JPH0335917Y2 - - Google Patents

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JPH0335917Y2
JPH0335917Y2 JP1988009336U JP933688U JPH0335917Y2 JP H0335917 Y2 JPH0335917 Y2 JP H0335917Y2 JP 1988009336 U JP1988009336 U JP 1988009336U JP 933688 U JP933688 U JP 933688U JP H0335917 Y2 JPH0335917 Y2 JP H0335917Y2
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vacuum breaking
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control valve
fluid pressure
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は、真空破壊用制御弁に関し、特に吸盤
が吸着したワークを強制離脱させる真空破壊用制
御弁等に対して有効な技術に関する。
[従来の技術] たとえば、真空破壊手段を備えた真空発生装置
として、制御弁によつて制御されるエゼクタと、
制御弁とエゼクタの給気ポートとを接続している
真空発生用流路と、この真空発生用流路から分岐
してエゼクタの吸引ポート側に接続されている真
空破壊用流路と、この真空破壊用流路に介在され
たシヤトル弁に接続されている流体蓄積タンクと
を備えている構造のものがある。
この構造によれば、真空発生用の圧縮空気がエ
ゼクタに供給される際に、その圧縮空気の一部が
シヤトル弁を介して蓄積タンクに蓄積され、そし
て、エゼクタへの圧縮空気の供給が停止される
と、前記蓄積タンクに蓄積された圧縮空気がシヤ
トル弁を通じてエゼクタの吸引ポート側に送り込
まれて真空破壊が行われるようになつている。
一方、真空破壊手段を備えた真空発生装置とし
て、真空発生用制御弁とこの制御弁に接続されて
いる真空破壊用制御弁とを備えた構造のものがあ
る。
この真空発生装置の真空破壊制御弁は、ピスト
ンを備えていて該ピストンの作動によつてエゼク
タの吸引ポート側の真空破壊が制御される構造と
されている。
[考案が解決しようとする課題] しかしながら、前記した蓄積タンクを備えた構
造の真空発生装置は、その蓄積タンクの存在によ
つて装置全体が大形化されるという問題点があ
る。また、蓄積タンクからの真空破壊用流体の供
給量を調整できる構造としなければ、真空破壊用
流体の供給量を調整することができず、更にその
調整範囲も蓄積タンクの流体蓄積量の範囲に限ら
れるという問題点がある。
一方、前記した真空破壊用制御弁を備えた真空
発生装置は、真空破壊用流体の供給量の調整が可
能とされているが、その真空破壊用制御弁がピス
トン等を備えた構造とされているため、構造が複
雑化ないし大形化され、またコスト高になるとい
う問題点がある。
本考案の目的は、真空破壊用流体の供給量の調
整が可能な構造とすることができるにかかわら
ず、構造の簡素化ないし小形化、またコストの低
廉化を図ることができる真空破壊用制御弁を提供
することにある。
[課題を解決するための手段] 本考案の真空破壊用制御弁は、流体圧源に接続
される作動用流体室と、前記流体圧源とエゼクタ
の吸引ポート側との間に介在される真空破壊用流
路と、前記作動用流体室側と前記真空破壊用流路
側とに仕切つているダイヤフラムと、前記流体圧
源と前記作動用流体室との間に介在されている逆
止弁付流量調整弁とを備え、前記作動用流体室側
に供給された流体圧によつて前記ダイヤフラムが
前記真空破壊用流路側に変位されて該真空破壊用
流路が閉じられる構造としたものである。
[作用] 前記した手段によれば、流体圧源からの流体が
真空破壊用流路を通じてエゼクタの吸引ポート側
に供給されて該吸引ポート側の真空破壊が行われ
ている際に、流体圧源からの流体は作動用流体室
にも供給されている。
そして、その流体によつて作動用流体室が所定
圧まで上昇すると、この作動用流体室の流体圧の
作用によりダイヤフラムが真空破壊用流路側に変
位され該真空破壊用流路が閉じられて真空破壊が
停止される。
この場合に、前記流体圧源と前記作動用流体室
との間には逆止弁付流量調整弁が介在されている
ので、該逆止弁付流量調整弁により該流体圧源か
ら該作動用流体室への真空破壊用の流体の供給量
を調整することができる。
また、このような調整の可能な構造は、その真
空破壊用制御弁がダイヤフラムによつて作動用流
体室側と真空破壊用流路側とに仕切られていると
いう構造によつて得ることができるので、該真空
破壊用制御弁およびこの真空破壊用制御弁が適用
された真空発生装置の構造の簡素化ないし小形化
またコストの低廉化を図ることができる。
[実施例] 第1図は本考案の一実施例である真空破壊用制
御弁およびこの制御弁が適用された真空発生装置
を一部断面で示す流体回路図、第2図は第1図に
示す本考案の真空破壊用制御弁およびこの制御弁
が適用された真空発生装置を示す流体回路図であ
る。
本実施例において、エゼクタ1の真空発生とそ
の解除とを制御する制御弁2は、入力ポート2a
と、出力ポート2b,2cと、排出ポート2d,
2eとを備えた2位置5ポート電磁弁とされてい
る。
制御弁2の入力ポート2aは、圧縮空気等の流
体圧源3に接続されている。
また、入力ポート2aに接続される出力ポート
2cは、主流路4を通じてエゼクタ1の給気ポー
ト1aに接続され、流体圧源3からの圧縮空気等
の流体圧がエゼクタ1に供給可能とされている。
前記エゼクタ1の吸引ポート1b側には、吸引
用流路5を介して、吸着手段としての吸盤6が接
続され、エゼクタ1における給気ポート1a側か
ら排気ポート1c側への流体の噴流により、該吸
引用流路5側の吸盤6内に真空ないし負圧(以
下、単に真空という。)が発生されるようになつ
ている。
一方、制御弁2の出力ポート2bは、流路7お
よび真空破壊用制御弁8を介して吸引用流路5お
よび吸盤6に接続されている。
また、真空破壊用制御弁8の主弁9は、作動用
流体室10aが内設されているブロツク10と、
上部側の孔11aにブロツク10がシール部材1
1bを介して嵌合されて固定されている本体11
とを備えている。
主弁9の本体11の下部側には、真空破壊用流
路12が内設され、また該本体11の中途には、
たとえば樹脂等の弾性材からなるダイヤフラム1
3が本体11の段部とブロツク10の下面とによ
つて挟持されて固定されている。
そして、このダイヤフラム13により、主弁9
内が作動用流体室10a側と真空破壊用流路12
側とに仕切られている。
ダイヤフラム13の下側には、ポペツト13a
が一体化されて形成されている。ポペツト13a
は、作動用流体室10aに供給された流体圧の作
用によつてダイヤフラム13が第1図の2点鎖線
で示すように真空破壊用流路12側に変位された
際に、該真空破壊用流路12を閉じるようになつ
ている。
作動用流体室10aの給排口14と流路7と
は、真空破壊用制御弁8内の流路15を介して接
続されている。流路15の中途には、流量調整弁
16と逆止弁17とが介在されていて、流路7側
から作動用流体室10aに供給される流量が該流
量調整弁16によつて調整され、他方、作動用流
体室10aの流体が該逆止弁17を通じて流路7
側に排出されるようになつている。
一方、真空破壊用流路12の入口12aと流路
7とは、流路18を介して接続され、また真空破
壊用流路12の出口12bと吸引用流路5および
吸盤6とは流路19を介して接続されている。
流路19には、流量調整弁20が介在され、こ
の流量調整弁20によつて真空破壊用流路12を
通じて吸引用流路5および吸盤6側に供給される
流量が調整できるようになつている。
次に、本実施例の作用について説明する。
先ず、制御弁2の第1図における上位置におい
ては、入力ポート2aと出力ポート2cとが接続
されるとともに、出力ポート2bと排出ポート2
dとが夫々接続され、この入力ポート2aと出力
ポート2cとの接続により流体圧源3から圧縮空
気等の流体圧が主流路4;エゼクタ1の給気ポー
ト1aを経てその排気ポート1cから外部に排出
される。
そして、この給気ポート1a側から排気ポート
1c側への噴流によつて吸引ポート1b側の吸盤
6内に真空が発生され、その真空状態とされた吸
盤6が所定のワーク(図示せず)に吸着する。
次いで、制御弁2を第1図における下位置に切
り換えると、入力ポート2aと出力ポート2bと
が接続されるとともに、出力ポート2cと排出ポ
ート2eとが夫々接続される。
この入力ポート2aと出力ポート2bとの接続
により、流体圧源3からエゼクタ1への流体圧の
供給が停止され、該流体圧源3からの流体圧が流
路7,18と、主弁9の真空破壊用流路12と、
流路19と、流量調整弁20とを通じて吸盤6内
に供給され、該吸盤6内の真空状態が急激に強制
解除される。
そして、この吸盤6の真空解除により、ワーク
(図示せず)に対する吸盤6の吸着が解除される。
一方、前記した入力ポート2aと出力ポート2
bとの接続により、流体圧源3からの流体圧の一
部が流路7、流量調整弁16を経て作動用流体室
10aにも供給される。この流体圧の供給により
作動用流体室10aが所定圧まで上昇すると、該
作動用流体室10aの流体圧の作用によつてダイ
ヤフラム13およびポペツト13aが第1図の2
点鎖線で示すように真空破壊用流路12側に変位
されて該真空破壊用流路12を閉じる。
そして、このようにして真空破壊用流路12が
閉じられて吸盤6内への流体圧の供給が自動的に
停止されることにより、該吸盤6側の真空破壊が
迅速に解除される。
なお、作動用流体室10aに充満した流体は、
制御弁2が第1図の上位置に切り換えられて出力
ポート2bと排出ポート2dとが接続された際
に、流路15,7を通じて該排出ポート2dから
外部に排出されるが、この場合に流路15には逆
止弁17が介在されているので、該逆止弁17に
より該流体の排出が行われる。
このように、本実施例によれば、その真空破壊
用制御弁8を通じて吸盤6側の真空破壊とその真
空破壊の解除とが行われるが、この場合に本実施
例の真空発生装置においては、その真空破壊用制
御弁8がダイヤフラム13によつて作動用流体室
10a側と真空破壊用流路12側とに仕切られて
いるという構造によつて吸盤6側の真空破壊とそ
の真空破壊の解除とが図られているので、該真空
破壊用制御弁8およびこの真空破壊用制御弁が適
用された真空発生装置の構造の簡素化ないし小形
化、またコストの低廉化を図ることができる。
また、真空破壊用制御弁8の流路15の中途に
流量調整弁16が介在されていることにより、作
動用流体室10aに供給される流量の調整が可能
な構造とされているので、該流量調整弁16によ
る作動用流体室10aへの流量の調整により、ダ
イヤフラム13の真空破壊用流路12側への変位
時、すなわち吸盤6側の真空破壊の停止時を調整
することができる。
更に、このような吸盤6側の真空破壊用流体の
流量は、流路19に設けられた流量調整弁20の
開度の調整によつて行うことができる。
以上、本考案を実施例に基づき具体的に説明し
たが、本考案は前記実施例に限定されるものでは
なく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
である。
たとえば、本実施例においては、ダイヤフラム
13とポペツト13aとが一体化されているが、
本考案においては、たとえばダイヤフラム13と
ポペツト13aとを個別に形成して、この個別に
形成されたダイヤフラム13とポペツト13aと
が連結棒を介して連結されている構造とすること
も可能であり、またポペツト13aをとり、ダイ
ヤフラム13のみの構造とすることも可能であ
る。
また、本実施例においては、ワークを吸着する
吸着手段として吸盤6が適用されているが、この
ような吸着手段の一例としては、たとえばバキユ
ームピンセツトやバキユームチヤツク等を適用す
ることが可能である。
他に、制御弁2を5ポート弁から4ポート弁に
置き換えても同じ機能を得ることができる。
[考案の効果] 本考案の真空破壊用制御弁によれば、流体圧源
に接続される作動用流体室と、前記流体圧源とエ
ゼクタの吸引ポート側との間に介在される真空破
壊用流路と、前記作動用流体室側と前記真空破壊
用流路側とに仕切つているダイヤフラムと、前記
流体圧源と前記作動用流体室との間に介在されて
いる逆止弁付流量調整弁とを備え、前記作動用流
体室側に供給された流体圧によつて前記ダイヤフ
ラムが前記真空破壊用流路側に変位されて該真空
破壊用流路が閉じられる構造とされていることに
より、以下の効果を得ることができる。
(1) 前記流体圧源と前記作動用流体室との間には
逆止弁付流量調整弁が介在されているので、該
逆止弁付流量調整弁により該流体圧源から該作
動用流体室への真空破壊用の流体の供給量を調
整することができ、またこのような調整可能な
構造は、その真空破壊用制御弁がダイヤフラム
によつて作動用流体室側と真空破壊用流路側と
に仕切られているという構造によつて得ること
ができるので、真空破壊用制御弁の構造の簡素
化ないし小形化、またコストの低廉化を図るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例である真空破壊用制
御弁およびこの制御弁が適用された真空発生装置
を一部断面で示す流体回路図、第2図は第1図に
示す本考案の真空破壊用制御弁およびこの制御弁
が適用された真空発生装置を示す流体回路図であ
る。 1……エゼクタ、1a……給気ポート、1b…
…吸引ポート、1c……排気ポート、2……制御
弁、2a……入力ポート、2b,2c……出力ポ
ート、2d,2e……排出ポート、3……流体圧
源、4……主流路、5……吸引用流路、6……吸
盤、7……流路、8……真空破壊用制御弁、9…
…主弁、10……ブロツク、10a……作動用流
体室、11……本体、11a……孔、11b……
シール部材、12……真空破壊用流路、12a…
…入口、12b……出口、13……ダイヤフラ
ム、13a……ポペツト、14……給排口、15
……流路、16……流量調整弁、17……逆止
弁、18,19……流路、20……流量調整弁。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 流体圧源に接続される作動用流体室と、前記
    流体圧源とエゼクタの吸引ポート側との間に介
    在される真空破壊用流路と、前記作動用流体室
    側と前記真空破壊用流路側とに仕切つているダ
    イヤフラムと、前記流体圧源と前記作動用流体
    室との間に介在されている逆止弁付流量調整弁
    とを備え、前記作動用流体室側に供給された流
    体圧によつて前記ダイヤフラムが前記真空破壊
    用流路側に変位されて該真空破壊用流路が閉じ
    られることを特徴とする真空破壊用制御弁。 2 前記真空破壊用流路の出口側に流量調整弁が
    接続されていることを特徴とする請求項1記載
    の真空破壊用制御弁。
JP1988009336U 1988-01-26 1988-01-26 Expired JPH0335917Y2 (ja)

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JP1988009336U JPH0335917Y2 (ja) 1988-01-26 1988-01-26

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JPH01113199U JPH01113199U (ja) 1989-07-31
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