JPH08201813A - 液晶ディスプレイ用レーザリペア方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、液晶ディスプレイに対する安定した
リペアを行う。 【構成】液晶ディスプレイ２の欠陥画素Ｇ上に、パルス
レーザ発振器３０から出力されたＱスイッチ出力の１〜
３μｍの小径パルスレーザスポットをスキャンして欠陥
画素Ｇにおける配向性を低下させるもので、この場合、
各パルスレーザスポット間のオーバラップ率ａを、パル
スレーザスポット径ｄ、このパルスレーザの繰り返し周
波数ｆ、スキャン速度ｖとすると、 ａ＝１−（ｖ／ｆ・ｄ） で定義し、かつこのパルスレーザスポットのオーバラッ
プ率ａを０．５〜０．９に設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイを再
現性及び加工性よくリペアする液晶ディスプレイ用レー
ザリペア方法及びその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、アクティブマトリックス液晶デ
ィスプレイは、マトリックス状の複数の画素電極が配列
され、これら画素電極にそれぞれスイッチング素子が形
成されている。そして、これらスイッチング素子をオン
・オフ動作することにより、各画素電極に必要な電荷を
充放電して液晶を駆動している。

【０００３】このような構成の液晶ディスプレイは、各
画素を表示するために形成するスイッチング素子と画素
電極との数が、数１０万個に達し、中には１００万個を
越えるものも製造されるようになってきた。

【０００４】このような液晶ディスプレイにおいて、多
数の画素を形成する過程では、何らかの原因によってス
イッチング素子が動作しない、又は画素駆動電極が正常
に形成されないために液晶が駆動しない画素の箇所、つ
まり欠陥画素が発生する。

【０００５】このような欠陥画素をリペアする方法とし
ては、例えば特開昭６０−２４３６３５号公報にその開
示がある。このリペア方法は、画素サイズに近い比較的
大きな径のレーザスポット、例えば７０×２００μｍの
レーザスポットに形成し、このレーザを数ショット配向
膜や画素電極に照射し、これら配向膜や画素電極を除去
加工するものである。

【０００６】このように配向膜や画素電極を除去するこ
とで、液晶層の配向を乱だしてリペアを行ってきたが、
この配向膜や画素電極の除去加工について詳細な実験を
行って検討した結果、これら配向膜や画素電極を完全に
除去すると、輝度が低下する場合もあるが、レーザ照射
時の分解生成物によって周囲の画素に新たな欠陥が生じ
ることが確認された。

【０００７】このため、リペア後に、欠陥画素を発生さ
せない安定したリペアを行うためには、配向膜等を除去
する方法よりも、配向膜の表面を粗し、その配向を乱す
方法の方が有効であることが確認された。

【０００８】このように配向を乱す、つまり配向膜表面
のモホロジーを粗すためには、配向膜に急激な温度変化
を与えればよい。すなわち、配向膜へのレーザ照射を終
了した後は、このレーザ照射後に配向膜は冷却され、こ
の冷却過程で液晶が配向膜に常時接触することで実現す
る。

【０００９】しかしながら、画素サイズに近い比較的大
きな径のレーザスポットを一括して欠陥画素に照射する
方法では、配向膜を加工するために必要なレーザエネル
ギーが数ｍＪ／Ｐと大きいため、液晶はレーザ照射時に
蒸発し、このときに気化した液晶が、欠陥画素付近に気
泡となって滞在してしまう。このため、レーザ照射後の
冷却過程で液晶が配向膜に接触することは不可能とな
り、配向膜を除去しないでその表面を粗すことは困難で
ある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】以上のように安定した
リペアを行うために、画素サイズに近い比較的大きな径
のレーザスポットを欠陥画素に照射する方法では、液晶
がレーザ照射時に蒸発して欠陥画素付近に気泡となって
滞在し、レーザ照射後の冷却過程において液晶が配向膜
に接触すること出来ず、配向膜を除去しないでその表面
を粗すことは困難である。そこで本発明は、安定したリ
ペアができる液晶ディスプレイ用レーザリペア方法及び
その装置を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１によれば、液晶
ディスプレイの欠陥画素上に小径のパルスレーザスポッ
トをスキャンして欠陥画素における配向性を低下させる
もので、各パルスレーザスポット間のオーバラップ率ａ
を、パルスレーザスポット径ｄ、このパルスレーザの繰
り返し周波数ｆ、スキャン速度ｖとすると、 ａ＝１−（ｖ／ｆ・ｄ） で定義し、かつこのパルスレーザスポットのオーバラッ
プ率ａを０．５〜０．９に設定して上記目的を達成しよ
うとする液晶ディスプレイ用レーザリペア方法である。

【００１２】請求項２によれば、パルスレーザの繰り返
し周波数ｆを、オーバラップ率ａが一定値になるように
スキャン速度ｖに同期させる液晶ディスプレイ用レーザ
リペア方法である。

【００１３】請求項３によれば、液晶ディスプレイを載
置するテーブルと、パルスレーザ発振器と、このパルス
レーザ発振器から出力されたパルスレーザを小径スポッ
トに形成して液晶ディスプレイの欠陥画素に照射する照
射光学系と、テーブルと小径スポットのパルスレーザと
を相互に移動してこのパルスレーザを欠陥画素上にスキ
ャンさせるコントローラとを備え、かつ各パルスレーザ
スポット間のオーバラップ率ａを、パルスレーザスポッ
ト径ｄ、このパルスレーザの繰り返し周波数ｆ、スキャ
ン速度ｖとすると、 ａ＝１−（ｖ／ｆ・ｄ） で定義し、このパルスレーザスポットのオーバラップ率
ａを０．５〜０．９に設定して上記目的を達成しようと
する液晶ディスプレイ用レーザリペア装置である。

【００１４】請求項４によれば、パルスレーザの繰り返
し周波数ｆを、オーバラップ率ａが一定値になるように
スキャン速度ｖに同期させる液晶ディスプレイ用レーザ
リペア装置である。

【００１５】

【作用】請求項１によれば、欠陥画素上に、小径スポッ
トのパルスレーザを、そのオーバラップ率ａをａ＝１−
（ｖ／ｆ・ｄ）なる関係、具体的には０．５〜０．９に
設定してスキャンすることにより、配向膜の温度は上昇
し、このときに液晶から発生する気泡は少なく、レーザ
の通過後、液晶が配向膜に接触して冷却され、欠陥画素
における配向性は低下し、さらに配向膜や画素電極等に
対して入熱過剰とならず、別の欠陥を発生させることが
ない。

【００１６】請求項２によれば、パルスレーザの繰り返
し周波数ｆを、オーバラップ率ａが一定値になるように
スキャン速度ｖに同期させて、配向膜や画素電極等に対
して入熱過剰とならないようにしている。

【００１７】請求項３によれば、パルスレーザ発振器か
ら出力されたパルスレーザを照射光学系により小径スポ
ットに形成して液晶ディスプレイの欠陥画素に照射し、
この状態に、液晶ディスプレイを載置するテーブルと小
径スポットのパルスレーザとをコントローラにより相互
に移動し、パルスレーザを欠陥画素上にスキャンさせ
る。このとき、パルスレーザのオーバラップ率ａをａ＝
１−（ｖ／ｆ・ｄ）なる関係、具体的には０．５〜０．
９に設定してスキャンする。これにより、配向膜の温度
は上昇し、このときに液晶から発生する気泡は少なく、
レーザスポットの通過後、液晶が配向膜に接触して冷却
され、欠陥画素における配向性は低下する。そのうえ、
配向膜や画素電極等に対して入熱過剰とならず、別の欠
陥を発生させることがない。

【００１８】請求項４によれば、パルスレーザの繰り返
し周波数ｆを、オーバラップ率ａが一定値になるように
スキャン速度ｖに同期させることにより、確実に配向膜
や画素電極等に対して入熱過剰とならず、別の欠陥を発
生させることがない。

【００１９】

【実施例】以下、本発明の第１の実施例について図面を
参照して説明する。図１は液晶ディスプレイ用レーザリ
ペア装置の構成図である。ＸＹテーブル１上には、液晶
ディスプレイ２が載置されている。このＸＹテーブル１
には、開口３が形成され、この開口３の下方にバックラ
イト用の透過照明器具４が配置されている。

【００２０】液晶ディスプレイ２は、図２に示す断面構
成となっている。すなわち、２枚のガラス板１０、１１
が、シール材１２を介して対向配置されている。これら
ガラス板１０、１１の外側面には、それぞれ偏光フィル
ム１３、１４が形成されている。

【００２１】一方のガラス板１０の内側面には、Ｒ
（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の各カラーフィルター１５が形
成され、これらカラーフィルター１５を覆うように保護
膜１６が形成されている。

【００２２】この保護膜１６には、共通電極（ＩＴＯ）
１７が形成され、さらに配向膜１８が形成されている。
他方のガラス板１１の内側面には、各カラーフィルター
１５の配置位置に対応して各駆動部（薄膜トランジスタ
等を有する）１９が形成され、これら駆動部１９を覆う
ように配向膜２０が形成されている。

【００２３】そうして、これら配向膜１８、２０の間に
は、液晶２１が封入されている。なお、液晶２１が、共
通電極１７と駆動部１９との間において平行状態であれ
ば光を透過せず、共通電極１７と駆動部１９との方向に
並べば光を透過することは周知のことである。

【００２４】一方、ＱスイッチＮｄ：ＹＡＧレーザ発振
器（以下、レーザ発振器と省略する）３０が設けられて
いる。このＱスイッチＮｄ：ＹＡＧレーザを選定した理
由は、薄膜加工に有利な高いピークパワーが安定して得
られ、かつ光学系の製作が容易であり、さらにメンテナ
ンスが簡便といった特徴を有し、実用性が高いことによ
る。

【００２５】このレーザ発振器３０のレーザ光路上に
は、ハーフミラー３１が配置され、レーザ発振器３０か
ら出力されたパルスレーザが液晶ディスプレイ２に向か
って反射するものとなっている。

【００２６】このハーフミラー３１の反射光路上には、
照射光学系としての集光レンズ３２が配置されている。
この集光レンズ３２は、パルスレーザのレーザスポット
径を、例えば１〜３μｍの比較的小さいレーザスポット
径に集光して、液晶ディスプレイ２の画素上に照射する
機能を有している。

【００２７】コントローラ３３は、ＸＹテーブル１をＸ
Ｙ方向に移動制御して図３に示すようにＱスイッチ出力
のパルスレーザを欠陥画素Ｇ上にラスタースキャンさ
せ、かつこのときのレーザ発振器３０のパルスレーザの
繰り返し周波数ｆを、これらパルスレーザの欠陥画素Ｇ
上におけるオーバラップ率ａが一定値になるようにスキ
ャン速度ｖに同期させる機能を有している。

【００２８】具体的にコントローラ３３は、欠陥画素Ｇ
上にパルスレーザをラスタースキャンする場合、図４に
示すように各パルスレーザスポット間のオーバラップ率
ａを、画素を形成する材質や膜厚に応じた値に設定して
いる。

【００２９】すなわち、パルスレーザをスキャンしたと
きのずれ量をｘとしたときのパルスレーザスポットのオ
ーバラップ率ａは、パルスレーザスポット径ｄ、このパ
ルスレーザの繰り返し周波数ｆ、スキャン速度ｖとする
と、 ｘ＝ｖ／ｆ …(1) であり、 ａ＝（ｄ−ｘ）／ｄ …(2) と定義すれば、 ａ＝１−（ｖ／ｆ・ｄ） …(3) なる関係に設定される。

【００３０】このオーバラップ率ａは、具体的に例えば
０．５〜０．９に設定される。又、コントローラ３３
は、パルスレーザをラスタースキャンさせる場合、この
スキャン速度を図５に示すように起動時及び停止時にお
いてそれぞれ加減速しているので、レーザ発振器３０の
パルスレーザの繰り返し周波数ｆを、各パルスレーザの
欠陥画素Ｇ上におけるオーバラップ率ａが一定値になる
ように加減速のあるスキャン速度ｖに同期させる機能を
有している。

【００３１】又、液晶ディスプレイ２からハーフミラー
３１を通る光路上には、リレーレンズ３４を介してＣＣ
Ｄカメラ３５が配置されている。このＣＣＤカメラ３５
は、液晶ディスプレイ２を撮像してその画像信号をモニ
タテレビジョン等に送り、欠陥画素等を検索しやすいも
のとしている。

【００３２】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。ＣＣＤカメラ３５により液晶ディスプレ
イ２上の欠陥画素が検索されると、この欠陥画素に対す
るリペアが行われる。

【００３３】レーザ発振器３０は、繰り返し周波数ｆ、
例えば１ｋＨｚでＱスイッチ出力のパルスレーザを出力
する。これらパルスレーザは、ハーフミラー３１で反射
し、集光レンズ３２によりレーザスポット径ｄ、例えば
２μｍに集光されて欠陥画素Ｇ上に照射される。

【００３４】一方、コントローラ３３は、ＸＹテーブル
１をＸＹ方向に移動制御してパルスレーザを図３に示す
ように欠陥画素Ｇ上にラスタースキャンさせる。これと
共にコントローラ３３は、レーザ発振器３０のパルスレ
ーザの繰り返し周波数ｆを、これらパルスレーザの欠陥
画素Ｇ上におけるオーバラップ率ａが一定値になるよう
にスキャン速度ｖに同期させる。

【００３５】すなわち、コントローラ３３は、オーバラ
ップ率ａ、パルスレーザスポット径ｄ、このパルスレー
ザの繰り返し周波数ｆ、スキャン速度ｖとの関係が上記
式(3) を満足するように、欠陥画素Ｇ上にラスタースキ
ャンさせ、パルスレーザの繰り返し周波数ｆを制御す
る。

【００３６】このようにパルスレーザを欠陥画素Ｇにラ
スタースキャンさせると、これらパルスレーザは、図２
に示す液晶ディスプレイ２の配向膜１８に吸収され、こ
の配向膜１８の温度は上昇する。

【００３７】このとき、レーザスポット径２μｍの微小
なパルスレーザを照射するので、液晶２１に発生する気
泡は非常に少なくなる。従って、パルスレーザ通過後
は、液晶２１が配向膜１８に接触し、配向膜１８を急速
に冷却する。

【００３８】この冷却により配向膜１８は、この急激な
ヒートショックに起因する溶融、再凝固によって表面が
粗くなり、配向性が低下する。なお、典型的な加工条件
としては、レーザスポット径２μｍ、レーザエネルギー
１μＪ／Ｐ、パルスレーザの繰り返し周波数１ｋＨｚ、
スキャン速度１ｍｍ／ｓである。

【００３９】このように上記第１の実施例においては、
パルスレーザ発振器３０から出力されたＱスイッチ出力
のパルスレーザを集光レンズ３２により１〜３μｍの小
径レーザスポットに形成して欠陥画素Ｇに照射し、かつ
液晶ディスプレイ２を載置するＸＹテーブル１をコント
ローラ３３により移動制御してパルスレーザを欠陥画素
Ｇ上にラスタースキャンさせるので、パルスレーザは配
向膜１８に吸収されて配向膜の温度は上昇し、パルスレ
ーザ通過後は、液晶２１が配向膜１８に接触し、配向膜
１８を急速に冷却してこれに起因する溶融、再凝固によ
って配向膜１８の表面が粗くなり、配向性を低下でき
る。

【００４０】従って、配向膜１８を除去しなくても再現
性良く配向膜１８の表面を粗すことができ、欠陥画素Ｇ
の輝度を安定に低下できる。そのうえ、このときに液晶
２１から発生する気泡の量は少なく、この気泡によりレ
ーザ照射後の冷却過程で液晶２１が配向膜１８に接触不
可能となることはない。

【００４１】さらに、加工時に発生する気泡の量が減少
し、気泡が消えるまでに要する時間が２４時間から２時
間へと大幅に短縮されるので、液晶ディスプレイ２に対
する輝度判定を加工終了後の早い時間に行えるようにな
り、生産性を向上できる。

【００４２】又、パルスレーザのオーバーラップ率ａを
加工する配向膜１８の材質や膜厚に応じて適正範囲、例
えば０．５〜０．９程度に設定するので、確実に配向膜
１８や画素電極等に対して入熱過剰とならず、別の欠陥
を発生させることがない。

【００４３】すなわち、レーザエネルギー一定のもとオ
ーバーラップ率ａが適正範囲よりも高くなると、配向膜
１８への入熱は過剰となり、配向膜１８や画素電極１
７、１９、カラーフィルタ１５等が損傷として別の欠陥
が発生し、一方、オーバーラップ率ａが適正範囲よりも
低いと、単位面積当たりに照射されるレーザエネルギー
が減少し、配向膜１８は十分に加熱されなくなるが、本
発明ではこのような状態にはならない。

【００４４】又、パルスレーザのスキャン速度ｖは、図
５に示すように起動時、停止時に加減速しているが、こ
のスキャン速度ｖに同期してパルスレーザの繰り返し周
波数ｆを制御するので、スキャンの折り返し部でパルス
レーザのオーバーラップ率ａが高くなって配向膜１８へ
の入熱が過剰となることはない。

【００４５】次に本発明の第２の実施例について説明す
る。図６は輝点欠陥画素の修正に適用される液晶ディス
プレイ用レーザリペア装置の構成図である。

【００４６】ＸＹテーブル４０上には、液晶ディスプレ
イ２が載置されている。この液晶ディスプレイ２は、図
７に示すように簡略化して２枚のガラス板４１、４２を
対向配置し、これらガラス板４１、４２の各外側にそれ
ぞれ偏光板４３、４４を設け、かつこれらガラス板４
１、４２の間に液晶４５を封入した構成となっている。

【００４７】一方、パルスレーザ発振器４６としてＣＷ
励起ＡＯ−Ｑスイッチ動作のＦＨＧ−ＹＡＧレーザ発振
器が設けられている。このパルスレーザ発振器４６は、
波長２６６ｎｍのパルス状の紫外線レーザ光を出力する
ものとなっている。

【００４８】このパルスレーザ発振器４６のレーザ光路
上には、ミラー４７が配置され、このミラー４７の反射
光路上に集光光学系４８が配置されている。この集光光
学系４８は、パルスレーザ発振器４６から出力された紫
外線レーザ光を液晶ディスプレイ２のガラス板４１の付
近に集光、例えば３０μｍ程度の微小スポットに集光す
るものとなっている。

【００４９】コントローラ４９は、ＸＹテーブル４０を
動作制御するもので、パルスレーザ発振器４６から出力
された紫外線レーザを、液晶ディスプレイ２の画素上に
図３に示すようにラスタースキャンさせる機能を有する
ものである。

【００５０】この場合、紫外線レーザのスポット間のオ
ーバラップ率ａを、紫外線レーザスポット径ｄ、この紫
外線レーザの繰り返し周波数ｆ、スキャン速度ｖとする
と、 ａ＝１−（ｖ／ｆ・ｄ） で定義し、かつこのレーザスポットのオーバラップ率ａ
を０．５〜０．９に設定する。

【００５１】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。パルスレーザ発振器４６から紫外線レー
ザ光が出力されると、この紫外線レーザ光は、ミラー４
７で反射し、集光光学系４８により３０μｍ程度の微小
スポットに集光されて液晶ディスプレイ２の画素、つま
り輝点欠陥画素に照射される。

【００５２】このとき、紫外線レーザ光は、図７に示す
ように微小スポットに集光されてガラス板４１の表面上
に集光される。このような紫外線レーザ光の照射により
ガラス板４１及び偏光板４３は、共に波長２６６ｎｍの
紫外線レーザ光をほぼ１００％吸収するので、偏光板４
３は除去され、さらにガラス板４１の表面も除去加工さ
れて、いわゆるザラ加工される。

【００５３】一方、コントローラ４９は、ＸＹテーブル
４０を、紫外線レーザが液晶ディスプレイ２の輝点欠陥
画素上に図３に示すラスタースキャンさせるように動作
制御する。

【００５４】このＸＹテーブル４０の動作制御により紫
外線レーザ光は、輝点欠陥画素上に走査速度１ｍｍ／
ｓ、送りピッチ２０μｍでラスタースキャンする。この
結果、輝点欠陥画素におけるガラス板４１は、すり硝子
状に加工される。なお、輝点欠陥画素上における紫外線
レーザ光のラスタースキャンは、コントローラ４９の制
御により輝点欠陥画素よりもやや大きめの部分をすり硝
子状に加工している。

【００５５】図８は輝点欠陥画素に対するすり硝子状の
加工を施した液晶ディスプレイ２の断面図である。すり
硝子状に加工を施したガラス板４１により、この部分に
入射するバックライト光は散乱される。この結果として
輝点欠陥画素を透過するバックライト光は減少する。

【００５６】このように上記第２の実施例によれば、液
晶ディスプレイ２のガラス板４１の表面のみをすり硝子
状に加工するので、液晶ディスプレイ２内部を加工する
方法とは異なり、他の正常な画素に対して悪影響を及ぼ
すことなく、加工むらが生じない。これにより、輝点欠
陥画素の全体にわたり均一に透過光を減少でき、欠陥画
素のリペアを確実にできる。

【００５７】なお、本発明は、上記各実施例に限定され
るものでなく次の通りに変形してもよい。例えば、パル
スレーザのスキャン方法は、ラスタースキャンに限ら
ず、欠陥画素Ｇの全面に対してスキャンする方法であれ
ばよい。

【００５８】又、このパルスレーザのスキャンは、ＸＹ
テーブル１を移動制御するに限らず、パルスレーザを直
接移動させることにより、パルスレーザを欠陥画素Ｇ上
にスキャンさせてもよい。さらに、パルスレーザは、Ｑ
スイッチＮｄ：ＹＡＧレーザに限らず、薄膜加工に有利
な高いピークパワーが安定して得らるレーザであれば適
用できる。

【００５９】

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、安
定したリペアができる液晶ディスプレイ用レーザリペア
方法及びその装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる液晶ディスプレイ用レーザリペ
ア装置の第１の実施例を示す構成図。

【図２】液晶ディスプレイの構成図。

【図３】パルスレーザのラスタースキャンを示す図。

【図４】パルスレーザのスキャン速度や繰り返し周波数
等の関係を説明するための図。

【図５】パルスレーザの繰り返し周波数のスキャン速度
に対する同期を示す図。

【図６】本発明に係わる液晶ディスプレイ用レーザリペ
ア装置の第２の実施例を示す構成図。

【図７】液晶ディスプレイに対する紫外線レーザ光の照
射を示す図。

【図８】欠陥画素に対するすり硝子状の加工を施した液
晶ディスプレイの断面図。

【符号の説明】

１…ＸＹテーブル、２…液晶ディスプレイ、１８，２０
…配向膜、３０…ＱスイッチＮｄ：ＹＡＧレーザ発振器
（レーザ発振器）、３２…集光レンズ、３３…コントロ
ーラ、４０…ＸＹテーブル、４６…パルスレーザ発振
器、４８…集光光学系、４９…コントローラ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０９Ｇ 3/36

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶ディスプレイの欠陥画素上に小径の
   パルスレーザスポットをスキャンして前記欠陥画素にお
   ける配向性を低下させるもので、前記各パルスレーザス
   ポット間のオーバラップ率ａを、前記パルスレーザスポ
   ット径ｄ、このパルスレーザの繰り返し周波数ｆ、スキ
   ャン速度ｖとすると、 ａ＝１−（ｖ／ｆ・ｄ） で定義し、かつこのパルスレーザスポットのオーバラッ
   プ率ａを０．５〜０．９に設定することを特徴とする液
   晶ディスプレイ用レーザリペア方法。
2. 【請求項２】 パルスレーザの繰り返し周波数ｆを、オ
   ーバラップ率ａが一定値になるようにスキャン速度ｖに
   同期させることを特徴とする請求項１記載の液晶ディス
   プレイ用レーザリペア方法。
3. 【請求項３】 液晶ディスプレイを載置するテーブル
   と、 パルスレーザ発振器と、 このパルスレーザ発振器から出力されたパルスレーザを
   小径スポットに形成して前記液晶ディスプレイの欠陥画
   素に照射する照射光学系と、 前記テーブルと前記小径スポットのパルスレーザとを相
   互に移動してこのパルスレーザを前記欠陥画素上にスキ
   ャンさせるコントローラと、を備え、 かつ前記各パルスレーザスポット間のオーバラップ率ａ
   を、前記パルスレーザスポット径ｄ、このパルスレーザ
   の繰り返し周波数ｆ、スキャン速度ｖとすると、 ａ＝１−（ｖ／ｆ・ｄ） で定義し、このパルスレーザスポットのオーバラップ率
   ａを０．５〜０．９に設定することを特徴とする液晶デ
   ィスプレイ用レーザリペア装置。
4. 【請求項４】 パルスレーザの繰り返し周波数ｆを、オ
   ーバラップ率ａが一定値になるようにスキャン速度ｖに
   同期させることを特徴とする請求項３記載の液晶ディス
   プレイ用レーザリペア装置。