JP3742353B2 - 液晶表示装置の欠陥画素修正方法及び液晶表示装置の欠陥画素修正装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置の欠陥画素修正方法、および、欠陥画素修正装置に関し、特に、製造工程の中のセル工程およびモジュール工程で行われる配向乱しリペアに関する。
【０００２】
【従来の技術】
アクティブマトリックス型液晶表示装置は、液晶を挟んで対向する２枚のガラス基板を備えている。これらのガラス基板のうち、片方のガラス基板はアレイ基板と称され、このガラス基板には、多数本の信号線とＧａｔｅ線がマトリクス状に形成されている。信号線とＧａｔｅ線との交差部に画素電極に電荷を充放電するためのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が設けられている。また、これらのＴＦＴに隣接して１００μｍ〜４００μｍ程度の大きさを有する多数の画素電極がマトリクス状に設けられている。もう一方のガラス基板は、カラーフィルタ基板と称され、この基板には着色層、保護膜、透明導電膜が形成されている。この透明導電膜は液晶表示装置の共通電極を形成しており、カラーフィルタ基板の表面全体を覆っている。また、アレイ基板、および、カラーフィルタ基板の液晶側表面には、ポリイミドからなる配向膜が液晶と接するように形成されている。なお、前記アレイ基板、および、カラーフィルタ基板の液晶側と反対側の表面には、偏光板が設けられている。
【０００３】
ところで、このような構成のアクティブマトリクス型液晶表示装置は、製造工程において不良が発生し易い。ＴＦＴが動作不良を起こす場合や、画素電極または配向膜が正常に形成されていない場合には、透過光を遮断することができなくなり、その部分が輝点欠陥となって現れることが知られている。このような輝点欠陥は液晶表示装置の表示品質を低下させる。従って、品質を低下させないために、液晶表示装置の製造工程において輝点欠陥を発生させないように注意を要する。しかし、現在のところ、輝点欠陥が全く存在しない液晶表示装置を作ることは技術的に極めて困難である。
【０００４】
そこで、このような液晶表示装置の輝点欠陥を修正する方法として、レーザ光を欠陥画素に照射して配向膜を加工し、液晶の配向性を減少させることによって透過光を減少させるリペア方法が提案されている（例えば、特開平７−２２５３８１号公報、特開平８−１５６６０号公報、特開平８−２０１８１３号公報、特開平１０−２６０４１９号公報参照）。
【０００５】
しかし、これらのリペア方法では、欠陥画素の透過光を十分減少させることができない。このため、表示品質規格が厳しい製品に適用することができない。液晶表示装置の表示品質は年々厳しくなってきている。このため、透過光を十分減少させて輝点欠陥画素を暗くすることは非常に重要になってきている。
【０００６】
従来から提案されてきた方法として、繰り返し周波数を一定にして加工する方法と、テーブル移動にレーザパルスの繰り返し周波数を同期させて加工する方法とがある。しかし、いずれの方法も透過光が十分に減少しないという問題がある。この理由について、それぞれの方法毎にその理由を説明する。
【０００７】
まず、周波数を一定にして加工する場合について説明する。この方法は、レーザエネルギを一定とし、レーザスポットを走査して欠陥画素全面を加工する方法である。この方法では、各走査パスの開始点、および、終了点ではテーブルの走査速度が低下するため、単位面積当りに照射されるレーザスポット数が過剰となる。照射されるレーザスポット数が過剰になると、液晶パネルを構成している膜に損傷を与える。特に、着色層、ＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ ｏｎ Ａｒｒａｙ）といった膜が損傷を受けると、膜中の金属イオンが液晶中に拡散し「白ポツ」と言われる重大な欠陥が発生する。一方、これらの膜にダメージを与えないレーザエネルギ条件でリペア加工を実施すると、配向膜の除去が不十分となり透過光を十分に減少させることができなくなる。
【０００８】
次に、レーザの繰り返し周波数をテーブル移動に同期させる場合について図８を用いて説明する。この方法は、特開平８−２０１８１３などに示された方法である。この方法は、下式で定義されたオーバーラップ率ａが一定になるようにレーザ光の繰り返し周波数ｆをテーブル走査速度ｖに応じて制御する方法である。
【０００９】
パルスレーザを走査したときのずれ量をｘとしたときのパルスレーザスポットのオーバーラップ率ａは、レーザスポット径をｄ、レーザ光の繰り返し周波数をｆ、テーブル走査速度をｖとすると、次のように設定される。ずれ量ｘは、
ｘ＝ｖ／ｆ …（１）
で求められるので、オーバーラップ率ａを
ａ＝（ｄ−ｘ）／ｄ …（２）
と定義すれば、
ａ＝１−｛ｖ／（ｆｄ）｝…（３）
と設定される。ここで、
ａ：オーバーラップ率、
ｖ：テーブル走査速度、
ｄ：レーザスポット径、
ｆ：レーザ光の繰り返し周波数、
ｘ：パルスレーザを走査したときのずれ量
である。
【００１０】
ここで、従来のリペアの条件として、次のような条件が採用されている。
・テーブル走査速度：ｖ＝１０μｍ／ｓ〜１０ｍｍ／ｓ（最適値：１ｍｍ／ｓ）
・レーザスポット集光径ｄ＝２〜５μｍ（最適値：３μｍ）
・レーザ光の繰り返し周波数ｆ＝１０Ｈｚ〜１００ｋＨｚ（最適値：１ｋＨｚ）
・オーバーラップ率ａ＝５０〜９０％（最適値：６６％）
なお、オーバーラップ率ａは前述の（３）式で算出された値である。
【００１１】
この方法によれば、繰り返し周波数が一定の場合の方法のように各走査パスの開始点、および、終了点で、単位面積当りに照射されるレーザスポット数が過剰になることはない。また、レーザエネルギを適正な条件に設定すれば、液晶表示装置を構成している膜に損傷を与えることもない。しかし、実際にこの欠陥画素修正方法を製造ラインで適用したところ、透過光の減少が不十分であった。詳しく調査したところ、加工開始時の気泡の発生量が不十分なためであることがわかった。レーザ加工した欠陥画素の透過光が減少するのは、レーザ光で配向膜を加工した時に発生する飛散物が微細な粒子となって欠陥画素表面に堆積することで配向膜の液晶分子に対する配向性が低下するためである。従って、加工中に気泡が存在する状態でレーザスポットを走査しないと、欠陥画素の透過光量を十分に減少させることができない。従って、レーザ光の繰り返し周波数をテーブル移動に同期させた加工では、繰り返し周波数一定で加工する方法と比較して加工開始時の気泡発生量が少なくなる。このため、気泡が存在しない状態でレーザスポットが走査され、欠陥画素表面への微細粒子の堆積量が不足し、透過光量が十分減少しないという問題が避けられない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、液晶表示装置を構成している膜に損傷を与えることなく、欠陥画素の透過光を十分に減少させることが可能な液晶表示装置の欠陥画素修正方法及びその装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するために次のような手段を講じた。
【００１４】
本発明に係る液晶表示装置の欠陥画素修正方法は、液晶表示装置の欠陥画素にパルスレーザ光を照射し、このパルスレーザ光によって配向膜を加工して欠陥画素を修正する液晶表示装置の欠陥画素修正方法であって、加工点でのパルスレーザ光の集光径をｄ、パルスレーザ光の繰り返し周波数をｆ、走査速度をｖとしたときに、ａ＝１−｛ｖ／（ｆ・ｄ）｝で定義されたパルスレーザ光のオーバーラップ率ａが一定値になるように繰り返し周波数ｆを走査速度ｖに同期させながら、前記欠陥画素の略全面を略平行な複数本の線状に走査し、前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行うことを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る他の液晶表示装置の欠陥画素修正方法は、液晶表示装置の欠陥画素にパルスレーザ光を照射し、このパルスレーザ光によって配向膜を加工して欠陥画素を修正する液晶表示装置の欠陥画素修正方法であって、加工点でのパルスレーザ光の集光径をｄ、パルスレーザ光の繰り返し周波数をｆ、走査速度をｖとしたときに、ａ＝１−｛ｖ／（ｆ・ｄ）｝で定義されたパルスレーザ光のオーバーラップ率ａが一定値になるように繰り返し周波数ｆを走査速度ｖに同期させ、加工開始時のレーザエネルギを画素修正に係る最も高いレーザエネルギに設定することを特徴とする。ここにおいて、加工の進行に従って徐々にレーザエネルギを低下させることが好ましい。ここで、前記欠陥画素の略全面を略平行な複数本の線状に走査するようにして、前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行うことが好ましい。
【００１６】
本発明に係る液晶表示装置の欠陥画素修正装置は、液晶表示装置の欠陥画素にパルスレーザ光を照射する手段と、前記パルスレーザ光によって配向膜を加工して欠陥画素を修正する手段とを備え、前記欠陥画素修正手段は、加工点でのパルスレーザ光の集光径をｄ、パルスレーザ光の繰り返し周波数をｆ、走査速度をｖとしたときに、ａ＝１−｛ｖ／（ｆ・ｄ）｝で定義されたパルスレーザ光のオーバーラップ率ａが一定値になるように繰り返し周波数ｆを走査速度ｖに同期させながら、前記欠陥画素の略全面を略平行な複数本の線状に走査する手段と、前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行う手段とを備えたことを特徴とする。
【００１７】
本発明に係る他の液晶表示装置の欠陥画素修正装置は、液晶表示装置の欠陥画素にパルスレーザ光を照射する手段と、前記パルスレーザ光によって配向膜を加工して欠陥画素を修正する手段とを備え、前記欠陥画素修正手段は、加工点でのパルスレーザ光の集光径をｄ、パルスレーザ光の繰り返し周波数をｆ、走査速度をｖとしたときに、ａ＝１−｛ｖ／（ｆ・ｄ）｝で定義されたパルスレーザ光のオーバーラップ率ａが一定値になるように繰り返し周波数ｆを走査速度ｖに同期させる手段と、加工開始時のレーザエネルギを画素修正に係る最も高いレーザエネルギに設定する手段とを備えたことを特徴とする。ここで、前記欠陥画素の略全面を略平行な複数本の線状に走査するようにして、前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行うことが好ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図１は、本発明に係る液晶表示装置の欠陥画素修正装置の構成図である。
ＸＹテーブル１上には、液晶ディスプレイ２が載置されている。このＸＹテーブル１には、開口部３が形成され、この開口部３の下方にバックライト用の透過照明器具４が配置されている。
【００１９】
液晶ディスプレイ２は、一般的に図２に示す断面構成となっている。２枚のガラス板１０、１１が、シール材１２を介して対向配置されている。これらガラス板１０、１１の外側面には、それぞれ偏光フィルム１３、１４が形成されている。
【００２０】
一方のガラス板１０の内側面には、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の各カラーフィルタ１５が形成され、これらカラーフィルタ１５を覆うように保護膜１６が形成されている。保護膜１６には、共通電極（ＩＴＯ）１７が形成されている。共通電極１７には、配向膜１８が形成されている。
【００２１】
他方のガラス板１１の内側面には、各カラーフィルタ１５の配置位置に対応した位置に各駆動部（薄膜トランジスタ等を有する）１９が形成され、これらの駆動部１９を覆うように配向膜２０が形成されている。
【００２２】
配向膜１８、２０の間には、液晶２１が封入されている。なお、液晶２１が、共通電極１７と駆動部１９との間において平行状態であれば光を透過せず、共通電極１７と駆動部１９との方向に並べば光を透過することは周知であるので図示及び説明は省略する。
【００２３】
一方、欠陥画素のリペア用としてＱスイッチＮｄ：ＹＡＧレーザ発振器（以下、レーザ発振器と省略する）３０が設けられている。このＱスイッチＮｄ：ＹＡＧレーザ発振器３０を選定した理由は、薄膜加工に有利な高いピークパワーが安定して得られ、光学系の製作が容易かつメンテナンスが簡便といった特徴を有しているため、実用性が高いことによる。なお、レーザの波長は、可視又は近赤外領域のものであって４００ｎｍ〜１５００ｎｍが使用されるが、８００〜９００ｎｍ以上であって、８００から１５００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００２４】
このレーザ発振器３０のレーザ光路上には、ハーフミラー３１が配置され、このハーフミラー３１によってレーザ発振器３０から出力されたパルスレーザが液晶ディスプレイ２に向かって反射される。
【００２５】
また、ハーフミラー３１の反射光路上には、照射光学系としての集光レンズ３２が配置されている。この集光レンズ３２は、パルスレーザのレーザスポット径を、例えば１〜３μｍの比較的小さいレーザスポット径に集光して、液晶ディスプレイ２の画素上に照射する機能を有している。
【００２６】
コントローラ３３は、ＸＹテーブル１をＸＹ方向に移動制御して図３に示すようにＱスイッチ出力のパルスレーザを欠陥画素５上にラスタースキャンさせ、かつこのときのレーザ発振器３０のパルスレーザの繰り返し周波数ｆを、これらパルスレーザの欠陥画素５上におけるオーバーラップ率ａが一定値になるようにスキャン速度ｖに同期させる機能を有している。
【００２７】
具体的には、コントローラ３３は、欠陥画素５上にパルスレーザをラスタースキャンする場合、図４に示すように各パルスレーザスポット間のオーバーラップ率ａを、画素を形成する材質や膜厚に応じた値に設定している。なお、オーバーラップ率ａについては、前述した（３）式と同じであり、パルスレーザスポット径ｄ、このパルスレーザの繰り返し周波数ｆ、スキャン速度ｖとすると、
ａ＝１−（ｖ／ｆ・ｄ） …（３）
で表わされる。
【００２８】
このオーバーラップ率ａは、例えば０．５〜０．９に設定される。パルスレーザをラスタースキャンさせる場合において、スキャン速度は、前述した図８に示すように起動時及び停止時においてそれぞれ加減速されるので、コントローラ３３は、レーザ発振器３０のパルスレーザの繰り返し周波数ｆを、各パルスレーザの欠陥画素５上におけるオーバーラップ率ａが一定値になるように加減速のあるスキャン速度ｖに同期させる機能を有している。
【００２９】
液晶ディスプレイ２からハーフミラー３１を通る光路上には、リレーレンズ３４を介してＣＣＤカメラ３５が配置されている。このＣＣＤカメラ３５は、液晶ディスプレイ２を撮像してその画像信号をモニタテレビジョン等に送り、欠陥画素等を検索しやすいものとしている。
【００３０】
上記の如く構成された液晶表示装置の第１の実施形態について説明する。
ＣＣＤカメラ３５により液晶ディスプレイ２上の欠陥画素が検索されると、この欠陥画素に対するリペアが行われる。
【００３１】
レーザ発振器３０は、繰り返し周波数ｆ、例えば１ｋＨｚでＱスイッチ出力のパルスレーザを出力する。これらパルスレーザは、ハーフミラー３１で反射し、集光レンズ３２によりレーザスポット径ｄ、例えば２μｍに集光されて欠陥画素５上に照射される。
【００３２】
一方、コントローラ３３は、ＸＹテーブル１をＸＹ方向に移動制御して、図５（ａ）に示すように、欠陥画素５をパルスレーザ６で、加工開始点（Ａ）から加工終了点（Ｂ）までラスタースキャンする。これと共にコントローラ３３は、レーザ発振器３０のパルスレーザの繰り返し周波数ｆを、これらパルスレーザの欠陥画素５上におけるオーバーラップ率ａが一定値になるようにスキャン速度ｖに同期させる。
【００３３】
すなわち、コントローラ３３は、オーバーラップ率ａ、パルスレーザスポット径ｄ、このパルスレーザの繰り返し周波数ｆ、スキャン速度ｖとの関係が（３）式を満足するように、欠陥画素５上にラスタースキャンさせ、パルスレーザの繰り返し周波数ｆを制御する。
【００３４】
上記のような条件下において、本実施形態では、欠陥画素を２回以上（複数回）走査するようにしている。この場合において、図５（ｂ）に示すように、例えば、１回目の照射におけるレーザスポットと２回目の照射におけるレーザスポットとが重ならないように制御することが好ましい。このようにすることで、１回目のスキャンで気泡を作り、２回目のスキャンは気泡が存在する中でレーザスポットを走査することができる。
【００３５】
本発明に係る液晶表示装置の欠陥画素修正装置の第２の実施形態を説明する。欠陥画素修正装置の構成は、図１と同じであるので、図示及び説明を省略する。なお、本実施形態においても、第１の実施形態と同様に、
従来においては、図６（ａ）に示すように、加工の開始から加工の終了まで、常に一定のレーザエネルギで加工を行っている。このように、常に一定のレーザエネルギで加工を行うことにより、前述したように、気泡が存在しない状態でレーザスポットが走査され、欠陥画素表面への微細粒子の堆積量が不足し、透過光量が十分減少しないという問題が避けられない。
【００３６】
従って、本実施形態においては、図６（ｂ）に示すように、加工開始時（Ａ点）のレーザエネルギを最も高くし、その後、所定時間経過後（すなわちＢ点通過後）は、例えばＣ点に到達するまで徐々にレーザエネルギを減少させ、その後は加工終了（Ｄ点）まで一定のレーザエネルギで加工するようにしている。このように最初にレーザエネルギを高くしておくことで、加工開始の当初に十分に気泡が発生するので、効果的なリペアができる。
【００３７】
図７に従来の方法でリペアした画素（図７（ａ））と本実施形態による方法でリペアした画素（図７（ｂ））とを示す。図７から明らかなように、従来の方法では、加工開始点の部分が明るく、加工によるリペアの効果が少ないことが分かるが、本実施形態においては、加工した部分がすべて暗くなっており、欠陥画素のリペアが十分に行われていることが分かる。
【００３８】
本発明は、上記の発明の実施の形態に限定されるものではない。
例えば、第１の実施形態においては、同じ走査経路を２回走査し、２回目の走査においては、１回目の走査におけるレーザスポットと重ならないように、照射するようにしたが、重ね合わせるようにしても良い。
また、走査経路も１回目と２回目で変えても良い。例えば、２回目は１回目の走査の間を走査するようにしても良い。
第２の実施形態においても、最初に最も高いレーザエネルギで照射し、徐々にレーザエネルギを減少させるようにしたが、リペア開始当初の所定時間は気泡が十分に発生するような最も高いレーザエネルギとし、それ以降は、気泡を維持しながらリペアを行えれば、どのようなレーザエネルギでリペアを行っても良いし、どのような制御を行っても良い。例えば、一旦レーザエネルギを低下させ、その後にレーザエネルギを上げるような制御を行っても良い。
また、第１の実施形態と第２の実施形態はそれぞれ独立に説明したが、組合わせて用いることももちろん可能である。
【００３９】
その他、本発明の要旨を変更しない範囲で種々変形して実施できるのは勿論である。
【００４０】
【発明の効果】
本発明によれば次のような効果が得られる。
第１局面においては、欠陥画素を少なくとも２回（すなわち、複数回）走査することによって欠陥画素をリペアしている。
また、第２局面においては、加工開始時に最もレーザエネルギを高くして欠陥画素をリペアしている。
上記のようにすることにより、液晶パネルを構成している膜（特に着色層、ＣＯＡ層）に熱的な損傷を与えることなく、欠陥画素加工の最初から最後まで十分な気泡が存在する中でレーザスポットを走査させることができる。このため、液晶表示装置に「白ポツ」等の新たな欠陥を発生させることなく輝点欠陥画素の透過光量を十分減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶表示装置の欠陥画素修正装置の構成図。
【図２】液晶ディスプレイの構成図。
【図３】パルスレーザのラスタースキャンを示す図。
【図４】パルスレーザのスキャン速度や繰り返し周波数等の関係を説明するための図。
【図５】 第１の実施の形態を説明するための図。
【図６】 第２の実施の形態を説明するための図。
【図７】 従来のリペア方法と本実施形態に係るリペア方法の結果を示す画像。
【図８】 従来の欠陥画素修正方法のうち、繰り返し周波数をテーブル走査に同期させる方法を示す図。
【符号の説明】
１…ＸＹテーブル
２…液晶ディスプレイ
３…開口部
４…透過照明器具
５…欠陥画素
６…パルスレーザ
１０、１１…ガラス板
１２…シール材
１３、１４…偏光フィルム
１５…カラーフィルタ
１６…保護膜
１７…共通電極
１８、２０…配向膜
１９…駆動部
２０…配向膜
２１…液晶
３０…レーザ発振器
３１…ハーフミラー
３２…集光レンズ
３３…コントローラ
３４…リレーレンズ
３５…ＣＣＤカメラ

Claims (11)

1. 液晶表示装置の欠陥画素にパルスレーザ光を照射し、このパルスレーザ光によって配向膜を加工して欠陥画素を修正する液晶表示装置の欠陥画素修正方法において、
   加工点でのパルスレーザ光の集光径をｄ、パルスレーザ光の繰り返し周波数をｆ、走査速度をｖとしたときに、ａ＝１−｛ｖ／（ｆ・ｄ）｝で定義されたパルスレーザ光のオーバーラップ率ａが一定値になるように繰り返し周波数ｆを走査速度ｖに同期させながら、前記パルスレーザ光で、前記欠陥画素の略全面を略平行な複数本の線状に走査し、
   前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行うことを特徴とする液晶表示装置の欠陥画素修正方法。
2. 前記パルスレーザ光で、前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行うことにおいて、その第１回目の走査では気泡を発生させ、且つその第２回目の走査では、前記気泡の存在する中でレーザ光を照射することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の欠陥画素修正方法。
3. 液晶表示装置の欠陥画素にパルスレーザ光を照射する手段と、
   前記パルスレーザ光によって配向膜を加工して欠陥画素を修正する手段とを備え、
   前記欠陥画素修正手段は、加工点でのパルスレーザ光の集光径をｄ、パルスレーザ光の繰り返し周波数をｆ、走査速度をｖとしたときに、ａ＝１−｛ｖ／（ｆ・ｄ）｝で定義されたパルスレーザ光のオーバーラップ率ａが一定値になるように繰り返し周波数ｆを走査速度ｖに同期させながら、前記パルスレーザ光で、前記欠陥画素の略全面を略平行な複数本の線状に走査する手段とを備え、前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行う構成となっていることを特徴とする液晶表示装置の欠陥画素修正装置。
4. 前記請求項３に記載の液晶表示装置の欠陥画素修正装置において、前記パルスレーザ光で、前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行い、その第１回目の走査では気泡を発生させ、且つその第２回目の走査では、前記気泡の存在する中でレーザ光を照射する構成となっていることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置の欠陥画素修正装置。
5. 液晶表示装置の欠陥画素にパルスレーザ光を照射し、このパルスレーザ光によって配向膜を加工して欠陥画素を修正する液晶表示装置の欠陥画素修正方法において、
   加工点でのパルスレーザ光の集光径をｄ、パルスレーザ光の繰り返し周波数をｆ、走査速度をｖとしたときに、ａ＝１−｛ｖ／（ｆ・ｄ）｝で定義されたパルスレーザ光のオーバーラップ率ａが一定値になるように繰り返し周波数ｆを走査速度ｖに同期させ、
   加工開始から所定時間におけるレーザエネルギを画素修正に係る最も高いレーザエネルギに設定することを特徴とする液晶表示装置の欠陥画素修正方法。
6. 請求項５記載の液晶表示装置の欠陥画素修正方法において、前記レーザエネルギは、欠陥画素において、その加工開始から所定時間におけるレーザエネルギを画素修正に係る最も高いレーザエネルギに設定することを特徴とする液晶表示装置の欠陥画素修正方法。
7. 請求項５または６に記載の液晶表示装置の欠陥画素修正方法において、加工の進行に従って徐々にレーザエネルギを低下させることを特徴とする液晶表示装置の欠陥画素修正方法。
8. 液晶表示装置の欠陥画素にパルスレーザ光を照射する手段と、
   前記パルスレーザ光によって配向膜を加工して欠陥画素を修正する手段とを備え、
   前記欠陥画素修正手段は、加工点でのパルスレーザ光の集光径をｄ、パルスレーザ光の繰り返し周波数をｆ、走査速度をｖとしたときに、ａ＝１−｛ｖ／（ｆ・ｄ）｝で定義されたパルスレーザ光のオーバーラップ率ａが一定値になるように繰り返し周波数ｆを走査速度ｖに同期させる手段とを備え、加工開始から所定時間におけるレーザエネルギを画素修正に係る最も高いレーザエネルギに設定する構成となっていることを特徴とする液晶表 示装置の欠陥画素修正装置。
9. 前記レーザエネルギは、欠陥画素において、そこでの加工開始から所定時間におけるレーザエネルギを画素修正に係る最も高いレーザエネルギに設定する構成となっていることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の欠陥画素修正装置。
10. 請求項５または６記載の液晶表示装置の欠陥画素修正方法において、前記同期させる工程は、前記パルスレーザ光で前記欠陥画素の略全面を略平行な複数本の線状に走査する工程を含み、前記欠陥画素の走査を少なくとも２回行うことを特徴とする液晶表示装置の欠陥画素修正方法。
11. 請求項８または９に記載の液晶表示装置の欠陥画素修正装置において、前記同期させる手段は、前記パルスレーザ光を前記欠陥画素の略全面を略平行な複数本の線状に走査させ、この走査を少なくとも２回行う構成となっていることを特徴とする液晶表示装置の欠陥画素修正装置。

Images