JP2003042134A - 真空発生器 - Google Patents

真空発生器

Info

Publication number
JP2003042134A
JP2003042134A JP2001228879A JP2001228879A JP2003042134A JP 2003042134 A JP2003042134 A JP 2003042134A JP 2001228879 A JP2001228879 A JP 2001228879A JP 2001228879 A JP2001228879 A JP 2001228879A JP 2003042134 A JP2003042134 A JP 2003042134A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
port
flow path
atmosphere
valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001228879A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4495366B2 (ja
Inventor
Kiyoyasu Yamazaki
清康 山崎
Toshimasa Kitahara
敏正 北原
Shinichi Koike
信一 小池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Pisco Co Ltd
Original Assignee
Nihon Pisco Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Pisco Co Ltd filed Critical Nihon Pisco Co Ltd
Priority to JP2001228879A priority Critical patent/JP4495366B2/ja
Publication of JP2003042134A publication Critical patent/JP2003042134A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4495366B2 publication Critical patent/JP4495366B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
  • Fluid-Pressure Circuits (AREA)
  • Hooks, Suction Cups, And Attachment By Adhesive Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空ポート側において迅速に、かつ効率良く
無駄のない真空破壊が行えて、ワークの搬送操作等に好
適に利用できる真空発生器を提供すること。 【解決手段】 ワークを真空吸着する吸着部が接続され
る真空ポート18と真空発生機構部22とを連通する流
路内に、大気の連通を制御する大気圧供給弁120を設
け、さらに大気圧供給弁120に対して直列に逆止弁1
10を設けることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はワークの搬送等に用
いられる真空発生器に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、部品等のワークの搬送には真空発
生器が使用されている。これは真空吸着によってワーク
を保持し、真空破壊をすることでワークを離す操作によ
り、ワークを搬送するといった作業に使用される。真空
破壊とは真空となっている真空部(真空発生機構部から
配管、アクチュエータなどを含むワークまで連通する部
位)を、大気圧以上に強制的に加圧することであり、現
在の生産性の向上が要求されるなかで、より迅速な真空
破壊を可能にすることはワーク搬送の高速化に不可欠な
こととなっている。真空破壊を効率良く、素早く行う方
法の1例として、真空部を大気と連通させるとともに、
その配管内へ強制的に圧縮空気などの真空破壊エアーを
流入させる方法がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、真空部
を大気と連通させながら真空破壊エアーを流入させる方
法の場合は、真空部が大気圧となった時点で高圧空気に
よる真空破壊エアーが部分的に大気へと流出してしま
う。このため真空破壊エアーが無駄に消費されることに
なって、効率的な真空破壊ができず、エネルギー的にも
無駄があるという問題があった。
【0004】そこで、本発明はこれらの課題を解決すべ
くなされたものであり、その目的は、真空ポート側にお
いて迅速に、かつ効率良く無駄のない真空破壊が行え
て、ワークの搬送操作等に好適に利用できる真空発生器
を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために次の構成を備える。すなわち、本発明は、
ワークを真空吸着する吸着部が接続される真空ポート
と、該真空ポートに連通して設けられた真空発生機構部
と、前記真空ポート内を真空破壊可能に高圧空気源に接
続されると共に前記真空ポートと連通して設けられた接
続ポートとを具備する真空発生器であって、前記真空ポ
ートと前記真空発生機構部とを連通する流路内に配設さ
れ、大気との連通を制御する大気圧供給弁と、該大気圧
供給弁に対して直列に設けられる逆止弁とを有し、前記
大気圧供給弁は、真空発生時には前記真空ポートと大気
とを遮断し、真空破壊あるいは真空停止時には前記真空
ポートと大気とを連通させ、前記逆止弁は、前記流路内
への大気の流入を許容し、高圧空気の前記流路から大気
への流出を阻止することを特徴とする。これにより高圧
空気が効率良く使用されて真空破壊が行なわれる真空発
生器を提供することができる。
【0006】また、本発明は、前記大気圧供給弁は、前
記真空発生機構部と前記真空ポートとの連通を開閉制御
する3ポート弁であることを特徴とする。これにより、
より効率的に真空破壊が行なわれる真空発生器を提供す
ることができる。また、前記真空発生機構部がエジェク
タ効果を利用して真空を発生するものであることを特徴
とする。これにより真空ポンプ等の真空発生機構部を別
体に必要としない真空発生器を提供することができる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる好適な実施
例を添付図面と共に詳細に説明する。図6、図7及び図
8は、本発明に係る真空発生器の基本的な回路を示した
もので、真空発生機構部としてエジェクタ効果を利用し
たものを図6に、真空ポンプを用いたものを図7、図8
に示している。まず図6について説明する。この真空発
生器は、空気圧源につながる真空発生用バルブ700と
真空破壊用バルブ740による高圧空気の制御によっ
て、真空発生と真空破壊が行なわれる。どちらのバルブ
もOFFの状態では高圧空気は流れないが、ONの状態
に作動させることによって高圧空気をバルブからつなが
る流路へと流出させる。また、真空ポート18には、ワ
ークを真空吸着する吸着部が連通して接続される。
【0008】真空発生用バルブ700を作動させると、
高圧空気がエジェクタ部22を通過すると共に、大気圧
供給弁120をフィルタ21を介して大気に連通する位
置から大気との連通を遮断する位置へ変位させる。これ
により大気との連通が遮断され、エジェクタ部22と真
空ポート18とが連通されて真空ポート18に真空が発
生する(ワークを保持する状態)。この状態から真空発
生用バルブ700をOFF状態にすると、大気圧供給弁
120は大気に連通する位置に戻り、真空ポート18は
フィルタ21を介して大気と連通する。そこで真空破壊
用バルブ740をONにすることにより、高圧空気が真
空ポート18へと流れて真空部を大気圧以上にするよう
に作用する。
【0009】このように、高圧空気を真空ポート18に
作用させて真空破壊する場合に、従来例では高圧空気が
大気側に逃げることを防止する逆止弁110が配設され
ていなかったので、真空ポート側に流入した高圧空気の
一部は、フィルタ21を介して大気へと流出していた。
本発明に係る真空発生器は逆止弁110を大気圧供給弁
120とフィルタ21との間に配設して、大気との連通
は許容し、高圧空気の流出を阻止する構成としたことを
特徴とするものであり、これによって高圧空気は効率良
く真空破壊に使用されることになる。
【0010】次に、図7によって真空ポンプを用いた真
空発生器の構成を説明する。真空発生用バルブ700は
真空発生機構部の1例である真空ポンプに接続され、真
空破壊用バルブ740は高圧空気の空気圧源に接続され
て、それぞれの空気の流れを制御する。真空発生用バル
ブ700をOFF状態からON状態にすると、真空ポー
ト18に真空が発生し、真空発生用バルブ700がOF
Fの状態で開放されていた大気との連通が、大気圧供給
弁120が大気との連通を遮断する位置へ変位して閉塞
される。
【0011】再び真空発生用バルブ700をOFF状態
にすると、大気圧供給弁120が大気と連通する位置に
戻り、真空ポート18がフィルタ84を介して大気と連
通され、さらに真空破壊用バルブ740をONにするこ
とによって空気圧源からの高圧空気が真空ポート18に
供給される。これにより真空部は大気と連通しつつ高圧
空気が供給されるので、真空破壊が迅速に行なわれる。
また、大気圧供給弁120より外側には逆止弁110が
配設されて、真空発生器外への高圧空気の流出が阻止さ
れ、高圧空気を効率良く使用して真空部を大気圧以上の
圧力に開放することができる。
【0012】図8も図7と同様、真空ポンプを用いた真
空発生器であり、図7における真空発生用バルブ700
と大気圧供給弁120の両方の作用を図8の大気圧供給
弁121に持たせたものである。大気圧供給弁121は
真空ポンプに接続され、真空破壊用バルブ740は高圧
空気の空気圧源に接続されて、それぞれの空気の流れを
制御する。大気圧供給弁121をOFF状態からON状
態にすると、真空ポート18に真空が発生し、大気圧供
給弁121がOFF状態で開放していた大気との連通を
遮断する。
【0013】再び大気圧供給弁121をOFF状態にす
ると、大気圧供給弁121が大気と連通する位置に戻
り、真空ポート18がフィルタ84、逆止弁110を介
して大気と連通され、さらに真空破壊用バルブ740を
ONにすることによって空気圧源からの高圧空気が真空
ポート18に供給される。この際、流量調整用のニード
ル66が真空破壊用バルブ740と真空ポート18との
間に配設されているので、真空発生器の用途に適合する
よう、高圧空気の流量を調整しながら真空破壊を行うこ
とができる。また、図7の真空発生器と同様に、逆止弁
110によって真空発生器外への高圧空気の流出が阻止
され、高圧空気を効率よく使用して真空部を大気圧以上
の圧力にすることができる。
【0014】以上、3つの真空発生器の回路構成からも
分かるように、本発明による真空発生器は、逆止弁11
0と大気圧供給弁120、121を具備することを特徴
とする。大気圧供給弁120、121は、真空を発生さ
せる際には効率よく真空発生できるよう真空部と大気と
の連通を遮断し、真空発生させていない真空停止時、あ
るいは真空破壊時には大気と連通するように作用する。
一方、逆止弁110は、大気圧供給弁120と直列に配
設されており、真空部の圧力が真空〜大気圧の範囲内で
開き、真空部が大気圧より高圧となった際には閉じて高
圧空気の大気への流出を防止するように作用する。これ
により高圧空気が効率的に使用されて、真空部を速やか
に大気圧以上にすることができる。
【0015】図7においては、大気圧供給弁120を2
ポート弁として大気との連通を開閉する働きを持たせて
いる。これに対して図6、図8に示した大気圧供給弁1
20、121は3ポート弁とし、真空ポート18と大気
との連通を開閉すると共に、真空発生機構部(エジェク
タ部22あるいは真空ポンプ)と、真空ポート18との
連通をも開閉する作用をなしている。このように、大気
圧供給弁120、121に、真空発生機構部と真空ポー
ト18との連通を開閉する作用を付加させることによ
り、より迅速な真空破壊を可能とすると共に真空発生器
の小型化を図ることができる。このような大気圧供給弁
120、121の具体的な構成は真空発生器の構成によ
って適宜設計される。
【0016】次に、本発明に係る真空発生器の具体的な
実施の形態として、エジェクタシステムを用いた真空発
生器の実施例と真空ポンプを用いた実施例について説明
する。
【0017】(実施例1)図1は実施例1における真空
発生器150の回路図であり、図2、図3は真空発生器
150の断面図である。真空発生器150は、真空ポー
ト18にワークの吸着と離脱を行なうパッドを先端に配
設した配管が接続され、高圧ポート12に高圧空気源が
接続されて、真空ポート18と連通するエジェクタ部2
2に高圧空気を通過させるものである。
【0018】そして真空発生器150の主要部の位置関
係は、図2のように高圧ポート12と、エジェクタ部2
2、高圧空気が排気される消音部16が直線的に配置さ
れ、消音部16の上方にニードル66が、さらに上方に
真空ポート18が配設されたものとなっている。また、
メインバルブ38は高圧ポートとエジェクタ部22の隣
接部上方に配設されて両者の連通を制御し、第1パイロ
ットバルブ70、第2パイロットバルブ74はそのメイ
ンバルブ38を囲むよう配設されている。これら各部は
平面状に配置され、真空発生器150は厚さが略一定の
板状に形成されている。
【0019】まず第1パイロットバルブ70、第2パイ
ロットバルブ74について述べる。第1パイロットバル
ブ70、第2パイロットバルブ74には同一構造の電磁
弁が使用される。第1パイロットバルブ70は、パイロ
ットバルブ内に高圧空気を流入する入力流路76a(第
2パイロットバルブ74は76b)と、これに連通し高
圧空気を流出させる出力流路72a(第2パイロットバ
ルブ74は72b)とを有する。そしてソレノイド、あ
るいは手動によるスイッチ70c(74c)のON、O
FFによって入力流路76a(76b)と出力流路72
a(72b)の間の連通口が開閉弁によって開閉される
もので、ONによって2つの流路が連通し、OFFによ
って遮断されるものである。
【0020】36はメイン流路であり、高圧ポート12
と、エジェクタ部22が内包される第1シリンダ室14
とを連通させる。メインバルブ38はメイン流路36内
に設けられ、第2シリンダ室40と入力ポート部42、
連通ポート部44とを備える。入力ポート部42は、第
2シリンダ室40の側壁に開口して設けられ、高圧ポー
ト12と第2シリンダ室40を連通させる。連通ポート
部44は第1シリンダ室14と第2シリンダ室40を連
通させるよう、第2シリンダ室40の側壁に開口して設
けられる。
【0021】前述の入力流路76aには第2入力流路7
3が、入力流路76bには第2入力流路75がそれぞれ
接続されている。第2入力流路73、75は、メイン流
路36につながる第1入力流路71が2つに分岐したも
のであり、入力流路76a、76bに高圧空気が供給可
能となる。一方、出力流路72aは第1制御流路48を
介して第2シリンダ室40の一端側40bに接続し、出
力流路72bは、第3制御流路50に接続されている。
第3制御流路50は、第2シリンダ室40の他端側40
aに接続する第2制御流路49と真空破壊用流路52の
2つに分岐するものである。
【0022】さらにメインバルブ38には、中途部に小
径部46aを有してスプール状に形成されたメイン弁体
46が第2シリンダ室40内で軸線方向へ摺動可能に設
けられている。メイン弁体46の形状により、メイン弁
体46が第2シリンダ室40の他端側40aに移動した
際には入力ポート部42と連通ポート部44とが連通さ
れ、一端側40bに移動した際には入力ポート部42と
連通ポート部44との連通が遮断される。遮断する際に
メイン弁体46の、第2シリンダ室40の壁面に当接す
る部位にはOリング46bを設け、遮断が確実になされ
るように気密性を高めている。
【0023】第1シリンダ室14の一端側14aはメイ
ン流路36を介して高圧ポート12に連通し、他端側1
4bは大気に開放されて内側に消音部16を設けて消音
用フィルタが配設されている。22のエジェクタ部は、
第1シリンダ室14内で軸線方向へ摺動可能に、筒状に
設けられ、その軸線方向に延びる内部空間は高圧空気の
空気流路24を形成している。さらに空気流路24の一
端側14aの部位において流路が狭く絞られて形成され
たノズル部26が設けられ、ノズル部26より他端側1
4bの空気流路24においては、流路が拡大されたデェ
フューザー部28が形成されている。このデェフューザ
ー部28とノズル部26との間において流路の側壁が開
口されて流路内とその外側が連通されるよう開口部30
が配設されている。
【0024】また、34は第1スプリングであり、第1
シリンダ室14内に形成された内周フランジ部14c
と、デェフューザー部28の外周に形成された外周フラ
ンジ部28aとの間で弾装されている。そしてこの第1
スプリング34は、第1シリンダ室14の一端側14a
に高圧空気が供給された際にはエジェクタ部22が他端
側14bに移動することを許容し、高圧空気が供給され
ない際にはエジェクタ部22が一端側14aに位置する
ように付勢する。
【0025】デェフューザー部28の外周と第1シリン
ダ室14の内壁とは離間しており、負圧ポート20と他
端側14bを連通させる流路と、負圧ポート20と開口
部30を連通させる流路が形成されている。さらに、1
20a、120bはデェフューザー部28の外周に嵌め
られているOリングである。120bは開口部30より
も他端側14bに設けられ、120aは120bよりさ
らに他端側の位置に設けられている。一方、図に示され
るように第1シリンダ室14においては、負圧ポート2
0を中心に、一端側14aと他端側14bの内周にそれ
ぞれ斜面を設け、斜面15b、15aとしている。ここ
で負圧ポート20とは、第1シリンダ室14が流路空間
19を介して真空ポート18に連通するよう第1シリン
ダ室14の側壁を開口して設けられたものである。
【0026】これらの構成により、エジェクタ部22が
他端側14bに移動した際には、斜面15aにOリング
120aが当接して、負圧ポート20と大気に通じる他
端側14bとの連通を遮断する。それと共にOリング1
20bは斜面15bから離間するので負圧ポート20と
開口部30とが連通される。反対に、エジェクタ部22
が一端側14aに移動した際には、Oリング120bが
斜面15bに当接することにより、負圧ポート20と開
口部30との連通が遮断される。それと共にOリング1
20aと斜面15aが離間することにより負圧ポート2
0が他端側14bと連通される。
【0027】そしてOリング120aより他端側14b
へ偏位したデェフューザー部28の外周には断面形状が
V字形となる逆止弁110が配設され、第1シリンダ室
14の内壁との間を閉塞している。また、27はシール
リングでありノズル部26の外周に嵌められており、こ
れによって第1シリンダ室14内でエジェクタ部22が
気密状態を保持しながら軸線方向へ摺動可能となってい
る。
【0028】負圧ポート20から真空ポート18へは流
路空間19がつながり、真空ポート18から第1シリン
ダ室14へ空気が通過するように、円筒状のフィルタ2
1が配設されている。66はニードルであり、先端がニ
ードル挿入孔部64内の大径孔部から小径孔部へと挿入
されて配設されると共に、図に示されるようにニードル
66とニードル挿入孔部64との間には気密性を保持す
るためのシール部材が嵌め込まれている。ニードル挿入
孔部64の小径孔部は真空破壊用流路52へとつながっ
ており、ニードル66を軸線方向にねじ込みながら移動
させることで真空破壊用流路52の開口面積を微調整す
ることができる。さらにニードル挿入孔部64の大径孔
部は流路空間19へと破壊流路51を介して連通してい
るので、真空破壊用流路52を通過した高圧空気は、ニ
ードル弁によって流量調整され、さらに真空ポート18
へ供給されて真空破壊の作用をなす。
【0029】以上の構造からなる真空発生器150の、
真空発生と真空破壊の動作について説明する。図2は真
空を発生させている状態を示し、矢印は空気の流れを表
す。第1パイロットバルブ70、第2パイロットバルブ
74の両方がOFF状態で、高圧空気を高圧ポート12
へ供給すると、供給された高圧空気は第1入力流路71
を介して入力流路76a、76bへと流入する。そこで
第1パイロットバルブ70を作動させることにより、入
力流路76aから流入されている高圧空気が、出力流路
72aを通過し、さらに第1制御流路48に流入するこ
とでメイン弁体46を押圧し第2シリンダ室40内の他
端側40aへと移動させる。
【0030】こうしてメイン弁体46が他端側40aに
移動することにより、入力ポート部42と連通ポート部
44が連通され、高圧空気が第1シリンダ室14内の一
端側14aへと流入する。流入した高圧空気はエジェク
タ部22を他端側14bへと移動させ、これにより開口
部30が負圧ポート20と連通する。さらにエジェクタ
部22の空気流路24内に高圧空気が通過し、開口部3
0付近に真空が発生し、開口部30に連通する負圧ポー
ト20等を介して真空ポート18に真空が発生する。こ
の時、Oリング120aは斜面15aに当接しているの
で、負圧ポート20と他端側14bの大気との連通は遮
断される。
【0031】この状態から第1パイロットバルブ70を
再びOFFにすると、図3の点線の矢印で示したように
入力流路76a、76bへと高圧空気が流入されている
初期の状態に戻る。そこで第2パイロットバルブ74を
作動させると、入力流路76bからの高圧空気が出力流
路72bを通過して第3制御流路50へと流入し、さら
に第2制御流路49と真空破壊用流路52の2つに分岐
する。真空破壊用流路52に流入した高圧空気は、ニー
ドル挿入孔部64を介して流路空間19を通過し、真空
ポート18へと流れて真空破壊作用をなす。この際の、
真空破壊状態の空気の流れは、図3の矢印に示した通り
である。
【0032】一方、第2制御流路49へと流入した高圧
空気は、第2シリンダ室40内のメイン弁体46を押圧
して一端側40bへと移動させ、メインバルブ38を閉
じる。これによりメイン流路36を通過していた高圧空
気の流れが遮断されて、真空発生が停止される。この
際、第1シリンダ室14内へは高圧空気が供給されない
ので、エジェクタ部22が第1スプリング34の付勢力
によって一端側14aへと移動され、斜面15bにOリ
ング120bが当接する。これにより空気流路24を介
して大気に連通する開口部30と、負圧ポート部20と
の連通を遮断する。それと共にOリング120aは斜面
15aから離間され、大気圧に連通する他端側14bと
負圧ポート部20が連通される。
【0033】このようにOリング120aが大気との連
通を開放することで、真空部は前述の高圧空気と大気に
よって速やかに大気圧になる。さらに真空部を大気圧以
上にするために高圧空気が供給され続けるが、逆止弁1
10がOリング120aよりも他端側14bに偏位した
位置に配設されているので、逆止弁110によって高圧
空気の大気への流出が防止され、効率良く高圧空気を利
用することができる。このようにエジェクタ部22は、
真空発生機構部の働きをすると共に、Oリング120a
を有して軸線方向に移動することにより大気圧供給弁の
役割も成している。さらにこの場合、エジェクタ部22
はOリング120bを有することで、真空部と真空発生
機構部との連通を開閉する働きもしている。つまり、エ
ジェクタ部22は空気流路24を介して大気に通じてい
る開口部30と負圧ポート20との連通を開閉する作用
をなす三ポート弁となっている。以上説明した実施例1
の真空発生器の構成は図1の回路図に示されるとおりで
ある。
【0034】(実施例2)次に図4を用いて、真空発生
機構部として真空ポンプを利用する真空発生器140の
構成について説明する。尚、上述したエジェクタ効果を
用いた真空発生器150と同様の作用を行う部分につい
ては同じ符号を付した。18は真空ポートであり、ワー
クを真空吸着する吸着部を有した配管が接続される。そ
の構造は前述した実施例と同様に、負圧ポート20につ
ながる流路空間19が連通され、円筒状のフィルタ21
が配設されている。82は真空供給ポートであり、真空
を発生させるための装置である真空ポンプ等が接続さ
れ、真空ポート18に連通することによって真空ポート
18に真空が発生し、ワークが吸着される。80は供給
ポートであり、高圧空気源に接続されることにより高圧
空気が真空発生器140内に流入される。
【0035】第1パイロットバルブ70、第2パイロッ
トバルブ74のON、OFFによって、入力流路76
a、76bと出力流路72a、72bのそれぞれの連通
が開閉されるパイロットバルブ自体の構成は、前述した
実施例と同様である。36はメイン流路であり真空供給
ポート82と、負圧ポート20へ接続される真空流路8
5とを連通させている。メインバルブ38はメイン流路
36内に設けられ、第2シリンダ室40と入力ポート部
42、連通ポート部44とを備える。入力ポート部42
は、第2シリンダ室40の側壁に開口して設けられ、真
空供給ポート82と第2シリンダ室40を連通させる。
連通ポート部44は真空流路85と第2シリンダ室40
を連通させるよう、第2シリンダ室40の側壁に開口し
て設けられる。
【0036】また、高圧空気流路87は、供給ポート8
0と連通され、さらに入力流路76a、76bのそれぞ
れに分岐してつながる第1高圧空気流路88に接続され
ているので、入力流路76a、76bには高圧空気が流
入可能となっている。この第1高圧空気流路88はさら
に分岐して、第2シリンダ室40の他端側40aにも高
圧空気が流入可能となっている。出力流路72aは、第
2シリンダ室40の一端側40bにつながる第1制御流
路48と接続され、出力流路72bは、真空破壊用流路
52に接続されている。また、第2シリンダ室40はそ
の側壁が開口されて、大気流入流路83と連通し、さら
に大気流入流路83はその端部に大気へと開口する開口
部86を有している。開口部86より内側にはフィルタ
84が設けられ、さらに内側に入った位置には逆止弁1
10が設けられている。
【0037】メインバルブ38には、中途部に小径部4
6aを有してスプール状に形成されたメイン弁体46が
第2シリンダ室40内で軸線方向へ摺動可能に設けられ
ている。メイン弁体46が他端側40aに移動した際に
は入力ポート部42と連通ポート部44とが連通され、
一端側40bに移動した際には入力ポート部42と連通
ポート部44との連通が遮断されるという構成は、前述
の真空発生器150と同様である。真空発生器140に
おいては、さらに同様の機構によってメイン弁体46が
他端側40aに移動した際には第2シリンダ室40と大
気流入流路83との連通を遮断し、メイン弁体46が一
端側40bへ移動した際には第2シリンダ室40と大気
流入流路83とを連通させる。第2シリンダ室40の壁
面に当接して連通を遮断するメイン弁体46の外周には
シール部材46cを設け、遮断した際の気密性を確実に
している。
【0038】また、真空破壊用流路52はニードル挿入
孔部64の小径孔部へと接続されており、さらに大径孔
部が流路空間19に接続され、ニードル66を軸線方向
にねじ込みながら移動させることで高圧空気の流量調整
が行われることは前述した実施例と同様である。
【0039】このような構成からなる真空発生器140
の真空発生と真空破壊の動作を、図4、5を用いて説明
する。供給ポート80から流入した高圧空気は、高圧空
気流路87、第1高圧空気流路88を通過して76a、
76bの入力流路へと流入され、さらに第2シリンダ室
40の他端側40aにも流入されてメイン弁体46を一
端側40bへと移動させる。この状態が図5であり、第
2シリンダ室40と大気流入流路83とが連通してい
る。そこで第1パイロットバルブ70を作動させること
により、入力流路76aと出力流路72aの連通が開閉
弁から開放され、高圧空気が第1制御流路48を介して
第2シリンダ室40の一端側40bへと流入される。こ
の状態が図4である。これによりメイン弁体46が他端
側40aへと移動し、大気流入流路83と第2シリンダ
室40とは閉止され、入力ポート部42と連通ポート部
44とは連通する。従って真空ポンプに接続されている
真空供給ポート82は、メイン流路36、真空流路8
5、負圧ポート20、流路空間19、フィルタ21を介
して真空ポート18に連通されて、真空ポート18に真
空を発生させる。その空気の流れを矢印に示す。
【0040】再び第1パイロットバルブ70をOFFに
すると、前述の、初期の図5の状態に戻り、メイン弁体
46は、一端側40bへと移動する。これにより入力ポ
ート部42と連通ポート部44との連通が遮断され、真
空ポート18での真空が停止される。一方、大気流入流
路83は第2シリンダ室40と連通されて、真空ポート
18が大気と連通されることになる。この時の大気の流
れを点線矢印で示した。
【0041】さらに第2パイロットバルブ74をONに
することで入力流路76bと出力流路72bが連通さ
れ、出力流路72bからの高圧空気が真空破壊用流路5
2に流入する。真空破壊用流路52へと流入した高圧空
気は、ニードル挿入孔部64を通過し、流路空間19、
フィルタ21をさらに通過して真空ポート18までの真
空破壊作用をなす。この際の高圧空気の流れを図5の矢
印で示す。
【0042】真空部に流入された高圧空気は、逆止弁1
10が配設されていることで真空発生器140の外部に
流出することがなく、効率良く真空破壊のために使用さ
れるものである。また、この実施例の場合、メインバル
ブ38がシール部材46cを有し、軸線方向に摺動する
ことで大気圧供給弁の働きを成している。さらに46b
を有することで真空供給ポート82と連通ポート部44
との連通を開閉する役割をも持ち、3ポート弁となって
いる。
【0043】
【発明の効果】本発明による真空発生器によれば、真空
破壊時に、真空部が大気と連通されると共に真空部に高
圧空気が供給されることによって速やかに大気圧まで真
空破壊される。特に、大気に開口している流路に逆止弁
が設けられているので、真空破壊時に高圧空気が大気に
流出することを防止し、真空部を効率的に大気圧以上に
することができる。これにより真空破壊時間の短縮と、
高圧空気の消費低減が成され、ワーク搬送操作時間の短
縮等の様々な産業分野における生産性向上に貢献するこ
とが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る真空発生器の回路図である。
【図2】図1の真空発生器の、真空発生状態を示す断面
図である。
【図3】図2に示した真空発生器の真空破壊状態を示す
断面図である。
【図4】本発明に係る他の実施の形態の真空発生器の真
空発生状態を示す断面図である。
【図5】図4に示した真空発生器の真空破壊状態を示す
断面図である。
【図6】本発明に係る他の実施の形態の真空発生器の回
路図を示す。
【図7】本発明に係る他の実施の形態の真空発生器の回
路図を示す。
【図8】本発明に係る他の実施の形態の真空発生器の回
路図を示す。
【符号の説明】
12 高圧ポート 14 第1シリンダ室 16 消音部 18 真空ポート 19 流路空間 20 負圧ポート 21 フィルタ 22 エジェクタ部 24 空気流路 36 メイン流路 38 メインバルブ 40 第2シリンダ室 42 入力ポート部 44 連通ポート部 46 メイン弁体 48 第1制御流路 49 第2制御流路 50 第3制御流路 51 破壊用流路 52 真空破壊用流路 64 ニードル挿入孔部 66 ニードル 70 第1パイロットバルブ 71 第1入力流路 72 出力流路 74 第2パイロットバルブ 73、75 第2入力流路 76 入力流路 80 供給ポート 82 真空供給ポート 83 大気流入流路 84 フィルタ 85 真空流路 86 開口部 87 高圧空気流路 88 第1高圧空気流路 110 逆止弁 120 大気圧供給弁 140 真空ポンプを用いた真空発生器 150 エジェクタシステムを用いた真空発生器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 信一 長野県上伊那郡南箕輪村4088 株式会社日 本ピスコ伊那第一工場内 Fターム(参考) 3H089 BB01 BB30 DB33 DB45 DB48 JJ06 3J038 AA02 CA09 CA14 CB05

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワークを真空吸着する吸着部が接続され
    る真空ポートと、該真空ポートに連通して設けられた真
    空発生機構部と、前記真空ポート内を真空破壊可能に高
    圧空気源に接続されると共に前記真空ポートと連通して
    設けられた接続ポートとを具備する真空発生器であっ
    て、 前記真空ポートと前記真空発生機構部とを連通する流路
    内に配設され、大気との連通を制御する大気圧供給弁
    と、 該大気圧供給弁に対して直列に設けられる逆止弁とを有
    し、 前記大気圧供給弁は、真空発生時には前記真空ポートと
    大気とを遮断し、真空破壊あるいは真空停止時には前記
    真空ポートと大気とを連通させ、 前記逆止弁は、前記流路内への大気の流入を許容し、高
    圧空気の前記流路から大気への流出を阻止することを特
    徴とする真空発生器。
  2. 【請求項2】 前記大気圧供給弁は、前記真空発生機構
    部と前記真空ポートとの連通を開閉制御する3ポート弁
    であることを特徴とする請求項1記載の真空発生器。
  3. 【請求項3】 前記真空発生機構部がエジェクタ効果を
    利用して真空を発生するものであることを特徴とする請
    求項1または2記載の真空発生器。
JP2001228879A 2001-07-30 2001-07-30 真空発生器 Expired - Lifetime JP4495366B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001228879A JP4495366B2 (ja) 2001-07-30 2001-07-30 真空発生器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001228879A JP4495366B2 (ja) 2001-07-30 2001-07-30 真空発生器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003042134A true JP2003042134A (ja) 2003-02-13
JP4495366B2 JP4495366B2 (ja) 2010-07-07

Family

ID=19061310

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001228879A Expired - Lifetime JP4495366B2 (ja) 2001-07-30 2001-07-30 真空発生器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4495366B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008035417A1 (de) 2007-08-01 2009-02-05 Smc K.K. Vakuumerzeugungseinheit
JP2011515623A (ja) * 2008-03-26 2011-05-19 ゼレックス エイビー 高圧エアで駆動され、真空グリッパで把持される物体を能動的に開放するために配置される手段を有する真空発生器
CN107489661A (zh) * 2016-06-10 2017-12-19 谢雷克斯公司 控制包括真空发生器的真空系统
CN109026856A (zh) * 2018-09-30 2018-12-18 浙江艾迪贝尔科技有限公司 紧凑型真空发生器
CN110936399A (zh) * 2018-09-21 2020-03-31 昆山市奥森维尔自动化设备有限公司 一种破真空分流器及其工作方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04326546A (ja) * 1991-04-25 1992-11-16 Sony Corp 真空吸着装置および真空吸着装置の制御方法
JP2585525Y2 (ja) * 1993-02-12 1998-11-18 株式会社コガネイ エジェクタ装置
JP2001124000A (ja) * 1999-08-18 2001-05-08 Nippon Pisuko:Kk 真空発生器用の真空破壊ユニット及び真空発生器

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04326546A (ja) * 1991-04-25 1992-11-16 Sony Corp 真空吸着装置および真空吸着装置の制御方法
JP2585525Y2 (ja) * 1993-02-12 1998-11-18 株式会社コガネイ エジェクタ装置
JP2001124000A (ja) * 1999-08-18 2001-05-08 Nippon Pisuko:Kk 真空発生器用の真空破壊ユニット及び真空発生器

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008035417A1 (de) 2007-08-01 2009-02-05 Smc K.K. Vakuumerzeugungseinheit
JP2009036096A (ja) * 2007-08-01 2009-02-19 Smc Corp 真空発生ユニット
KR101021191B1 (ko) * 2007-08-01 2011-03-15 에스엠씨 가부시키 가이샤 진공발생유니트
JP4678604B2 (ja) * 2007-08-01 2011-04-27 Smc株式会社 真空発生ユニット
US8043071B2 (en) 2007-08-01 2011-10-25 Smc Kabushiki Kaisha Vacuum generating unit
DE102008035417B4 (de) * 2007-08-01 2016-02-25 Smc K.K. Vakuumerzeugungseinheit
JP2011515623A (ja) * 2008-03-26 2011-05-19 ゼレックス エイビー 高圧エアで駆動され、真空グリッパで把持される物体を能動的に開放するために配置される手段を有する真空発生器
CN107489661A (zh) * 2016-06-10 2017-12-19 谢雷克斯公司 控制包括真空发生器的真空系统
CN110936399A (zh) * 2018-09-21 2020-03-31 昆山市奥森维尔自动化设备有限公司 一种破真空分流器及其工作方法
CN109026856A (zh) * 2018-09-30 2018-12-18 浙江艾迪贝尔科技有限公司 紧凑型真空发生器
CN109026856B (zh) * 2018-09-30 2023-09-29 浙江艾迪贝尔科技有限公司 紧凑型真空发生器

Also Published As

Publication number Publication date
JP4495366B2 (ja) 2010-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101691430B1 (ko) 잔압 배기 밸브가 부착된 5포트 스위칭 밸브
KR101021191B1 (ko) 진공발생유니트
EP2076699B1 (en) Exhaust venting for a fluid control device
JP4582484B2 (ja) 真空吸着装置
JP3809103B2 (ja) ブースタパイロット弁
MXPA05010462A (es) Valvula neumatica operada directamente que tiene un retorno de asistencia diferencial-.
KR101035101B1 (ko) 이단 에어콘트롤 밸브
JP2003042134A (ja) 真空発生器
JP2003222100A (ja) 真空発生器
US20030106594A1 (en) Normally open three-way valve for ultra-high-pressure application
JP3436635B2 (ja) 真空発生器
WO2016063499A1 (ja) 間歇エア発生装置
JP3386313B2 (ja) 真空発生器
TW202314129A (zh) 真空噴射器及具備該真空噴射器的真空產生裝置
JP3548508B2 (ja) 真空発生器用の真空破壊ユニット及び真空発生器
JP2004322240A (ja) 真空バルブユニット
JP2006308009A (ja) エアシリンダ駆動装置
JP3917547B2 (ja) 流体圧バルブユニット
EP4349504A1 (en) Fluid circuit for intermittent air discharge
JPH06330900A (ja) 真空発生装置
CN217481655U (zh) 一种气动执行装置
JP3021360B2 (ja) 制御バルブ
JPS61171905A (ja) エアシリンダの制御装置
JPH0868400A (ja) 負圧発生装置
JP2004028248A (ja) 圧力制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061204

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100330

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100409

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4495366

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160416

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term