JP3436635B2 - 真空発生器 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は真空発生器に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】背景技術として、図６および図７に示す
ような真空発生器がある。本体１１０には、高圧空気供
給ポート１１２、真空ポート１１８が設けられていると
共に、真空発生電磁弁１１４、および真空破壊電磁弁１
１６が装着されている。また、本体１１０内には、真空
バルブ１２０、切替弁機構１２２、破壊エア調整部１２
４、真空ポート側フィルタ部１２６が組み込まれてい
る。真空バルブ１１８は、軸線方向に延びる流体の流路
１２８を有し、その流路１２８の上流側に流路を絞るノ
ズル部１３０が形成され、そのノズル部１３０よりも流
路１２４の下流側に流路を拡大するデェフューザ部１３
２が形成されている。ノズル部１３０とデェフューザ部
１３２の間に側方に開口する開口部１３４が設けられ、
前記流路１２８へ一端側から高圧流体が供給されること
で、その開口部１３４近傍に負圧を発生させることがで
きる。真空バルブ１２０が挿入されているシリンダ室の
側壁には開口が形成されており、その開口にはフィルタ
・・が装着されている。そのフィルタ１３６を介して真
空バルブ１２０の流路１２８を通過した空気が排出され
る。高圧空気供給ポート１１２から真空バルブ１２０へ
連通する圧空供給流路１３８は真空発生電磁弁１１４に
よって開閉可能に設けられている。

【０００３】切替弁機構１２２は、シリンダ室１４０に
切替弁体１４２が軸線方向に摺動可能に挿入されてお
り、スプリング１４４によってシリンダ室１４０の一端
側へ付勢されている。シリンダ室１４０の一端側には、
高圧空気供給ポート１２２から連通路１４６が連通され
ており、この連通路１４６も真空発生電磁弁１１４によ
って圧空供給流路１３８と同様に開閉される。また、高
圧空気供給ポート１１２は真空破壊電磁弁１１６によっ
て開閉される真空破壊通路１４８に連通されている。真
空破壊通路１４８は、前記切替弁体１４２に挿通された
細管１５０および前記シリンダ室１４０の他端側の部位
を含み、シリンダ室１４０の側壁に設けられた開口通路
１５１を介して真空ポート側フィルタ部１２６に連通し
ている。細管１５０のシリンダ室１４０内にある開口に
は、ニードル１５２が進退可能に挿入されており、真空
破壊通路１４８を流れる空気流量を調整することができ
る。

【０００４】連通路１４６および圧空供給流路１３８が
真空発生電磁弁１１２によって連通した際には、図７に
示すように、圧空がシリンダ室１４０の一端側に供給さ
れ、切替弁体１４２が他端側へ移動されるから、前記真
空破壊通路１４８が閉塞されると共に、真空バルブ１２
０によって真空が発生する。この際には真空破壊電磁弁
１１６によっても真空破壊通路１４８は閉塞されてい
る。また、連通路１４６および圧空供給流路１３８が真
空発生電磁弁１１２によって閉塞され、真空破壊通路１
４８が真空破壊電磁弁１１６によって連通した際には、
図８に示すように、真空バルブ１２０による真空の発生
が停止すると共に、破壊空気が真空ポート側フィルタ部
１２６を通過して真空ポート１１８に供給され、真空ポ
ート１１８の真空が破壊される。この際にはシリンダ室
１４０が切替弁体１４２によって一端側で閉塞されてお
り、破壊空気は真空ポート１１８側へ流通しないように
なっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
真空発生器では、真空バルブ１２０によって真空を発生
させる際には真空発生電磁弁１１４が常に開いていなけ
ればならない。すなわち、真空発生電磁弁１１４へ常に
通電してソレノイドを作動させている必要があり、電力
を浪費してしまうという課題があった。

【０００６】そこで、本発明の目的は、真空バルブによ
る真空発生を好適に維持することができると共に、真空
バルブへの圧空供給を制御するバルブ機構の消費電力を
低減できる真空発生器を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するために次の構成を備える。すなわち、本発明
は、高圧流体源に連通される圧空供給ポートおよび真空
が発生される真空ポートが設けられた本体と、該本体内
に設けられ、軸線方向に延びる流体の流路を有し、該流
路の一端側に位置される部位が流路を絞るノズル部に形
成され、該ノズル部よりも流路の下流側となる他端側に
位置される部位が流路を拡大するデェフューザ部に形成
されると共に、前記ノズル部と前記デェフューザ部の間
に側方に開口して前記真空ポートに連通する開口部が設
けられ、前記流路へ一端側から高圧流体が供給されるこ
とで該開口部近傍に負圧を発生させて前記真空ポートを
負圧にする真空バルブと、前記真空バルブと前記圧空供
給ポートを連通するメイン流路と、該メイン流路の中途
部に設けられた主流路シリンダ室と、該主流路シリンダ
室の側壁に開口して設けられ、前記圧空供給ポートと主
流路シリンダ室とを連通する入力ポート部と、該主流路
シリンダ室の側壁に開口して設けられ、主流路シリンダ
室と前記真空バルブとを連通する連通ポート部と、該主
流路シリンダ室内で軸線方向へ摺動可能に形成され、主
流路シリンダ室の一端側に移動した際には前記入力ポー
ト部と前記連通ポート部とを連通させ、他端側に移動し
た際には前記入力ポート部と前記連通ポート部との連通
を遮断するメイン弁体と、前記主流路シリンダ室の他端
側に連通し、メイン弁体を一端側へ移動させるべく高圧
流体を主流路シリンダ室の他端側に導入する第１制御流
路と、前記主流路シリンダ室の一端側に連通し、メイン
弁体を他端側へ移動させるべく高圧流体を主流路シリン
ダ室の一端側に導入する第２制御流路とを具備し、一
旦、一端側へ移動したメイン弁体は、前記第１制御流路
への高圧流体の導入を停止しても一端側へ移動された状
態が維持されることを特徴とする。

【０００８】また、前記真空ポートと前記高圧流体源と
を連通する真空破壊用流路と、該真空破壊用流路の中途
部に配され、真空ポートへ高圧流体の供給を選択的に行
い、真空ポートへ高圧流体を供給することで真空ポート
の真空を破壊するよう、真空破壊用流路を開閉する破壊
バルブとを具備することで、好適に真空発生と真空破壊
とを行うことができる。

【０００９】また、前記破壊バルブが、前記本体内に設
けられた破壊流路シリンダ室と、該破壊流路シリンダ室
内で軸線方向へ摺動可能に形成され、破壊流路シリンダ
室の一端側に移動した際には前記真空破壊用流路を連通
させ、他端側に移動した際には真空破壊用流路を遮断す
る摺動弁体と、前記破壊流路シリンダ室の他端側に連通
し、摺動弁体を一端側へ移動させるべく高圧流体を破壊
流路シリンダ室の他端側に導入する破壊空気制御用の流
路と、前記破壊空気制御用の流路を介して破壊流路シリ
ンダ室の他端側に高圧流体が供給された際には摺動弁体
が一端側に移動することを許容し、破壊流路シリンダ室
の他端側に高圧流体が供給されないときには摺動弁体を
他端側に位置するように付勢する付勢部材とを備え、前
記破壊流路シリンダ室の他端側と前記主流路シリンダ室
の一端側に高圧流体を同時に導入可能に、前記破壊空気
制御用の流路と前記第２制御流路とが連通されているこ
とで、真空発生の停止と真空破壊を同時に行うことがで
き、真空の破壊作用をシャープに得ることができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる好適な実施
例を添付図面と共に詳細に説明する。図１は本発明にか
かる真空発生器の一実施例の主要部を示す断面図であ
る。１０は本体であり、一端側に高圧流体源に連通され
る圧空供給ポート１２が設けられている。１４は第１シ
リンダ室であり、本体１０内に形成され、一端側１４ａ
が高圧流体源に連通されるように後述する第２シリンダ
室４０を介して圧空供給ポート１２に連通されている。
また、第１シリンダ室１４の他端側１４ｂは開放してお
り、その他端側１４ｂの開放部は消音部１６となってい
る。消音部１６には複数の消音用フィルタ１６ａ、１６
ｂ、１６ｃ・・・が配設されている。

【００１１】１８は真空ポートであり、本体１０の他端
側に設けられている。２０は負圧ポート部であり、真空
ポート１８に連通すべく、第１シリンダ室１４の側壁中
途部に開口されて設けられている。負圧ポート部２０と
真空ポート１８との間は通路空間１９になっており、真
空ポート１８側から第１シリンダ室１４側へ流通する空
気が通過するように、円筒状のフィルタ２１が配設され
ている。

【００１２】２２は真空バルブであり、第１シリンダ室
１４内で軸線方向へ摺動可能に設けられ、軸線方向に延
びる流体の流路２４を有する。流路２４の第１シリンダ
室１４の一端側に位置される部位が流路２４を絞るノズ
ル部２６に形成されている。そのノズル部２６よりも流
路２４の下流側となる第１シリンダ室１４の他端側に位
置される部位が流路２４を拡大するデェフューザ部２８
に形成されている。また、ノズル部２６とデェフューザ
部２８の間に側方に開口する開口部３０が設けられい
る。第１シリンダ室１４の他端側１４ｂに移動した際に
は開口部３０と負圧ポート部２０とを連通させると共に
前記流路２４へ一端側から高圧流体が供給されることで
開口部３０近傍に負圧を発生させる。なお、この負圧を
発生する原理は、空気の粘性を利用するものであり、エ
ジェクタ効果として周知の技術である。

【００１３】また、この真空バルブ２２は、一端側１４
ａに移動した際には開口部３０と負圧ポート部２０との
連通を遮断する。すなわち、図５に示すように、第１シ
リンダ室１４の負圧ポート部２０よりも一端側の内周に
形成された斜面１５にデェフューザ部２８の外周に嵌め
られた’Ｏ’−リング３２が当接し、開口部３０と負圧
ポート部２０との連通を閉塞するのである。２７はシー
ルリングであり、ノズル部２６の外周に嵌められてい
る。また、２９もシールリングであり、デェフューザ部
２８の外周に嵌められている。これらのシールリング２
７、２９によって真空バルブ２２が気密状態で第１シリ
ンダ室１４内で軸線方向へ摺動できる。第１シリンダ室
１４の一端側１４ａに高圧空気が供給されるとシールリ
ング２７が好適に気密しているため、真空バルブ２２が
その高圧空気の圧力によって好適に押圧されて他端側１
４ｂ側へ移動されるのである。また、シールリング２９
によって真空ポート１８側が負圧になった際に空気が進
入しないように好適に気密している。

【００１４】３４は第１スプリングであり、第１シリン
ダ室１４の一端側に高圧流体が供給された際には真空バ
ルブ２２が第１シリンダ室１４の他端側１４ｂに移動す
ることを許容し、高圧流体が供給されない際には真空バ
ルブ２２を第１シリンダ室１４の一端側１４ａに位置す
るように付勢する。すなわち、第１スプリング３４が、
第１シリンダ室１４内に形成された内周フランジ部１４
ｃと、デェフューザ部２８の外周に形成された外周フラ
ンジ部２８ａとの間に弾装されている。なお、第１スプ
リング３４の取付位置はその付勢力の方向が同一であれ
ば、本実施例に限られないのは勿論である。

【００１５】３６はメイン流路であり、第１シリンダ室
１４と高圧流体源とを連通する。３８はメインバルブで
あり、メイン流路３６の中途部に配され、第１シリンダ
室１４へ高圧流体の供給を選択的に行うよう、メイン流
路３６を開閉する。メインバルブ３８は、本体１０内に
設けられた主流路シリンダ室である第２シリンダ室４０
と、第２シリンダ室４０の側壁に開口して設けられ、圧
空供給ポート１２を介して高圧流体源と第２シリンダ室
４０とを連通する入力ポート部４２と、その第２シリン
ダ室４０の側壁に開口して設けられ、第２シリンダ室４
０と第１シリンダ室１４とを連通する連通ポート部４４
とを備える。また、メインバルブ３８には、第２シリン
ダ室４０内で軸線方向へ摺動可能に形成され、第２シリ
ンダ室４０の一端側に移動した際には入力ポート部４２
と連通ポート部４４とを連通させ、他端側に移動した際
には入力ポート部４２と連通ポート部４４との連通を遮
断するメイン弁体４６を備える。メイン弁体４６は、ス
プール状に形成されて、中途部に小径部４６ａが形成さ
れている。この小径部４６ａによって、第２シリンダ室
４０の一端側に移動した際に入力ポート部４２と連通ポ
ート部４４とを連通させる。

【００１６】４８は第１制御流路であり、第２シリンダ
室４０の他端側に連通している。この第１制御流路４８
は、後述する第１パイロット弁７０の出力通路７２に接
続されている。第１パイロット弁７０から第１制御流路
４８を介して第２シリンダ室４０の他端側４０ｂに高圧
流体が供給された際には、メイン弁体４６が一端側に移
動される。１００は第２制御流路であり、第２シリンダ
室４０の一端側に連通し、メイン弁体４６を他端側へ移
動させるべく高圧流体を第２シリンダ室４０の一端側に
導入可能に設けられている。この第２制御流路１００
は、後述する第２パイロット弁７４の出力通路に接続さ
れている。

【００１７】５０は破壊バルブであり、真空ポート１８
と高圧流体源とを連通する真空破壊用流路５２の中途部
に配され、真空ポート１８へ高圧流体の供給を選択的に
行うよう、真空破壊用流路５２を開閉する。この破壊バ
ルブ５０が開き、真空ポート１８へ高圧流体が供給され
れば、真空ポート１８の真空が破壊する。本実施例で
は、本体内に段付形状に形成された破壊流路シンダ室で
ある第３シリンダ室５４と、その第３シリンダ室５４内
で軸線方向に摺動可能に段付形状に形成された摺動弁体
５６とを備える。摺動弁体５６は、第３シリンダ室の一
端側に移動した際（図５に示す状態）には前記真空破壊
用流路を連通させ、他端側に移動した際には（図１に示
す状態）真空破壊用流路を遮断する。また、５８は破壊
空気制御用の流路であり、第３シリンダ室５４の大径部
の内上底面（第３シリンダ室５４の他端側）に開通する
と共に、後述する第２パイロット弁７４の出力通路に接
続されている。従って、第２パイロット弁７４から、高
圧流体が第３シリンダ室５４の他端側へ導入されると、
摺動弁体５６が一端側へ移動される。なお、第２パイロ
ット弁の構造は第１パイロット弁７０の構造と同一に設
けられている。

【００１８】６０は第３スプリングであり、摺動弁体５
６を常時は真空破壊用流路５２を閉塞するように図１の
図面上において上方に付勢し、高圧流体が第２パイロッ
ト弁７４から破壊空気制御用の流路５８を介して第３シ
リンダ室５４の大径部の上部側（第３シリンダ室５４の
他端側）に供給された際には、真空破壊用流路５２を開
口するよう、摺動弁体５６が下方に移動することを許容
する。すなわち、第３スプリング６０は摺動弁体５６の
下面と第３シリンダ室５４の底面との間に弾装され付勢
部材として作用する。なお、５６ａは’Ｏ’−リングで
あり、摺動弁体５６の先端部に嵌められており、これに
よって気密がなされて確実に真空破壊用流路５２を閉塞
できる。破壊バルブ５０が開口すると、高圧の破壊空気
は真空破壊用流路５２を構成する圧空供給ポート１２、
入力ポート部４２、第２シリンダ室４０、ニードル挿入
孔部６４、破壊バルブ５０および細管６２内を通過して
真空ポート１８に流入して真空を破壊する。細管６２は
内容積が小さいため、流入空気は素早く真空ポート１８
に導入でき、真空破壊を好適に行うことができる。な
お、第２シリンダ室４０とニードル挿入孔部６４とは、
貫通孔６８によって連通されている。

【００１９】また、本実施例では、破壊空気制御用の流
路５８は、前記第２シリンダ室４０の一端側４０ａに連
通する第２制御流路１００（図４（ａ）参照）と連通し
ている。従って、第２パイロット弁７４を介して、第３
シリンダ室５４の他端側と第２シリンダ室４０の一端側
に高圧流体を同時に導入することができる。

【００２０】６６はニードルであり、ニードル挿入孔部
６４に挿入されており、先端が大径孔から小径孔に臨む
ように配設されている。このニードル６６を軸線方向に
ねじ込み式で移動させることが可能に設けられており、
真空破壊用流路５２の開口面積を微調整することができ
る。これによって真空ポート１８に供給される破壊空気
の流量を調整でき、真空破壊の速度を好適に調整するこ
とができる。以上の実施例において、摺動部に嵌められ
た’Ｏ’−リング、および本体１０を構成する部材間の
気密をするために設けられたガスケット類は、図に明ら
かであり、説明を省略する。

【００２１】次に第１パイロットバルブ７０および第２
パイロットバルブ７４の構造と取付状態について図２お
よび図３に基づいて説明する。第１パイロットバルブ７
０および第２パイロットバルブ７４は同一構造のものを
利用できるので、一方のみ（第１パイロットバルブ７
０）の構成について詳述する。７６は入力通路である。
この入力通路７６は図１の実施例の本体１０に形成され
た連絡通路６９に連通している。連絡通路６９は前述し
た真空破壊用流路５２と入力通路７６を連通するように
開口している。７８はソレノイドであり、入力通路７６
の中途部に設けられ、その入力通路７６を開閉する開閉
弁８０を作動させる駆動源として設けられている。８２
はプランジャであり、８４はコイルである。コイル８４
に電通されるとプランジャ８２がソレノイド７８内に引
き込むように作動する。プランジャ８２の先端には、開
閉弁８０が固定部材８６によって固定されている。プラ
ンジャ８２の先端に固定された開閉弁８０は、常時はソ
レノイド７８の外郭部と固定部材８６の間に弾装された
スプリング８８の付勢力によって、入力通路７６を閉塞
するように付勢されている。具体的には入力通路７６の
中途部に設けられた開口７６ａを開閉弁８０で蓋をして
いる。

【００２２】９０は排気路であり、排気弁９２が開口す
ることによって出力通路７２と連通可能に設けられてい
ると共に大気に開放している。排気弁９２は、開閉弁８
０に対向する位置に、排気路の開口９０ａを開閉可能に
配されている。また、排気弁９２の取付枠材９４によっ
て保持されており、その取付枠材９２と一体に排気路の
開口９０ａに接離して、その排気路の開口９０ａを開閉
する。取付枠体９４には、開閉弁８０に当接するまで延
設された間隔保持部９４ａが設けられている。また、排
気弁９２は、本体に外側へ突出することを阻止された押
しボタン部材９５との間に弾装されたスプリング９６の
付勢力によって、常時は排気路の開口９０ａを塞ぐ方向
へ付勢されている。なお、スプリング９６の付勢力は、
スプリング８８の付勢力よりも小さく設定されている。
また、押しボタン部材９５は、スプリング９７の付勢力
に抗して内側へ移動可能に設けられている。この押しボ
タン部材９５を内側へ押し込むことで、手動によって、
排気弁９２を移動させて排気路の開口９０ａを塞ぐと共
に、開閉弁８０を移動させて入力通路７６の開口７６ａ
を開き、出力通路７２から圧力空気を出力することがで
きる。

【００２３】従って、ソレノイド７８が作動されていな
い際には図２に示すように、スプリング８８の付勢力が
スプリング９６の付勢力に打ち勝って開口７６ａを閉塞
すると共に、排気路の開口９０ａは間隔保持部９４ａに
よって排気弁９２が支持されることによって開口した状
態にある。そして、ソレノイド７８が作動された際に
は、スプリング８０の付勢力にプランジャ８２の作動力
が打ち勝って開閉弁８０が移動して開口７６ａを開口す
ると共に、排気路の開口９０ａは、スプリング９６の付
勢力によって移動した排気弁９２によって閉塞された状
態になり、出力通路７２から圧力空気を出力することが
できる。

【００２４】以上の構成からなる電磁弁であるパイロッ
トバルブが、図３に示すように第１パイロットバルブ７
０、および第２パイロットバルブ７４として図１に示す
真空発生装置に固定されている。以上の構成からなる真
空発生器の動作について、図１、図３〜図５に基づいて
以下に説明する。なお、図４の（ａ）は本実施例の回路
図であり、（ｂ）はそのタイムチャートである。タイム
チャートは第１パイロットバルブ７０、および第２パイ
ロットバルブ７４の動作と、真空発生、および破壊エア
発生の関係を示している。また、図５は本実施例の真空
破壊の作動状態を示している。先ず、真空を発生してい
る状態を図１に基づいて説明する。第１パイロットバル
ブ７０が作動（ＯＮ）することによって、第１制御流路
４８から第２シリンダ室４０の他端側４０ｂに高圧空気
が供給され、メイン弁体４６が第２シリンダ室４０の一
端側４０ａに移動される。これにより、高圧流体が第１
シリンダ室１４の一端側１４ａに内に流入し、真空バル
ブ２２が第２シリンダ室１４の他端側１４ｂに移動する
ことにより、開口部３０が負圧ポート部２０と連通す
る。そして、真空バルブ２２の流路２４を空気が通気す
ることによって、開口部３０付近に真空が発生し、開口
部３０に連通する負圧ポート部２０等を介して真空ポー
ト１８に真空が発生する。このとき、破壊バルブ５０は
閉塞状態になっている。

【００２５】次に、上記の状態から第１パイロットバル
ブ７０をＯＦＦすると、メイン弁体４６は第２シリンダ
室４０の一端側４０ａに移動された状態で維持される。
すなわち、本実施例の動作を示すタイムチャート（図４
（ｂ））のように、第１パイロットバルブ７０をパルス
的に作動させることで、メイン弁体４６が第２シリンダ
室４０の一端側４０ａに移動した状態を保持するので、
真空発生状態が維持される。第１パイロットバルブ７０
の作動を非常に短時間にすることができるので、その消
費電力を低減できる。

【００２６】次に、真空を破壊する状態を図５に基づい
て説明する。先ず、第１パイロットバルブ７０がＯＦＦ
の状態で、第２パイロットバルブ７４がＯＮの状態とす
る。高圧空気が破壊空気制御用の流路５８を介して第３
シリンダ室５４に供給され、摺動弁体５６が移動して破
壊バルブ５０が開く。同時に第２シリンダ室４０の一端
側に高圧流体が供給され、メイン弁体４６が第２シリン
ダ室４０の他端側４０ｂに移動するため、メインバルブ
３８が閉じられ、真空バルブ２２による真空発生も停止
できる。これは、第２制御流路１００が破壊空気制御用
の流路５８と連通されており、第２パイロットバルブ７
４を介して高圧流体を同時に導入可能に設けられている
ためである。これにより、第２パイロットバルブ７４の
作動により、真空バルブ２２の真空発生を停止すること
と、破壊バルブ５０の開放による真空破壊を同時に行う
ことができ、真空の破壊作用をシャープに得ることがで
きる。

【００２７】このとき、真空バルブ２２は、第１スプリ
ング３４の付勢力によって第１シリンダ室１４の一端側
１４ａに移動され、開口部３０と負圧ポート部２０とが
連通しないようにその通路を閉塞するため、破壊空気は
第１シリンダ室１４側へ洩れることがない。従って、真
空破壊が効率良く好適になされる。すなわち、高圧空気
の第１シリンダ室１４への供給が断たれ、真空バルブ２
２によって真空が発生しなくなると共に、真空バルブ２
２が第１スプリング３４の付勢力によって第１シリンダ
室１４の一端側１４ａに移動され、斜面１５に’Ｏ’−
リング３２が当接して開口部３０と負圧ポート部２０と
が連通しないようにその通路を閉塞する。このように、
本実施例の真空バルブ２２は、図４（ａ）の回路図にも
明らかなように、真空発生機能２２ａと切換弁２２ｂと
の二つの機能を備えるのである。このように、真空バル
ブ２２は、真空を発生する真空発生源となると共に、第
１シリンダ室１４内で移動できることで一種の逆止弁の
作用をするため、背景技術のように特別な切換弁機構を
別に設けることなく、好適な作動が可能な真空発生器と
なっている。

【００２８】以上の実施例では、パイロットバルブとし
て図２で示したような電磁弁を用いているが、開閉弁機
能を有すればこれに限られることがないのは勿論であ
る。また、以上の実施例では、破壊バルブ５０を介して
第２パイロットバルブ７４によって、真空破壊を制御し
ているが、電磁弁で直接的に制御することも可能であ
る。但し、電磁弁で流路を直接的に開放する場合、構造
が簡単になる反面、流路を大きく開くためには大型の電
磁弁を要したり、消費電力が大きくなるというデメリッ
トがある。以上、本発明につき好適な実施例を挙げて種
々説明してきたが、本発明はこの実施例に限定されるも
のではなく、発明の精神を逸脱しない範囲内で多くの改
変を施し得るのは勿論のことである。

【００２９】

【発明の効果】本願発明にかかる真空発生器によれば、
メインバルブのメイン弁体を主流路シリンダ室の一端側
へ移動させるべく第１制御流路が主流路シリンダ室の他
端側に連通し、メイン弁体を他端側へ移動させるべく第
２制御流路が主流路シリンダ室の一端側に連通してい
る。このため、第１制御流路を介して圧空を主流路シリ
ンダ室の他端側に供給し、一旦メイン弁体を主流路シリ
ンダ室の一端側へ移動させれば、第２制御流路を介して
圧空を主流路シリンダ室の一端側に供給してメイン弁体
を他端側へ移動させるまで、真空発生バルブには連続し
て圧空が供給され、その真空発生状態が維持される。す
なわち、第１制御流路を介して圧空を主流路シリンダ室
の他端側にパルス的に供給すれば、メイン弁体は主流路
シリンダ室の一端側に移動した状態を保持できる。従っ
て、圧空供給を制御するバルブ機構の作動を非常に短時
間にすることができ、その消費電力を低減でき、真空発
生器のランニングコストを著しく低減できるという著効
を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる真空発生器の一実施例を示す断
面図である。

【図２】本発明の真空発生器に利用されるパイロットバ
ルブの一実施例を説明する断面図である。

【図３】本発明にかかる真空発生器の全体構成の一例を
示す正面図である。

【図４】図３の真空発生器全体の回路図およびタイムチ
ャートである。

【図５】図１の実施例の真空破壊の作動状態を示す断面
図である。

【図６】背景技術を説明する断面図である。

【図７】図６の真空発生器の真空破壊の作動状態を示す
断面図である。

【符号の説明】

１０ 本体 １２ 圧空供給ポート １４ 第１シリンダ室 １６ 消音部 １８ 真空ポート ２０ 負圧ポート部 ２２ 真空バルブ ２４ 流路 ２６ ノズル部 ２８ デェフューザ部 ３０ 開口部 ３２ ’Ｏ’−リング ３４ 第１スプリング ３６ メイン流路 ３８ メインバルブ ４０ 第２シリンダ室 ４２ 入力ポート部 ４４ 連通ポート部 ４６ メイン弁体 ４８ 第１制御流路 ５０ 破壊バルブ ７０ 第１パイロットバルブ ７４ 第２パイロットバルブ １００ 第２制御流路

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−71500（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−164200（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−203300（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−288399（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−141100（ＪＰ，Ａ) 実開 平５−1000（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) F04F 5/20 F04F 5/52 F16K 31/124

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高圧流体源に連通される圧空供給ポート
   および真空が発生される真空ポートが設けられた本体
   と、 該本体内に設けられ、軸線方向に延びる流体の流路を有
   し、該流路の一端側に位置される部位が流路を絞るノズ
   ル部に形成され、該ノズル部よりも流路の下流側となる
   他端側に位置される部位が流路を拡大するデェフューザ
   部に形成されると共に、前記ノズル部と前記デェフュー
   ザ部の間に側方に開口して前記真空ポートに連通する開
   口部が設けられ、前記流路へ一端側から高圧流体が供給
   されることで該開口部近傍に負圧を発生させて前記真空
   ポートを負圧にする真空バルブと、 前記真空バルブと前記圧空供給ポートを連通するメイン
   流路と、 該メイン流路の中途部に設けられた主流路シリンダ室
   と、 該主流路シリンダ室の側壁に開口して設けられ、前記圧
   空供給ポートと主流路シリンダ室とを連通する入力ポー
   ト部と、 該主流路シリンダ室の側壁に開口して設けられ、主流路
   シリンダ室と前記真空バルブとを連通する連通ポート部
   と、 該主流路シリンダ室内で軸線方向へ摺動可能に形成さ
   れ、主流路シリンダ室の一端側に移動した際には前記入
   力ポート部と前記連通ポート部とを連通させ、他端側に
   移動した際には前記入力ポート部と前記連通ポート部と
   の連通を遮断するメイン弁体と、 前記主流路シリンダ室の他端側に連通し、メイン弁体を
   一端側へ移動させるべく高圧流体を主流路シリンダ室の
   他端側に導入する第１制御流路と、 前記主流路シリンダ室の一端側に連通し、メイン弁体を
   他端側へ移動させるべく高圧流体を主流路シリンダ室の
   一端側に導入する第２制御流路とを具備し、 一旦、一端側へ移動したメイン弁体は、前記第１制御流
   路への高圧流体の導入を停止しても一端側へ移動された
   状態が維持されること を特徴とする真空発生器。
2. 【請求項２】 前記真空ポートと前記高圧流体源とを連
   通する真空破壊用流路と、 該真空破壊用流路の中途部に配され、真空ポートへ高圧
   流体の供給を選択的に行い、真空ポートへ高圧流体を供
   給することで真空ポートの真空を破壊するよう、真空破
   壊用流路を開閉する破壊バルブとを具備することを特徴
   とする請求項１記載の真空発生器。
3. 【請求項３】 前記破壊バルブが、 前記本体内に設けられた破壊流路シリンダ室と、 該破壊流路シリンダ室内で軸線方向へ摺動可能に形成さ
   れ、破壊流路シリンダ室の一端側に移動した際には前記
   真空破壊用流路を連通させ、他端側に移動した際には真
   空破壊用流路を遮断する摺動弁体と、 前記破壊流路シリンダ室の他端側に連通し、摺動弁体を
   一端側へ移動させるべく高圧流体を破壊流路シリンダ室
   の他端側に導入する破壊空気制御用の流路と、 前記破壊空気制御用の流路を介して破壊流路シリンダ室
   の他端側に高圧流体が供給された際には摺動弁体が一端
   側に移動することを許容し、破壊流路シリンダ室の他端
   側に高圧流体が供給されないときには摺動弁体を他端側
   に位置するように付勢する付勢部材とを備え、 前記破壊流路シリンダ室の他端側と前記主流路シリンダ
   室の一端側に高圧流体を同時に導入可能に、前記破壊空
   気制御用の流路と前記第２制御流路とが連通されている
   ことを特徴とする請求項２記載の真空発生器。