CN102749740A

CN102749740A - 一种光修复点缺陷的方法

Info

Publication number: CN102749740A
Application number: CN2012102629907A
Authority: CN
Inventors: 王杰; 洪孟锋
Original assignee: Nanjing CEC Panda LCD Technology Co Ltd
Current assignee: Nanjing CEC Panda LCD Technology Co Ltd
Priority date: 2012-07-27
Filing date: 2012-07-27
Publication date: 2012-10-24

Abstract

本发明提供一种光修复点缺陷的方法，用于修复显示面板的点缺陷，包括如下步骤：第一步：给显示面板加电压；第二步：检查缺陷像素；第三步：光配向改变缺陷像素所在位置的配向膜的配向方法。本案利用光配改变LCD其中一片基板上配向膜的配向方向，使原本配向方向相互垂直的配向膜配向方向一致，当光透过偏光轴分布垂直的基板两侧偏光板和配向方向一致的配向膜时，像素呈现暗态，从而修复亮点缺陷。

Description

一种光修复点缺陷的方法

技术领域

本发明涉及一种显示面板的光修复点缺陷的方法。

背景技术

在工程制造生产过程中，由于工艺误差、异物污染等原因不可避免地会在液晶显示装置中出现点缺陷。点缺陷一般分为亮点缺陷和暗点缺陷，在实际生产中以亮点缺陷居多，并且人眼对亮点更加敏感。所以在比较高的出货级别允许有暗点的存在，但是不允许有亮点的存在。在点缺陷的工程修复中通用的方法是把亮点缺陷修复成暗点缺陷，但是暗点缺陷还是属于点缺陷。此外，如果在显示区域存在连续3个以及3个以上的亮点缺陷或者暗点缺陷，一般都会把这个显示器判定为不合格。所以，常用的点缺陷修复方法无法实现连续3个以及3个以上点缺陷的修复。

常用的亮点缺陷修复方法有物理修复法和电学修复法，其中物理修复法常用的是，利用BM遮住像素、碳化像素上CF使光无法透过亮点像素而实现修复；电学修复法常用的是，在晶体管区域，利用激光熔接的方法把晶体管的漏极和栅极电性连接。利用栅极扫描线电压与公共电压形成一个很大的压差，使存在亮点缺陷的子像素实现暗态显示。

以上电学修复法一般用于单个亮点缺陷的修复，并不适用于3个以上的亮点缺陷的修复，且利用“灌信号”的方式实现像素的暗态显示，并不是光学意义上真正的“暗态”，往往修复好的亮点缺陷没有正常暗态“暗”。

专利KR20080065748中利用激光照射不良像素，使其上的滤光片物性变化降低光透射性的方法修复亮点，修复中可能出现的气泡和偏光板损伤等必须依赖于激光波长和时间的精确控制，所以该方法复杂且存在很大风险。

发明内容

本发明揭示一种简易方便快速点缺陷修复方法，实现连续3个以及3个以上点缺陷的修复。

本发明提供一种光修复点缺陷的方法，用于修复显示面板的点缺陷，包括如下步骤：

第一步：给显示面板加电压；

第二步：检查缺陷像素；

第三步：光配向改变缺陷像素所在位置的配向膜的配向方向。

其中，所述显示面板包括相对设置的CF基板和TFT基板、位于CF基板与TFT基板之间的液晶、位于CF基板与TFT基板相对侧的表面上的第一配向膜、位于TFT基板与CF基板相对侧的表面上的第二配向膜，所述第一配向膜的配向方向与第二配向膜的配向方向垂直。

其中，所述第二步的具体检查方法为：CF基板和/或TFT基板上具有呈亮态显示的像素。

其中，所述第三步的具体方法为：用一遮挡物置于CF基板上，该遮挡物具有让光线通过的像素区域，用光线照射CF基板的亮点像素，使CF基板的上第一配向膜的配向方向沿光照方向分布，并改变第一配向膜的配向方向。

其中，位于亮点像素区域的第一配向膜的配向方向与第二配向膜的配向方向一致。

其中，所述第三步的具体方法为：用一遮挡物置于TFT基板上，该遮挡物具有让光线通过的像素区域，用光线照射TFT基板的亮点像素，使TFT基板的上第二配向膜的配向方向沿光照方向分布，并改变第二配向膜的配向方向。

其中，位于亮点像素区域的第二配向膜的配向方向与第一配向膜的配向方向一致。

其中，所述亮点像素所在区域的配向膜在配向前的配向方向与配向后的配向方向垂直。

其中，所述照射光线为UV或Laser。

其中，在所述CF基板和/或TFT基板上贴有防紫外的保护膜。

本案利用光配改变LCD其中一片基板上配向膜的配向方向，使原本配向方向相互垂直的配向膜配向方向一致，当光透过偏光轴分布垂直的基板两侧偏光板和配向方向一致的配向膜时，像素呈现暗态，从而修复亮点缺陷。

当存在多个亮点缺陷时，只需在遮挡物上设置与亮点像素区域相应的位置设置透过区域，从而可实现同时对多个亮点缺陷的修复，实现连续3个以及3个以上点缺陷的修复，且简易方便快速。

附图说明

图1是TN型TFT-LCD的光配向的示意图；

图2是TN型TFT-LCD的亮点像素的配向方向示意图；

图3是TN型TFT-LCD的光配前的剖视图；

图4是修复亮点像素的示意图；

图5是修复完成的示意图；

图6是修复完成的TFT-LCD的结构示意图；

图7是修复完成的亮点像素的配向方向的示意图；

图8是修复完成的TFT-LCD的光配向的剖视图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。

本发明涉及一种光修复点缺陷的方法的流程图，用于修复显示面板的缺陷，本修复方法步骤为：

第一步：给显示面板加电压；

第二步：检查缺点像素，主要检查亮点像素；

第三步：光配向改变缺陷像素所在位置的配向膜的配向方向；

第四部：结束光修复。

下文为具体介绍本发明修复的步骤。

图1至图3为TN型TFT-LCD的光配向的示意图，本实施例以TN型TFT-LCD显示面板为例，TFT-LCD包括：相对设置的CF基板10和TFT基板20、位于CF基板10与TFT基板20相对侧的表面上的第一配向膜11、位于TFT基板20与CF基板相对侧的表面上的第二配向膜21、位于CF基板10与TFT基板20之间的液晶30、位于CF基板10外侧的第一偏光片40、位于TFT基板20外侧的第二偏光片50、以及照射第二偏光板50的背光源60。

第一、第二配向膜11、21的材料是含有光敏基团的聚合物或添加光敏材料的混合物，优选含有光敏基团的聚酰亚胺或添加光敏材料的聚酰亚胺混合物。

第一配向膜11的第一配向方向111如图2所示，第一偏光片40的第一光轴41的方向与第一配向方向111相同；第二配向膜21的第二配向方向211如图2所示，第二偏光片50的第二光轴51的方向与第二配向方向211相同；且第一配向膜11的第一配向方向111与第二配向膜21的第二配向方向211垂直，第一配向方向111与第二配向方向211之间呈90°。

第一步：加电压后，点亮背光源60。

第二步：检查亮点像素，由于CF基板或TFT基板每侧的偏光片的光轴分布与其对应的配向膜的配向方向均一致，第一配向方向111与第二配向方向211之间呈90°，加电压后，正常像素显示暗态70（如图1所示的

），缺陷像素由于不能正常充电呈亮态显示80（如图1所示的↑）。

由于具有亮态显示80，是由于TFT基板具有X’Y’亮点像素100、CF基板20具有与X’Y’缺点像素100对应的XY亮点像素110。

如图4所示，由于存在缺点像素，本发明修复缺点像素的方法是：通过光配向的方法改变配向膜的配向方向。

第三步：用遮挡物120置于CF基板10上，该遮挡物120上具有基本单元为1个像素大小的透过区域，并能够让光线穿过XY亮点像素110区域，而其他非亮点像素区域都遮挡住。

利用UV或laser光线按如图所示4的光照方向照射XY亮点像素110，使XY亮点像素上第一配向膜11的第一配向方向111沿光照方向分布，并改变第一配向膜11的第一配向方向111。

如图6为光修复后的CF基板10上XY亮点像素的第一配向膜11的第一配向方向111，位于XY亮点像素上的第一配向膜11的第一配向方向111与第二配向膜21的第二配向方向211一致，从而可实现修复亮点像素。

在修复亮点像素时，可以修复TFT基板20上的第二配向膜21的第二配向方211，即：用遮挡物120置于TFT基板20上，该遮挡物120上具有基本单元为1个像素大小的透过区域，并能够让光线穿过X’Y’亮点像素100区域，而其他非亮点像素区域都遮挡住。利用UV或laser照射X’Y’亮点像素100，使X’Y’亮点像素100上第二配向膜21的第二配向方向211沿光照方向分布，并改变第二配向膜21的第二配向方向211，位于X’Y’亮点像素100上的第二配向膜21的第一配向方向211与第一配向膜11的第一配向方向111一致，从而可实现修复亮点像素。

如图7至图9为修复完成后的结构示意图，第四步：修复完成后，亮点像素所对应的配向膜在CF基板和TFT基板的配向方向一致，光不能透过配向膜，从而使原亮点像素所在位置呈现与整体像素显示相同的暗态。

为使修复效果更佳，可在光配向前切断漏极。且由于配向膜具有光敏特性，相应LCD的CF基板和/或TFT基板侧贴有防紫外的保护膜。

Claims

1.一种光修复点缺陷的方法，用于修复显示面板的点缺陷，其特征在于：包括如下步骤：

第一步：给显示面板加电压；

第二步：检查缺陷像素；

2.根据权利要求1所述光修复缺陷的方法，其特征在于：所述显示面板包括相对设置的CF基板和TFT基板、位于CF基板与TFT基板之间的液晶、位于CF基板与TFT基板相对侧的表面上的第一配向膜、位于TFT基板与CF基板相对侧的表面上的第二配向膜，所述第一配向膜的配向方向与第二配向膜的配向方向垂直。

3.根据权利要求2所述光修复缺陷的方法，其特征在于：所述第二步的具体检查方法为：CF基板和/或TFT基板上具有呈亮态显示的像素。

4.根据权利要求3所述光修复缺陷的方法，其特征在于：所述第三步的具体方法为：用一遮挡物置于CF基板上，该遮挡物具有让光线通过的像素区域，用光线照射CF基板的亮点像素，使CF基板的上第一配向膜的配向方向沿光照方向分布，并改变第一配向膜的配向方向。

5.根据权利要求4所述光修复缺陷的方法，其特征在于：位于亮点像素区域的第一配向膜的配向方向与第二配向膜的配向方向一致。

6.根据权利要求3所述光修复缺陷的方法，其特征在于：所述第三步的具体方法为：用一遮挡物置于TFT基板上，该遮挡物具有让光线通过的像素区域，用光线照射TFT基板的亮点像素，使TFT基板的上第二配向膜的配向方向沿光照方向分布，并改变第二配向膜的配向方向。

7.根据权利要求6所述光修复缺陷的方法，其特征在于：位于亮点像素区域的第二配向膜的配向方向与第一配向膜的配向方向一致。

8.根据权利要求1、4-7任一所述光修复缺陷的方法，其特征在于：所述亮点像素所在区域的配向膜在配向前的配向方向与配向后的配向方向垂直。

9.根据权利要求4-7任一所述光修复缺陷的方法，其特征在于：所述照射光线为UV或Laser。

10.根据权利要求1、4-8任一所述光修复缺陷的方法，其特征在于：在所述CF基板和/或TFT基板上贴有防紫外的保护膜。