JP2003095635A - 多結晶シリコン製造装置 - Google Patents
多結晶シリコン製造装置Info
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Abstract
合ガスから多結晶シリコンを製造する反応炉で発生する
排ガスから水素ガスを回収する。その排ガス処理に伴う
ポリマー及びシリコン微粉の付着による配管閉塞や機器
損傷等を防止する。 【解決手段】 反応炉1で発生する排ガスを第1冷却系
3、加圧器3、第2冷却系4及び微量塩化物除去系5へ
順番に通して水素ガスを回収し、反応炉1へ供給する。
排ガス精製系統を構成する少なくとも1つの機器の上流
側に活性炭フィルタを設置して、排ガスからポリマー及
びシリコン微粉を除去する。
Description
シリコンの製造に好適に使用される多結晶シリコン製造
装置に関する。
は、シーメンス法と呼ばれる気相成長法により、クロロ
シラン類(主にトリクロロシラン)と水素の混合ガスか
ら製造されている。この方法では、反応炉から未反応の
原料ガスを含め、水素と塩化物の混合ガスが排出され
る。具体的には、その排ガスは主に水素を含み、他にH
Cl(塩化水素)、SiH3 Cl(モノクロロシラ
ン)、SiH2 Cl2 (ジクロロシラン)、SiHCl
3 (トリクロロシラン)、SiCl4 (四塩化珪素)及
びポリマー(SiX HY ClZ )を含む。
にはSi2 HCl5 、Si2 H2 Cl4 、Si2 Cl6
等であり、SiCl4 (四塩化珪素)より更に高沸点の
物質であり、沸点以下では高粘性である。
ン類及び水素を含んでいる。このため、排ガス中の塩化
物が分離除去され、水素が回収される。回収された水素
は原料ガスとして反応炉に再導入される。排ガス中から
分離された塩化物についても、クロロシラン類が回収さ
れ、原料ガスとして利用される。このような水素回収の
ための排ガス処理方法としては、主に図1のような循環
式の精製プロセスが用いられている。この精製プロセス
を以下に説明する。
却系2に送られる。第1冷却系2は、ここでは2つの冷
却器2a,2bからなり、1段目の冷却器2aで−10
〜10℃程度に冷却された後、2段目の冷却器2bで−
30℃以下に冷却される。これにより、排ガス中からS
iH2 Cl2 (ジクロロシラン)、SiHCl3 (トリ
クロロシラン)、SiCl4 (四塩化珪素)及びポリマ
ー(SiX HY ClZ)といった塩化物が除去され回収
される。回収された塩化物は、再使用のために蒸留工程
へ送られる。
れた排ガスは、加圧器3を経て第2冷却系4へ送られ
る。第2冷却系4は、ここではシャワー塔4a、ポンプ
4b及び冷凍機4cなどからなり、加圧器3で昇圧され
た排ガスをシャワー塔4aに導入し、−50℃以下に冷
却された塩化物(液)をシャワー塔4a中で排ガスに散
布することにより、排ガス中の殆どの塩化物を凝縮させ
て除去する。加圧器3は、第2冷却系4での塩化物の回
収率を高めるために、排ガスを昇圧する。
塔4aを用いているが、多管式熱交換器を用いることも
可能であり、多管式熱交換器を用いた方が設備を簡略化
できる。
ガスは、微量塩化物除去系5へ送られる。微量塩化物除
去系5は、選択的に切り替え使用される複数の活性炭吸
着塔5aからなり、第2冷却系4でも除去できなかった
微量塩化物を、活性炭により吸着し、極めて純度の高い
水素ガスを精製して反応炉1へ供給する。
吸着能力がなくなり、水素ガス以外の成分を完全に吸着
できなくなる。これを破過というが、破過が生じる前に
吸着塔は再生済みの吸着塔に切り替えられ、使用後の吸
着塔は加熱、キャリアガスのパージにより吸着した成分
を放出して再生される。放出した成分は冷却などにより
回収され、蒸留工程へ送られる。
コン製造装置における水素ガス回収のための排ガス処理
プロセスでは、反応炉1から排出される排ガスにポリマ
ー(SiX HY ClZ )及びシリコン微粉が含まれてお
り、これらの含有に起因して、以下のような問題が生じ
ている。
塩化物を含んでおり、また排ガス温度が反応温度から常
温へ低下する。この部分では、塩化物中の特に粘性のあ
るポリマーが配管内面に付着し、それがシリコン微粉の
付着を促進することにより、短期間で配管内径が小さく
なり、圧力損失が増大する。
にポリマー及びシリコン微粉が付着して伝熱性能が低下
し、更に多管式熱交換器を使用している場合は、伝熱管
内径が小さくなって圧力損失が増大する。
微粉が存在することにより、コンプレッサのシリンダー
が損傷し、整備時期が早くなり、更には本体も損傷する
危険性が高くなる。また、ポリマーはコンプレッサの熱
により分解されてシリコン等の微粉となり、同様の悪影
響をコンプレッサ等に与える。
が塔下部から塔上部へ流通する。このため、下部に充填
されている活性炭にシリコン微粉が付着し、圧力損失が
増大する。
ガスの流通障害に対しては、配管や機器を開放整備する
必要があるが、ポリマーは空気中で発火するために、そ
の整備は非常に危険であり、手間のかかる作業となる。
活性炭吸着塔5aにおける圧力損失が大きくなった場
合、塔下部のガス入口配管を開放整備する必要があり、
その際は塔内の活性炭を全量抜き出す必要がある。一度
抜き出した活性炭は事前に加熱脱着処理を行なっても大
気中で発火しやすく危険であり、また大気中の水分と残
留塩化物により、再使用は困難である。また処分するに
しても強酸性のため中和作業が必要になり、コスト増を
強いられることになる。
ガス処理に伴うポリマー及びシリコン微粉の付着による
種々問題を、簡単な手法で効果的に解決できる多結晶シ
リコン製造装置を提供することにある。
に、本発明者は、排ガス精製系統を構成する冷却系、加
圧器等の構成機器の入側に樹脂製の微粉除去フィルタを
設置した。しかし、ポリマーの除去については殆ど効力
がなく、問題解決の効果は小さかった。そこで次に、樹
脂製の微粉除去フィルタに代えて活性炭フィルタを設置
した。
子の表面上で吸着されるため効果的に除去されることが
判明した。また、特に活性炭フィルタの表層部付近に集
中して吸着するため、活性炭フィルタの厚さは極薄いも
のでも機能することが判明し、これより、ガス滞留時間
が1秒以下程度の小型の活性炭フィルタで十分であると
の知見を得た。
って除去効果があることが確認できた。活性炭表面に吸
着されたポリマーが、シリコン微粉に対する吸着剤とし
て作用しているために、シリコン微粉の除去効果が高め
られているものと考えられる。また、本発明者は、活性
炭フィルタの表層部付近に付着したポリマーの一部は、
活性炭の触媒作用によってシリコン微粉に変化している
こと、更に従来は活性炭フィルタを設置していなかった
ために活性炭吸着塔5aのガス導入口付近で同様にシリ
コン微粉が生じていたことを知見した。これらのシリコ
ン微粉はポリマーと混在して活性炭の表層部に蓄積し、
活性炭吸着塔5aの圧損を増加させる一因となっていた
のである。このような状況下で活性炭吸着塔5aの上流
側に活性炭フィルタを設置すると、活性炭吸着塔5aで
の圧損増加を防止することができる。また、活性炭フィ
ルタは小型であるために交換が容易であり、活性炭フィ
ルタが、並列に接続された切り替え用の活性炭フィルタ
又はバイパス配管を装備していれば、更に交換が容易と
なる。
る知見に基づいて開発されたものであり、気相成長法に
よりクロロシラン類と水素の混合ガスから多結晶シリコ
ンを製造する反応炉と、反応炉で発生する排ガスから水
素ガスを抽出して反応炉へ再導入する循環式の精製系統
とを備えた多結晶シリコン製造装置において、前記精製
系統を構成する少なくとも1つの機器の上流側に、ガス
滞留時間が1秒以下である活性炭フィルタを設置したも
のである。
ポリマー及びシリコン微粉の付着による配管閉塞や機器
損傷等が効果的に回避される。
及びシリコン微粉を除去するだけであるので、塩化物の
除去に使用される活性炭吸着塔と異なり、少量の活性炭
で効力を発揮し、ガス滞留時間で言えば1秒以下で十分
である。
粉の除去の点からは、ガス滞留時間は1秒以下で十分で
あり、1秒を超えると除去効果が飽和し、活性炭量のみ
が無用に増加し、経済性が低下する。ガス滞留時間の下
限については、除去効果確保のために0.05秒が好ま
しい。このガス滞留時間は0.1〜0.8秒が特に好ま
しい。
通させる構成が好ましい。排ガス流量が多いため、下か
ら上、右から左などではフィルタ内の活性炭に流動状態
となる部分が発生する。この活性炭フィルタは、例えば
下から上へフィルタ保持フレーム、下面スクリーンフィ
ルタ、活性炭、上面網を積層した構造である。この構造
であれば、活性炭に対して重力もガス圧も上から付加さ
れるため、流動状態が発生しない。上から下へガスを流
通させる構成とは、斜めであってもよく、フィルタ部分
でのガス流れベクトルに下向き成分が含まれていればよ
いということである。
替え用の活性炭フィルタ又はバイパス配管を装備する構
成か好ましい。これにより、活性炭の交換時に操業を停
止する必要がない。
1冷却系、加圧器、第2冷却系及び微量塩化物除去系を
直列に接続したものが好ましい。
接続する配管の何れか、若しくは反応炉と第1冷却系を
接続する配管に設置される。
び図2に基づいて説明する。図1は前述したとおり循環
式の排ガス精製系統を備えた多結晶シリコン製造装置の
一例についてその構成を示す系統図であり、活性炭フィ
ルタの設置推奨位置を〜で示している。また、図2
は活性炭フィルタの構成図である。
は、反応炉1から排出される排ガスが第1冷却系2、加
圧器3、第2冷却系4及び微量塩化物除去系5を順番に
通過し、水素ガスに精製されて反応炉1へ戻る。第1冷
却系2、加圧器3、第2冷却系4及び微量塩化物除去系
5の各構成及び機能は前述したとおりである。前述した
装置と異なるのは、機器間を接続する配管の少なくとも
1箇所に活性炭フィルタが設置される点である。
炉1の出側配管、第1冷却系2の入側配管(は
いずれも反応炉1と第1冷却系2を接続する配管)、加
圧器3の入側配管(第1冷却系2と加圧器3を接続す
る配管)、加圧器3の出側配管(加圧器3と第2冷却
系4を接続する配管)、第2冷却系4の出側配管(第
2冷却系4と微量塩化物除去系5を接続する配管)など
を挙げることができる。
所として有効であり、の場合は全工程におけるポリマ
ー及び微粉付着を防止できるが、ガス圧が小さいため、
ガス流の障害とならないように断面積の大きなフィルタ
が要求される。の場合もほぼ同様に、大部分の工程
におけるポリマー及び微粉付着を防止できるが、ガス圧
が小さいため、ガス流の障害とならないように断面積の
大きなフィルタが要求される。
は、上流側での配管閉塞等を防止できないが、ガス圧が
高いために、フィルタ断面積の縮小が可能になる。
筒形状をした縦型容器6と、縦型容器6の上端面に接続
されたガス導入管7と、縦型容器6の下端面に接続され
たガス排出管8とを備えており、縦型容器6内には下か
ら上へフィルタ保持フレーム、下面スクリーンフィルタ
9、活性炭10及び上面網11が積層して配置されて
る。
流通する。これにより、排ガス中のポリマーが活性炭表
面で捕捉される。また、排ガス中のシリコン微粉も捕捉
される。排ガスが上から下へ流通することにより、流動
状態が阻止される。
続し、活性炭フィルタ内の活性炭を交換する際にパイパ
ス管を使用することにより、活性炭の交換中も操業を継
続することができる。同様に、活性炭フィルタに並列的
に別の活性炭フィルタを接続することによっても、活性
炭交換中の操業継続が可能となる。
炭フィルタを設置しない場合、主に第1冷却系において
ポリマーと微粉による熱交換器チューブの閉塞が発生
し、コンプレッサの整備頻度が4回/年以上と多かっ
た。
応炉の出側配管に活性炭フィルタを設置した。活性炭部
分の直径は660mm、厚さは300mmであり、活性
炭の平均粒径は2mmである。排ガスの流速は1000
Nm3 /hr、活性炭フィルタにおけるガス滞留時間は
約0.5秒であった。ポリマー及び微粉の付着による閉
塞等は、系統全体で発生しなくなった。そのため、例え
ば第1冷却系の整備も2回/年程度の定期整備のみでよ
くなった。活性炭フィルタにおける活性炭の交換頻度は
3ヵ月に1回であった。
炭充填塔の規模は、活性炭フィルタと比べ、に活
性炭フィルタを設置した場合で約50倍、に活性炭
フィルタを設置した場合で150〜300倍になる。
圧器と多管式熱交換器からなる第2冷却系の間に活性炭
フィルタを設置した。活性炭フィルタにおける活性炭部
分の直径は220mm、厚さは300mmであり、活性
炭の平均粒径は2mmである。排ガスの流速は1000
Nm3 /hr、活性炭フィルタにおけるガス滞留時間は
約0.4秒であった。多管式熱交換器の伝熱管における
閉塞は発生しなくなった。
おいても1×10-2MPa以下であった。この圧損とし
ては、系統全体における圧損の増加を回避するために2
×10-2MPa以下が好ましい。
シリコン製造装置は、反応炉で発生する排ガスから水素
ガスを抽出して反応炉へ再導入する循環式の精製系統を
構成する少なくとも1つの機器の上流側に活性炭フィル
タを設置することにより、その排ガス処理に伴うポリマ
ー及びシリコン微粉の付着による配管閉塞、機器損傷等
を回避できる。従って、配管や機器の開放整備が不要と
なり、操業の安全性、経済性等が向上する。
ン製造装置の一例をついてその構成を示す系統図であ
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 気相成長法によりクロロシラン類と水素
の混合ガスから多結晶シリコンを製造する反応炉と、反
応炉で発生する排ガスから水素ガスを抽出して反応炉へ
再導入する循環式の精製系統とを備えた多結晶シリコン
製造装置において、前記精製系統を構成する少なくとも
1つの機器の上流側に、ガス滞留時間が1秒以下である
活性炭フィルタを設置したことを特徴とする多結晶シリ
コン製造装置。 - 【請求項2】 前記活性炭フィルタは、上から下へガス
を流通させる構成である請求項1に記載の多結晶シリコ
ン製造装置。 - 【請求項3】 前記活性炭フィルタは、並列に接続され
た切り替え用の活性炭フィルタ又はバイパス配管を装備
する請求項1又は2に記載の多結晶シリコン製造装置。 - 【請求項4】 前記精製系統は、構成機器として直列に
接続された第1冷却系、加圧器、第2冷却系及び微量塩
化物除去系を有し、前記活性炭フィルタは、これらの構
成機器を接続する配管の何れか、若しくは反応炉と第1
冷却系を接続する配管に設置されている請求項1、2又
は3に記載の多結晶シリコン製造装置。
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Cited By (12)
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JP2006131491A (ja) * | 2004-10-05 | 2006-05-25 | Tokuyama Corp | シリコンの製造方法 |
JP2008509071A (ja) * | 2004-08-10 | 2008-03-27 | ジョイント ソーラー シリコン ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | ガス分解用反応装置の生産方法 |
JP2008266127A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-11-06 | Tokuyama Corp | クロロシラン類含有ガスの水素還元方法およびクロロシラン類の水素還元用装置 |
JP2009126774A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Mitsubishi Materials Corp | 多結晶シリコンの製造装置 |
JP2009227514A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Tokuyama Corp | シリコン製造プロセス |
WO2009128501A1 (ja) | 2008-04-17 | 2009-10-22 | 株式会社トクヤマ | シリコンの製造方法 |
JP2010150131A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-07-08 | Mitsubishi Materials Corp | 多結晶シリコン製造方法及び製造装置 |
JP2010202420A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Osaka Titanium Technologies Co Ltd | クロロシラン類を使用するクローズド系の洗浄方法 |
JP2010275162A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Mitsubishi Materials Corp | 多結晶シリコン製造方法及び製造装置 |
WO2011045880A1 (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-21 | 信越化学工業株式会社 | 水素ガス回収システムおよび水素ガスの分離回収方法 |
CN109847470A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-06-07 | 内蒙古通威高纯晶硅有限公司 | 冷氢化硅粉加料系统放空氢气回收系统和方法 |
CN110167878A (zh) * | 2017-01-16 | 2019-08-23 | 株式会社德山 | 多晶硅制造方法 |
Families Citing this family (1)
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008509071A (ja) * | 2004-08-10 | 2008-03-27 | ジョイント ソーラー シリコン ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | ガス分解用反応装置の生産方法 |
JP2006131491A (ja) * | 2004-10-05 | 2006-05-25 | Tokuyama Corp | シリコンの製造方法 |
JP2008266127A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-11-06 | Tokuyama Corp | クロロシラン類含有ガスの水素還元方法およびクロロシラン類の水素還元用装置 |
JP2009126774A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Mitsubishi Materials Corp | 多結晶シリコンの製造装置 |
JP2009227514A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Tokuyama Corp | シリコン製造プロセス |
US8124041B2 (en) | 2008-04-17 | 2012-02-28 | Tokuyama Corporation | Process for producing silicon |
WO2009128501A1 (ja) | 2008-04-17 | 2009-10-22 | 株式会社トクヤマ | シリコンの製造方法 |
JP2010150131A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-07-08 | Mitsubishi Materials Corp | 多結晶シリコン製造方法及び製造装置 |
JP2010202420A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Osaka Titanium Technologies Co Ltd | クロロシラン類を使用するクローズド系の洗浄方法 |
JP2010275162A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Mitsubishi Materials Corp | 多結晶シリコン製造方法及び製造装置 |
WO2011045880A1 (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-21 | 信越化学工業株式会社 | 水素ガス回収システムおよび水素ガスの分離回収方法 |
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CN109847470A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-06-07 | 内蒙古通威高纯晶硅有限公司 | 冷氢化硅粉加料系统放空氢气回收系统和方法 |
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