JP2003017379A - 処理システム及び複数の処理システム間の制御装置 - Google Patents

処理システム及び複数の処理システム間の制御装置

Info

Publication number
JP2003017379A
JP2003017379A JP2001204129A JP2001204129A JP2003017379A JP 2003017379 A JP2003017379 A JP 2003017379A JP 2001204129 A JP2001204129 A JP 2001204129A JP 2001204129 A JP2001204129 A JP 2001204129A JP 2003017379 A JP2003017379 A JP 2003017379A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
error
processing method
block
permutation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001204129A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirobumi Murakami
博文 村上
Takashi Yamaji
隆司 山路
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2001204129A priority Critical patent/JP2003017379A/ja
Publication of JP2003017379A publication Critical patent/JP2003017379A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エラーが生じた時にチェックすべき部位の序
列(対応処理法の序列)を容易に認識することが可能な
処理システムを提供する。 【解決手段】 複数の制御対象ブロックBL1〜BL7
を制御することにより、被処理体Wの処理を行う熱処理
システムにおいて、前記各制御対象ブロックがエラーを
発生しているか否かを判断するエラー判断手段100A
〜100Gと、前記エラーに対する対応処理法を予め記
憶している対応処理法記憶手段102と、前記対応処理
法を表示して操作者に対して認識させる表示手段62
と、前記エラー判断手段で判断されたエラーに対する対
応処理法を前記対応処理法記憶手段から求めて前記表示
手段に表示させる制御手段104とを備える。これによ
り、エラーが生じた時にチェックすべき部位の順列(対
応処理法の順列)を容易に認識することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
被処理体に対して各種の処理を施すための処理システム
及び複数の処理システム間の制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体集積回路を製造するため
には、シリコン基板等よりなる半導体ウエハに対して、
成膜処理、エッチング処理、酸化拡散処理、改質処理等
の各種の処理が行われる。この種の処理を行う処理シス
テムの一例として、例えば一度に多数枚の半導体ウエハ
を熱処理する、いわゆるバッチ式の処理システムを例に
とって説明すると、複数枚、例えば10〜25枚程度の
半導体ウエハを収容するカセットを処理システム内に取
り込み、これをカセットエレベータで一時的にストッカ
に貯留する。そして、処理の順番が到来したならば、こ
のストッカから所定のカセットを取り出して、この中の
半導体ウエハを、ウエハ移載機構を用いてウエハボート
に移載し、このウエハボートを、次はボートエレベータ
により上昇してこれを処理容器内へロードし、半導体ウ
エハを処理容器内に収容する。そして、処理容器内にて
半導体ウエハを所定の温度に昇温維持しつつ、この容器
内に処理ガスを供給すると共に容器内の雰囲気を真空引
きして所定の圧力に維持し、所定の熱処理を行うことに
なる。
【0003】このような処理システムにおいて、処理時
の各種のプロセス条件等は、ホストコンピュータ等に予
め組み込まれてプログラム(レシピ)によって自動的に
行われ、また、処理システム内のカセットの搬出入や半
導体ウエハの移載等も全てコンピュータ制御によって自
動的に行われる。この場合、各機械系の動作や熱処理時
のプロセス条件等は、種々のセンサ等を用いてモニタさ
れており、各機械系へ動作やプロセス条件等にそれぞれ
予め定められた許容量以上の誤差が生じた時に、エラー
が発生したものとして、その旨を表示装置等に表示する
と同時にアラームを発して操作者に認識させ、操作者に
対してリカバリーの動作を行うように注意を促してい
る。この場合、表示装置には、エラーの生じた部位の名
称等と、その識別番号(ID番号とも称す)が表示さ
れ、操作者はこの表示装置の表示内容を見て対応箇所の
チェックを行うことになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、例えば処理
容器の排気系にエラーが発生した場合には、排気系にエ
ラーが発生した旨の表示とそのID番号は表示される
が、操作者は対策として何をすべきかの指示については
明確にはなされておらず、自己の経験に基づいて排気系
に関する機械系や電気系のチェックを行うようになって
いる。また、同様にカセットの搬送系にエラーが生じて
も、上記と同様に操作者は自己の経験に基づいてカセッ
ト搬送系に関する機械系や電気系のチェックを行うよう
になっている。このように、処理システムにエラーが生
じた時に、これに対して操作者は経験と感を頼りにして
各種の対応処理を行なってきたので、処理システムに対
して適切な対応処理を施すまでに多くの時間を要してし
まう、といった問題があった。本発明は、以上のような
問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたも
のである。本発明の目的は、エラーが生じた時にチェッ
クすべき部位の順列(対応処理法の順列)を容易に認識
することが可能な処理システム及び複数の処理システム
間の制御装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に規定する発明
は、複数の制御対象ブロックを制御することにより、被
処理体の処理を行う処理システムにおいて、前記各制御
対象ブロックがエラーを発生しているか否かを判断する
エラー判断手段と、前記エラーに対する対応処理法を予
め記憶している対応処理法記憶手段と、前記対応処理法
を表示して操作者に対して認識させる表示手段と、前記
エラー判断手段で判断されたエラーに対する対応処理法
を前記対応処理法記憶手段から求めて前記表示手段に表
示させる制御手段とを備えたことを特徴とする処理シス
テムである。このように、エラーが発生した時に表示手
段にその時の対応処理法が表示されるので、操作者は行
うべき対応処理法を容易に認識することができ、このた
め処理システムのリカバリーを迅速に行うことが可能と
なる。
【0006】この場合、例えば請求項2に規定するよう
に、前記対応処理法は、1つのエラー項目に対して予め
複数個登録されていると共に、発生頻度の順番に予め順
列が付与されている。また、例えば請求項3に規定する
ように、操作者が前記対応処理法を実行した時にその実
行された対応処理法に関する情報を入力する入力手段
と、前記入力手段により入力される対応処理法の頻度に
応じて前記対応処理法記憶手段に記憶されている前記対
応処理法の順列を変更する順列変更手段とを備える。こ
れにより、その処理システム自体のエラー特性を学習す
ることができ、より適切な対応処理法を早期に実施でき
るので、この処理システムのリカバリーをより迅速に行
うことが可能となる。
【0007】また、例えば請求項4に規定するように前
記処理システムは、前記被処理体を処理容器内へ導入し
て前記処理容器内へ所定の処理ガスを供給しつつ前記処
理容器内を所定の圧力に維持すると共に前記被処理体を
所定の温度に維持して処理を行う処理システムである。
また、例えば請求項5に規定するように、前記複数の制
御対象ブロックは、前記処理容器に対して前記被処理体
を搬送する搬送ブロックと、前記処理容器内に所定のガ
スを供給するガス供給ブロックと、前記処理容器内の雰
囲気を排気する排気ブロックと、前記処理容器内の被処
理体を加熱する加熱ブロックと、を少なくとも有する。
また、例えば請求項6に規定するように、前記搬送ブロ
ックは、複数の被処理体を収容するカセットをストッカ
に対して搬入搬出させるカセット搬送ブロックと、前記
カセット内の被処理体を被処理体ボートに対して移載す
る被処理体移載ブロックと、前記被処理体ボートを前記
処理容器内へロード・アンロードするボート昇降ブロッ
クと、を有する。また、例えば請求項7に規定する発明
は、前記複数の処理システムと、前記複数の処理システ
ムにて入力手段により入力された各対応処理法に関する
情報を集積して集積された前記対応処理法に基づいて順
列を変更することにより平均化順列を求める主制御部
と、前記複数の処理システムと前記主制御部との間を接
続する双方向の通信回線と、を有し、前記処理システム
は前記主制御部で求めた対応処理法の平均化順列を入手
できるように構成したことを特徴とする複数の処理シス
テム間の制御装置である。これによれば、複数の処理シ
ステム間における平均的な対応処理法を順列を必要に応
じて入手してこれを参照することが可能となる。また、
請求項8に規定するように、例えば前記複数の処理シス
テムは互いに同種の処理を行う。また、請求項9に規定
するように、前記複数の処理システムは、互いに離れた
異なる場所に設置されていてもよい。
【0008】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る処理システ
ム及び複数の処理システム間の制御装置の一実施例を添
付図面に基づいて詳述する。図1は本発明の処理システ
ムを示す概略構成図、図2は図1に示す処理ユニットの
構成図、図3は本発明の特徴であるエラー表示系を示す
ブロック図、図4は対応処理法記憶手段の記憶情報の一
例を示す図である。本実施例においては、説明を判り易
くするために、制御対象ブロックとして、半導体ウエハ
の流れに沿った搬送ブロックと、半導体ウエハの処理時
に処理容器内に処理ガスを供給するガス供給ブロック
と、処理容器内の雰囲気を排気する排気ブロックと、処
理容器内のウエハを加熱する加熱ブロックとをそれぞれ
定義する。そして、上記搬送ブロックを細分すると、カ
セットをストッカに対して搬出入させるカセット搬送ブ
ロックと、カセット内のウエハを被処理体ボートに移載
する被処理体移載ブロックと、被処理体ボートを処理容
器内へロード・アンロードするボート昇降ブロックとが
それぞれ定義される。
【0009】まず、図1に示すように、この処理システ
ム2は、全体が例えばステンレス等よりなる筐体4に囲
まれており、この内部はカセットCを搬送するためのカ
セット搬送エリア6と被処理体である半導体ウエハWを
搬送するウエハ搬送エリア8とに分離区画壁10により
2分されている。このカセットC内には、ウエハWが複
数枚、例えば10〜25枚程度収容される。上記カセッ
ト搬送エリア6内には清浄空気が流され、上記ウエハ搬
送エリア8内にはN2 ガス等の不活性ガス雰囲気になさ
れている。このカセット搬送エリア6には、カセットC
をシステム2内に対して搬入搬出させるための搬出入ポ
ート12と、このカセットCを一時的に貯留するための
ストッカ14と、カセット昇降機構16とが設けられ
る。
【0010】上記搬出入ポート12の外側には、外部よ
り搬送してきたカセットCを載置するための外側載置台
18が設けられると共に、この搬出入ポート12の内側
には、上記外側載置台18よりスライド移動されてくる
カセットCをその上に載置するための内側載置台20が
設置されている。また、ここではストッカ14は2列4
段で設けられており、このストッカ14間に上記カセッ
ト昇降機構16を起立させて設けている。このカセット
昇降機構16には、水平方向に延びて旋回及び屈伸可能
になされたカセット搬送アーム22が設けられている。
従って、このカセット搬送アーム22を屈伸及び昇降さ
せることにより、カセットCをカセット搬送アーム22
で保持し、搬出入ポート12とスットカ14との間で搬
送できるようになっている。ここで、上記カセット昇降
機構16は例えばボールネジ24を有し、これを昇降用
モータ26で旋回駆動して上記カセット搬送アーム22
を昇降させる。また、このカセット搬送アーム22は、
アーム屈曲モータ28で屈曲され、アーム旋回モータ3
0で左右方向に旋回される。そして、上記各モータ2
6、28、30はそれぞれモータドライバ26A、28
A、30Aにより駆動され、また、各モータドライバ2
6A、28A、30Aは図示しないホストコンピュータ
からの指令により動作する例えばマイクロコンピュータ
等よりなるモータ用制御部32により制御される。
【0011】ここで、上記カセット昇降機構16を中心
とする機械系及び電気系が前記カセット搬送ブロックB
L1として定義される。上記区画壁10には、開閉ドア
34で開閉される開口36が設けられ、このカセット搬
送エリア6側にカセットCを載置する移載台38が設け
られる。そして、この開口36に臨ませて、ウエハ搬送
エリア8内には、ボールネジよりなるウエハ移載機構4
0が設けられ、このウエハ移載機構40に屈曲及び旋回
可能になされた移載アーム42が昇降可能に取り付けら
れる。そして、このウエハ移載機構40及び移載アーム
42を駆動することにより、カセットCとボートステー
ジ44上の被処理体ボートであるウエハボート46との
間でウエハWの移載を行うようになっている。上述した
カセット昇降機構16と同様に、このウエハ昇降機構4
0側にも、図示しない昇降用モータ、アーム旋回モー
タ、アーム屈曲モータが設けられており、ここで上記ウ
エハ昇降機構40を中心とする機械系及び電気系が前記
被処理体移載ブロックBL2として定義される。
【0012】上記ウエハ搬送エリア8の奥の上方には、
半導体ウエハWに対して実際に熱処理を行う処理ユニッ
ト50が設けられており、この下方には、上記ウエハボ
ート46を上記処理ユニット50の処理容器52内へそ
の下方よりロード・アンロードする例えばボールネジよ
りなるボート昇降機構54が設けられており、このボー
ト昇降機構54にはウエハボート46を昇降させるボー
トアーム56が螺合されている。そして、このボートア
ーム56の先端に処理容器52の下端を密閉するキャッ
プ58が取り付けられている。また、上記ボート昇降機
構54と上記ボートステージ44との間には、ウエハボ
ート46を移載するために旋回及び屈曲可能になされた
ボート移載アーム60が設けられている。ここで、上記
ボート移載アーム60及びボート昇降機構54も図示し
ない駆動モータを有しており、これらを中心とする機械
系及び電気系が前記ボート昇降ブロックBL3として定
義される。また、上記筐体4の表側である搬出入ポート
12に臨む面には、例えば液晶表示装置よりなる表示手
段62や操作者が所望の情報の入力を行うためにテンキ
ー群等よりなる入力手段64が設けられている。
【0013】次に、図2を参照して上記処理ユニット5
0について説明する。この処理ユニット50の処理容器
52は、石英製の内筒52Aと外筒52Bとよりなり、
2重管構造になっている。尚、単管構造の処理容器を用
いてもよいのは勿論である。この処理容器52の外周は
円筒状の断熱材66により覆われると共に、この内側に
は加熱ヒータ68が設けられており、上記処理容器52
内のウエハWを加熱するようになっている。ここで図示
例では、加熱ヒータ68は、上下方向に複数、図示例で
は3つの加熱ゾーンに区分されており、各加熱ゾーン毎
に図示しない電力制御系により個別に温度制御可能にな
されている。そのために、各加熱ゾーン毎にフィードバ
ック用の温度検出を行うための熱電対70が設けられ
る。
【0014】ここで、上記加熱ヒータ68や熱電対70
や図示しない電力制御系を中心として前記加熱ブロック
BL4として定義される。また、上記処理容器52の下
端には、Oリング等のシール部材72を介在させて、例
えばステンレスよりなる円筒体状のマニホールド74が
接続されており、このマニホールド74の下端開口部
は、昇降移動する前記キャップ58によりOリング等の
シール部材76を介して密閉可能になされている。そし
て、このキャップ58に設けた回転台78上に石英製の
保温筒80を介して上記ウエハボート46が載置されて
いる。
【0015】そして、上記マニホールド74に、複数、
図示例では2個のガスノズル82、84が貫通させて設
けられており、各ガスノズル82、84のガス通路に
は、例えばマスフローコントローラのような流量制御器
84A、84Bが介設されており、供給する各処理ガス
等の流量を制御するようになっている。この流量は、図
示しないホストコンピュータ等より指示されており、そ
の値はフィードバック制御される。尚、処理態様に応じ
て更に多くのガスノズルや流量制御器が設けられるのは
勿論である。ここで、上記流量制御器84A、84Bや
ガス通路を含んだ機械系や電気系を前記ガス供給ブロッ
クBL5として定義する。
【0016】一方、上記処理容器52の外筒52Bの下
部には、排気口86が設けられており、この排気口86
には排気管88が接続されている。そして、この排気管
88に圧力センサ90、例えば自動的に弁開度を変化さ
せることができるバタフライ弁よりなる自動圧力調整弁
92及び真空ポンプ94が順次介設して取り付けられて
いる。そして、上記圧力センサ90の検出値は、例えば
マイクロコンピュータ等よりなる弁制御部96へ導入さ
れ、これに基づいて上記自動圧力調整弁92をコントロ
ールすることにより、処理容器52内の圧力をフィード
バック制御によりコントロールし得るようになってい
る。ここで、上記圧力センサ90、自動圧力調整弁9
2、真空ポンプ94を中心とする機械系及び電気系を排
気ブロックBL6として定義する。
【0017】また、各ブロックBL1〜BL6は、図示
しないホストコンピュータ等より通信回線でそれぞれ指
示を受けており、この通信系を通信ブロックBL7(図
示せず)として定義する。尚、上記した各ブロックBL
1〜BL7は、単に一例を示したに過ぎず、実際の処理
システムには更に多くの制御対象ブロックで定義されて
いる。さて、上記各ブロックBL1〜BL7は、そのブ
ロックが正常に動作しているか否かを判断するための、
例えばマイクロコンピュータ等よりなるエラー判断手段
100A〜100Gを有しており、各エラー判断手段1
00A〜100Gは、ホストコンピュータ等からの指示
に従って、各ブロックBL1〜BL7が一定の許容範囲
内で動作しているか否かを常時監視しており、その許容
範囲を越えて逸脱した時にエラー信号を発生するように
なっている。
【0018】対応処理記憶手段102は、図4に示すよ
うに上記各ブロックBL1〜BL7におけるエラーに対
する各対応処理法を予め記憶している。この場合、各ブ
ロック毎に識別番号、すなわちID番号が大分類として
付与されている。そして、各ブロックに対しては、可能
性のある対応処理法がそれぞれ複数個登録されており、
それぞれの対応処理法に小分類のID番号が付与されて
いる。ここで、大分類のID番号は1000番〜700
0番で割り当てられ、小分類は1番から始まる整数で割
り当てられている。例えば排気ブロックの弁制御部チェ
ックは識別番号”6000−3”として定義されてい
る。また、各ブロックBL1〜BL7における各対応処
理法は、過去の経験に基づいてエラーが発生し易い順列
で、すなわちそれぞれ発生頻度が高い順に予め順列が付
与されており、従って、操作者は、エラーが生じた時
に、この発生頻度順に並んだ対応処理法を参照すること
により、どの対応処理法を優先的に実行すればよいか容
易に判断できることになる。
【0019】図4ではID番号が1000番台のカセッ
ト搬送ブロックBL1とID番号が6000番台の排気
ブロックBL6のそれぞれの対応処理法の一例のみしか
記載していないが、実際には他の各ブロックBL2〜B
L5、BL7においても複数の対応処理法がその発生頻
度の順列に従って予め記憶されている。尚、実際には、
上記大分類の各ブロック毎に数100の種類の対応処理
法が存在し、全体の対応処理法は数1000種類にも達
しているが、ここではその一例のみを示す。そして、例
えばマイクロコンピュータ等よりなる制御手段104
は、上記各エラー判断手段100A〜100Gよりエラ
ー信号が送られてきた時に、そのエラー信号に対応する
対応処理法を上記対応処理法記憶手段102から読み出
し、これを表示手段62へ表示させるようになってい
る。この場合、発生頻度が最も高い対応処理法のみを表
示させてもよいし、或いは発生頻度が高い順に複数の対
応処理法を表示させてもよいし、更には、表示手段62
の表示エリアが許容される限り、全ての対応処方を表示
させるようにしてもよい。
【0020】また、順列変更手段106は、操作者が対
応処理法のチェックを実施した結果、エラーの発生原因
が特定されるが、そのエラーの発生原因となった対応処
理法のID番号をテンキーの入力手段64より入力する
ことにより、そのID番号の入力回線を記憶しており、
必要な場合には、上記対応処理法記憶手段102に記憶
されている発生頻度の順列を更新するものである。例え
ば、圧力センサのエラーが多発する場合には、図4にお
いてID番号6000−2で特定される”圧力センサチ
ェック”の発生頻度が1つ繰り上がって、”1”とな
り、逆にID番号6000−1で特定される”自動圧力
調整弁チェック”の発生頻度が1つ繰り下がって”2”
となるように、上記順列変更手段106は記憶内容を更
新するように動作する。
【0021】次に、以上のように構成された処理システ
ム2の動作について説明する。まず、ウエハ搬送エリア
8内は、ウエハ表面への自然酸化膜の付着を防止するた
めに不活性ガス、例えばN2 ガス雰囲気になされ、ま
た、カセット搬送エリア6内は、清浄空気の雰囲気に維
持されている。最初に、半導体ウエハWの全体的な流れ
について説明すると、外部より搬送されてきたカセット
Cは、その開閉蓋CFをカセット搬送エリア6側に向け
て搬出入ポート12の外側載置台18上に載置され、こ
のカセットCは内側載置台20上へスライド移動され
る。
【0022】次に、カセット搬送アーム22を駆動する
ことにより、内側載置台20上に設置されているカセッ
トCを取りに行ってこれを保持し、更にカセット昇降機
構16を駆動することによって、このカセットCをスト
ッカ14の所定の位置まで搬送して設置し、これを一時
的に保管する。これと同時に、すでにストッカ14に一
時貯留されており、処理対象となったウエハを収容する
カセットCをこのカセット搬送アーム22により取りに
行き、上述のようにカセット昇降機構16を駆動してこ
れを降下させて、カセットCを移載台38上に移載す
る。この状態で開閉ドア34をスライド移動させること
により、開口36が開かれる。ここで、図示しない蓋開
閉機構を駆動することにより、カセットCの開閉蓋CF
を取り外し、更に、移載アーム42及びウエハ移載機構
40を駆動することにより、カセットC内に収容されて
いたウエハWを例えば一枚ずつ取り出し、これをボート
ステージ44上に設置されているウエハボート46に移
載する。ウエハボート46へのウエハWの移載が完了し
たならば、次に、ボート移載アーム60を駆動して、ボ
ートステージ44上のウエハボート46を最下端へ降下
されているキャップ58上に載置する。そして、このウ
エハボート46の移載が完了したならば、ボート昇降機
構54を駆動させて、ウエハボート46の載置されたキ
ャップ58を上昇させ、このボート46を処理ユニット
50の処理容器52の下端開口部より処理容器52内へ
導入してロードする。そして、このキャップ58によっ
て処理容器52のマニホールド74(図2参照)の下端
開口部を密閉し、この状態で処理ユニット50内でウエ
ハWに対して所定の熱処理、例えば成膜処理や酸化拡散
処理等を行なう。
【0023】このようにして、所定の熱処理が終了した
ならば、前述したと逆の操作を行なって、処理済みのウ
エハWを取り出す。すなわち、ウエハボート46を処理
容器50内から降下させてアンロードし、更に、これを
ボートステージ44上に移載する。そして、移載アーム
42を用いて処理済みのウエハWをボート46から載置
台38上のカセットC内に移載する。このカセットC内
への処理済みウエハWの移載が完了したならば、開閉蓋
CFを閉じた後、カセット搬送アーム22を駆動し、こ
のカセットCを一時的にストッカ14へ貯留し、或いは
貯留することなく搬出入ポート12を介して処理システ
ム2外へ搬送することになる。尚、上記した収容ボック
ス2の流れは単に一例を示したに過ぎず、これに限定さ
れないのは勿論である。
【0024】また、上記半導体ウエハWの熱処理時に
は、図2に示すように、加熱ヒータ68により処理容器
52内のウエハWを所定の温度まで加熱昇温して維持
し、そして、所定の流量の処理ガスを流量制御しつつ、
ガスノズル82、84から供給すると同時に、真空ポン
プ94により処理容器52内を真空引きする。この時、
圧力センサ90によって排気口86の圧力、すなわち処
理容器52内の圧力が検出され、この検出値に基づいて
自動圧力調整弁92をフィードバック制御することによ
り、処理容器52内は略所定の圧力に維持されて、所定
の熱処理が行われることになる。さて、このような一連
の処理を行っている間、上記各ブロックBL1〜BL7
のエラー判断手段100A〜100Gでは、エラーが発
生したか否かが常時判断されており、エラーが発生した
場合には、その旨を操作者に認識させるようになってい
る。この時の動作フローを図5も参照して説明する。
【0025】まず、上述したように、各ブロックBL1
〜BL7のエラー判断手段100A〜100Gは自己の
ブロックにおいてエラーが発生したか否かを判断する
(S1)。ここでエラーが発生した旨を、当該エラー判
断手段は制御手段104へ知らせ、この制御手段104
はエラー信号を受けるとエラーが発生したブロックに対
してどのような対応処理法が存在するか、対応処理法記
憶手段104に対して参照する。この時、エラーが発生
したブロックを特定し(S2)、それに対応する対応処
理法を発生頻度順に選択する(S3)。
【0026】この場合、ID番号6000番の排気ブロ
ックにエラーが発生したならば、この大分類の対応処理
法を発生頻度順に選択することになる。そして、制御手
段104は、ここで選択した対応処理法をそのID番号
と共に表示手段62に表示する(S4)。この時の表示
手段62における表示の態様は図6に示されており、こ
こでは発生頻度順に、”自動圧力調整弁チェック”、”
圧力センサチェック”及び”弁制御部チェック”がその
ID番号と共に表示されている。この場合、表示する対
応処理法の数は、前述のように最高発生頻度のものを1
つだけ表示してもよいし、或いは全て表示してもよい。
また、図示例では表示画面をスクロールすることによっ
て更に下位の発生頻度の対応処理法を表示できるのは勿
論である。
【0027】さて、操作者は、エラーの発生を認識して
このような表示画面を視認したならば、上記順列に従っ
てチェックを実行することになる(S5)。まず、最も
エラーの発生頻度の高い発生頻度”1”の自動圧力調整
弁92にエラーが存在するか否か、これをチェックす
る。この自動圧力調整弁92にエラーがないことが判明
したならば、次に、エラーの発生頻度”2”の圧力セン
サ90にエラーが存在するか否か、これをチェックす
る。この圧力センサ90にエラーが存在しないことが判
明したならば、次に、エラーの発生頻度”3”の弁制御
部96に電気的なエラーが存在するか否か、これをチェ
ックする。以下同様に、エラー箇所が発見されるまで、
発生頻度の高い順列に従って各部位についてエラーが発
生しているか否かをチェックして行くことになる。
【0028】ちなみに、排気ブロックBL6の場合に
は、更に、キャップ58のリークチェック、排気口86
と排気管88との接続リークチェック、自動圧力調整弁
92の取付部のリークチェック、真空ポンプ94の取付
部のリークチェック及び真空ポンプ94自体のチェック
という順序でエラーが解消されるまで行うことになる。
この場合、プロセスが続行できる場合には、可能な限り
プロセスを実行中のままチェックを行い、真空ポンプ自
体のチェックのような大がかりなチェックの場合には、
1サイクルのプロセスが終了した後に行えばよい。ま
た、ちなみにID番号1000番で表されるカセット搬
送ブロックBL1にエラーが発生した場合には、メカ部
の目視チェック、昇降用モータ26のチェック、アーム
屈曲モータ28のチェック、アーム旋回モータ30のチ
ェック、各モータドライバ26A、28A、30Aのチ
ェック及びモータ用制御部32のチェックの順序で、エ
ラーが発見されるまでチェックすることになる。
【0029】図5に戻って、上述のようにして操作者が
エラーチェックを実行してそのエラーのリカバリーを実
施した後(S5)、エラー発生の原因となっていた部位
に対応する対応処理法のID番号を入力する(S6)。
例えば、圧力センサ90をチェックした時にこれにエラ
ーが存在したことが判明したならば、この圧力センサ9
0を修理してリカバリーした後、”圧力センサチェッ
ク”を表すID番号”6000−2”をテンキーの入力
手段64から入力する。そして、順列変更手段106
は、今まで入力された対応処理法の各ID番号の回数を
記憶しており、この回数に基づいて他の対応処理法の回
数よりも多くなった時には、対応処理法記憶手段102
の発生頻度の順列を更新することになる(S7)。これ
により、その処理システムの特有のエラー発生傾向をリ
アルタイムで更新することが可能となる。
【0030】このように、本実施例によれば、処理シス
テムにエラーが発生した時に、最も有効性の高い順列に
従って対応処理法を列挙して表示するようにしたので、
操作者はチェックすべき部位の順列を迅速に且つ容易に
認識することができ、従って、この処理システムのリカ
バリーを迅速に行うことが可能となる。また、ここでは
単独の処理システムについて説明したが、同様に複数の
処理システムから上記した情報を通信回線を用いて集中
的に集めるようにすれば、この種の処理システムのエラ
ーの発生し易い部位を特定でき、次の新装置の開発に役
立てることもできるし、また、同種の処理システム間に
おいて発生したエラーとその対応処理法の平均化された
順列を参照することもできる。
【0031】図7はこのようなことが可能となる複数の
処理システム間の制御装置を示す概略構成図である。図
7において、複数、ここでは例えば6台の処理システム
2−1〜2−6が示されている。各処理システム2−1
〜2−6は、例えば汎用のコンピュータよりなる主制御
部110により制御するために、双方向の通信回線11
2により互いに接続されている。ここで当然のこととし
て各処理システム2−1〜2−6は、それぞれ送受信部
114−1〜114−6を有し、また、制御部110も
送受信部116を有している。上記各処理システム2−
1〜2−6の内、2台の処理システム2−1、2−2は
例えば熊本県に設置され、他の2台の処理システム2−
3、2−4は例えば山梨県に設置され、残りの2台の処
理システム2−5、2−6は例えば宮城県に設置され
る、という具合に互いに遠く離れて設置されている。
【0032】そして、各処理システム2−1〜2−6に
おける表示手段はそれぞれ62−1〜62−6として表
され、また、入力手段はそれぞれ64−1〜64−6と
して表される。また、各処理システム2−1〜2−6に
は、当該処理システム独自のエラーに基づく対応処理法
の順列と、主制御部110で得られた各処理システム2
−1〜2−6間における平均的な順列(平均化順列)と
を選択表示するための切替スイッチ118−1〜118
−6がそれぞれ設けられている。
【0033】さて、このような複数の処理システム間の
制御装置においては、各処理システム2−1〜2−6に
おいてエラーが生じて適切な対応処理法が操作者によっ
て行われた場合には、各操作者は実行した適切な対応処
理法に関する情報を、前述したように入力手段64−1
〜64−6によりそれぞれ入力することになる。このよ
うな入力情報は、前述したように各処理システム64−
1〜64−6内においてそれぞれ独自に処理されて、そ
のシステム固有の対応処理法の順列が求められると同時
に、その入力情報は、通信回線112を介して主制御部
110に集積される。そして、この主制御部110は、
この集積された入力情報に基づいて各処理システム2−
1〜2−6を一体と見なして、図4に示すような対応処
理法の順列、すなわち平均化順列を求める。これによ
り、当該処理システム固有の対応処理法だけではなく、
同種の複数の処理システムの平均化された順列を作成す
ることができ、且つ当該処理システムではそれまで発生
していない対応処理法の順列を、別の複数の処理システ
ムから得ることが可能となる。
【0034】そして、ここで作成した対応処理法の平均
化順列は、必要に応じて、例えば平均化順列が更新され
た時点で、主制御部110から各処理システム2−1〜
2−6へ一方的に配信してもよいし、或いは処理システ
ム2−1〜2−6からの要求に応じて配信するようにし
てもよい。これによれば、各処理システム2−1〜2−
6の操作者は、当該処理システム独自の対応処理法の順
列を参照することもできるし、或いは主制御部110で
作成した複数の処理システム2−1〜2−6を一体と見
なした対応処理法の平均化順列も参照することができ、
より的確な対応処理を迅速に行うことができる。ここで
同種の処理とは、熱CVD処理群、酸化拡散処理群、プ
ラズマ成膜処理群、改質処理群、エッチング処理群等の
ように、システム構成上、類似する構造となる一群を同
種の処理とする。
【0035】上記実施例では、一例として6台の処理シ
ステムの場合を例にとって説明したが、実際には更に多
い、或いは少ない台数の処理システムが接続されるよう
にしてもよい。また、ここでは通信回線を用いて遠距離
間の処理システムを結合した場合をっ説明したが、これ
に限定されず、狭い領域、例えば同一エリア内における
処理システム同士をLANやModem等の通信回線で
結合するようにしてもよい。また、ここで示した処理シ
ステムは単に一例を示したに過ぎず、どのような形態の
処理システムにも本発明を適用でき、また、処理容器に
関してもバッチ式の処理容器に限定されず、枚葉式の処
理容器にも本発明を適用できるのは勿論である。
【0036】更に、上記実施例では、図4に示す対応処
理法の分類は、便宜上、大分類を1つの単位としてこれ
に属する対応処理法をグループ化して表しているが、実
際には、更に細分類化したブロックを1つの単位として
対応処理法をグループ化するようにしてもよい。例えば
ID番号4000番の加熱ブロックBL4を例にとれ
ば、この加熱ブロックでは3つの加熱ゾーンに分割され
ているが、各加熱ゾーン毎に1つのグループ化された複
数の対応処理法を表すようにしてもよい。また、ここで
は主として熱処理システムを例にとって説明したが、こ
れに限定されず、プラズマ処理システム、酸化拡散処理
システム、改質処理システム、エッチング処理システ
ム、コータディベロッパ処理システム等の半導体製造装
置の全ての処理システムに、本発明を適用することがで
きる。また、ここでは被処理体として半導体ウエハを例
にとって説明したが、これに限定されず、ガラス基板、
LCD基板等にも本発明を適用することができる。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理シス
テム及び複数の処理システム間の制御装置によれば、次
のように優れた作用効果を発揮することができる。請求
項1、2、4、5、6に係る発明によれば、エラーが発
生した時に表示手段にその時の対応処理法が表示される
ので、操作者は行うべき対応処理法を容易に認識するこ
とができ、このため処理システムのリカバリーを迅速に
行うことができる。請求項3に係る発明によれば、処理
システム自体のエラー特性を学習することができ、より
適切な対応処理法を早期に実施できるので、この処理シ
ステムのリカバリーをより迅速に行うことができる。請
求項7〜9に係る発明によれば、複数の処理システム間
における平均的な対応処理法を順列を必要に応じて入手
してこれを参照することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の処理システムを示す概略構成図であ
る。
【図2】図1に示す処理ユニットの構成図である。
【図3】本発明の特徴であるエラー表示系を示すブロッ
ク図である。
【図4】対応処理法記憶手段の記憶情報の一例を示す図
である。
【図5】本発明の処理システムによって行われるエラー
チェックのフローを示す図である。
【図6】表示手段における表示の一態様を示す図であ
る。
【図7】複数の処理システム間の制御装置を示す概略構
成図である。
【符号の説明】
2、2−1〜2−6 処理システム 6 カセット搬送エリア 8 ウエハ搬送エリア 16 カセット昇降機構 22 カセット搬送アーム 40 ウエハ移載機構 46 ウエハボート(被処理体ボート) 50 処理ユニット 52 処理容器 54 ボート昇降機構 62 表示手段 64 入力手段 90 圧力センサ 92 自動圧力調整弁 94 真空ポンプ 96 弁制御部 100A〜100G エラー判断手段 102 対応処理法記憶手段 104 制御手段 106 順列変更手段 110 主制御部 112 通信回線 BL1〜BL7 制御対象ブロック W 半導体ウエハ(被処理体)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA02 FA01 FA11 FA12 GA47 GA49 HA67 MA28 NA05 PA04 5F045 AC15 BB20 DP19 EC02 EN02 EN04 EN05 GB06 GB15 5H223 AA05 BB02 CC01 CC08 CC09 DD03 DD05 DD09 EE06

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の制御対象ブロックを制御すること
    により、被処理体の処理を行う処理システムにおいて、 前記各制御対象ブロックがエラーを発生しているか否か
    を判断するエラー判断手段と、 前記エラーに対する対応処理法を予め記憶している対応
    処理法記憶手段と、 前記対応処理法を表示して操作者に対して認識させる表
    示手段と、 前記エラー判断手段で判断されたエラーに対する対応処
    理法を前記対応処理法記憶手段から求めて前記表示手段
    に表示させる制御手段とを備えたことを特徴とする処理
    システム。
  2. 【請求項2】 前記対応処理法は、1つのエラー項目に
    対して予め複数個登録されていると共に、発生頻度の順
    番に予め順列が付与されていることを特徴とする請求項
    1記載の処理システム。
  3. 【請求項3】 操作者が前記対応処理法を実行した時に
    その実行された対応処理法に関する情報を入力する入力
    手段と、 前記入力手段により入力される対応処理法の頻度に応じ
    て前記対応処理法記憶手段に記憶されている前記対応処
    理法の順列を変更する順列変更手段とを備えたことを特
    徴とする請求項2記載の処理システム。
  4. 【請求項4】 前処理システムは、前記被処理体を処理
    容器内へ導入して前記処理容器内へ所定の処理ガスを供
    給しつつ前記処理容器内を所定の圧力に維持すると共に
    前記被処理体を所定の温度に維持して処理を行う処理シ
    ステムであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれ
    かに記載の処理システム。
  5. 【請求項5】 前記複数の制御対象ブロックは、 前記処理容器に対して前記被処理体を搬送する搬送ブロ
    ックと、 前記処理容器内に所定のガスを供給するガス供給ブロッ
    クと、 前記処理容器内の雰囲気を排気する排気ブロックと、 前記処理容器内の被処理体を加熱する加熱ブロックと、
    を少なくとも有することを特徴とする請求項4記載の処
    理システム。
  6. 【請求項6】 前記搬送ブロックは、 複数の被処理体を収容するカセットをストッカに対して
    搬入搬出させるカセット搬送ブロックと、 前記カセット内の被処理体を被処理体ボートに対して移
    載する被処理体移載ブロックと、 前記被処理体ボートを前記処理容器内へロード・アンロ
    ードするボート昇降ブロックと、を有することを特徴と
    する請求項5記載の処理システム。
  7. 【請求項7】 請求項3乃至6のいずれかに規定される
    複数の処理システムと、 前記複数の処理システムにて入力手段により入力された
    各対応処理法に関する情報を集積して集積された前記対
    応処理法に基づいて順列を変更することにより平均化順
    列を求める主制御部と、 前記複数の処理システムと前記主制御部との間を接続す
    る双方向の通信回線と、を有し、 前記処理システムは前記主制御部で求めた対応処理法の
    平均化順列を入手できるように構成したことを特徴とす
    る複数の処理システム間の制御装置。
  8. 【請求項8】 前記複数の処理システムは互いに同種の
    処理を行うことを特徴とする請求項7記載の複数の処理
    システム間の制御装置。
  9. 【請求項9】 前記複数の処理システムは、互いに離れ
    た異なる場所に設置されていることを特徴とする請求項
    7または8記載の複数の処理システム間の制御装置。
JP2001204129A 2001-07-04 2001-07-04 処理システム及び複数の処理システム間の制御装置 Pending JP2003017379A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001204129A JP2003017379A (ja) 2001-07-04 2001-07-04 処理システム及び複数の処理システム間の制御装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001204129A JP2003017379A (ja) 2001-07-04 2001-07-04 処理システム及び複数の処理システム間の制御装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003017379A true JP2003017379A (ja) 2003-01-17

Family

ID=19040641

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001204129A Pending JP2003017379A (ja) 2001-07-04 2001-07-04 処理システム及び複数の処理システム間の制御装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003017379A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005327990A (ja) * 2004-05-17 2005-11-24 Daiichi Seiko Kk 樹脂封止装置
JP2006247909A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Tahara:Kk 成形装置およびその異常表示方法
JP2006247910A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Tahara:Kk 成形装置およびその異常表示方法
JP2013131118A (ja) * 2011-12-22 2013-07-04 Ihi Corp メンテナンスシステム、メンテナンス装置及びメンテナンス方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63272450A (ja) * 1987-04-28 1988-11-09 Hitachi Ltd 製造設備の診断装置
JPH09260233A (ja) * 1996-03-19 1997-10-03 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置の制御装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63272450A (ja) * 1987-04-28 1988-11-09 Hitachi Ltd 製造設備の診断装置
JPH09260233A (ja) * 1996-03-19 1997-10-03 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置の制御装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005327990A (ja) * 2004-05-17 2005-11-24 Daiichi Seiko Kk 樹脂封止装置
JP4601325B2 (ja) * 2004-05-17 2010-12-22 第一精工株式会社 樹脂封止装置
JP2006247909A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Tahara:Kk 成形装置およびその異常表示方法
JP2006247910A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Tahara:Kk 成形装置およびその異常表示方法
JP2013131118A (ja) * 2011-12-22 2013-07-04 Ihi Corp メンテナンスシステム、メンテナンス装置及びメンテナンス方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9960065B2 (en) Substrate processing apparatus for managing transfer state of substrate gas storage container based on supply flow rate
KR101235774B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치에 있어서의 이상 표시 방법
KR100845990B1 (ko) 기판 처리 장치, 이력 정보 기록 방법, 이력 정보 기록프로그램, 및 이력 정보 기록 시스템
US20080210162A1 (en) Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing System
CN108885969B (zh) 基板处理装置、控制器以及记录介质
KR101131655B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체
JP4684310B2 (ja) 基板処理装置
JPH07312388A (ja) 処理されたウエハを製造するためのウエハ移動アーキテクチュア
US11367642B2 (en) Substrate processing apparatus and purging method
JP4607576B2 (ja) 半導体製造装置
JP2006228911A (ja) 半導体製造装置、コンピュータプログラム及び記憶媒体
TWI398790B (zh) 資訊管理方法、資訊管理裝置及基板處理系統
JP5545795B2 (ja) 基板処理装置及び半導体製造装置管理方法
JP2010219460A (ja) 基板処理装置
CN112740358B (zh) 基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质
US8639367B2 (en) Substrate processing system
JP2003017379A (ja) 処理システム及び複数の処理システム間の制御装置
JP2013211584A (ja) 基板処理装置及びその表示方法並びに半導体装置の製造方法
JP2011044458A (ja) 基板処理システム
JPH1092900A (ja) 真空処理装置
JP2002110496A (ja) 半導体製造装置
JP2006269810A (ja) 基板処理装置
JP2017002353A (ja) 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
US20100132611A1 (en) Substrate Processing System
JP2000012412A (ja) 半導体製造装置の性能監視方法および装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080416

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110812

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110906

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111024

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111115