JP2003025504A

JP2003025504A - セルロースエステルフィルム、防眩フィルム、それらの製造方法及び偏光板

Info

Publication number: JP2003025504A
Application number: JP2001216657A
Authority: JP
Inventors: Takashi Murakami; 隆村上
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-07-17
Filing date: 2001-07-17
Publication date: 2003-01-29

Abstract

(57)【要約】【課題】良好な耐擦傷性を有し、且つ、優れた視認性
を示すセルロースエステルフィルム、それを用いた防眩
フィルム、それらの製造方法及び偏光板を提供する。【解決手段】少なくとも一方の面が微粒子含有層を表
層として有し、且つ、ヘイズが３％〜３０％未満である
ことを特徴とするセルロースエステルフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースエステ
ルフィルム、防眩フィルム、それらの製造方法及び偏光
板に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、視認性向上のために反射防止層ま
たは防眩層を付与したディスプレイが多く使用されてい
る。反射防止層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類
や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前
面版を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせること
で、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能ま
たは防眩機能等を付与する方法が用いられている。これ
ら、前面版として用いる光学用フィルムには、塗布また
は、スパッタリング等で形成した反射防止層または防眩
層が設けられている。

【０００３】しかし、これらの光学用フィルムは、例え
ば偏光板等に張り合わせる工程が必要であり、その為
に、接着性の改善を目的としたアルカリ液による表面の
ケン化処理や糊の塗布などの前処理工程が必須で、皺の
発生やムラを生じ易かったり、反射防止層や防眩層もそ
れによりダメージを受け易い欠点を有していた。又、張
り合わせ工程において、多数の面タッチローラーに触れ
たりすることで反射防止層または防眩層に傷が発生しや
すいという欠点も有していた。

【０００４】また、光学用フィルムの貼り合わせ工程や
パネル作製時に、静電気等によるゴミの付着も起きやす
く、欠陥の発生原因となっており改良が望まれていた。

【０００５】また、視認性を改善するため、従来でも、
表示装置の表面には防眩層あるいは反射防止層が設けら
れているが、表示装置のカラー化、高精細化に伴って、
より視認性の優れた表示装置が求められている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、良好
な耐擦傷性を有し、且つ、優れた視認性を示すセルロー
スエステルフィルム、それを用いた防眩フィルム、それ
らの製造方法及び偏光板に関する。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
の項目１〜１３によって達成された。

【０００８】１．少なくとも一方の面が微粒子含有層を
表層として有し、且つ、ヘイズが３％〜３０％未満であ
ることを特徴とするセルロースエステルフィルム。

【０００９】２．前記１に記載のセルロースエステルフ
ィルムの微粒子含有層上に、直接またはその他の層を介
して活性線硬化樹脂層を有することを特徴とする防眩フ
ィルム。

【００１０】３．活性線硬化樹脂層上に反射防止層を有
することを特徴とする前記２に記載の防眩フィルム。

【００１１】４．反射防止層が炭素含有量０．２質量％
〜５質量％の金属酸化物層を含むことを特徴とする前記
３に記載の防眩フィルム。

【００１２】５．活性線硬化樹脂層の、ＪＩＳＢ０
６０１で規定される、中心線平均粗さＲａが０．１μｍ
〜０．５μｍであることを特徴とする前記２〜４のいず
れか１項に記載の防眩フィルム。

【００１３】６．前記２〜５のいずれか１項に記載の防
眩フィルムを有することを特徴とする偏光板。

【００１４】７．前記１に記載のセルロースエステルフ
ィルムを製造するに当たり、少なくとも２種のドープ
Ａ、Ｂを使用し、ドープＡ、Ｂを支持体上に同時または
逐次流延してウェブを形成する工程、次いで、該ウェブ
を剥離後乾燥させる工程を有し、且つ、該支持体側（Ｂ
面側ともいう）に接しているドープＢと空気側（Ａ面側
ともいう）に位置しているドープＡの少なくとも一方に
微粒子を添加する工程を有することを特徴とするセルロ
ースエステルフィルムの製造方法。

【００１５】８．ドープＡまたはＢ中の微粒子の含有量
が、ドープ中に含まれる固形分の０．５質量％を超え７
０質量％以下であることを特徴とする前記７に記載のセ
ルロースエステルフィルムの製造方法。

【００１６】９．前記１に記載のセルロースエステルフ
ィルムを製造するに当たり、樹脂と微粒子とを含有する
ドープをセルロースエステル支持体上に流延する工程を
経て製造されたことを特徴とするセルロースエステルフ
ィルムの製造方法。

【００１７】１０．前記７〜９のいずれか１項に記載の
製造方法で製造されたセルロースエステルフィルム上
に、直接または、他の層を介して、ＪＩＳＢ０６０
１で規定される、中心線平均粗さＲａが０．１μｍ〜
０．５μｍである活性線硬化樹脂層を形成することを特
徴とする防眩フィルムの製造方法。

【００１８】１１．活性線硬化樹脂層上にプラズマ処理
により金属酸化物層を形成することを特徴とする前記１
０に記載の防眩フィルムの製造方法。

【００１９】１２．対向する電極間に電源周波数が１０
０ｋＨｚを超える周波数で、１Ｗ／ｃｍ²以上の電力で
放電させて形成されたプラズマを用いて大気圧プラズマ
処理を行うことを特徴とする前記１１に記載の防眩フィ
ルムの製造方法。

【００２０】１３．前記１０〜１２のいずれか１項に記
載の防眩フィルムの製造方法を用いて製造されたことを
特徴とする防眩フィルム。

【００２１】以下、本発明を詳細に説明する。上記の問
題点について、鋭意検討を重ねた結果、少なくとも一方
の面が、微粒子含有層を表層として有し、且つ、ヘイズ
が３％〜３０％未満であることを特徴とするセルロース
エステルフィルムを用いることにより、良好な耐擦傷性
を有し、且つ、優れた視認性を示すセルロースエステル
フィルムを得ることが出来ることを見いだした。

【００２２】本発明に記載の効果である視認性を更に高
めるためには、前記のセルロースエステルフィルムの表
層上に、直接または、他の層を介して活性線硬化樹脂層
を設けた防眩フィルムを用いることが好ましく、更に好
ましくは、前記の活性線硬化樹脂層に、粒子径の細かい
微粒子を含ませ、より微細な凹凸を形成することであ
り、特に好ましくは、前記活性線硬化樹脂層上に、反射
防止層を形成することにより、更に良好な視認性を得る
ことが出来ることを見いだした。

【００２３】また、更に優れた耐擦傷性を得る観点か
ら、前記反射防止層は、金属酸化物層を有することが好
ましく、更に好ましくは、前記金属酸化物層が大気圧プ
ラズマ処理によって形成されたものが好ましい。

【００２４】ここで、本発明のセルロースエステルフィ
ルム、それを用いた防眩フィルムの層構成を図１〜図３
を用いて説明する。

【００２５】本発明のセルロースエステルフィルムは、
少なくとも一方の面の表層に微粒子を含有する層を設け
たセルロースエステルフィルムであり、前記微粒子を含
有する表層を設けることにより、表面に凹凸を有するセ
ルロースエステルフィルムが得られる。ここで、表面に
凹凸を有するセルロースエステルフィルムは、共流延製
膜法により形成されたものが好ましい。

【００２６】上記のセルロースエステルフィルムの表面
に凹凸を有する面上に活性線硬化樹脂層（防眩層ともい
う）を塗設することにより防眩性を示す防眩フィルムが
作製される。前記活性線硬化樹脂層の中心線平均粗さＲ
ａは、０．１μｍ〜０．５μｍであることが好ましい。

【００２７】本発明の防眩フィルムには、更に反射防止
層や活性線硬化樹脂層を設けることが出来る。

【００２８】図１は、本発明の防眩フィルムの一例を示
す概略断面図である。一方の面に、微粒子含有層を表層
として有するセルロースエステルフィルムの表層上に、
活性線硬化樹脂層、反射防止層、更に防汚層が設けら
れ、他方の面には、ブロッキング防止を目的とした微粒
子含有層を設けることが好ましい。他方の面上に設けら
れる、微粒子含有層は、共流延法により形成してもよ
く、塗布により形成しても良い。

【００２９】図２は、本発明の防眩フィルムの他の一例
を示す概略断面図である。図２においては、セルロース
エステルフィルムの一方の面に設けられた微粒子含有層
において、図１の構成とは異なり、粒径の異なる粒子
（ここで、粒径が異なる粒子とは、１次粒径が異なる場
合、２次粒径が異なる場合のどちらでもよい）を用いる
ことで、より微細な凹凸を有する表層を形成した例を示
す。

【００３０】図３（ａ）、（ｂ）は、本発明の防眩フィ
ルムの他の一例を示す概略断面図である。

【００３１】図３（ａ）は、セルロースエステルフィル
ムに、凹凸の周期の大きな表層を形成し、更に、表層の
上に形成する活性線硬化樹脂層にも微粒子を含有させ
て、前記セルロースエステルフィルム表層より周期の小
さな凹凸を形成したものである。

【００３２】このような構成をとることにより、より防
眩性能に優れた防眩フィルムを得ることが出来る。更に
反射防止層を設ける場合、金属酸化物微粒子を含む層を
反射防止層として設けることが出来るが、後述する大気
圧プラズマ法は、微細な凹凸を有する面の上にも膜厚が
均一な反射防止層を形成することが出来るため、特に好
ましく用いられる。

【００３３】図３（ｂ）は、セルロースエステルフィル
ムに、凹凸の周期の大きな表層を形成し、更に、該表層
の上に、活性線硬化樹脂層を２層設けた例であり、上側
の活性線硬化樹脂層中に微粒子を加え、微細で、周期が
小さい凹凸を形成したものである。

【００３４】本発明に係る微粒子について説明する。本
発明のセルロースエステルフィルムは、少なくとも一方
の面の表層に微粒子を含有することが必須要件である。
前記表層と微粒子との好ましい構成は以下に示される様
なものである。

【００３５】本発明に係る微粒子の粒径としては、一次
粒子の平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍの範囲のものが好ま
しく、更に好ましくは、１０ｎｍ〜５μｍである。

【００３６】前記微粒子を含有する表層の膜厚として
は、１μｍ〜２０μｍが好ましく、更に好ましくは、３
μｍ〜１５μｍであり、特に好ましくは５μｍ〜１０μ
ｍである。

【００３７】ここで、表層の平均膜厚に対して０．５〜
１．５倍の一次粒子径もしくは、二次粒子（凝集物）が
含まれていることが好ましく、表層の平均膜厚よりも大
きな粒子径を有する粒子が含まれていることが好まし
い。

【００３８】本発明において、表層とは、フィルム表面
から中心方向に深さ２０μｍまでの領域をさし、フィル
ムの内部（もしくは内部領域）とは前記表層を除く領域
をさす。

【００３９】また、本発明のセルロースエステルフィル
ムの膜厚は３０μｍ〜１０００μｍが好ましく、更に好
ましくは、３５μｍ〜５００μｍであり、特に好ましく
は４０μｍ〜３００μｍである。

【００４０】本発明に係る表層は、高低差０．１μｍ以
上の凹凸を有することが好ましく、この凹凸を設けるた
めに、上記微粒子が用いられる。本発明に係る高低差と
しては、０．１μｍ〜１０μｍの高低差が好ましく、更
に好ましくは、０．２μｍ〜５μｍであり、更に好まし
くは、０．５μｍ〜２μｍである。また、表層の平均膜
厚に対して、０．１μｍ〜１０μｍの凸部を有すること
が好ましい。

【００４１】また、上記の高低差は、ＪＩＳＢ０６
０１で規定される最大高さ（Ｒｍａｘ）で表され、測定
は、光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ
社製）を使用して行うことが出来る。

【００４２】本発明にかかわる微粒子としては、例え
ば、無機粒子及び有機粒子が挙げられる。無機粒子とし
ては、二酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸
化亜鉛、酸化錫、炭酸カルシウム、酸化ジルコニウム、
炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、焼
成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸ア
ルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、
硫酸カルシウム等が挙げられる。

【００４３】二酸化珪素の微粒子としては、例えば、ア
エロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、
２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ
６００（以上日本アエロジル（株）製）、或いは、２５
０、２５０Ｎ、２５６、２５６Ｎ、３１０、３２０、３
５０、３５８、４３０、４３１、４４０、４５０、４７
０、４３５、４４５、４３６、４４６、４５６、５３
０、５４０、５５０、７３０、７４０、７７０（以上、
富士シリシア（株）製）等の商品名を有する市販品が使
用できる。

【００４４】本発明に係る酸化ジルコニウムの微粒子と
しては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以
上日本アエロジル（株）製）等の商品名で市販されてい
るものが使用できる。

【００４５】有機粒子としては、ポリ（メタ）アクリレ
ート系樹脂、シリコン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポ
リカーボネート系樹脂、アクリルスチレン系樹脂、ベン
ゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、更にポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
ポリイミド系樹脂、ポリ弗化エチレン系樹脂等が使用で
きる。

【００４６】これらのうちでも、本発明の目的の一つで
ある視認性を達成するには、シリカなどの酸化珪素が特
に好ましく用いられる。ここで好ましく用いられる酸化
珪素粒子は、合成非晶質シリカのなかでも湿式法によっ
て作られる超微粉含水珪酸が光沢度を下げる効果が大き
く好ましい。湿式法とは珪酸ソーダと鉱酸及び塩類を水
溶液中で反応させる方法で、例えば富士シリシア化学
（株）製のサイリシアや日本シリカ（株）製のＮｉｐｓ
ｉｌＥなどがある。

【００４７】本発明に係る微粒子の分散液を調製する方
法としては、例えば以下に示すような３種類が挙げられ
るが特にこれらに限定されるものではない。

【００４８】（調製方法Ａ）溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。

【００４９】（調製方法Ｂ）溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。別に溶剤に少量の樹脂を加え、撹拌溶解する。これ
に前記微粒子分散液を加えて撹拌する。これを微粒子添
加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドー
プ液と十分混合する。

【００５０】（調製方法Ｃ）溶剤に少量の樹脂を加え、
撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行
う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラ
インミキサーでドープ液と十分混合する。

【００５１】調製方法Ａは微粒子の分散性に優れ、調製
方法Ｃは微粒子が再凝集しにくい点に優れている。調製
方法Ｂは微粒子の分散性と、微粒子が再凝集しにくい
等、両方に優れているため好ましい調製方法である。

【００５２】（分散方法）微粒子を溶剤などと混合して
分散するときの微粒子の濃度は５質量％〜３０質量％が
好ましく、１０質量％〜２５質量％がさらに好ましく、
１５質量％〜２０質量％が最も好ましい。

【００５３】使用される溶剤は、アセトン、メチルエチ
ルケトンなどのケトン類、或いは酢酸メチル、酢酸エチ
ル等のエステル類、アルコール類が用いられ、特に低級
アルコール類が好ましく、メチルアルコール、エチルア
ルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、ブチルアルコール等が挙げられるが特にこれらに限
定されるものではない。

【００５４】分散機は通常の分散機が使用できる。分散
機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機
に分けられる。

【００５５】メディア分散機としてはボールミル、サン
ドミル、ダイノミルなどがあげられる。

【００５６】メディアレス分散機としては超音波型、遠
心型、高圧型などがある。高圧分散装置は、微粒子と溶
媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させること
で、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置で
ある。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜
２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が１０
ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは２０
ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００
ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４１８ｋＪ／時間
以上に達するものが好ましい。

【００５７】上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏ
ｆｌｕｉｄｉｃｓＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧
ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいは
ナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴー
リン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホ
モジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ〜０１等が挙げ
られる。

【００５８】本発明に係るヘイズについて説明する。本
発明に記載の効果（視認性向上）を得る為に、本発明の
セルロースエステルフィルムのヘイズは、３％〜３０％
未満であることが必須要件である。

【００５９】ここで、ヘイズの測定は、詳細は実施例に
記載するが、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に準じて測定
することができる。

【００６０】本発明のセルロースエステルフィルムを上
記記載のヘイズ値の範囲に調整する為の手段としては、
上記記載の有機微粒子及び／または、無機微粒子を微粒
子をセルロースエステルフィルムの表面層に含有させる
ことが好ましいが、中でも、中でも二酸化ケイ素がフィ
ルムのヘイズを小さく出来るので好ましい。

【００６１】また、二酸化ケイ素のような微粒子を有機
物により表面処理したものは、フィルムのヘイズを上記
の範囲に調整するために好ましく用いられる。

【００６２】本発明に係る活性線硬化樹脂層について説
明する。本発明に係る活性線硬化樹脂層は、バインダと
して活性線硬化性樹脂を含有し、更に好ましくは、塗布
後活性線照射により前記酸化珪素粒子や酸化珪素微粒子
含有活性線硬化樹脂層を形成させることが好ましい。

【００６３】本発明で用いられる活性線硬化性樹脂とは
紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応など
を経て硬化する樹脂として定義される。

【００６４】活性線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性
樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的具体例として挙げ
られるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬
化する樹脂であってもよい。

【００６５】紫外線硬化性樹脂の例としては、紫外線硬
化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ア
クリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性アクリル酸エステ
ル系樹脂、紫外線硬化性メタクリル酸エステル系樹脂、
紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂及び紫外
線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂などが挙げられ
る。

【００６６】紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹
脂としてはトリメチロールプロパントリアクリレート、
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタエリ
スリトール等の光重合モノマーオリゴマーである。これ
らのポリオールアクリレート系樹脂は高架橋性で硬化性
が大きい、硬度が大きい、硬化収縮が小さい、又低臭気
性で低毒性であり安全性も比較的高いので好ましく用い
られる。

【００６７】上記の紫外線硬化性ポリオールアクリレー
ト系樹脂には、その効果を損なわない範囲で他の紫外線
硬化性樹脂、例えば紫外線硬化性エポキシ系樹脂を含有
して使用してもよい。アクリレート系樹脂は厚膜塗布し
た硬化塗膜は、硬化収縮によりカーリングが強くなり、
取り扱い作業上支障をきたす場合がある。エポキシ系樹
脂はアクリレート系樹脂と比べて一般に硬化収縮が小さ
く硬化塗膜のカーリングも小さい。ここで言う紫外線硬
化性エポキシ系樹脂とはエポキシ基を分子内に２個以上
含む化合物で、カチオン重合開始剤を含有し、紫外線を
照射することにより架橋反応するエポキシ樹脂である。

【００６８】電子線硬化性樹脂の例としては、好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂などが挙げられる。

【００６９】本発明の効果を顕著に、また簡易に発揮す
るためには、紫外線硬化性樹脂を用いることが好まし
い。

【００７０】アクリル基またはメタクリル基を有する上
記活性エネルギー線硬化性樹脂としては、紫外線硬化型
アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルア
クリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート
系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂等
を挙げることが出来る。

【００７１】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば特開昭５９
−１５１１１０号公報）。

【００７２】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシ
ル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応さ
せることによって容易に得ることが出来る（例えば、特
開昭５９−１５１１１２号公報）。

【００７３】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリ
ル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノ
マーを反応させて得られる。

【００７４】紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹
脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性
ジペンタエリスリトールペンタエリスリトール等を挙げ
ることが出来る。

【００７５】本発明に使用される上記活性エネルギー線
反応性化合物を光重合あるいは光架橋反応を開始させる
には、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始
するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かっ
たりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ま
しく、それにより重合を早めることが出来る。これらの
光増感剤や光開始剤は公知のものを使用し得る。具体的
には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベ
ンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエス
テル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサ
ントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。

【００７６】また、エポキシアクリレート基を有する活
性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
の増感剤を用いることが出来る。この活性エネルギー線
反応性化合物に用いられる光反応開始剤または光増感剤
は紫外線反応性化合物の１００質量部に対して０．１〜
１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好まし
くは１〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域
から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。

【００７７】本発明には活性エネルギー線反応性エポキ
シ樹脂も好ましく用いられる。活性エネルギー線反応性
エポキシ樹脂としては、芳香族エポキシ化合物（多価フ
ェノールのポリグリシジルエーテル）、例えば、水素添
加ビスフェノールＡまたはビスフェノールＡとエピクロ
ルヒドリンとの反応物のグリシジルエーテル、エポキシ
ノボラック樹脂、脂肪族エポキシ樹脂としては、脂肪族
多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物
のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリ
グリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシ
ジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどが
あり、その代表例としては、エチレングリコールジグリ
シジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、
ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプ
ロピレングリコールグリシジルエーテル、１，４−ブタ
ンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジ
オールジグリシジルエーテル、ノナプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグ
リシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテ
ル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールト
リグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグ
リシジルエーテル、ソルビトールのポリグリシジルエー
テル、脂環式エポキシ化合物、例えば、３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル−５，５−スピロ−３′，４′−エポキ
シ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニル
シクロヘキセンジオキサイド、ビス（３，４−エポキシ
−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，
４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３′，４′
−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレー
ト、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）
ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコ
ールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エ
ーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート）、ジシクロペンタジエンジエポキ
サイド、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ートのジグリシジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシ
エチル）イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル、
ポリグリシジルアクリレート、ポリグリシジルメタクリ
レート、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタ
クリレートと他のモノマーとの共重合物、ポリ−２−グ
リシジルオキシエチルアクリレート、ポリ−２−グリシ
ジルオキシエチルメタクリレート、２−グリシジルオキ
シエチルアクリレート、２−グリシジルオキシエチルア
クリレートまたは２−グリシジルオキシエチルメタクリ
レートと他のモノマーとの共重合物、ビス−２，２−ヒ
ドロキシシクロヘキシルプロパンジグリシジルエーテル
等を挙げることが出来、または単独または２種以上組み
合わせた付加重合物を挙げることが出来る。本発明は、
これらの化合物に限定せず、これらから類推される化合
物も含むものである。

【００７８】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂は、エポキシ基を分子内に２つ以上有するもの以外
に、モノエポキサイドも所望の性能に応じて配合して使
用することが出来る。

【００７９】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合に
より重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカ
ル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好
ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。

【００８０】エチルスルホン酸銀、ポリ硼素酸銀等も好
ましく用いることが出来る。有用な活性エネルギー線反
応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチ
オン重合を開始させる物質を放出する化合物を、光重合
開始剤または光増感剤により重合する。照射によりカチ
オン重合させるルイス酸を放出するオニウム塩での複塩
の一群が特に好ましい。

【００８１】例えば、下記一般式（III）で表される化
合物が一例として挙げられる。一般式（III）〔（Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b（Ｒ³）_c（Ｒ⁴）_dＺ〕^+w〔Ｍｅ
Ｘ_v〕^-w 式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔ
ｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、
Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は同一であっても異なっていてもよい有
機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数
であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅは
ハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属
（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、
Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであ
り、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖ
はハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
ｖから中心原子Ｍｅの価数を減じたものがｗである。

【００８２】上記一般式の陰イオン〔ＭｅＸ_v〕^-wの具
体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ₄ ^-）、ヘ
キサフルオロホスフェート（ＰＦ₄ ^-）、ヘキサフルオロ
アンチモネート（ＳｂＦ₄ ^-）、ヘキサフルオロアルセネ
ート（ＡｓＦ₄ ^-）、ヘキサクロロアンチモネート（Ｓｂ
Ｃｌ₄ ^-）等を挙げることが出来る。

【００８３】更に一般式ＭｅＸ_v（ＯＨ）^-の陰イオンも
用いることが出来る。また、その他の陰イオンとしては
過塩素酸イオン（ＣｌＯ₄ ^-）、トリフルオロメチル亜硫
酸イオン（ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-）、フルオロスルホン酸イオン
（ＦＳＯ₃ ^-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロ
ベンゼン酸陰イオン等を挙げることが出来る。

【００８４】このようなオニウム塩の中でも特に芳香族
オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが、
特に有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、
同５０−１５８６８０号公報等に記載の芳香族ハロニウ
ム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９
９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号
公報等に記載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−
８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２
４２９号公報等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特
公昭４９−１７０４０号公報等に記載の芳香族ジアゾニ
ウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号明細書等に記
載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウ
ム錯体や光分解性ケイ素化合物系重合開始剤等を挙げる
ことが出来る。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェ
ノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサント
ンなどの光増感剤を併用することが出来る。

【００８５】本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂
組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネ
ルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質
量部に対して好ましくは０．１〜１５質量部、より好ま
しくは１〜１０質量部の範囲で添加される。またエポキ
シ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテ
ルアクリレート型樹脂等とも併用することも出来、この
場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネ
ルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好まし
い。

【００８６】本発明に用いる活性エネルギー線硬化樹脂
含有層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂あるい
はゼラチンなどの親水性樹脂等のバインダーを上記活性
エネルギー線硬化樹脂に混合して使用することが出来
る。これら樹脂にはその分子中に極性基を持っているこ
とが好ましく、極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、
−ＮＲ₂、−ＮＲ₃Ｘ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ
₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ
金属またはアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する
酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げるこ
とが出来る。

【００８７】本発明に係る活性線硬化性樹脂の硬化は、
電子線または紫外線のような活性線照射によって硬化す
ることができる。例えば、電子線硬化の場合にはコック
ロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁
コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等
の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００Ｋｅ
Ｖ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有
する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧
水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キ
セノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発す
る紫外線等が利用できる。

【００８８】また、活性線照射時に付与されるエネルギ
ー量としては、５０ｍＪ／ｃｍ²〜１０００ｍＪ／ｃｍ²
が好ましく、更に好ましくは、１００ｍＪ／ｃｍ²〜５
００ｍＪ／ｃｍ²である。

【００８９】活性線硬化樹脂層の膜厚としては、０．３
μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、更に好ま
しくは、０．５μｍ以上５μｍ以下である。

【００９０】また、活性線硬化樹脂層の、ＪＩＳＢ
０６０１で規定される、中心線平均粗さ（Ｒａ）が、
０．１μｍ〜０．５μｍであることが好ましく、更に好
ましくは、０．２μｍ〜０．４μｍである。

【００９１】本発明に係る反射防止層について説明す
る。本発明においては、活性線硬化樹脂層を有する防眩
フィルムの活性線硬化樹脂層上に反射防止層が設けられ
ることが好ましい。反射防止層としては、通常ＳｉＯ₂
やＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃等の屈折率の異なる金属酸
化物の薄膜や有機高分子薄膜等を３〜４層積層した構成
が好ましいが、単層で屈折率が１．２５以下の低屈折率
皮膜も好ましく用いられる。反射防止層は、複数層で構
成されていても良く、その場合、各層の屈折率や膜厚が
最適な値に調整される。

【００９２】反射防止層の膜厚は、通常１ｎｍ〜２００
ｎｍの範囲であり、各層の屈折率に応じて、適切な膜厚
が選択される。

【００９３】反射防止層の構成としては、単層、多層の
各種知られているが、多層のものとしては高屈折率層、
低屈折率層を交互に積層した構造のものを用いても良
い。

【００９４】構成の例としては、高屈折率層／低屈折率
層の２層の順のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折
率層（透明基材あるいはハードコート層よりも屈折率が
高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層
／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に
多くの反射防止層を積層してもよい。

【００９５】上記の活性線硬化樹脂層上に、反射防止層
として高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層（基材フィ
ルムよりも屈折率が低い層）の順に塗布することも出来
る。

【００９６】屈折率はそこに含まれる金属あるいは化合
物によってほぼ決まり、例えばＴｉやＺｒは高く、Ｓｉ
は低く、Ｆを含有する化合物は更に低く、このような組
み合わせによって屈折率が設定される。

【００９７】反射防止層は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ｓｎ等
の金属酸化物微粒子、または、これらの金属アルコキシ
ドまたは、その加水分解物、Ｆを含む有機物微粒子、重
合性含フッ素化合物等を有する塗布膜を用いて各屈折率
層を塗設して設けることが出来る。

【００９８】本発明の防眩フィルムの活性線硬化樹脂層
上に設けられる反射防止層は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ
における平均反射率が１％以下であることが好ましく、
特に好ましくは０．５％以下である。

【００９９】本発明に係る反射防止層は、プラズマ処理
により形成することが好ましく、特に好ましいのは、大
気圧プラズマ法による金属酸化物層或いは含フッ素化合
物層を有する反射防止層を形成することである。

【０１００】大気圧プラズマ法による金属酸化物層の形
成においては、対向する電極間に、１００ｋＨｚを越え
た高周波電圧で、且つ、１Ｗ／ｃｍ²以上の電力を供給
し、反応性ガスを励起してプラズマを発生させることが
好ましい。

【０１０１】このようなハイパワーの電界を印加するこ
とによって、緻密で、膜厚均一性の高い金属酸化物層を
生産効率高く得ることが可能である。

【０１０２】本発明において、電極間に印加する高周波
電圧の周波数は、好ましくは１５０ＭＨｚ以下である。

【０１０３】また、高周波電圧の周波数としては、好ま
しくは２００ｋＨｚ以上、さらに好ましくは８００ｋＨ
ｚ以上である。

【０１０４】また、電極間に供給する電力は、好ましく
は１．２Ｗ／ｃｍ²以上であり、好ましくは５０Ｗ／ｃ
ｍ²以下、さらに好ましくは２０Ｗ／ｃｍ²以下である。
尚、電極における電圧の印加面積（／ｃｍ²）は、放電
が起こる範囲の面積のことを指す。

【０１０５】また、電極間に印加する高周波電圧は、断
続的なパルス波であっても、連続したサイン波であって
も構わないが、本発明の効果を高く得るためには、連続
したサイン波であることが好ましい。

【０１０６】本発明では、このようなハイパワーの電圧
を印加して、均一なグロー放電状態を保つことができる
電極をプラズマ放電処理装置に用いることが好ましい。

【０１０７】このような電極としては、金属母材上に誘
電体を被覆したものであることが好ましい。少なくとも
対向する印加電極とアース電極の片側に誘電体を被覆す
ること、更に好ましくは、対向する印加電極とアース電
極の両方に誘電体を被覆することである。誘電体として
は、比誘電率が６〜４５の無機物であることが好まし
く、このような誘電体としては、アルミナ、窒化珪素等
のセラミックス、あるいは、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸
塩系ガラス等のガラスライニング材等がある。

【０１０８】また、基材を電極間に載置あるいは電極間
を搬送してプラズマに晒す場合には、基材を片方の電極
に接して搬送出来るロール電極仕様にすることが好まし
く、更に、電極の誘電体表面を研磨仕上げし、電極の表
面粗さＲｍａｘ（ＪＩＳＢ０６０１により規定され
る）を１０μｍ以下にすることで、誘電体の厚み及び電
極間のギャップを一定に保つことができ、放電状態を安
定化できること、更に熱収縮差や残留応力による歪やひ
び割れを無くし、かつポーラスで無い高精度の無機誘電
体を被覆することで大きく耐久性を向上させることがで
きる。

【０１０９】また、高温下での金属母材に対する誘電体
被覆による電極製作において、少なくとも基材と接する
側の誘電体を研磨仕上げすること、更に電極の金属母材
と誘電体間の熱膨張の差をなるべく小さくすることが必
要であり、そのため、母材表面に、応力を吸収出来る層
として泡混入量をコントロールして無機質の材料をライ
ニングすることが好ましく、特に材質としては琺瑯等で
知られる溶融法により得られるガラスであることが良
く、更に導電性金属母材に接する最下層の泡混入量を２
０〜３０体積％とし、次層以降を５体積％以下とするこ
とで、緻密でかつひび割れ等が発生しない良好な電極が
出来る。

【０１１０】また、電極の母材に誘電体を被覆する別の
方法として、セラミックスの溶射を空隙率１０体積％以
下まで緻密に行い、更にゾルゲル反応により硬化する無
機質の材料にて封孔処理を行うことであり、ここでゾル
ゲル反応の促進には、熱硬化やＵＶ硬化が良く、更に封
孔液を希釈し、コーティングと硬化を逐次で数回繰り返
すと、よりいっそう無機質化が向上し、劣化の無い緻密
な電極が出来る。

【０１１１】このような電極を用いたプラズマ放電処理
装置について、図４〜９を参照しながら説明する。図
４、５及び９で示されるプラズマ放電処理装置は、アー
スされたロール電極２５と、対向する位置に配置された
印加電極である固定電極２６または３６との間で放電さ
せ、当該電極間に反応性ガスを給気口５２より導入して
プラズマ状態とし、前記ロール電極に巻回された長尺フ
ィルム状の基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒す
ことによって、基材の表面に薄膜を形成するものである
が、本発明の薄膜形成方法を実施する装置としてはこれ
に限定されるものではなく、グロー放電を安定に維持
し、薄膜を形成するために反応性ガスを励起してプラズ
マ状態とするものであればよい。

【０１１２】他の方式としては、基材を電極間ではない
電極近傍に載置あるいは搬送させ、発生したプラズマを
当該基材上に吹き付けて薄膜形成を行うジェット方式等
がある。

【０１１３】図４は、本発明の薄膜形成方法に用いられ
るプラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。

【０１１４】図４において、長尺フィルム状の基材Ｆは
搬送方向（図中、時計回り）に回転するロール電極２５
に巻回されながら搬送される。固定されている電極２６
は複数の円筒から構成され、ロール電極２５に対向させ
て設置される。ロール電極２５に巻回された基材Ｆは、
ニップローラ６５、６６で押圧され、ガイドローラ６４
で規制されてプラズマ放電処理容器３１によって確保さ
れた放電処理空間に搬送され、放電プラズマ処理され、
次いで、ガイドローラ６７を介して次工程に搬送され
る。

【０１１５】また、仕切板５４は前記ニップローラ６
５、６６に近接して配置され、基材Ｆに同伴する空気が
プラズマ放電処理容器３１内に進入するのを抑制する。

【０１１６】この同伴される空気は、プラズマ放電処理
容器３１内の気体の全体積に対し、１体積％以下に抑え
ることが好ましく、０．１体積％以下に抑えることがよ
り好ましい。前記ニップローラ６５および６６により、
それを達成することが可能である。

【０１１７】尚、放電プラズマ処理に用いられる混合ガ
ス（不活性ガスと、反応性ガスである有機フッ素化合
物、チタン化合物または珪素化合物等を含有する有機ガ
ス等）は、給気口５２からプラズマ放電処理容器３１に
導入され、処理後のガスは排気口５３から排気される。

【０１１８】図５は、図４と同様に、本発明の製造方法
に用いられるプラズマ放電処理装置に設置されるプラズ
マ放電処理容器の一例を示す概略図であるが、図４にお
いては、ロール電極２５に対向する固定されている電極
２６は円柱型の電極が用いられているのに対し、角柱型
電極３６に変更した例を示している。

【０１１９】図４に示した円柱型の電極２６に比べて、
図５に示した角柱型の電極３６は、放電範囲を広げる効
果があり、金属酸化物層形成に好ましく用いられる。

【０１２０】図６（ａ）、（ｂ）は各々、上述の円筒型
のロール電極の一例を示す概略図、図７（ａ）、（ｂ）
は各々、円筒型で固定されている電極の一例を示す概略
図、図８（ａ）、（ｂ）は各々、角柱型で固定されてい
る電極の一例を示す概略図である。

【０１２１】図６（ａ）及び図６（ｂ）において、アー
ス電極であるロール電極２５ｃは、金属等の導電性母材
２５ａに対しセラミックスを溶射後、無機材料を用いて
封孔処理したセラミック被覆処理誘電体２５ｂを被覆し
た組み合わせで構成されているものである。セラミック
被覆処理誘電体を片肉で１ｍｍ被覆し、ロール径を被覆
後７５０ｍｍとなるように製作し、アースに接地してあ
る。または、金属等の導電性母材２５Ａへライニングに
より無機材料を設けたライニング処理誘電体２５Ｂを被
覆した組み合わせ、ロール電極２５Ｃで構成してもよ
い。ライニング材としては、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸
塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系ガラ
ス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガラス、バナジ
ン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、この中でもホ
ウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好ましく用いら
れる。金属等の導電性母材２５ａ、２５Ａとしては、
銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属等が
挙げられるが、加工の観点からステンレスが好ましい。
また、溶射に用いるセラミックス材としては、アルミナ
・窒化珪素等が好ましく用いられるが、この中でもアル
ミナが加工し易いので、更に好ましく用いられる。尚、
本実施の形態においては、ロール電極の母材は、冷却水
による冷却手段を有するステンレス製ジャケットロール
母材を使用している（不図示）。

【０１２２】図７（ａ）、（ｂ）および図８（ａ）、
（ｂ）は、印加電極である固定の電極２６ｃ、電極２６
Ｃ、電極３６ｃ、電極３６Ｃであり、上記記載のロール
電極２５ｃ、ロール電極２５Ｃと同様な組み合わせで構
成されている。すなわち、中空のステンレスパイプに対
し、上記同様の誘電体を被覆し、放電中は冷却水による
冷却が行えるようになっている。尚、セラミック被覆処
理誘電体の被覆後１２φまたは１５φとなるように製作
され、当該電極の数は、上記ロール電極の円周上に沿っ
て１４本設置している。

【０１２３】印加電極に電圧を印加する電源としては、
特に限定はないが、パール工業製高周波電源（２００ｋ
Ｈｚ）、パール工業製高周波電源（８００ｋＨｚ）、日
本電子製高周波電源（１３．５６ＭＨｚ）、パール工業
製高周波電源（１５０ＭＨｚ）等が使用できる。

【０１２４】図９は、本発明に用いられるプラズマ放電
処理装置の一例を示す概念図である。図９において、プ
ラズマ放電処理容器３１の部分は図５の記載と同様であ
るが、更に、ガス発生装置５１、電源４１、電極冷却ユ
ニット６０等が装置構成として示されている。電極冷却
ユニット６０の冷却剤としては、蒸留水、油等の絶縁性
材料が用いられる。

【０１２５】図９に記載の電極２５、３６は、図６、
７、８等に示したものと同様であり、対向する電極間の
ギャップは、例えば、１ｍｍ〜２ｍｍ程度に設定され
る。

【０１２６】上記電極間の距離は、電極の母材に設置し
た固体誘電体の厚さ、印加電圧の大きさ、プラズマを利
用する目的等を考慮して決定される。上記電極の一方に
固体誘電体を設置した場合の固体誘電体と電極の最短距
離、上記電極の双方に固体誘電体を設置した場合の固体
誘電体同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電
を行う観点から０．５ｍｍ〜２０ｍｍが好ましく、特に
好ましくは１ｍｍ±０．５ｍｍである。

【０１２７】前記プラズマ放電処理容器３１内にロール
電極２５、固定されている電極３６を所定位置に配置
し、ガス発生装置５１で発生させた混合ガスを流量制御
して、給気口５２よりプラズマ放電処理容器３１内に入
れ、前記プラズマ放電処理容器３１内をプラズマ処理に
用いる混合ガスで充填し排気口５３より排気する。

【０１２８】特に、基材Ｆの幅手方向で混合ガスの濃
度、流量、流速にムラが発生しないように均一に供給す
ることが好ましい。次に、電源４１により電極３６に電
圧を印加し、ロール電極２５はアースに接地し、放電プ
ラズマを発生させる。ここでロール状の元巻き基材６１
より基材Ｆを供給し、ガイドローラ６４を介して、プラ
ズマ放電処理容器３１内の電極間を片面接触（ロール電
極２５に接触している）の状態で搬送され、基材Ｆは搬
送中に放電プラズマにより表面が放電処理され、その後
にガイドローラ６７を介して、次工程に搬送される。こ
こで、基材Ｆはロール電極２５に接触していない面のみ
放電処理がなされる。

【０１２９】電源４１より固定されている電極３６に印
加される電圧の値は適宜決定されるが、例えば、電圧が
０．５〜１０ｋＶ程度で、電源周波数は１００ｋＨｚを
越えて１５０ＭＨｚ以下に調整される。ここで電源の印
加法に関しては、連続モードと呼ばれる連続サイン波状
の連続発振モードとパルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦ
Ｆを断続的に行う断続発振モードのどちらを採用しても
良いが連続モードの方がより緻密で良質な膜が得られ
る。

【０１３０】プラズマ放電処理容器３１はパイレックス
（Ｒ）ガラス製の処理容器等が好ましく用いられるが、
電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能であ
る。例えば、アルミニウムまたは、ステンレスのフレー
ムの内面にポリイミド樹脂等を張り付けても良く、該金
属フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとっても
良い。

【０１３１】また、放電プラズマ処理時の基材への影響
を最小限に抑制するために、放電プラズマ処理時の基材
の温度を常温（１５℃〜２５℃）〜２００℃未満の温度
に調整することが好ましく、更に好ましくは常温〜１２
０℃に調整することである。上記の温度範囲に調整する
為、必要に応じて電極、基材は冷却手段で冷却しながら
放電プラズマ処理される。

【０１３２】本発明に係る大気圧プラズマ処理において
は、放電プラズマ処理が大気圧または大気圧近傍で行わ
れるが、ここで大気圧近傍とは、２０ｋＰａ〜２００ｋ
Ｐａの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得
るためには、９０ｋＰａ〜１１０ｋＰａが好ましく、特
に好ましくは、９３ｋＰａ〜１０７ｋＰａである。

【０１３３】また、金属酸化物層の形成に係る放電用電
極においては、電極の少なくとも基材と接する側のＪＩ
ＳＢ０６０１で規定される表面粗さの最大高さ（Ｒ
ｍａｘ）が１０μｍ以下になるように調整されることが
好ましいが、更に好ましくは、表面粗さの最大値が８μ
ｍ以下であり、特に好ましくは、７μｍ以下に調整する
ことが好ましい。

【０１３４】本発明に係る金属酸化物層の形成に係る混
合ガスについて説明する。金属酸化物層を形成するにあ
たり、使用するガスは、不活性ガスと、薄膜を形成する
ための反応性ガスの混合ガスであることが好ましく、反
応性ガスは、混合ガスに対し、０．０１〜１０体積％含
有させることが好ましい。金属酸化物層の膜厚として
は、０．１ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲の薄膜が好ましく
得られる。

【０１３５】上記不活性ガスとは、周期表の第１８属元
素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプ
トン、キセノン、ラドン等が挙げられるが、本発明に記
載の効果を得るためには、ヘリウム、アルゴンが好まし
く用いられる。

【０１３６】反応性ガスとして有機金属化合物を添加す
る場合、例えば、有機金属化合物としてＬｉ、Ｂｅ、
Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇ
ａ、Ｇｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｃｄ、
Ｉｎ、Ｉｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、
Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌ
ｕから選択される金属を含むことができる。より好まし
くは、これらの有機金属化合物が金属アルコキシド、ア
ルキル化金属、金属錯体から選ばれるものが好ましい。

【０１３７】上記または上記以外の反応性ガスを適宜選
択して、反射防止層に用いる金属酸化物層の形成に使用
することにより様々な高機能性の金属酸化物層を得るこ
とができる。その一例を以下に示すが、本発明はこれら
に限定されない。

【０１３８】電極膜Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｔｉ、
Ｐｔ、Ｍｏ、Ｍｏ−Ｓｉ誘電体保護膜ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、Ｓｉ₃Ｎ₄、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃ 透明導電膜Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂ エレクトロクロミック膜ＷＯ₃、ＩｒＯ₂、ＭｏＯ₃、
Ｖ₂Ｏ₅ 蛍光膜ＺｎＳ、ＺｎＳ＋ＺｎＳｅ、ＺｎＳ＋ＣｄＳ磁気記録膜Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ、γ−Ｆｅ
₂Ｏ₃、Ｃｏ、Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｒ、ＳｉＯ₂、ＡｌＯ₃ 超導電膜Ｎｂ、Ｎｂ−Ｇｅ、ＮｂＮ太陽電池膜ａ−Ｓｉ、Ｓｉ反射膜Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ選択性吸収膜ＺｒＣ−Ｚｒ選択性透過膜Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂ 反射防止膜ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂ シャドーマスクＣｒ耐摩耗性膜Ｃｒ、Ｔａ、Ｐｔ、ＴｉＣ、ＴｉＮ耐食性膜Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｒ耐熱膜Ｗ、Ｔａ、Ｔｉ潤滑膜ＭｏＳ₂ 装飾膜Ｃｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＣ、Ｃｕ例えば、反応性ガスとしてジンクアセチルアセトナー
ト、トリエチルインジウム、トリメチルインジウム、ジ
エチル亜鉛、ジメチル亜鉛、エトラエチル錫、エトラメ
チル錫、二酢酸ジ−ｎ−ブチル錫、テトラブチル錫、テ
トラオクチル錫などから選択された少なくとも１つの有
機金属化合物を含む反応性ガスを用いて、導電性膜ある
いは帯電防止膜、あるいは反射防止膜の中屈折率層とし
て有用な金属酸化物層を形成することができる。

【０１３９】また、有機フッ素化合物、珪素化合物また
はチタン化合物を含有する反応性ガスを用いることによ
り、反射防止膜の低屈折率層または高屈折率層を設ける
ことが出来る。本発明では、反射防止層の上に防汚層を
設けることが好ましい。

【０１４０】また、フッ素含有化合物ガスを用いること
によって、基材表面にフッ素含有基を形成させて表面エ
ネルギーを低くし、撥水性表面を得る撥水膜を得ること
が出来る。

【０１４１】有機フッ素化合物としては、フッ化炭素ガ
ス、フッ化炭化水素ガス等が好ましく用いられる。フッ
化炭素ガスとしては、４フッ化炭素、６フッ化炭素、具
体的には、４フッ化メタン、４フッ化エチレン、６フッ
化プロピレン（ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＦ₂）、８フッ化シクロブ
タン、Ｃ₄Ｆ₈等が挙げられる。前記のフッ化炭化水素ガ
スとしては、２フッ化メタン、４フッ化エタン、４フッ
化プロピレン、３フッ化プロピレン等が挙げられる。

【０１４２】更に、１塩化３フッ化メタン、１塩化２フ
ッ化メタン、２塩化４フッ化シクロブタン等のフッ化炭
化水素化合物のハロゲン化物やアルコール、酸、ケトン
等の有機化合物のフッ素置換体を用いることが出来るが
これらに限定されない。また、これらの化合物が分子内
にエチレン性不飽和基を有していても良い。前記の化合
物は単独でも混合して用いても良い。

【０１４３】混合ガス中に上記記載の有機フッ素化合物
を用いる場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な
薄膜を形成する観点から、混合ガス中の有機フッ素化合
物の含有率は、０．１体積％〜１０体積％であることが
好ましいが、更に好ましくは、０．１〜５体積％であ
る。

【０１４４】また、本発明に係る有機フッ素化合物が常
温、常圧で気体である場合は、混合ガスの構成成分とし
て、そのまま使用できるので最も容易に本発明の方法を
遂行することができる。しかし、有機フッ素化合物が常
温・常圧で液体又は固体である場合には、加熱、減圧等
の方法により気化して使用すればよく、また、又、適切
な溶剤に溶解して用いてもよい。

【０１４５】また、分子内に親水性基と重合性不飽和結
合を有するモノマーの雰囲気下でプラズマ処理を行うこ
とにより、親水性の重合膜を堆積させることもできる。
上記親水性基としては、水酸基、スルホン酸基、スルホ
ン酸塩基、１級若しくは２級又は３級アミノ基、アミド
基、４級アンモニウム塩基、カルボン酸基、カルボン酸
塩基等の親水性基等が挙げられる。又、ポリエチレング
リコール鎖を有するモノマーを用いても同様に親水性重
合膜を堆積が可能である。

【０１４６】上記モノマーとしては、アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアクリルアミド、アクリル酸ナトリウム、メ
タクリル酸ナトリウム、アクリル酸カリウム、メタクリ
ル酸カリウム、スチレンスルホン酸ナトリウム、アリル
アルコール、アリルアミン、ポリエチレングリコールジ
メタクリル酸エステル、ポリエチレングリコールジアク
リル酸エステルなどが挙げられ、これらの少なくとも１
種が使用できる。

【０１４７】混合ガス中に上記記載のチタン化合物を用
いる場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜
を形成する観点から、混合ガス中のチタン化合物の含有
率は、０．１〜１０体積％であることが好ましいが、更
に好ましくは、０．１〜５体積％である。

【０１４８】また、上記記載の混合ガス中に水素ガスを
０．１〜１０体積％含有させることにより薄膜の硬度を
著しく向上させることが出来る。

【０１４９】上記記載の珪素化合物、チタン化合物とし
ては、取り扱い上の観点から金属水素化合物、金属アル
コキシドが好ましく、腐食性、有害ガスの発生がなく、
工程上の汚れなども少ないことから、金属アルコキシド
が好ましく用いられる。

【０１５０】また、上記記載の珪素化合物、チタン化合
物を放電空間である電極間に導入するには、両者は常温
常圧で、気体、液体、固体いずれの状態であっても構わ
ない。気体の場合は、そのまま放電空間に導入できる
が、液体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の
手段により気化させて使用される。珪素化合物、チタン
化合物を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキ
シシラン、テトライソプロポキシチタンなど、常温で液
体で、沸点が２００℃以下である金属アルコキシドが反
射防止膜の形成に好適に用いられる。上記金属アルコキ
シドは、溶媒によって希釈して使用されても良く、溶媒
は、メタノール、エタノール、ｎ−ヘキサンなどの有機
溶媒及びこれらの混合溶媒が使用できる。尚、これらの
希釈溶媒は、プラズマ放電処理中において、分子状、原
子状に分解される為、基材上への薄膜の形成、薄膜の組
成などに対する影響は殆ど無視することが出来る。

【０１５１】上記記載の珪素化合物としては、例えば、
ジメチルシラン、テトラメチルシランなどの有機金属化
合物、モノシラン、ジシランなどの金属水素化合物、二
塩化シラン、三塩化シランなどの金属ハロゲン化合物、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシランなどのアルコキシシラン、オルガノ
シランなどを用いることが好ましいがこれらに限定され
ない。また、これらは適宜組み合わせて用いることが出
来る。

【０１５２】混合ガス中に上記記載の珪素化合物を用い
る場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜を
形成する観点から、混合ガス中の珪素化合物の含有率
は、０．１〜１０体積％であることが好ましいが、更に
好ましくは、０．１〜５体積％である。

【０１５３】上記記載のチタン化合物としては、テトラ
ジメチルアミノチタンなどの有機金属化合物、モノチタ
ン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三
塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、
テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、
テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどを用
いることが好ましいがこれらに限定されない。

【０１５４】また、混合ガス中に酸素、オゾン、過酸化
水素、二酸化炭素、一酸化炭素、水素、窒素から選択さ
れる成分を０．０１〜５体積％含有させることにより、
反応促進され、且つ、緻密で良質な薄膜を形成すること
ができる。

【０１５５】本発明において、反射防止層（金属酸化物
層そのものでもよい）の高屈折率層及び低屈折率層の炭
素含有率は、ともに０．２質量％〜５質量％であること
が下層との密着性と膜の柔軟性のために好ましく、更に
好ましくは、０．３質量％〜３質量％である。すなわ
ち、プラズマ処理によって形成された層は有機物（炭素
原子）を含んでいるため、その範囲が膜に柔軟性を与え
るため、膜の密着性を向上するため好ましい。大気圧プ
ラズマ処理は、特に微細な凹凸を有する本発明の防眩フ
ィルム上に均一な膜厚を有する薄膜を形成することが出
来るため好ましく用いることが出来る。

【０１５６】本発明のセルロースエステルフィルムの製
造に用いられるセルロースエステルについて説明する。

【０１５７】本発明に係るセルロースエステルとして
は、セルロースエステルが低級脂肪酸エステルであるこ
とが好ましい。セルロースエステルの低級脂肪酸エステ
ルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪
酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロー
スプロピオネート、セルロースブチレート等がセルロー
スの低級脂肪酸エステルの好ましい例として挙げられ
る。

【０１５８】また、上記以外にも、特開平１０−４５８
０４号、同０８−２３１７６１号、米国特許第２，３１
９，０５２号等に記載のセルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪
酸エステルを用いることが出来る。

【０１５９】上記記載の中で、特に好ましく用いられる
セルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセ
テートである。

【０１６０】更に、ベース強度の観点から、特に重合度
２５０〜４００、結合酢酸量が５４〜６２．５％が好ま
しく用いられ、更に好ましいのは、結合酢酸量が５８〜
６２．５％のセルローストリアセテートである。

【０１６１】本発明に係るセルローストリアセテート
は、綿花リンターから合成されたセルローストリアセテ
ートと木材パルプから合成されたセルローストリアセテ
ートのどちらかを単独あるいは混合して用いることがで
きる。ベルトやドラムからの剥離性がもし問題になれ
ば、ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターか
ら合成されたセルローストリアセテートを多く使用すれ
ば生産性が高く好ましい。

【０１６２】木材パルプから合成されたセルローストリ
アセテートを混合し用いた場合、綿花リンターから合成
されたセルローストリアセテートの比率が４０質量％以
上で、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、６０質
量％以上がさらに好ましく、単独で使用することが最も
好ましい。

【０１６３】樹脂の性質によって、溶液流延法によって
製膜する方法とエクストルーダ等による溶融押出し成型
にて溶融状態で樹脂を押し出し製膜する方法が可能であ
るが、光学異方性が少ないフィルムを得るためや、高い
膜厚精度、面品質を得るには溶液流延法によって製膜す
ることがより好ましい。

【０１６４】本発明のセルロースエステルフィルムは、
可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては特に限
定はないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステ
ル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメ
リット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エ
ステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを好ましく
用いることが出来る。リン酸エステル系では、トリフェ
ニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジ
ルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフ
ェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオク
チルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル
酸エステル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエ
チルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタ
レート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート等、トリメリッ
ト酸系可塑剤として、トリブチルトリメリテート、トリ
フェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート
等、ピロメリット酸エステル系可塑剤として、テトラブ
チルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、
テトラエチルピロメリテート等、グリコール酸エステル
系では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリル
エチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレー
ト、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エ
ステル系可塑剤として、トリエチルシトレート、トリ−
ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレー
ト、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルト
リ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好まし
く用いることができる。

【０１６５】その他のカルボン酸エステルの例には、オ
レイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシ
ン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれ
る。

【０１６６】ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基
酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグ
リコールの共重合体を用いることが出来る。脂肪族二塩
基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシ
ン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシ
ルジカルボン酸などを用いることが出来る。グリコール
としては、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレ
ングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−
ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコールなど
を用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコー
ルはそれぞれ単独で用いても良いし、二種以上混合して
用いても良い。

【０１６７】これらの可塑剤の使用量は、フィルム性
能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜
２０質量％であることが好ましい。

【０１６８】また、本発明のセルロースエステルフィル
ムは、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。

【０１６９】紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。好ましく用いられる紫外線吸
収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系
化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エス
テル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系
化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系
化合物などが挙げられるが、これらに限定されない。
又、特開平６−１４８４３０号記載の高分子紫外線吸収
剤も好ましく用いられる。

【０１７０】又、本発明の支持体に用いることのできる
紫外線吸収剤は特願平１１−２９５２０９号に記載され
ている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤を含むこと
が、プラズマ処理工程の汚染が少なく、また、各種塗布
層の塗布性にも優れる為好ましく、特に分配係数が１
０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。

【０１７１】可塑剤や紫外線吸収剤吸収剤を含むセルロ
ースエステルフィルムを基材として用いた場合、これら
がブリードアウトするなどによって、プラズマ処理部に
付着するなどして工程を汚染し、これがフィルムに付着
する可能性が考えられる。この問題を解決するために
は、支持体がセルロースエステルと可塑剤を有し、８０
℃、９０％ＲＨで４８時間処理した前後の質量変化が±
２質量％未満である支持体を用いることが好ましい（保
留性）。このようなセルロースエステルフィルムは特願
２０００−３３８８８３号記載のセルロースエステルフ
ィルム等が好ましく用いられる。又、この目的のために
特開平６−１４８４３０号、特願２０００−１５６０３
９号記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポ
リマー）が好ましく用いることができる。高分子紫外線
吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）
製）などが市販されている。特開平６−１４８４３０号
の一般式（１）あるいは一般式（２）あるいは特願２０
００−１５６０３９の一般式（３）（６）（７）記載の
高分子紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。

【０１７２】本発明のセルロースエステルフィルムの光
学特性としては、面内リターデーションＲ₀は０〜１０
００ｎｍのものが好ましく用いられ、厚味方向のリター
デーションＲ_tは０〜３００ｎｍのものが用途に応じて
好ましく用いられる。又、波長分散特性としてはＲ
₀（６００）／Ｒ₀（４５０）は０．７〜１．３であるこ
とが好ましく、特に１．０〜１．３であること好まし
い。

【０１７３】ここで、Ｒ₀（４５０）は波長４５０ｎｍ
の光による３次元屈折率測定に基づいた面内リターデー
ション、Ｒ₀（６００）は波長６００ｎｍの光による３
次元屈折率測定に基づいた面内リターデーションを表
す。

【０１７４】本発明のセルロースエステルフィルムの製
造方法について説明する。少なくとも２種以上のドープ
を使用し、該ドープを支持体上に同時または、逐次流延
した後、剥離後乾燥させて、ヘイズが３％〜３０％未満
のフィルムを作製するには、流延する支持体側（Ｂ面
側）に用いられるドープＢと空気側（Ａ面側）に用いら
れるドープＡの少なくとも一方に微粒子を添加すること
が必要であり、ドープＡまたはドープＢ中の前記微粒子
の含有量が固形分当たり、０．５質量％を超え７０質量
％以下になるように調整することが好ましく、更に好ま
しくは１質量％を超え、５０質量以下である。

【０１７５】本発明のセルロースエステルフィルムの製
造方法を図１０及び図１１で示される工程図を参照しな
がら、説明する。

【０１７６】図１０は、本発明のセルロースエステルフ
ィルムの製造装置の一例を示す工程図であり、図１１
は、図１０のスリットダイ６の断面図を示す。

【０１７７】セルロースエステルドープ液を調液するド
ープ液タンク１には、ドープ液１ａが投入されており、
微粒子添加液タンク２、２’には、微粒子添加液２ａ、
２ａ’が各々、投入されている。（ここで、微粒子添加
液２ａ、２ａ’は同一組成でもよく、異なる組成でもよ
い）。

【０１７８】ドープ液１ａは送液ポンプ４ｂ、４ｃ、４
ｅにより、インラインミキサー５ａ、５ｂ５ｃまで送ら
れ、微粒子添加液２ａはポンプ４ａによってインライン
ミキサー５ａに、微粒子添加液２ａ’は、ポンプ４ｆに
よってインラインミキサー５ｃに各々、送られる。イン
ラインミキサー５ａでドープ液１ａと微粒子添加液２ａ
は充分混合され、スリットダイ６のスリットａに送られ
る。また、インラインミキサー５ｃでドープ液１ａと微
粒子添加液２ａ’は充分に混合され、スリットダイ６の
スリットｃに送られる。

【０１７９】同様に、インラインミキサー５ｂで、ドー
プ液１ａと紫外線吸収剤添加液３ａは充分混合され、ス
リットダイ６のスリットｂに送られる。

【０１８０】スリットダイ６により、真ん中の層は、ド
ープ液１ａと微粒子添加液２ａの混合液で構成され、上
下表面の層は、ドープ液１ａと微粒子添加液２ａの混合
液、ドープ液１ａと微粒子添加液２ａ’の混合液と混合
された状態で流延口１１から共流延され、ドラム７より
連続的に移動する流延ベルト８上に流延される。流延さ
れた３層からなるセルロースエステルドープ層は、乾燥
後、セルロースエステルフィルム１０として、ローラ９
により流延ベルトから、剥離される。

【０１８１】本発明において、樹脂が溶解しているドー
プ液とは、セルロースエステル等の樹脂が溶剤（溶媒）
に溶解している状態であり、前記ドープ液には、可塑剤
等の添加剤を加えることが望ましく、勿論、必要により
この他の添加剤を加えることも出来る。ドープ液中の樹
脂の濃度としては、１０質量％〜３０質量％が好まし
く、更に好ましくは、１５質量％〜２５質量％である。

【０１８２】本発明で用いられる溶剤は、単独でも併用
でもよいが、良溶剤と貧溶剤を混合して使用すること
が、生産効率の点で好ましく、更に好ましくは、良溶剤
と貧溶剤の混合比率は良溶剤が７０質量％〜９５質量％
であり、貧溶剤が３０〜５質量％である。

【０１８３】本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤とは、
使用する樹脂を単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨
潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義してい
る。そのため、セルロースエステルの置換度によって
は、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤と
して用いるときには、セルロースアセテートの場合の酢
化度５５％では良溶剤になり、酢化度６０％では貧溶剤
となってしまう。

【０１８４】本発明に用いられる良溶剤としては、メチ
レンクロライド等の有機ハロゲン化合物や、酢酸メチ
ル、アセトン、ジオキソラン類が挙げられる。

【０１８５】また、本発明に用いられる貧溶剤として
は、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノー
ル、シクロヘキサン等が好ましく用いられる。

【０１８６】上記記載のドープ液を調製する時の、セル
ロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用
いることができるが、好ましい方法としては、セルロー
スエステルを貧溶剤と混合し、湿潤あるいは膨潤させ、
さらに良溶剤と混合する方法が好ましく用いられる。こ
のとき加圧下で、溶剤の常温での沸点以上でかつ溶剤が
沸騰しない範囲の温度で加熱し、攪拌しながら溶解する
方法が、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を
防止するため、より好ましい。

【０１８７】キャスト工程における支持体はベルト状も
しくはドラム状のステンレスを鏡面仕上げした支持体が
好ましく用いられる。キャスト工程の支持体の温度は一
般的な温度範囲０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、流延す
ることができるが、０〜３０℃の支持体上に流延するほ
うが、ドープをゲル化させ剥離限界時間をあげられるた
め好ましく、５〜１５℃の支持体上に流延することがさ
らに好ましい。剥離限界時間とは透明で平面性の良好な
フィルムを連続的に得られる流延速度の限界において、
流延されたドープが支持体上にある時間をいう。剥離限
界時間は短い方が生産性に優れていて好ましい。

【０１８８】流延（キャスト）される側の支持体の表面
温度は、１０〜５５℃、溶液の温度は、２５〜６０℃、
更に溶液の温度を支持体の温度より０℃以上高くするの
が好ましく、５℃以上に設定するのが更に好ましい。溶
液温度、支持体温度は、高いほど溶媒の乾燥速度が速く
できるので好ましいが、あまり高すぎると発泡したり、
平面性が劣化する場合がある。

【０１８９】支持体の温度の更に好ましい範囲は、２０
〜４０℃、溶液温度の更に好ましい範囲は、３５〜４５
℃である。

【０１９０】また、剥離する際の支持体温度を１０〜４
０℃、更に好ましくは、１５〜３０℃にすることでフィ
ルムと支持体との密着力を低減できるので、好ましい。

【０１９１】製造時のセルロースエステルフィルムが良
好な平面性を示すためには、支持体から剥離する際の残
留溶媒量は、１０％〜１５０％が好ましく、更に好まし
くは、２０％〜１２０％であり、特に好ましくは、３０
％〜１１０％である。

【０１９２】本発明においては、残留溶媒量は下記式で
定義される。残留溶媒量＝（加熱処理前質量−加熱処理後の質量）／
（加熱処理後質量）×１００％尚、残留溶媒量を測定する最の、加熱処理とは、フィル
ムを１１５℃で１時間、加熱処理を行うことを表す。

【０１９３】支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力
は、通常２００〜２５０Ｎ（Ｎｅｗｔｏｎ）／ｍで剥離
が行われるが、セルロースエステルの単位質量あたりの
紫外線吸収剤の含有量が多く、且つ、従来よりも薄膜化
されている本発明のセルロースエステルフィルムは、剥
離の際にシワが入りやすいため、剥離できる最低張力〜
１７０Ｎ／ｍで剥離することが好ましく、更に好ましく
は、最低張力〜１４０Ｎ／ｍで剥離することである。

【０１９４】また、セルロースエステルフィルムの乾燥
工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾
燥し、残留溶媒量を３質量％以下にすることが好まし
い、更に好ましくは、０．５質量％以下である。

【０１９５】フィルム乾燥工程では一般にロール懸垂方
式か、ピンテンター方式でフィルムを搬送しながら乾燥
する方式が採られる。液晶表示部材用としては、ピンテ
ンター方式で幅を保持しながら乾燥させることが、寸法
安定性を向上させるために好ましい。特に支持体より剥
離した直後の残留溶剤量の多いところで幅保持を行うこ
とが、寸法安定性向上効果をより発揮するため特に好ま
しい。フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく、一般
的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。
簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は４０
〜１５０℃の範囲で３〜５段階の温度に分けて、段々高
くしていくことが好ましく、８０〜１４０℃の範囲で行
うことが寸法安定性を良くするためさらに好ましい。

【０１９６】流延する支持体側（Ｂ面側）に用いられる
ドープまたは、空気側（Ａ面側）に用いられるドープに
も少量の微粒子を添加することができ、フィルム表面の
すべり性を高める効果も期待される。すべり性は動摩擦
係数によって表現されるが、動摩擦係数としてはフィル
ム表面と裏面間の動摩擦係数で、ＪＩＳ−Ｋ−７１２５
（１９８７）に準じて測定した場合に、１．５以下であ
ることがさらに好ましく、１．０以下であることがさら
に好ましく、０．５以下であることがさらに好ましい。
マット剤添加量を増やすことによって動摩擦係数は低く
することができる。

【０１９７】本発明のセルロースエステルフィルムの製
造では流延後剥離した後にテンター等の手段によって横
方向に延伸されることが好ましく、これによりより高い
平面性を維持させることができ、好ましい。これによっ
て、長期に渡って反りが発生しない防眩フィルムを得る
ことができる。テンターは残留溶媒量が３質量％〜４０
質量％の範囲でかけることが望ましい。更に好ましく
は、１０質量％〜３５質量％である。残留溶媒量は前述
した式により溶媒を含むフィルムを１１５℃で１時間処
理した際の前後の質量変化と加熱処理後のフィルムの質
量から求められる。

【０１９８】又、本発明の方法で製造されたセルロース
エステルフィルムは光学的等方性にも優れ、膜厚方向の
リターデーション（Ｒｔ）値で１００ｎｍ以下の光拡散
フィルムが得られ、５０ｎｍ以下の光拡散フィルムも得
ることができ、更に、０〜３０ｎｍの光拡散フィルムも
得ることができる点で優れている。更に、本発明の方法
は均一なリターデーションが得られる点でも優れてい
る。

【０１９９】リターデーション（Ｒｔ）値は、以下の式
で表される。Ｒ_t＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ式中、Ｎｘはフィルムの製膜方向に平行な方向における
フィルムの屈折率、Ｎｙは製膜方向に垂直な方向におけ
るフィルムの屈折率、Ｎｚは厚み方向におけるフィルム
の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）を各々表す。

【０２００】例えば、リターデーションの測定は自動複
屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）
製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で５９０ｎ
ｍの波長において、３次元屈折率測定を行い、Ｎｘ，Ｎ
ｙ，Ｎｚを測定し、これによりＲ_t値を算出することが
できる。

【０２０１】本発明の偏光板及び偏光板の作製について
説明する。本発明の偏光板は、請求項１のセルロースエ
ステルフィルム或いは、請求項２〜５のいずれか１項ま
たは請求項１３に記載の防眩フィルムを用いて作製され
る。まず、防眩フィルムを、水酸化ナトリウム水溶液を
用いて表面鹸化処理を行う、ここで、防眩フィルムの反
射防止層や防汚層が設けられている面は、再剥離出来る
保護フィルム等を貼合する等の方法を用いてアルカリか
ら保護することが好ましい。

【０２０２】別に用意した偏光膜を用意し、鹸化処理し
た防眩フィルム面（反射防止層や防汚層の反対側の面）
に接着剤を用いて貼合し、偏光膜のもう一方の面にも、
適宜、セルロースエステルフィルムを貼合し、本発明の
偏光板を作製する。

【０２０３】尚、偏光板作製の詳細は、実施例に記載す
る。

【０２０４】

【実施例】以下、実施例を用いて、本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。

【０２０５】実施例１《ドープＦの調製》まず、４ｋｇの酸化珪素微粒子（１
次平均粒径１．０μｍ）、６ｋｇの酸化珪素微粒子（１
次平均粒径２．５μｍ）をエタノール１０ｋｇに添加し
て分散し、微粒子分散液を調製した。次いで、微粒子分
散液の調製に用いた残りのエタノールと酸化珪素微粒子
以外の材料を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹拌しながら完全に溶解した後、濾過し、ここに上記
で調製した。微粒子分散液を添加して十分に混合した
後、再度濾過を行ない、ドープＦを調製した。

【０２０６】《ドープＡ〜Ｅ、ドープＧ〜Ｉの調製》ド
ープ調製に用いる材料を表１に記載のように変更した以
外は、ドープＦの調製と同様にして、ドープＡ〜Ｅ、ド
ープＧ〜Ｉを各々、調製した。

【０２０７】得られたドープＡ〜Ｉの組成物を表１に示
す。

【０２０８】

【表１】

【０２０９】《セルロースエステルフィルム１〜９の作
製》次に、各ドープＡ〜Ｉを各々、冷却して３３℃に保
ち、表２に記載のように、３つのドープを組み合わせ
て、図１１に記載のダイを用いて、３層構成となるよう
にステンレスバンド上に均一に流延して形成したウェブ
を３３℃で５分間乾燥した。乾燥後の各層の膜厚（μ
ｍ）は表２に示した。

【０２１０】ステンレスバンド上からウェブを剥離後、
８０℃のロール搬送乾燥ゾーンで乾燥させた後、１００
℃に維持されたテンターを用いて残留溶媒量が５質量％
になるように調整し、且つ、幅方向に１．０６倍となる
ように延伸処理を施した。

【０２１１】更に、１２０℃で多数のロールで搬送させ
ながら乾燥させ、表２に示すようにセルロースエステル
フィルム１〜８を得た。また、ドープＩのみを用いて、
単層構成となるようにした以外は同様にしてセルロース
エステルフィルム９を得た。又、ヘイズはＡＳＴＭ−Ｄ
１００３−５２に従って測定した。

【０２１２】

【表２】

【０２１３】《防眩フィルム１〜１２の作製》上記で得
られたセルロースエステルフィルム１〜９の各々のＢ面
（流延の際にステンレスバンド側だった面をフィルムの
Ｂ面とし、その反対側をＡ面とする）に、下記の塗布組
成物（１）をウェット膜厚が１３μｍとなるように押し
出しコートして乾燥温度８０℃で乾燥させてバックコー
ト層を設け、次いで、表３に記載のように、Ａ面に、活
性線硬化樹脂層を各々設け、更に、下記に記載の活性線
硬化樹脂層の上に各々、下記に記載にように反射防止層
を設けて、防眩フィルム１〜１２を得た。

【０２１４】塗布組成物（１）（バックコート層用塗布組成物）アセトン３０質量部酢酸エチル４５質量部イソプロピルアルコール１０質量部ジアセチルセルロース０．５質量部超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル２００Ｖ：日本アエロジル（株）製）０．１１質量部《活性線硬化樹脂層の塗設》表３に記載の各々のセルロ
ースエステルフィルム上への活性線硬化樹脂層の塗設は
下記の記載のように行った。

【０２１５】（活性線硬化樹脂層１の作製）セルロース
エステルフィルムのＡ面側に下記の塗布組成物（２）を
押し出しコートし、次いで８０℃に設定された乾燥部で
乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射し、膜厚
３μｍの活性線硬化樹脂層１を設けた。

【０２１６】塗布組成物（２）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体６０質量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体２０質量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０質量部ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤４質量部メチルエチルケトン７５質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル７５質量部（活性線硬化樹脂層２の塗設）セルロースエステルフィ
ルムのＡ面側に下記の塗布組成物（３）を押し出しコー
トし、次いで８０℃に設定された乾燥部で乾燥した後、
１２０ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射し、膜厚２．５μｍの
活性線硬化樹脂層２を設けた。

【０２１７】塗布組成物（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体６０質量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体２０質量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０質量部ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤４質量部メチルエチルケトン７５質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル７５質量部酸化珪素微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ：日本アエロジル（株）製、１次平均粒径０．０１６μｍ）３質量部《反射防止層の形成：大気圧プラズマ放電処理により形
成》図９に記載のようなプラズマ放電処理装置（但し、
図９ではプラズマ放電処理容器の設置は一つだが、本実
施例では３つ使用する）を用い、下記に記載の反応性ガ
スを使用して大気圧プラズマ放電処理を行い、活性線硬
化樹脂層上に反射防止層を形成した。

【０２１８】以下にプラズマ放電処理装置の具体的な設
置条件を示す。ロール電極２５として、冷却水による冷
却機能を有するステンレス製ジャケットロール母材（冷
却機能は図９には図示していない）に、セラミック溶射
によりアルミナを１ｍｍ被覆し、その後テトラメトキシ
シランを酢酸エチルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外
線照射により硬化させて封孔処理を行った誘電体を有す
るロール電極を製作しアース（接地）した。

【０２１９】一方、印加電極として用いる固定電極３６
としては、中空角形のステンレスに対し、上記同様の誘
電体を同条件にて被覆し、対向する電極群とし、低屈折
率層、高屈折率層共に必要な膜厚が各々得られるように
調整した。

【０２２０】また、放電プラズマ発生に用いる使用電源
は、パール工業製高周波電源（８００ｋＨｚ）とし、１
２Ｗ／ｃｍ²の電力を供給した。但し、ロール電極は、
ドライブを用いて基材の搬送に同期して回転させた。

【０２２１】《反応性ガス》下記にプラズマ処理に用い
た混合ガス（反応性ガス）の組成を以下に記す。

【０２２２】（酸化錫層形成用）不活性ガス：アルゴン（９８．７体積％）反応ガス１：水素ガス（１体積％）反応ガス２：テトラブチル錫蒸気（０．３体積％）（酸化チタン層形成用）不活性ガス：アルゴン（９８．７体積％）反応ガス１：水素ガス（１体積％）反応ガス２：テトライソプロポキシチタン蒸気（０．３
体積％）（酸化珪素層形成用）不活性ガス：アルゴン（９８．７体積％）反応ガス１：水素ガス（１体積％）反応ガス２：テトラメトキシシラン蒸気（０．３体積
％）反射防止層としては、活性線硬化樹脂層の上に連続的に
大気圧プラズマ処理して、順に、酸化錫層（屈折率１．
７、膜厚６７ｎｍ、炭素含有量０．３質量％）、酸化チ
タン層（屈折率２．１４、膜厚１１０ｎｍ、炭素含有量
０．４質量％）、酸化珪素層（屈折率１．４４、膜厚８
７ｎｍ、炭素含有量０．２質量％）の３層を設けた。上
記の炭素含有量は、下記のように測定した。

【０２２３】《炭素含有率の測定》上記の反射防止層の
構成層である、酸化錫層、酸化チタン層、酸化珪素層の
各々の炭素含有率は、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光）表面分
析装置を用いてその値を測定した。ＸＰＳ（Ｘ線光電子
分光）表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる
機種も使用することができるが、本発明では、ＶＧサイ
エンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用
いた。

【０２２４】測定において、Ｘ線アノードにはＭｇを用
い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電
流４０ｍＡ）で測定した。エネルギー分解能は、清浄な
Ａｇ３ｄ５／２ピークの半値幅で規定したとき、１．５
〜１．７ｅＶとなるように設定した。

【０２２５】また、測定前に、汚染による影響を除くた
めに、各防眩フィルム試料の膜厚の１０〜２０％の厚さ
に相当する表面層をエッチング除去を行った。表面層の
除去には、希ガスイオンを利用したイオン銃を用いるこ
とが好ましく、イオン種としては、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、
Ｘｅ、Ｋｒなどを適宜利用できるが、本測定では、Ａｒ
イオンエッチングを用いて表面層を除去した。

【０２２６】先ず、結合エネルギー０ｅＶから１１００
ｅＶの範囲を、データ取り込み間隔１．０ｅＶで測定
し、いかなる元素が検出されるかを求めた。次に、検出
された、エッチングイオン種を除く全ての元素につい
て、データの取り込み間隔を０．２ｅＶとして、その最
大強度を与える光電子ピークについてナロースキャンを
おこない、各元素のスペクトルを測定した。得られたス
ペクトルは、測定装置、あるいは、コンピューターの違
いによる含有率算出結果の違いを生じせしめなくするた
めに、ＶＡＭＡＳ−ＳＣＡ−ＪＡＰＡＮ製のＣＯＭＭＯ
ＮＤＡＴＡＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧＳＹＳＴＥＭ
（Ｖｅｒ．２．３）上に転送した後、同ソフトで処理を
おこない、炭素含有率の値を原子数濃度（ａｔｏｍｉｃ
ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）として求めた。

【０２２７】定量処理をおこなう前に、各元素について
ＣｏｕｎｔＳｃａｌｅのキャリブレーションをおこな
い、５ポイントのスムージング処理をおこなった。定量
処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強
度（ｃｐｓ＊ｅＶ）を用いた。バックグラウンド処理に
は、Ｓｈｉｒｌｅｙによる方法を用いた。Ｓｈｉｒｌｅ
ｙ法については、Ｄ．Ａ．Ｓｈｉｒｌｅｙ，Ｐｈｙｓ．
Ｒｅｖ．，Ｂ５，４７０９（１９７２）を参考にするこ
とができる。

【０２２８】《防眩フィルム１３〜１５の作製》防汚層
の作製に下記の反応性ガスを用い、全ての層で１１Ｗ／
ｃｍ²の電力を印加してプラズマ放電処理した以外は、
上記の防眩フィルム１〜１２と同様にして、反射防止層
上に防汚層を有する防眩フィルム１３〜１５を作製し
た。

【０２２９】ここで、大気圧プラズマ処理によって活性
線硬化樹脂層の上に形成された、各層の屈折率、膜厚
（μｍ）、炭素含有量は下記のように、順に、酸化錫層
（屈折率１．７、膜厚６８ｎｍ、炭素含有量０．４質量
％）、酸化チタン層（屈折率２．１４、膜厚１０６ｎ
ｍ、炭素含有量０．５質量％）、酸化珪素層（屈折率
１．４６、膜厚７５ｎｍ、炭素含有量０．４質量％）、
防汚層（屈折率１．３３、膜厚１０ｎｍ）である。

【０２３０】《反応性ガス》下記にプラズマ処理に用い
た混合ガス（反応性ガス）の組成を以下に記す。

【０２３１】（酸化錫層形成用）不活性ガス：アルゴン（９８．７体積％）反応ガス１：水素ガス（１体積％）反応ガス２：テトラブチル錫蒸気（０．３体積％）（酸化チタン層形成用）不活性ガス：アルゴン（９８．７体積％）反応ガス１：水素ガス（１体積％）反応ガス２：テトライソプロポキシチタン蒸気（０．３
体積％）（酸化珪素層形成用）不活性ガス：アルゴン（９８．７体積％）反応ガス１：水素ガス（１体積％）反応ガス２：テトラメトキシシラン蒸気（０．３体積
％）（防汚層形成用）不活性ガス：アルゴン（９８．７体積％）反応ガス１：水素ガス（１体積％）反応ガス２：６フッ化プロピレン（０．３体積％）防汚層の形成は、セルロースエステルフィルム３または
５のＡ面側（凹凸面を有する側）に設けた酸化珪素層の
上に行った。使用電源として、日本電子製高周波電源を
使用し、連続周波数を１３．５６ＭＨｚ、１５Ｗ／ｃｍ
²の電力を供給し、プラズマ処理に用いた混合ガス（反
応ガス）の組成を上記のようにした以外は同様にして、
防汚層を形成した。

【０２３２】《防眩フィルム１６の作製》下記の酸化錫
層形成用の反応性ガスを用い、大気圧プラズマ処理によ
り、膜厚１００ｎｍの酸化錫層を帯電防止層として形成
した。その上に活性線硬化樹脂層１を膜厚が２μｍにな
るように塗設した。更にその上に、順に酸化チタン層
（屈折率２．２、膜厚１３ｎｍ、炭素含有量０．３質量
％）、酸化珪素層（屈折率１．４６、膜厚３５ｎｍ、炭
素含有量０．３質量％）、酸化チタン層（屈折率２．
２、膜厚１２２ｎｍ、炭素含有量０．３質量％）、酸化
珪素層（屈折率１．４６、膜厚８８ｎｍ、炭素含有量
０．３質量％）の４層を設け、反射防止層とした。更に
その上に膜厚１０ｎｍの防汚層を設け、防眩フィルム１
６とした。このフィルムの表面の比抵抗は１０¹⁰Ω／ｃ
ｍ²であった。

【０２３３】（酸化錫層形成用）不活性ガス：アルゴン（９７．７質量％）反応ガス１：酸素ガス（２質量％）反応ガス２：テトラブチル錫蒸気（０．３質量％）（酸化チタン層形成用）不活性ガス：アルゴン（９７．７質量％）反応ガス１：酸素ガス（２質量％）反応ガス２：テトライソプロポキシチタン蒸気（０．３
質量％）（酸化珪素層形成用）不活性ガス：アルゴン（９７．７質量％）反応ガス１：酸素ガス（２質量％）反応ガス２：テトラメトキシシラン蒸気（０．３質量
％）（防汚層形成用）不活性ガス：アルゴン（９８．７質量％）反応ガス１：水素ガス（１質量％）反応ガス２：６フッ化プロピレン（０．３質量％）《表面比抵抗》防眩フィルム１６を２３℃、５５％ＲＨ
の条件のもとで、６時間調湿した後、同条件で塗膜の表
面の表面比抵抗値を絶縁抵抗測定器（川口電気社製ＶＥ
−３０型）を用いて測定した。測定に用いた電極は、２
本の電極（試料と接触する部分が１ｃｍ×５ｃｍ）を間
隔を１ｃｍで平行に配置し、該電極に試料を接触させて
測定し、測定値を５倍にした値を表面比抵抗値Ω／ｃｍ
²とした上記の防眩フィルム１〜１６について、下記の
ような評価を行った。

【０２３４】《ヘイズ（濁度）の測定》フィルム試料１
枚で、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って測定した。

【０２３５】《反射率の測定》分光反射率は分光光度計
Ｕ−４０００型（日立製作所製）を用いて、５度正反射
の条件にて反射率の測定を行った。測定は、観察側の裏
面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収
処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反
射率（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長について）の測定
を行った。また、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を求
めた。

【０２３６】《耐擦傷性の測定》スチールウール＃００
０を、２５０ｇ／ｃｍ²の荷重をかけて押し付け１０回
往復運動後、擦り傷の入る本数を測定し、下記のように
ランク評価した。

【０２３７】Ａ：０〜３本Ｂ：４〜１０本（実用可）Ｃ：１１〜２０本Ｄ：２１本以上《中心線平均粗さ（Ｒａ）》：ＪＩＳＢ０６０１に
規定の数値光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社
製）を使用して、１．２ｍｍ×０．９ｍｍの面積に対し
て、活性線硬化樹脂層面の中心線平均粗さＲａを求め
た。

【０２３８】《視認性評価》防眩フィルムの視認性につ
いては、防眩フィルム１〜１６を用いて下記のようにし
て偏光板１〜１６を各々作製し、それらの偏光板を液晶
表示パネルに組み込み、視認性を評価した。

【０２３９】（偏光板１の作製）（ａ）厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルム
をヨウ素１ｋｇ、ヨウ化カリウム２ｋｇ、ホウ酸４ｋｇ
を含む水溶液１００ｋｇに浸漬し５０℃で４倍に延伸し
偏光膜を作製した。

【０２４０】（ｂ）長手方向３０ｃｍ、巾手方向１８ｃ
ｍに切り取った防眩フィルム１及びセルロースエステル
フィルム９の試料を２ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム溶
液に６０℃で１分間浸漬し、さらに水洗、乾燥させた。
防眩フィルムの反射防止層または、防汚層面はポリエス
テル製の保護フィルム（膜厚３０μｍ）を張り付けてア
ルカリから保護した。

【０２４１】（ｃ）防眩フィルムと同サイズの上記偏光
膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中
に１〜２秒間浸漬させた。

【０２４２】（ｄ）上記の偏光膜に付着した過剰の接着
剤を軽く取り除き、上記の防眩フィルム試料の反射防止
層の反対面にのせて、さらに、セルロースエステルフィ
ルム９と接着剤とが接する様に積層し配置した。

【０２４３】（ｅ）ハンドローラで上記で積層された偏
光膜と防眩フィルム、セルロースエステルフィルムとの
積層物の端部から過剰の接着剤及び気泡を取り除きはり
合わせる。ハンドローラの圧力は約０．２〜０．３ＭＰ
ａ、ローラスピードは約２ｍ／分とした。

【０２４４】（ｆ）８０℃の乾燥器中に（ｅ）で得た試
料を２分間放置し、偏光板１を作製した。

【０２４５】防眩フィルム１を防眩フィルム２〜１６に
変更した以外は同様にして、防眩フィルム２〜１６を用
いた偏光板２〜１６を作製した。ここで、比較の偏光板
は、防眩フィルム８、９（比較）を用いて作製した、偏
光板８、９である。

【０２４６】得られた偏光板１〜１６を下記のように評
価した。ＭｕｌｔｉＳｙｎｃＬＣＤ１５２５Ｊ型名
ＬＡ−１５２９ＨＭの最表面の偏光板を注意深く剥離
し、ここに偏光方向を合わせた本発明の偏光板１〜１６
を張り付けた。それぞれの液晶表示パネルについて、目
視にて観察した結果、本発明の偏光板を用いた液晶表示
パネルは、比較例の偏光板８、９を用いた液晶表示パネ
ルに対し反射光のむらもなく、下記のように細かい文字
まで読みとりやすく、表示性能に優れていることが確認
された。特に比較の偏光板８、９はぎらつきの為に文字
の読み取りが困難であった。

【０２４７】（視認性評価方法）画面上にワープロソフ
ト（ＭＳＷｏｒｄ（マイクロソフト社製））で文字フ
ォントの大きさを変更して表示させて、画面の放線方向
に対して横に５０゜の角度から５０ｃｍ離れて文字の読
みとりを行ない、下記のようにランク評価した。

【０２４８】Ａ：フォントのサイズ８まで鮮明に読みとれたＢ：フォントのサイズ８でなんとか読みとれたＣ：フォントのサイズ１０でなんとか読みとれたＤ：フォントのサイズ１０で読みとれない文字があった得られた結果を表３に示す。

【０２４９】

【表３】

【０２５０】表３から、本発明の試料は、耐擦傷性が良
好であり、且つ、優れた視認性を示すことが明らかであ
る。

【０２５１】

【発明の効果】本発明により、良好な耐擦傷性を有し、
且つ、優れた視認性を示すセルロースエステルフィル
ム、それを用いた防眩フィルム、それらの製造方法及び
偏光板を提供することが出来た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の防眩フィルムの一例を示す断面図であ
る。

【図２】本発明の防眩フィルムの一例を示す断面図であ
る。

【図３】本発明の防眩フィルムの一例を示す断面図であ
る。

【図４】本発明に用いられるプラズマ放電処理装置の一
例を示す概略図である。

【図５】本発明に用いられるプラズマ放電処理装置の一
例を示す概略図である。

【図６】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明に係るプラズマ
放電処理に用いられる円筒型のロール電極の一例を示す
概略図である。

【図７】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明に係るプラズマ
放電処理に用いられる固定型の円筒型電極の一例を示す
概略図である。

【図８】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明に係るプラズマ
放電処理に用いられる固定型の角柱型電極の一例を示す
概略図である。

【図９】本発明に用いられるプラズマ放電処理装置の一
例を示す概念図である。

【図１０】本発明のセルロースエステルフィルムの製造
装置の一例を示す工程図である。

【図１１】本発明のセルロースエステルフィルムの製造
方法で用いられるスリットダイの一例の断面図を示す。

【符号の説明】１ドープ液タンク１ａドープ液２、２’ 微粒子添加液タンク２ａ、２ａ’ 微粒子添加液３タンク３ａ紫外線吸収剤添加液４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４ｆポンプ５ａ、５ｂ、５ｃインラインミキサー６スリットダイ７ドラム８流延ベルト９ローラ１０セルロースエステルフィルム１１流延口１２スリット１３スリット２５、２５ｃ、２５Ｃロール電極２６、２６ｃ、２６Ｃ、３６、３６ｃ、３６Ｃ電極２５ａ、２５Ａ、２６ａ、２６Ａ、３６ａ、３６Ａ金
属等の導電性母材２５ｂ、２６ｂ、３６ｂセラミック被覆処理誘電体２５Ｂ、２６Ｂ、３６Ｂライニング処理誘電体３１プラズマ放電処理容器４１電源５１ガス発生装置５２給気口５３排気口６０電極冷却ユニット６１元巻き基材６５、６６ニップローラ６４、６７ガイドローラ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ２９Ｌ 9:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＦターム(参考） 2H049 BA02 BB33 BB63 BC09 BC22 2K009 AA02 AA12 BB28 CC01 CC03 CC09 DD02 DD17 4F100 AA17C AA37C AJ06A AK01B AR00C BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C BA44 DE01A EH90A EJ86A GB90 JB14B JK15B JN01A JN06C JN10 JN30 YY00A YY00B 4F205 AA01 AB11 AC05 AE10 AF15 GA07 GB26 GC07 GW05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方の面が微粒子含有層を表
層として有し、且つ、ヘイズが３％〜３０％未満である
ことを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【請求項２】請求項１に記載のセルロースエステルフ
ィルムの微粒子含有層上に、直接またはその他の層を介
して活性線硬化樹脂層を有することを特徴とする防眩フ
ィルム。
【請求項３】活性線硬化樹脂層上に反射防止層を有す
ることを特徴とする請求項２に記載の防眩フィルム。
【請求項４】反射防止層が炭素含有量０．２質量％〜
５質量％の金属酸化物層を含むことを特徴とする請求項
３に記載の防眩フィルム。
【請求項５】活性線硬化樹脂層の、ＪＩＳＢ０６
０１で規定される、中心線平均粗さＲａが０．１μｍ〜
０．５μｍであることを特徴とする請求項２〜４のいず
れか１項に記載の防眩フィルム。
【請求項６】請求項２〜５のいずれか１項に記載の防
眩フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【請求項７】請求項１に記載のセルロースエステルフ
ィルムを製造するに当たり、少なくとも２種のドープ
Ａ、Ｂを使用し、ドープＡ、Ｂを支持体上に同時または
逐次流延してウェブを形成する工程、次いで、該ウェブ
を剥離後乾燥させる工程を有し、且つ、該支持体側（Ｂ
面側ともいう）に接しているドープＢと空気側（Ａ面側
ともいう）に位置しているドープＡの少なくとも一方に
微粒子を添加する工程を有することを特徴とするセルロ
ースエステルフィルムの製造方法。
【請求項８】ドープＡまたはＢ中の微粒子の含有量
が、ドープ中に含まれる固形分の０．５質量％を超え７
０質量％以下であることを特徴とする請求項７に記載の
セルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項９】請求項１に記載のセルロースエステルフ
ィルムを製造するに当たり、樹脂と微粒子とを含有する
ドープをセルロースエステル支持体上に流延する工程を
経て製造されたことを特徴とするセルロースエステルフ
ィルムの製造方法。
【請求項１０】請求項７〜９のいずれか１項に記載の
製造方法で製造されたセルロースエステルフィルム上
に、直接または、他の層を介して、ＪＩＳＢ０６０１
で規定される、中心線平均粗さＲａが０．１μｍ〜０．
５μｍである活性線硬化樹脂層を形成することを特徴と
する防眩フィルムの製造方法。
【請求項１１】活性線硬化樹脂層上にプラズマ処理に
より金属酸化物層を形成することを特徴とする請求項１
０に記載の防眩フィルムの製造方法。
【請求項１２】対向する電極間に電源周波数が１００
ｋＨｚを超える周波数で、１Ｗ／ｃｍ²以上の電力で放
電させて形成されたプラズマを用いて大気圧プラズマ処
理を行うことを特徴とする請求項１１に記載の防眩フィ
ルムの製造方法。
【請求項１３】請求項１０〜１２のいずれか１項に記
載の防眩フィルムの製造方法を用いて製造されたことを
特徴とする防眩フィルム。