を用い、このレーザ光１３をガラス基板２（ア
レイ基板）側から配向膜９に照射する。そして、図１
（ｂ）に示すように、配向膜９に照射されたレーザ光１
３を液晶表示装置の表示面と平行な面内の二次元方向に
走査し、図１（ｃ）に示すようにレーザ光１３で配向膜
９を画素単位で部分的に除去して輝点欠陥画素部の透過
率を減少させる。
説明する。なお、図４に示したものと同一部分には同一
符号を付し、その部分の説明は省略する。この発明の一
実施例に係る液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、図１
（ａ）に示すように、画素よりも小さいスポットのレー
ザ光１３を用い、このレーザ光１３をガラス基板２（ア
レイ基板）側から配向膜９に照射する。そして、図１
（ｂ）に示すように、配向膜９に照射されたレーザ光１
３を液晶表示装置の表示面と平行な面内の二次元方向に
走査し、図１（ｃ）に示すようにレーザ光１３で配向膜
９を画素単位で部分的に除去して輝点欠陥画素部の透過
率を減少させる。
【００１７】このように、画素よりも小さいスポットの
レーザ光１３を配向膜９に照射すると、欠陥画素の全面
にレーザ光を一括して照射する方法に比較してレーザ光
１３の単位時間当りの入熱量が低くなり、保護膜７や着
色層６が熱的損傷を受けることなく液晶表示装置の輝点
欠陥を修正することができる。
レーザ光１３を配向膜９に照射すると、欠陥画素の全面
にレーザ光を一括して照射する方法に比較してレーザ光
１３の単位時間当りの入熱量が低くなり、保護膜７や着
色層６が熱的損傷を受けることなく液晶表示装置の輝点
欠陥を修正することができる。
【００１８】また、レーザ光１３のスポットを画素より
も小さくすることにより、平均入熱が下がるため、液晶
１の気化速度が遅くなり、液晶１の冷却効果によって保
護膜７や着色層６等の熱的損傷を防止することができ
る。
も小さくすることにより、平均入熱が下がるため、液晶
１の気化速度が遅くなり、液晶１の冷却効果によって保
護膜７や着色層６等の熱的損傷を防止することができ
る。
【００１９】なお、レーザ光１３の種類としてはＡＯＱ
スイッチ動作のＮｄ：ＹＡＧレーザ（波長１．０６μ
ｍ）や、Ｎｄ：ＹＡＧレーザの第２高調波あるいは第４
高調波等があげられ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザの基本波（波
長１．０６μｍ）および第２高調波（波長５３２ｎｍ）
はガラスに対する透過率が高い。
スイッチ動作のＮｄ：ＹＡＧレーザ（波長１．０６μ
ｍ）や、Ｎｄ：ＹＡＧレーザの第２高調波あるいは第４
高調波等があげられ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザの基本波（波
長１．０６μｍ）および第２高調波（波長５３２ｎｍ）
はガラスに対する透過率が高い。
【００２０】また、配向膜９に照射されるレーザ光１３
のスポットが画素の１／２以上の大きさであると、レー
ザ光１３を走査しても重なる部分が出てくるので、その
影響を除きたい場合は、レーザ光１３のスポットを画素
の１／２以下の大きさとする。ただし、あまり小さくす
ると走査が終わるまでに時間がかかるので、適宜、画素
やスポットの大きさ、レーザ光の強度等を勘案して決め
られる。例えば、レーザ光１３のスポット径は、例えば
画素電極５の大きさを１００〜４００μｍ×１００〜４
００μｍとした場合、１〜５μｍ程度が好ましい。
のスポットが画素の１／２以上の大きさであると、レー
ザ光１３を走査しても重なる部分が出てくるので、その
影響を除きたい場合は、レーザ光１３のスポットを画素
の１／２以下の大きさとする。ただし、あまり小さくす
ると走査が終わるまでに時間がかかるので、適宜、画素
やスポットの大きさ、レーザ光の強度等を勘案して決め
られる。例えば、レーザ光１３のスポット径は、例えば
画素電極５の大きさを１００〜４００μｍ×１００〜４
００μｍとした場合、１〜５μｍ程度が好ましい。
【００２１】さらに、レーザ光１３の走査速度として
は、例えばレーザ光１３のエネルギを０．１〜１０μＪ
／Ｐ、繰返し周波数を１００〜５００００Ｈｚとした場
合、０．１〜１０ｍｍ／ｓの範囲が好ましい。
は、例えばレーザ光１３のエネルギを０．１〜１０μＪ
／Ｐ、繰返し周波数を１００〜５００００Ｈｚとした場
合、０．１〜１０ｍｍ／ｓの範囲が好ましい。
【００２２】なお、膜厚が１０ｎｍのポリイミドからな
る配向膜に対し、レーザスポット径：３μｍ、レーザエ
ネルギ：１．０μＪ／Ｐ、繰返し周波数：１ｋＨｚのＹ
ＡＧレーザ光（波長１．０６μｍ）を照射し、配向膜に
照射されたＹＡＧレーザ光を１ｍｍ／ｓの速度で走査し
たところ、４００μｍ×２００μｍの輝点欠陥画素部を
透過する光の約８０％を遮断できることが実験により確
認することができた。
る配向膜に対し、レーザスポット径：３μｍ、レーザエ
ネルギ：１．０μＪ／Ｐ、繰返し周波数：１ｋＨｚのＹ
ＡＧレーザ光（波長１．０６μｍ）を照射し、配向膜に
照射されたＹＡＧレーザ光を１ｍｍ／ｓの速度で走査し
たところ、４００μｍ×２００μｍの輝点欠陥画素部を
透過する光の約８０％を遮断できることが実験により確
認することができた。
【００２３】また、リペアした液晶表示装置を分解し、
レーザ照射部の表面状態を電子顕微鏡およびオージェ分
析装置を用いて評価したところ、配向膜以外の膜は損傷
を受けていないことが確認できた。さらに、本方法の信
頼性をライフテストによって評価し、問題がないことも
確認している。
レーザ照射部の表面状態を電子顕微鏡およびオージェ分
析装置を用いて評価したところ、配向膜以外の膜は損傷
を受けていないことが確認できた。さらに、本方法の信
頼性をライフテストによって評価し、問題がないことも
確認している。
【００２４】図２はこの発明の他の実施例を示してお
り、この実施例に係る液晶表示装置の輝点欠陥修正方法
は、図２（ａ）に示すように、画素よりも小さいスポッ
トのレーザ光１３，１３を用い、このレーザ光１３，１
３を液晶表示装置の両側から配向膜９，１０に照射す
る。そして、配向膜９，１０に照射されたレーザ光１
３，１３を液晶表示装置の表示面と平行な面内の二次元
方向に走査し、レーザ光１３，１３で配向膜９，１０
を、図２（ｂ）に示すように画素単位で部分的に除去し
て輝点欠陥を修正する。
り、この実施例に係る液晶表示装置の輝点欠陥修正方法
は、図２（ａ）に示すように、画素よりも小さいスポッ
トのレーザ光１３，１３を用い、このレーザ光１３，１
３を液晶表示装置の両側から配向膜９，１０に照射す
る。そして、配向膜９，１０に照射されたレーザ光１
３，１３を液晶表示装置の表示面と平行な面内の二次元
方向に走査し、レーザ光１３，１３で配向膜９，１０
を、図２（ｂ）に示すように画素単位で部分的に除去し
て輝点欠陥を修正する。
【００２５】加工対象である配向膜９，１０は、膜厚が
数十ｎｍ程度で、主にポリイドで形成される場合が多
い。このため、配向膜９，１０はレーザ光に対する吸収
率が低く、加工特性の膜厚依存性が強い。そして、製造
工程における配向膜９，１０の膜厚のバラツキは、表示
品質に影響を与えない±１０％程度に管理されている。
このため、図１に示した方法では、極僅かであるものの
欠陥画素部の配向膜が残留し、光の漏れる領域が発生す
る。通常は、透過光の漏れエリアは非常に小さいため問
題にならないが、透過光の漏れを完全になくしたいとい
う要求もある。そこで、図２に示すように、液晶表示装
置の両側からレーザ光を照射する方法が有効である。こ
の方法は、図２に示すように、２つのレーザ光を用いて
アレイ基板２とカラーフィルタ基板３の両方の基板上の
配向膜９，１０を加工する。加工後は、両基板２，３の
配向膜９，１０が同じ場所で残留する確率が低いため、
画素全面にわたって確実に透過光を減少させることがで
きる。
数十ｎｍ程度で、主にポリイドで形成される場合が多
い。このため、配向膜９，１０はレーザ光に対する吸収
率が低く、加工特性の膜厚依存性が強い。そして、製造
工程における配向膜９，１０の膜厚のバラツキは、表示
品質に影響を与えない±１０％程度に管理されている。
このため、図１に示した方法では、極僅かであるものの
欠陥画素部の配向膜が残留し、光の漏れる領域が発生す
る。通常は、透過光の漏れエリアは非常に小さいため問
題にならないが、透過光の漏れを完全になくしたいとい
う要求もある。そこで、図２に示すように、液晶表示装
置の両側からレーザ光を照射する方法が有効である。こ
の方法は、図２に示すように、２つのレーザ光を用いて
アレイ基板２とカラーフィルタ基板３の両方の基板上の
配向膜９，１０を加工する。加工後は、両基板２，３の
配向膜９，１０が同じ場所で残留する確率が低いため、
画素全面にわたって確実に透過光を減少させることがで
きる。
【００２６】図３はこの発明の一実施例に係る輝点欠陥
修正装置の概略構成を示す図である。同図に示すよう
に、この発明の一実施例に係る輝点欠陥修正装置は、レ
ーザ発振器２１を備えており、このレーザ発振器２１か
ら発振されたＹＡＧレーザ光（波長１．０６μｍ）２２
は、ミラー２３および集光手段としての集光レンズ２４
を経てＸＹテーブル２５上に載置された液晶表示装置２
６の配向膜（図示せず）に照射されるようになってい
る。なお、図中２７はレーザ発振器２１からのレーザ光
２２を遮断するシャッタ、２８は液晶表示装置２６を照
明する照明装置である。
修正装置の概略構成を示す図である。同図に示すよう
に、この発明の一実施例に係る輝点欠陥修正装置は、レ
ーザ発振器２１を備えており、このレーザ発振器２１か
ら発振されたＹＡＧレーザ光（波長１．０６μｍ）２２
は、ミラー２３および集光手段としての集光レンズ２４
を経てＸＹテーブル２５上に載置された液晶表示装置２
６の配向膜（図示せず）に照射されるようになってい
る。なお、図中２７はレーザ発振器２１からのレーザ光
２２を遮断するシャッタ、２８は液晶表示装置２６を照
明する照明装置である。
【００２７】このような構成の輝点欠陥修正装置を用い
て液晶表示装置２６の輝点欠陥を修正する場合には、レ
ーザ発振器２１から発振されたレーザ光２２をミラー２
３および集光レンズ２４を経てＸＹテーブル２５上に載
置された液晶表示装置２６の配向膜に照射する。そし
て、レーザ光走査手段としてのＸＹテーブル２５を駆動
して液晶表示装置２６の配向膜に照射されたレーザ光２
２を液晶表示装置２６の表示面と平行な面内の二次元方
向に走査し、レーザ光２２により配向膜を部分的に除去
して輝点欠陥の透過率を減少させ、目立たなくする。
て液晶表示装置２６の輝点欠陥を修正する場合には、レ
ーザ発振器２１から発振されたレーザ光２２をミラー２
３および集光レンズ２４を経てＸＹテーブル２５上に載
置された液晶表示装置２６の配向膜に照射する。そし
て、レーザ光走査手段としてのＸＹテーブル２５を駆動
して液晶表示装置２６の配向膜に照射されたレーザ光２
２を液晶表示装置２６の表示面と平行な面内の二次元方
向に走査し、レーザ光２２により配向膜を部分的に除去
して輝点欠陥の透過率を減少させ、目立たなくする。
【００２８】このとき、液晶表示装置２６の配向膜に照
射されるレーザ光２２は、集光手段としての集光レンズ
２４によって液晶表示装置２６の画素よりも小さいスポ
ット（例えば１μｍ〜５μｍ）に集光されて液晶表示装
置２６の配向膜に照射される。従って、画素部の全面に
レーザ光を一括して照射する方法に比べて単位時間当り
の入熱量が低くなり、レーザ光による保護膜、オーバー
コート、着色層等の熱的損傷が低減される。
射されるレーザ光２２は、集光手段としての集光レンズ
２４によって液晶表示装置２６の画素よりも小さいスポ
ット（例えば１μｍ〜５μｍ）に集光されて液晶表示装
置２６の配向膜に照射される。従って、画素部の全面に
レーザ光を一括して照射する方法に比べて単位時間当り
の入熱量が低くなり、レーザ光による保護膜、オーバー
コート、着色層等の熱的損傷が低減される。
【００２９】従って、配向膜以外の膜に熱的な損傷を与
えることなく液晶表示装置の輝点欠陥を修正することが
できる。なお、上述した実施例ではレーザ光２２を二次
元方向に走査する手段としてＸＹテーブル２５を用いた
が、レーザ発振器２１、ミラー２３および集光レンズ２
４を含む系全体を二次元方向に移動させるようにしても
良い。
えることなく液晶表示装置の輝点欠陥を修正することが
できる。なお、上述した実施例ではレーザ光２２を二次
元方向に走査する手段としてＸＹテーブル２５を用いた
が、レーザ発振器２１、ミラー２３および集光レンズ２
４を含む系全体を二次元方向に移動させるようにしても
良い。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、配向膜以外の膜に熱的な損傷を与えることなく液晶
表示装置の輝点欠陥を修正することのできる液晶表示装
置の輝点欠陥修正方法およびその輝点欠陥修正装置を提
供できる。
ば、配向膜以外の膜に熱的な損傷を与えることなく液晶
表示装置の輝点欠陥を修正することのできる液晶表示装
置の輝点欠陥修正方法およびその輝点欠陥修正装置を提
供できる。
【図１】この発明の一実施例に係る液晶表示装置の輝点
欠陥修正方法を示す図。
欠陥修正方法を示す図。
【図２】この発明の他の実施例に係る液晶表示装置の輝
点欠陥修正方法を示す図。
点欠陥修正方法を示す図。
【図３】この発明の一実施例に係る輝点欠陥修正装置の
概略構成を示す図。
概略構成を示す図。
【図４】アクティブマトリクス型液晶表示装置の構造を
示す断面図。
示す断面図。
【図５】ガラス基板の液晶側表面に形成された画素電極
を示す図。
を示す図。
【図６】従来の輝点欠陥修正方法を示す図。
【図７】従来法によって用いられるレーザ光の照射スポ
ットを示す図。
ットを示す図。
１…液晶 ２，３…ガラス基板 ４…ＴＦＴ ５…画素電極 ６…着色層 ７…保護膜 ８…透明導電膜 ９，１０…配向膜 １１，１２…偏光板 １３…レーザ光 ２１…レーザ発振器 ２３…ミラー ２４…集光レンズ ２５…ＸＹテーブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/13 101 G02F 1/1337 G02F 1/1343
Claims (8)
- 【請求項１】アクティブマトリクス型の液晶表示装置の
配向膜にレーザ光を照射して前記液晶表示装置の輝点欠
陥を修正する液晶表示装置の輝点欠陥修正方法におい
て、 前記レーザ光の照射は、前記液晶表示装置の画素の１／
２以下のスポットのレーザ光を所定の繰り返し周波数で
二次元方向に走査させながら前記配向膜に照射すること
により前記配向膜を部分的に除去して前記輝点欠陥を修
正することを特徴とする液晶表示装置の輝点欠陥修正方
法。 - 【請求項２】前記レーザ光のスポット径は、１μｍ〜５
μｍであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装
置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項３】前記レーザ光のエネルギは、０．１μＪ／
Ｐ〜１０μＪ／Ｐであることを特徴とする請求項１記載
の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項４】前記レーザ光の繰り返し周波数は、１００
Ｈｚ〜５００００Ｈｚであることを特徴とする請求項１
記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項５】前記レーザ光の走査速度は、０．１ｍｍ／
ｓ〜１０ｍｍ／ｓであることを特徴とする請求項１記載
の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。 - 【請求項６】アクティブマトリクス型の液晶表示装置の
配向膜にレーザ光を照射し、このレーザ光により前記配
向膜を部分的に除去して前記液晶表示装置の輝点欠陥を
修正する液晶表示装置の輝点欠陥修正装置において、 前記レーザ光のスポットを前記液晶表示装置の画素の１
／２以下の大きさに集光させて所定の繰り返し周波数で
前記配向膜に照射させる照射手段と、 前記レーザ光を前記液晶表示装置の表示面と平行な面内
の二次元方向に走査する走査手段とを具備したことを特
徴とする輝点欠陥修正装置。 - 【請求項７】欠陥画素の配向膜にレーザ光を照射するこ
とにより輝点欠陥を修正する修正工程を備えるアクティ
ブマトリクス型の液晶表示装置の製造方法において、 前記修正工程における前記レーザ光の照射は、前記液晶
表示装置の画素の１／２以下のスポットのレーザ光を所
定の繰り返し周波数で二次元方向に走査させながら前記
配向膜に照射することにより前記配向膜を部分的に除去
して前記輝点欠陥を修正することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法。 - 【請求項８】前記レーザ光のエネルギは、０．１μＪ／
Ｐ〜１０μＪ／Ｐであることを特徴とする請求項７記載
の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14610494A JP3224942B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14610494A JP3224942B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0815660A JPH0815660A (ja) | 1996-01-19 |
| JP3224942B2 true JP3224942B2 (ja) | 2001-11-05 |
Family
ID=15400244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14610494A Expired - Lifetime JP3224942B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法、その輝点欠陥修正装置及び液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3224942B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4660011B2 (ja) * | 2001-05-16 | 2011-03-30 | 東芝モバイルディスプレイ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| JP3673742B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2005-07-20 | レーザーフロントテクノロジーズ株式会社 | 液晶ディスプレイ装置の輝点欠陥修正方法およびその装置 |
| JP4011002B2 (ja) * | 2003-09-11 | 2007-11-21 | シャープ株式会社 | アクティブ基板、表示装置およびその製造方法 |
| JP3969408B2 (ja) * | 2004-09-06 | 2007-09-05 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置の欠陥補修方法および欠陥補修装置 |
| JP4723915B2 (ja) | 2005-06-03 | 2011-07-13 | 株式会社東芝 | 液晶パネルのリペア方法及びリペア装置 |
| JP4776291B2 (ja) | 2005-07-14 | 2011-09-21 | 株式会社東芝 | 液晶パネル及びそのリペア方法 |
-
1994
- 1994-06-28 JP JP14610494A patent/JP3224942B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0815660A (ja) | 1996-01-19 |
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