JP2003012719A - アルケニル基および硫黄原子含有ビニル系重合体 - Google Patents

アルケニル基および硫黄原子含有ビニル系重合体

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JP2003012719A
JP2003012719A JP2001195351A JP2001195351A JP2003012719A JP 2003012719 A JP2003012719 A JP 2003012719A JP 2001195351 A JP2001195351 A JP 2001195351A JP 2001195351 A JP2001195351 A JP 2001195351A JP 2003012719 A JP2003012719 A JP 2003012719A
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atom
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vinyl polymer
vinyl
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JP2001195351A
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English (en)
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Ryotaro Tsuji
良太郎 辻
Tomoki Hiiro
知樹 日色
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐候性、耐光性、耐熱性、耐加水分解性に優
れ、簡便に、かつ経済的に製造可能な、アルケニル基含
有重合体を得る。 【解決手段】 一分子中に一つ以上のアルケニル基、お
よび硫黄原子を有し、ゲル浸透クロマトグラフィー分析
により求めた数平均分子量が3000〜5000000
の範囲にあり、かつ、ゲル浸透クロマトグラフィー分析
により求めた分子量分布が2以下であることを特徴とす
る、ビニル系重合体。製造にあたっては、チオカルボニ
ルチオ構造を有する化合物の存在下に、ビニル系単量体
を重合し、得られたビニル系重合体中のチオカルボニル
チオ基をメルカプト基、またはメルカプチド基に変換
し、該メルカプト基、または該メルカプチド基を利用し
てアルケニル基を導入する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルケニル基およ
び硫黄原子含有ビニル系重合体に関する。より詳しく
は、一分子中に一つ以上のアルケニル基、および硫黄原
子を有し、ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求め
た数平均分子量が3000〜5000000の範囲にあ
り、かつ、ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求め
た分子量分布が2以下であることを特徴とする、ビニル
系重合体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、アルケニル基を有する重合体は、
接着剤、粘着剤、シーリング剤などの硬化性組成物の原
料、各種成形体の原料として、広く用いられている。こ
のようなアルケニル基を有する重合体としては、ポリシ
ロキサン、ポリエーテル、ポリエステルなどを主鎖とす
るものがよく知られている。しかしこれらの酸素原子を
主鎖中に有する重合体は、耐候性、耐光性、耐熱性、耐
加水分解性などに問題があった。
【0003】耐候性、耐光性の改善された、アルケニル
基を有する重合体としては、主鎖が飽和炭化水素のみか
らなる重合体、例えば末端にアルケニル基を有するポリ
イソブチレン重合体が知られている。しかし、このよう
な飽和炭化水素系重合体は、一般的に粘度が高く取り扱
いにくいという問題があった。また重合温度を低くする
必要があるため、製造コストが高くなるという問題があ
った。
【0004】耐候性、耐候性、耐熱性、耐加水分解性に
優れ、取り扱いが容易な、アルケニル基を有する重合体
として、アクリル酸エステルやメタクリル酸エステルな
どのビニル系単量体を重合してなるビニル系重合体が提
案され、これまで多くの研究者によって検討がなされて
いる。
【0005】例えば、特開平5−255415号公報に
は、連鎖移動剤としてアルケニル基含有ジスルフィドを
用いる、両末端にアルケニル基を有するビニル系重合体
の合成法が、また特開平5−262808号公報には、
ヒドロキシル基を有するジスルフィドを用いて、両末端
にヒドロキシル基を有するビニル系重合体を合成し、さ
らにヒドロキシル基の反応性を利用して両末端にアルケ
ニル基を有するビニル系重合体の合成法が開示されてい
る。
【0006】しかしこれらの方法においては、アルケニ
ル基を確実に導入することが困難であった。また、アル
ケニル基を確実に導入するためにジスルフィド化合物を
大量に使用すると、製造コストが高くなるだけでなく、
重合の制御が不完全となり、ゲル浸透クロマトグラフィ
ー分析により求めた数平均分子量が3000以上であ
り、かつ、分子量分布が2以下の重合体を得ることが困
難であった。
【0007】一方、有機金属化合物を用いて重合体の末
端にアルケニル基を導入する方法(特開平9−2727
14号公報)、有機ハロゲン化物などを開始剤とし、遷
移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合を行い、
末端のハロゲン原子を利用する反応によりアルケニル基
を導入する方法(特開2000−128924号公報)
などの方法が提案されている。
【0008】しかしこれらの方法においては、金属化合
物を大量に使用するため、得られる重合体が着色した
り、精製工程が必要となり製造工程が煩雑となるなどの
問題があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、耐候性、耐光性、耐熱性、耐加水分解性に
優れる、簡便に、かつ経済的に製造化能なアルケニル基
含有重合体を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために検討を重ね、以下に示すアルケニル基含
有重合体を発明した。 1.一分子中に一つ以上のアルケニル基、および硫黄原
子を有し、ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求め
た数平均分子量が3000〜5000000の範囲にあ
り、かつ、ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求め
た分子量分布(Mw/Mn)が2以下であることを特徴
とする、ビニル系重合体(請求項1)。 2.分子鎖の末端にアルケニル基を有する、請求項1に
記載の、ビニル系重合体(請求項2)。 3.ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求めた数平
均分子量が5000〜1000000の範囲にある、請
求項1または2に記載の、ビニル系重合体(請求項
3)。 4.ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求めた分子
量分布が1.5以下である、請求項1〜3のいずれか1
項に記載の、ビニル系重合体(請求項4)。 5.アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、スチレン、α−メ
チルスチレン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレ
ン、エチレン、プロピレン、およびテトラフルオロエチ
レンからなる群から選ばれる、一種以上の単量体を重合
してなる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の、ビニ
ル系重合体(請求項5)。 6.アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、およびアクリロニトリルからな
る群から選ばれる、一種以上の単量体を重合してなる、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の、ビニル系重合体
(請求項6)。 7.アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシル基含有ア
クリル酸エステル、ヒドロキシル基含有メタクリル酸エ
ステル、エポキシ基含有アクリル酸エステル、およびエ
ポキシ基含有メタクリル酸エステルからなる群から選ば
れる一種以上の単量体を、0.1〜50重量%重合して
なる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の、ビニル系
重合体(請求項7)。 8.ガラス転移温度が30℃以上の重合体ブロック
(A)と、ガラス転移温度が30℃未満の重合体ブロッ
ク(B)とを含有する、請求項1〜7のいずれか1項に
記載の、ビニル系重合体(請求項8)。 9.一般式(1)
【0011】
【化4】 (式中、R1は炭素数1以上のp価の有機基であり、窒
素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
子、リン原子、金属原子を含んでいてもよく、高分子量
体であってもよい。Z1は水素原子、ハロゲン原子、ま
たは炭素数1以上の1価の有機基であり、窒素原子、酸
素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原
子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよい。p
は1以上の整数である。pが2以上の場合、Z1は同じ
でもよく異なっていてもよい。)、および一般式(2)
【0012】
【化5】 (式中、R2は炭素数1以上の1価の有機基であり、窒
素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
子、リン原子、金属原子を含んでいてもよく、高分子量
体であってもよい。Z2は硫黄原子(q=2の場合)、
酸素原子(q=2の場合)、窒素原子(q=3の場
合)、または炭素数1以上のq価の有機基であり、窒素
原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
子、リン原子を含んでいてもよく、高分子量体であって
もよい。qは2以上の整数である。R2は同じでもよく
異なっていてもよい。)からなる群から選ばれる1種以
上のチオカルボニルチオ基を有する化合物の存在下に、
ビニル系単量体をラジカル重合して、チオカルボニルチ
オ基を有するビニル系重合体を製造する工程;該ビニル
系重合体にアルケニル基を導入する工程により製造され
る、請求項1〜8のいずれか1項に記載の、ビニル系重
合体(請求項9)。 10.チオカルボニルチオ基を有する化合物が、一般式
(3)
【0013】
【化6】 (式中、R3は2価の有機基であり、窒素原子、酸素原
子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子、
金属原子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよ
い。Z1は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1以
上の1価の有機基であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原
子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子を含んでいて
もよく、高分子量体であってもよい。Z1は同じでもよ
く異なっていてもよい。)で示される化合物である、請
求項9に記載の、ビニル系重合体(請求項10)。 11.前記チオカルボニルチオ基を有するビニル系重合
体にアルケニル基を導入する工程が、該ビニル系重合体
中のチオカルボニルチオ基を、処理剤によりメルカプト
基、またはメルカプチド基に変換する工程;該メルカプ
ト基、または該メルカプチド基と、一分子中にアルケニ
ル基と、メルカプト基またはメルカプチド基と反応して
結合形成可能な官能基とをあわせもつ化合物とを反応さ
せる工程からなる、請求項9または10に記載の、ビニ
ル系重合体(請求項11)。 12.前記処理剤が、塩基性化合物、酸性化合物、アン
モニア、ヒドラジン、1級アミン化合物、および2級ア
ミン化合物からなる群から選ばれる1種以上の化合物で
ある、請求項11に記載の、ビニル系重合体(請求項1
2)。 13.前記処理剤が、アンモニア、ヒドラジン、沸点1
00℃以下の1級アミン化合物、沸点100℃以下の2
級アミン化合物、およびヒンダードアミン系光安定剤
(HALS)からなる群から選ばれる1種以上の化合物
である、請求項11または12に記載の、ビニル系重合
体(請求項13)。 14.一分子中にアルケニル基と、メルカプト基または
メルカプチド基と反応して結合形成可能な官能基とをあ
わせもつ化合物において、メルカプト基またはメルカプ
チド基と反応して結合形成可能な官能基が、ヒドロキシ
ル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基(エス
テル結合)、メルカプト基、チオンエステル結合、チオ
ールエステル結合、ジチオエステル結合、イソシアナト
基、イソチオシアナト基、カルボニル基、アルデヒド
基、アリールオキシ基、4級アンモニウムイオン、スル
ホン結合、ハロゲン原子、炭素−炭素二重結合、および
炭素−炭素三重結合からなる群から選ばれる構造であ
る、請求項11〜13のいずれか1項に記載の、ビニル
系重合体(請求項14)。 15.一分子中にアルケニル基と、メルカプト基または
メルカプチド基と反応して結合形成可能な官能基とをあ
わせもつ化合物が、一分子中にアルケニル基とイソシア
ナト基とを有する化合物である、請求項11〜14のい
ずれか1項に記載の、ビニル系重合体(請求項15)。 16.前記チオカルボニルチオ基を有するビニル系重合
体にアルケニル基を導入する工程が、該ビニル系重合体
中のチオカルボニルチオ基を、処理剤によりメルカプト
基に変換する工程;該メルカプト基と、アセチレン化合
物とを、塩基性化合物の存在下反応させる工程からな
る、請求項9または10に記載の、ビニル系重合体(請
求項16)。 17.前記処理剤が、塩基性化合物、酸性化合物、アン
モニア、ヒドラジン、1級アミン化合物、および2級ア
ミン化合物からなる群から選ばれる1種以上の化合物で
ある、請求項16に記載の、ビニル系重合体(請求項1
7)。 18.前記処理剤が塩基性化合物である、請求項16ま
たは17に記載の、ビニル系重合体(請求項18)。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明のビニル系重合体は、一分
子中に一つ以上のアルケニル基、および硫黄原子を有
し、ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求めた数平
均分子量が3000〜5000000の範囲にあり、か
つ、ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求めた分子
量分布が2以下であることを特徴とする。本発明におい
て、ゲル浸透クロマトグラフィー分析は、溶出液として
クロロホルム、またはテトラヒドロフランを使用し、カ
ラムにはポリスチレンゲルカラムを使用し、ポリスチレ
ン換算で測定を行う。ゲル浸透クロマトグラフィー分析
により求めた分子量分布とは、ゲル浸透クロマトグラフ
ィー分析により求めた重量平均分子量(Mw)と数平均
分子量(Mn)との比(Mw/Mn)を指す。
【0015】本発明の、一分子中に一つ以上のアルケニ
ル基、および硫黄原子を有するビニル系重合体におい
て、数平均分子量が3000未満の場合は粘度、または
溶融粘度が低すぎるため加工性が悪く、5000000
を超える場合は粘度が高くなりすぎて加工性が悪くな
る。このような加工性の観点からは、本発明のビニル系
重合体の数平均分子量は5000〜1000000の範
囲にあることが好ましく、6000〜500000の範
囲にあることがより好ましい。
【0016】本発明の、一分子中に一つ以上のアルケニ
ル基、および硫黄原子を有するビニル系重合体におい
て、分子量分布が2を超えると、耐熱性や成形性が悪化
したり、各種樹脂と混合した場合の相容性が悪くなった
りする。このような耐熱性、成形性、相容性の点で、分
子量分布は1.5以下であることが好ましく、1.3以
下であることがより好ましい。
【0017】本発明のビニル系重合体において、アルケ
ニル基の導入される位置については特に限定されない
が、アルケニル基を利用して官能基を導入するような場
合に、有用な末端官能基含有ビニル系重合体が得られる
点で、分子鎖の末端にアルケニル基を有するビニル系重
合体が好ましく、分子鎖の各末端にアルケニル基を有す
るビニル系重合体がより好ましく、両末端にアルケニル
基を有する直鎖状ビニル系重合体(テレケリックビニル
系重合体)が特に好ましい。
【0018】本発明において、ビニル系重合体とは、ビ
ニル系単量体をラジカル重合することにより得られる重
合体である。本発明で使用できるビニル系単量体は、ラ
ジカル重合可能なビニル基、またはビニリデン基を有す
る化合物であり、メタクリル酸エステル、アクリル酸エ
ステル、芳香族アルケニル化合物、1−アルケニル化合
物、シアン化ビニル化合物、共役ジエン系化合物、ハロ
ゲン含有ビニル化合物、ケイ素含有不飽和化合物、不飽
和ジカルボン酸化合物、ビニルエステル化合物、アリル
エステル化合物、不飽和基含有エーテル化合物、マレイ
ミド化合物、アクリル酸、メタクリル酸、アクロレイ
ン、メタクロレイン、環化重合可能な単量体、およびN
−ビニル化合物などを挙げることができるが、これらに
限定されるものではない。これら単量体は単独で用いて
もよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
【0019】本発明で使用する単量体のうち、メタクリ
ル酸エステルの具体例としては、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−ブチル、メタク
リル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリ
ル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタ
クリル酸トリデシル、メタクリル酸ステアリル、メタク
リル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタク
リル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロ
キシプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メ
タクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸グリシ
ジル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、ジメタク
リル酸エチレングリコール、ジメタクリル酸トリエチレ
ングリコール、ジメタクリル酸テトラエチレングリコー
ル、ジメタクリル酸1,3−ブチレングリコール、トリ
メタクリル酸トリメチロールプロパン、メタクリル酸イ
ソプロピル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ヘキ
シル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、
メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル
酸ドデシル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸トル
イル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸2−メ
トキシエチル、メタクリル酸3−メトキシブチル、メタ
クリル酸2−アミノエチル、2−メタクリロイルオキシ
プロピルトリメトキシシラン、2−メタクリロイルオキ
シポリピルジメトキシメチルシラン、メタクリル酸トリ
フルオロメチル、メタクリル酸ペンタフルオロエチル、
およびメタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチルな
どを挙げることができるが、これらに限定されるもので
はない。
【0020】本発明で使用する単量体のうち、アクリル
酸エステルの具体例としては、アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イ
ソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロ
ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸デシル、ア
クリル酸ドデシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ト
ルイル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸イソボルニ
ル、アクリル酸2−メトキシエチル、アクリル酸3−メ
トキシブチル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸ステアリ
ル、アクリル酸グリシジル、2−アクリロイルオキシプ
ロピルジメトキシメチルシラン、2−アクリロイルオキ
シプロピルトリメトキシシラン、アクリル酸トリフルオ
ロメチル、アクリル酸ペンタフルオロエチル、アクリル
酸2,2,2−トリフルオロエチル、アクリル酸3−ジ
メチルアミノエチル、アクリル酸イソブチル、アクリル
酸4−ヒドロキシブチル、アクリル酸t−ブチル、アク
リル酸ラウリル、アルキル変性ジペンタエリスリトール
のアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノー
ルAジアクリレート、アクリル酸カルビトール、ε−カ
プロラクトン変性ジペンタエリスリトールのアクリレー
ト、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオ
ペンチルグリコールエステルジアクリレート、ジトリメ
チロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、アクリル酸テトラエチレングリコ
ール、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸
トリプロピレングリコール、トリメチロールプロパンエ
トキシトリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エス
テルジアクリレート、アクリル酸1,9−ノナンジオー
ル、アクリル酸1,4−ブタンジオール、2−プロペノ
イックアシッド〔2−〔1,1−ジメチル−2−〔(1
−オキソ−2−プロペニル)オキシ〕エチル〕−5−エ
チル−1,3−ジオキサン−5−イル〕メチルエステ
ル、アクリル酸1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、2−アクリロイルオキシ
プロピルハイドロジェンフタレート、3−メトキシアク
リル酸メチル、およびアクリル酸アリルなどを挙げるこ
とができるが、これらに限定されるものではない。
【0021】本発明で使用する単量体のうち、芳香族ア
ルケニル化合物の具体例としては、スチレン、α−メチ
ルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレ
ン、ジビニルベンゼン、およびビニルナフタレンなどを
挙げることができるが、これらに限定されるものではな
い。
【0022】本発明で使用する単量体のうち、1−アル
ケニル化合物の具体例としては、エチレン、プロピレ
ン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘ
プテン、1−オクテン、および1−デセンなどを挙げる
ことができるが、これらに限定されるものではない。
【0023】本発明で使用する単量体のうち、シアン化
ビニル化合物の具体例としては、アクリロニトリル、お
よびメタクリロニトリルなどを挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。
【0024】本発明で使用する単量体のうち、共役ジエ
ン系化合物の具体例としては、ブタジエン、およびイソ
プレンなどを挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。
【0025】本発明で使用する単量体のうち、ハロゲン
含有ビニル化合物の具体例としては、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロ
プロピレン、フッ化ビニリデン、臭化ビニル、およびク
ロロプレンなどを挙げることができるが、これらに限定
されるものではない。
【0026】本発明で使用する単量体のうち、ケイ素含
有不飽和化合物の具体例としては、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメチル
シラン、ビニルトリフェニルシラン、およびビニルトリ
エチルシランなどを挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。
【0027】本発明で使用する単量体のうち、不飽和ジ
カルボン酸化合物の具体例としては、無水マレイン酸、
マレイン酸、マレイン酸モノエステル、マレイン酸ジエ
ステル、フマル酸、フマル酸モノエステル、およびフマ
ル酸ジエステルなどを挙げることができるが、これらに
限定されるものではない。
【0028】本発明で使用する単量体のうち、ビニルエ
ステル化合物の具体例としては、酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、ケイ
皮酸ビニル、ジビニルカーボネート、ビニルエチルカー
ボネート、およびビニルフェニルカーボネートなどを挙
げることができるが、これらに限定されるものではな
い。
【0029】本発明で使用する単量体のうち、アリルエ
ステル化合物の具体例としては、酢酸アリル、プロピオ
ン酸アリル、ピバリン酸アリル、安息香酸アリル、ケイ
皮酸アリル、ジアリルカーボネート、アリルメチルカー
ボネート、およびアリルフェニルカーボネートなどを挙
げることができるが、これらに限定されるものではな
い。
【0030】本発明で使用する単量体のうち、不飽和基
含有エーテル化合物の具体例としては、ビニルフェニル
エーテル、ビニルエチルエーテル、ジビニルエーテル、
トリメチロールプロパンモノビニルエーテル、トリメチ
ロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロ
パントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールモノビ
ニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテ
ル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタ
エリスリトールテトラビニルエーテル、1,4−ブタン
ジオールモノビニルエーテル、1,4−ブタンジオール
ジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエー
テル、エチレングリコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、プロピレングリコー
ルジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニ
ルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテ
ル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポ
リプロピレングリコールジビニルエーテル、ビニルグリ
シジルエーテル、アリルフェニルエーテル、アリルエチ
ルエーテル、ジアリルエーテル、ビニルアリルエーテ
ル、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル、トリ
メチロールプロパンジアリルエーテル、トリメチロール
プロパントリアリルエーテル、ペンタエリスリトールモ
ノアリルエーテル、ペンタエリスリトールジアリルエー
テル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、ペン
タエリスリトールテトラアリルエーテル、1,4−ブタ
ンジオールモノアリルエーテル、1,4−ブタンジオー
ルジアリルエーテル、エチレングリコールモノアリルエ
ーテル、エチレングリコールジアリルエーテル、プロピ
レングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコ
ールジアリルエーテル、ポリエチレングリコールモノア
リルエーテル、ポリエチレングリコールジアリルエーテ
ル、ポリプロピレングリコールモノアリルエーテル、ポ
リプロピレングリコールジアリルエーテル、およびアリ
ルグリシジルエーテルなどを挙げることができるが、こ
れらに限定されるものではない。
【0031】本発明で使用する単量体のうち、マレイミ
ド化合物の具体例としては、マレイミド、メチルマレイ
ミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチル
マレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミ
ド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェ
ニルマレイミド、およびシクロヘキシルマレイミドなど
を挙げることができるが、これらに限定されるものでは
ない。
【0032】本発明で使用する単量体のうち、環化重合
可能な単量体の具体例としては、1,6−ヘプタジエ
ン、ジアリルアンモニウム塩などを挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。
【0033】本発明で使用する単量体のうち、N−ビニ
ル化合物の具体例としては、N−ビニルピロリドン、N
−ビニルカルバゾールなどを挙げることができるが、こ
れらに限定されるものではない。
【0034】これらのビニル系単量体のうち、入手性と
価格の点で、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレン、ク
ロロプレン、エチレン、プロピレン、およびテトラフル
オロエチレンが好ましく、耐熱性、耐候性、耐光性の点
で、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、およびアクリロニトリルがより
好ましい。また、極性樹脂との相容性を向上できる点、
粘着性を向上できる点で、ビニル系重合体を極性樹脂と
混合したり、粘着剤の原料として使用するような場合に
は、ビニル系単量体として、アクリル酸、メタクリル
酸、ヒドロキシル基含有アクリル酸エステル、ヒドロキ
シル基含有メタクリル酸エステル、エポキシ基含有アク
リル酸エステル、およびエポキシ基含有メタクリル酸エ
ステルからなる群から選ばれる一種以上の単量体を、ビ
ニル系重合体を構成する単量体成分の重量%において、
0.1〜50重量%重合させたものが好ましく、0.5
〜30重量%重合させたものがより好ましい。
【0035】本発明のビニル系重合体は、単独重合体で
もよく、共重合体でもよい。共重合体とする場合には、
ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合
体など、用途や目的に応じて従来公知の共重合形態をと
ることができる。ブロック共重合体においては、ジブロ
ック共重合体、トリブロック共重合体、マルチブロック
共重合体、星状ブロック共重合体など、その形態は任意
である。
【0036】本発明のビニル系重合体を熱可塑性エラス
トマーとして使用する場合には、ガラス転移温度が30
℃以上の重合体ブロック(A)と、ガラス転移温度が3
0℃未満の重合体ブロック(B)とを含有するブロック
共重合体であることが好ましく、強度、圧縮永久歪に優
れる点で、重合体ブロック(A)のガラス転移温度が5
0℃以上であることが好ましく、80℃以上であること
がより好ましい。また、エラストマーとしての柔軟性、
弾性に優れる点で、重合体ブロック(B)のガラス転移
温度が0℃以下であることが好ましく、−20℃以下で
あることがより好ましい。
【0037】本発明のビニル系重合体は、一分子中に一
つ以上の硫黄原子を有する。硫黄原子を含有することに
より、ビニル系重合体の表面性が改善され、各種樹脂と
の相容性、および各種添加剤との相容性が向上できる。
耐熱性、耐候性の点で、硫黄原子は主鎖中に存在するこ
とが好ましく、スルフィド結合(−C−S−C−)とし
て存在することがより好ましい。また、このように主鎖
中に存在する硫黄原子は、アルケニル基を始めとする官
能基を導入するための反応点となり得るため、ビニル系
重合体の末端に存在することが好ましい。
【0038】本発明のビニル系重合体を合成するための
方法としては、特に制限されないが、数平均分子量を容
易に制御可能であり、分子量分布を狭くすることがで
き、分子鎖の末端に確実にアルケニル基を導入できる点
で、以下に示す方法が好ましい。
【0039】すなわち、一般式(1)
【0040】
【化7】 (式中、R1は炭素数1以上のp価の有機基であり、窒
素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
子、リン原子、金属原子を含んでいてもよく、高分子量
体であってもよい。Z1は水素原子、ハロゲン原子、ま
たは炭素数1以上の1価の有機基であり、窒素原子、酸
素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原
子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよい。p
は1以上の整数である。pが2以上の場合、Z1は同じ
でもよく異なっていてもよい。)、および一般式(2)
【0041】
【化8】 (式中、R2は炭素数1以上の1価の有機基であり、窒
素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
子、リン原子、金属原子を含んでいてもよく、高分子量
体であってもよい。Z2は硫黄原子(q=2の場合)、
酸素原子(q=2の場合)、窒素原子(q=3の場
合)、または炭素数1以上のq価の有機基であり、窒素
原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
子、リン原子を含んでいてもよく、高分子量体であって
もよい。qは2以上の整数である。R2は同じでもよく
異なっていてもよい。)からなる群から選ばれる1種以
上のチオカルボニルチオ基を有する化合物の存在下に、
ビニル系単量体をラジカル重合し、こうして得られるビ
ニル系重合体にアルケニル基を導入する方法である。
【0042】本発明のビニル系重合体を製造する好まし
い方法においては、まず上記チオカルボニルチオ構造を
有する特定構造の化合物の存在下に、ビニル系単量体を
ラジカル重合し、チオカルボニルチオ基を有する重合体
を調製する。次に、得られた重合体を処理剤と反応させ
ることにより、該重合体中のチオカルボニルチオ基をメ
ルカプト基又はメルカプチド基に変換する。好ましい実
施態様の一つとしては次いで、該メルカプト基又はメル
カプチド基と、一分子中にアルケニル基と、メルカプト
基またはメルカプチド基と反応して結合形成可能な官能
基とをあわせもつ化合物とを反応させることによって、
本発明のビニル系重合体が製造される。
【0043】本発明においては、一般式(1)または
(2)で示されるチオカルボニルチオ構造を有する化合
物を連鎖移動剤として、可逆的付加脱離連鎖移動(RA
FT)重合法により重合体が調製される。一部の好まし
い実施態様の反応の例を以下のスキームaおよびbにそ
れぞれ示す。
【0044】
【化9】
【0045】
【化10】 まず、スキームaにおいては、チオカルボニルチオ構造
を有する化合物(1)の存在下で、ビニル系単量体(上
記スキームにおいてXで示す)のラジカル重合を行うこ
とにより、チオカルボニルチオ基を有するビニル系重合
体(5)が生成する(上記スキームにおいて、nは結合
した単量体の数を示す)。次いで、このビニル系重合体
(5)を処理剤と反応させることにより、該重合体のチ
オカルボニルチオ基が、メルカプト基に変換される。こ
のようにしてメルカプト基を有するビニル系重合体
(6)が得られる。
【0046】次にこのメルカプト基を介して、一分子中
にアルケニル基と、メルカプト基と反応して結合形成可
能な官能基としてのイソシアネート基とを有する化合物
(4)との反応を行うことにより、チオウレタン結合を
介してビニル系重合体にアルケニル基が導入され、アル
ケニル基および硫黄原子を有するビニル系重合体(7)
が得られる。p=2以上の場合は、アルケニル基を2つ
以上有する重合体となる。
【0047】スキームbにおいては、スキームaの場合
と同様に、チオカルボニルチオ基を有する化合物(2)
の存在下で、ビニル系単量体(上記スキームにおいてX
で示す)のラジカル重合を行うことにより、チオカルボ
ニルチオ基を有するビニル系重合体(8)が生成する
(上記スキームにおいて、nは結合した単量体の数を示
す)。さらに、処理剤と反応させることにより、メルカ
プト基を有するビニル系重合体(9)が得られる。次
に、一分子中にアルケニル基とイソシアネート基とを有
する化合物(4)との反応によって、ビニル系重合体に
アルケニル基が導入され、アルケニル基および硫黄原子
を有するビニル系重合体(10)が得られる。
【0048】本発明で使用するチオカルボニルチオ構造
を有する化合物のうち、両末端にアルケニル基を有する
直鎖状ビニル系重合体を容易に合成できる点で、一般式
(3)
【0049】
【化11】 (式中、R3は2価の有機基であり、窒素原子、酸素原
子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子、
および金属原子のうちの少なくともひとつを含んでいて
もよく、高分子量体であってもよい。Z1は水素原子、
ハロゲン原子、または炭素数1以上の1価の有機基であ
り、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケ
イ素原子、リン原子を含んでいてもよく、高分子量体で
あってもよい。Z1は同じでもよく異なっていてもよ
い。)で示される一分子中にチオカルボニルチオ構造を
2つ有する化合物が好ましい。
【0050】本発明で使用するチオカルボニルチオ構造
を有する化合物において、上記一般式(1)で示される
構造中のR1としては特に限定されないが、化合物の入
手性の点で好ましくはR1の炭素数は1〜20であり、
pは6以下である。R1の例としては、アルキル基、置
換アルキル基、アラルキル基、置換アラルキル基、2価
以上の脂肪族炭化水素基、芳香環を有する2価以上の脂
肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含む2価以上の脂肪族炭
化水素基、ヘテロ原子を含む2価以上の芳香族置換炭化
水素基などが挙げられる。これらR1としては、入手
性、および重合活性の点で、次の基が好ましい:ベンジ
ル基、1−フェニルエチル基、2−フェニル−2−プロ
ピル基、1−アセトキシエチル基、1−(4−メトキシ
フェニル)エチル基、エトキシカルボニルメチル基、2
−エトキシカルボニル−2−プロピル基、2−シアノ−
2−プロピル基、t−ブチル基、1,1,3,3−テト
ラメチルブチル基、2−(4−クロロフェニル)−2−
プロピル基、ビニルベンジル基、t−ブチルスルフィド
基、2−カルボキシルエチル基、カルボキシルメチル
基、シアノメチル基、1−シアノエチル基、2−シアノ
−2−ブチル基、および次の一般式
【0051】
【化12】
【0052】
【化13】
【0053】
【化14】 (式中、R4は炭素数1以上の2価の有機基を示す。n
は1以上の整数であり、rは0以上の整数である。rは
同一でもよく異なっていてもよい。)で示される構造が
好ましい。上記式中のn、およびrは、化合物の入手性
の点で、好ましくは500以下である。さらにR1は、
上記のように、高分子量体であってもよく、その例とし
ては、次の基が挙げられる:ポリエチレンオキシド構造
を有する炭化水素基、ポリプロピレンオキシド構造を有
する炭化水素基、ポリテトラメチレンオキシド構造を有
する炭化水素基、ポリエチレンテレフタレート構造を有
する炭化水素基、ポリブチレンテレフタレート構造を有
する炭化水素基、ポリジメチルシロキサン構造を有する
炭化水素基、ポリカーボネート構造を有する炭化水素
基、ポリエチレン構造を有する炭化水素基、ポリプロピ
レン構造を有する炭化水素基、ポリアクリロニトリル構
造を有する炭化水素基、ポリスチレン構造を有する炭化
水素基、ポリメタクリル酸エステル構造を有する炭化水
素基、ポリアクリル酸エステル構造を有する炭化水素
基、ポリアクリロニトリル構造を有する炭化水素基な
ど。これらの炭化水素基には酸素原子、窒素原子、およ
び硫黄原子のうちの少なくともひとつが含まれていても
よく、シアノ基、アルコキシ基などが含まれていてもよ
い。これらの分子量は、通常、500以上である。以
下、本発明において、基が高分子量体である場合には、
該基の例としては上述の基が挙げられる。R4の構造と
しては、例えば、−(CH2n− (nは1以上の整
数)、−C64−、および−CH2−C64−CH2−な
どを挙げることができるが、これらに限定されない。
【0054】本発明で使用するチオカルボニルチオ構造
を有する化合物において、上記一般式(1)および
(3)で示される構造中のZ1としては特に限定されな
いが、入手性、および重合活性の点で、炭素数1〜20
のアルキル基、炭素数1〜20の置換アルキル基、炭素
数6〜30のアリール基、炭素数6〜30の置換アリー
ル基、炭素数7〜30のアラルキル基、炭素数7〜30
の置換アラルキル基、炭素数7〜30のN−アルキル−
N−アリールアミノ基、炭素数12〜30のN,N−ジ
アリールアミノ基、炭素数4〜30の窒素含有複素環
基、炭素数2〜20のチオアルキル基、炭素数6〜30
のチオアリール基、および炭素数1〜20のアルコキシ
基が好ましく、フェニル基、メチル基、エチル基、ベン
ジル基、4−クロロフェニル基、1−ナフチル基、2−
ナフチル基、ジエトキシホスフィニル基、n−ブチル
基、t−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、チオメチ
ル基(メチルスルフィド)、フェノキシ基、チオフェニ
ル基(フェニルスルフィド)、N,N−ジメチルアミノ
基、N,N−ジエチルアミノ基、N−フェニル−N−メ
チルアミノ基、N−フェニル−N−エチルアミノ基、チ
オベンジル基(ベンジルスルフィド)、ペンタフルオロ
フェノキシ基、および一般式
【0055】
【化15】 で示される構造がより好ましい。
【0056】本発明で使用するチオカルボニルチオ構造
を有する化合物において、上記一般式(2)で示される
構造中のR2としては特に限定されないが、化合物の入
手性の点で、好ましくはR2の炭素数は1〜20であ
る。R2の例としては、アルキル基、置換アルキル基、
アラルキル基、置換アラルキル基などがある。化合物の
入手性、および重合活性の点で、ベンジル基、1−フェ
ニルエチル基、2−(2−フェニルプロピル)基、1−
アセトキシエチル基、1−(4−メトキシフェニル)エ
チル基、エトキシカルボニルメチル基、2−(2−エト
キシカルボニルプロピル)基、2−(2−シアノプロピ
ル)基、t−ブチル基、1,1,3,3−テトラメチル
ブチル基、2−(2−(p−クロロフェニル)プロピ
ル)基、ビニルベンジル基、t−ブチルスルフィド基、
2−カルボキシルエチル基、カルボキシルメチル基、シ
アノメチル基、1−シアノエチル基、2−(2−シアノ
ブチル)基、および一般式
【0057】
【化16】 (式中、nは1以上の整数であり、rは0以上の整数で
ある。)で示される有機置換基が好ましい。上記式中の
rおよびnは、化合物の入手性の点で、好ましくは50
0以下である。
【0058】本発明で使用するチオカルボニルチオ構造
を有する化合物において、上記一般式(2)で示される
構造中のZ2としては特に限定されないが、入手性、お
よび重合活性の点で、その炭素数は好ましくは1〜20
であり、qは6以下である。その例としては、2価以上
の脂肪族炭化水素基、2価以上の芳香族炭化水素基、芳
香環を有する2価以上の脂肪族炭化水素基、脂肪族基を
有する2価以上の芳香族炭化水素基、ヘテロ原子を含む
2価以上の脂肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含む2価以
上の芳香族置換炭化水素基などが挙げられる。化合物の
入手性の点で、Z2としては、例えば、次の一般式
【0059】
【化17】 (式中、nは1以上の整数であり、rは0以上の整数で
ある。)で示される有機置換基が好ましい。上記式中の
rおよびnは、化合物の入手性の点で、好ましくは50
0以下である。
【0060】本発明で使用する、一分子中にチオカルボ
ニルチオ基を2つ有する化合物において、上記一般式
(3)で示される構造中のR3としては特に限定されな
いが、入手性、および重合活性の点で、一般式
【0061】
【化18】
【0062】
【化19】 (式中、R4は炭素数1以上の2価の有機基を示す。n
は1以上の整数であり、rは0以上の整数である。rは
同じでもよく異なっていてもよい。)で示される構造が
好ましい。上記式中のrおよびnは、化合物の入手性の
点で、好ましくは500以下である。R4の構造として
は、例えば、−(CH2n− (nは1以上の整数)、
−C64−、および−CH2−C64−CH2−などを挙
げることができるが、これらに限定されない。
【0063】本発明で使用する、上記チオカルボニルチ
オ基を有する化合物の具体例としては、一般式
【0064】
【化20】
【0065】
【化21】
【0066】
【化22】
【0067】
【化23】
【0068】
【化24】
【0069】
【化25】
【0070】
【化26】 (式中、Meはメチル基、Etはエチル基、Phはフェ
ニル基、Acはアセチル基を示し、R4は炭素数1以上
の2価の有機基を示す。nは1以上の整数であり、rは
0以上の整数である。rは同じでもよく異なっていても
よい。)で示される化合物が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。上記式中のrおよびnは、化合
物の入手性の点で、好ましくは500以下である。R4
の構造としては、例えば、−(CH2n− (nは1以
上の整数)、−C64−、および−CH2−C64−C
2−などを挙げることができるが、これらに限定され
ない。
【0071】本発明において、上記チオカルボニルチオ
構造を有する化合物の使用量は、特に限定されないが、
使用するビニル系単量体とのモル比により、ビニル系重
合体の重合度、数平均分子量を制御することができる。
すなわち、重合に供するビニル系単量体のモル数を、チ
オカルボニルチオ構造のモル数で除した値が重合度に等
しく、この重合度にビニル系単量体の分子量を乗じるこ
とにより、数平均分子量を算出できる。したがって、チ
オカルボニルチオ構造を有する化合物の使用量は、目的
とするビニル系重合体の数平均分子量から計算して使用
すればよい。
【0072】本発明のビニル系重合体をブロック共重合
体とする場合には、上記チオカルボニルチオ構造を有す
る化合物の存在下に、まず一つの重合体ブロックを合成
し、続いて異なる単量体を添加して別の重合体ブロック
を合成することができる。また、一つの重合体ブロック
を合成した後、一旦該重合体を単離し、別途異なる単量
体を添加して別の重合体ブロックを合成することも可能
である。このように、重合体ブロックを順次重合して行
く方法により、ジブロック共重合体だけでなく、トリブ
ロック共重合体、マルチブロック共重合体などを合成す
ることが可能である。
【0073】本発明において、チオカルボニルチオ構造
を有する化合物の存在下に、ビニル系単量体をラジカル
重合する際の形式については特に限定されず、塊状重
合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合、および微細懸濁重
合など、従来公知の方法を適用可能である。これらのう
ち、コスト、および安全性の点で、乳化重合、懸濁重
合、および微細懸濁重合のような水系重合が好ましい。
また、重合する単量体を一括して反応器に仕込んで反応
させてもよく、逐次添加してもよい。
【0074】本発明において、ビニル系単量体を溶液重
合させる場合、使用する溶剤としては例えば、ヘプタ
ン、ヘキサン、オクタン、ミネラルスピリットなどの炭
化水素系溶剤;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソ
ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ートなどのエステル系溶剤;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、
シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤;メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec
−ブタノール、イソブタノールなどのアルコール系溶
剤;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテルなどのエ
ーテル系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド
などのアミド系溶媒;トルエン、キシレン、ベンゼン、
スワゾール310(コスモ石油社製)、スワゾール10
00(コスモ石油社製)、スワゾール1500(コスモ
石油社製)などの芳香族石油系溶剤などを挙げることが
できるが、これらに限定されるものではない。これらは
単独で用いてもよく、複数を組合せて用いてもよい。使
用する溶剤種や溶剤量の決定に際しては、単量体の溶解
度、得られる重合体の溶解度、十分な反応速度を達成す
るために適切な重合開始剤濃度や単量体濃度、チオカル
ボニルチオ構造を有する化合物の溶解度、人体や環境に
与える影響、入手性、および価格などを考慮して決定す
ればよく、特に限定されないが、入手性、価格の点で、
工業的にはトルエン、ジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン、およびアセトンが好ましく、トルエンが特
に好ましい。
【0075】本発明において、ビニル系単量体を乳化重
合、または微細懸濁重合させる場合、使用する乳化剤と
しては特に限定されず、脂肪酸石けん、ロジン酸石け
ん、ナフタレンスルホン酸ナトリウムホルマリン縮合
物、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキル
硫酸ナトリウム(例えば、ドデシルスルホン酸ナトリウ
ム)、アルキル硫酸アンモニウム、アルキル硫酸トリエ
タノールアミン、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウ
ム、アルキルジフェニルエーテルジスルフォン酸ナトリ
ウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリ
ウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸ナトリウムなどのアニオン系界面活性剤;ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン高級ア
ルコールエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオ
キシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオ
キシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールア
ミドなどの非イオン系界面活性剤;アルキルトリメチル
アンモニウムクロライドなどのカチオン系界面活性剤な
どを例示することができる。これらの乳化剤は単独で用
いてもよく、複数を組合せて用いてもよい。必要に応じ
て、アルキルアミン塩酸塩などのカチオン系界面活性剤
を使用してもよく、後述する懸濁重合の分散剤を添加し
てもよい。乳化剤の使用量は特に限定されないが、乳化
状態が良好で重合がスムーズに進行する点で、単量体1
00重量部に対して0.1〜20重量部が好ましい。
【0076】本発明において、上記単量体を懸濁重合さ
せる場合、使用する分散剤としては特に限定されず、例
えば部分けん化ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコー
ル、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
ゼラチン、ポリアルキレンオキサイド、アニオン性界面
活性剤と分散助剤の組合せなど従来公知のものを使用す
ることができる。これらは単独で用いてもよく、複数を
組合せて用いてもよい。また必要に応じて、上記乳化重
合の乳化剤を併用してもよい。分散剤の使用量は特に限
定されないが、重合がスムーズに進行する点で、単量体
100重量部に対して0.1〜20重量部が好ましい。
【0077】本発明において、チオカルボニルチオ構造
を有する化合物の存在下に、ビニル系単量体のラジカル
重合を行う際、使用する重合開始剤、あるいは重合開始
方法については特に限定されず、従来公知の重合開始
剤、あるいは重合開始方法を用いることができる。例え
ば、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブ
チルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキ
サイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、イソ
ブチリルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキ
サノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、
ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキ
サイド、キュメンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピ
ルベンゼンヒドロパーオキサイド、p−メンタンヒドロ
パーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチル
ヒドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイ
ド、t−ブチル−α−クミルパーオキサイド、ジ−α−
クミルパーオキサイド、1,4−ビス〔(t−ブチルパ
ーオキシ)イソプロピル〕ベンゼン、1,3−ビス
〔(t−ブチルパーオキシ)イソプロピル〕ベンゼン、
2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキ
シ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−
ブチルパーオキシ)−3−ヘキシン、1,1−ビス(t
−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロ
ヘキサン、n−ブチル=4,4−ビス(t−ブチルパー
オキシ)バレレート、2,2−ビス(t−ブチルパーオ
キシ)ブタン、t−ブチルパーオキシアセテート、t−
ブチルパーオキシイソブチレート、t−ブチルパーオキ
シオクトエート、t−ブチルパーオキシピバレート、t
−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパー
オキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−
ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ
ラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾ
イルパーオキシ)ヘキサン、ビス(2−エチルヘキシ
ル)パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオ
キシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジ
カーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネ
ート、ビス(3−メトキシブチル)パーオキシジカーボ
ネート、ビス(2−エトキシエチル)パーオキシジカー
ボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パー
オキシジカーボネート、O−t−ブチル−O−イソプロ
ピルパーオキシカーボネート、およびコハク酸パーオキ
サイドなどの過酸化物系重合開始剤;2,2’−アゾビ
ス−(2−アミジノプロパン)二塩酸塩、2,2’−ア
ゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス−(4−
メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,
2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、1,1’−ア
ゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、アゾ
クメン、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリ
ル)、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロ
ニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草
酸)、2−(t−ブチルアゾ)−2−シアノプロパン、
2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタ
ン)、および2,2’−アゾビス(2−メチルプロパ
ン)などのアゾ系重合開始剤;過硫酸カリウム、過硫酸
ナトリウムなどの無機過酸化物;スチレンなどのように
熱的にラジカル種を生成するビニル系単量体;ベンゾイ
ン誘導体、ベンゾフェノン、アシルフォスフィンオキシ
ド、フォトレドックス系などのように光によりラジカル
種を発生する化合物;亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナト
リウム、ナトリウムホルムアルデヒドスルフォキシレー
ト、アスコルビン酸、硫酸第一鉄などを還元剤とし、ペ
ルオキソ二硫酸カリウム、過酸化水素、t−ブチルヒド
ロパーオキサイドなどを酸化剤とするレドックス型重合
開始剤などを挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。これら重合開始剤は単独で用いてもよ
く、複数を組合せて用いてもよい。また、電子線照射、
エックス線照射、放射線照射などによる重合開始系を利
用することも可能である。このような重合開始方法に関
しては、Moad and Solomon“The
Chemistry of FreeRadical
Polymerization”,Pergamon,
London,1995,53−95ページに記載され
ている方法を使用可能である。
【0078】本発明の実施において使用する重合開始剤
の使用量については特に限定されないが、分子量分布の
小さい重合体を得られる点で、重合中に発生するラジカ
ル種の量が、チオカルボニルチオ基を有する化合物のチ
オカルボニルチオ基1モルに対して1モル以下が好まし
く、0.5モル以下がより好ましい。また、重合中に発
生するラジカル種の量を制御するために、重合開始剤の
使用量と合わせて、熱的解離する重合開始剤の場合には
温度を調節したり、光や電子線などによりラジカルを発
生する重合開始系の場合には照射するエネルギー量を調
節したりすることが好ましい。重合を制御しやすい点
で、熱的解離する重合開始剤を用い、その半減期が0.
5〜50時間となるような温度で重合することが好まし
く、半減期が1〜20時間となるような温度で重合する
ことがより好ましく、半減期が5〜15時間となるよう
な温度で重合することが特に好ましい。
【0079】本発明において、チオカルボニルチオ構造
を有する上記化合物の存在下に、ビニル系単量体をラジ
カル重合して得られるビニル系重合体に、アルケニル基
を導入する方法としては、特に制限されないが、このよ
うなビニル系重合体は主鎖中にチオカルボニルチオ構造
を有するため、このチオカルボニルチオ基をメルカプト
基、またはメルカプチド基に変換し、(I)該メルカプ
ト基、または該メルカプチド基と、(C)一分子中にア
ルケニル基と、メルカプト基またはメルカプチド基と反
応して結合形成可能な官能基とをあわせもつ化合物とを
反応させる方法、および、(II)該メルカプト基と、
アセチレン化合物とを、塩基性化合物の存在下反応させ
る方法(レッペ反応)が、簡便に、かつ、確実にアルケ
ニル基を導入できる点で好ましい。
【0080】本発明の上記方法(I)において、ビニル
系重合体中のチオカルボニルチオ基を、メルカプト基、
またはメルカプチド基に変換する方法としては特に制限
されないが、該重合体を処理剤と反応させる方法が挙げ
られる。このような処理剤としては、反応効率が高い点
で、塩基性化合物、酸性化合物、アンモニア、ヒドラジ
ン、およびアミン化合物からなる群から選ばれる1種以
上の化合物が好ましい。塩基性化合物、酸性化合物、ま
たは3級アミン化合物でなる処理剤を用いる場合は、水
の存在下、加水分解反応により、チオカルボニルチオ基
をメルカプト基に変換できる。塩基性化合物でなる処理
剤を用いる場合には、水が存在しない場合には、チオカ
ルボニルチオ基をメルカプチド基に変換できる。アンモ
ニア、ヒドラジン、1級アミン化合物、または2級アミ
ン化合物でなる処理剤を用いる場合には、チオカルボニ
ルチオ基をメルカプト基に変換できる。
【0081】本発明の上記方法(I)において、上記処
理剤のうち、塩基性化合物としては、特に限定されない
が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム、水
酸化マグネシウム、水酸化バリウム、水酸化セシウムな
どのアルカリ土類金属水酸化物;水酸化アルミニウム、
水酸化亜鉛などの遷移金属水酸化物;ナトリウムメチラ
ート、ナトリウムエチラート、ナトリウムフェニラー
ト、リチウムエチラート、リチウムブチラートなどのア
ルカリ金属アルコラート;マグネシウムメチラート、マ
グネシウムエチラートなどのアルカリ土類金属アルコラ
ート;水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カル
シウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナ
トリウムなどの金属水素化物;ハイドロサルファイト、
n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、エチルマグ
ネシウムブロマイド、フェニルマグネシウムブロマイド
などの有機金属試薬;トリエチルアミン、トリn−ブチ
ルアミンなどの3級アミン化合物などが挙げられる。ま
た、金属リチウム、金属ナトリウム、および金属カリウ
ムなどのアルカリ金属;金属マグネシウム、および金属
カルシウムなどのアルカリ土類金属も、使用可能であ
る。これらは単独で用いてもよく、複数を組合せて用い
てもよい。これらのうち、入手性、価格、反応性の点
で、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、ナトリウ
ムメチラート、ナトリウムエチラート、水素化ナトリウ
ム、水素化リチウム、金属リチウム、金属ナトリウム、
および金属カリウムが好ましく、取り扱いやすさの点
で、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、ナトリウ
ムメチラート、およびナトリウムエチラートがより好ま
しい。
【0082】本発明の上記方法(I)において、上記処
理剤のうち、酸性化合物としては、特に限定されない
が、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、フッ化水素酸、臭化水
素酸、ホウフッ化水素酸、クロロスルホン酸、ヨウ化水
素酸、ヒ酸、ケイフッ化水素酸などの無機酸;p−トル
エンスルホン酸、トリフルオロメチルスルホン酸、酢
酸、トリフルオロ酢酸、メチルリン酸、エチルリン酸、
n−プロピルリン酸、イソプロピルリン酸、n−ブチル
リン酸、ラウリルリン酸、ステアリルリン酸、2−エチ
ルヘキシルリン酸、イソデシルリン酸、ジメチルジチオ
リン酸、ジエチルジチオリン酸、ジイソプロピルジチオ
リン酸、フェニルホスホン酸などの有機酸;強酸性イオ
ン交換樹脂、弱酸性イオン交換樹脂などを挙げることが
できる。また、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリ
フルオロ酢酸、無水フタル酸、無水コハク酸などの酸無
水物;ハロゲン化アシル;四塩化チタン、塩化アルミニ
ウム、塩化ケイ素などの金属ハロゲン化物などの、微量
の水分と反応して酸性を示す化合物も使用可能である。
これらは単独で用いてもよく、複数を組合せて用いても
よい。これらのうち、入手性、価格、反応性の点で、塩
酸、硝酸、硫酸、リン酸、塩化アルミニウム、四塩化チ
タン、クロロスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ト
リフルオロメチルスルホン酸、酢酸、およびトリフルオ
ロ酢酸が好ましい。
【0083】本発明の上記方法(I)において、処理剤
のうちアミン化合物とは、アミンおよびこれに類似する
性質を有する化合物を包含する。アミド、およびアミン
に類似する性質を有する含窒素芳香族化合物なども本発
明にいうアミン化合物に包含される。使用することので
きる1級アミン化合物、または2級アミン化合物として
は、特に限定されないが、モノアルキルアミン、ジアル
キルアミン、モノアリールアミン、ジアリールアミン、
モノアラルキルアミン、ジアラルキルアミン、アルキル
アリールアミン、アラルキルアリールアミン、アルキル
アラルキルアミンなどが挙げられる。
【0084】これらの具体例としては、ヒドロキシルア
ミン、N−(2−アミノエチル)エタノールアミン、N
−メチルエタノールアミン、3−アミノ−1−プロパノ
ール、アミン変性アクリルポリマー、アリルアミン、ジ
アリルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルア
ミン、3,3’−イミノビス(プロピルアミン)、モノ
エチルアミン、ジエチルアミン、2−エチルヘキシルア
ミン、3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピルアミ
ン、3−エトキシプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ
イソブチルアミン、3−(ジエチルアミノ)プロピルア
ミン、ジ−2−エチルヘキシルアミン、3−(ジブチル
アミノ)プロピルアミン、t−ブチルアミン、sec−
ブチルアミン、n−ブチルアミン、n−プロピルアミ
ン、イソプロピルアミン、3−(メチルアミノ)プロピ
ルアミン、3−(ジメチルアミノ)プロピルアミン、N
−メチル−3,3’−イミノビス(プロピルアミン)、
3−メトキシプロピルアミン、イソプロパノールアミ
ン、N−イソプロピルアクリルアミド、3,3’−イミ
ノジプロピオニトリル、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、N−エチルエチレンジアミン、エチレン
イミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ト
リエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペ
ンタエチレンヘキサミン、N−カルボキシ−4,4’−
メチレンビスシクロヘキシルアミン、カルボヒドラジ
ド、塩酸グアニジン、炭酸グアニジン、スルファミン酸
グアニジン、塩酸アミノグアニジン、重炭酸アミノグア
ニジン、グリシルグリシン、2−クロロエチルアミン、
1,4−ジアミノブタン、1,2−ジアミノプロパン、
1,3−ジアミノプロパン、ジアミノマレオニトリル、
シクロヘキシルアミン、シクロペンチルアミン、ジシア
ンジアミド、ジシクロヘキシルアミン、N−(3−(ジ
メチルアミノ)プロピル)アクリルアミド、N−(3−
(ジメチルアミノ)プロピル)メタクリルアミド、ジメ
チルアミンボラン、ジメチルヒドラジン、N,N’−エ
チレンビス(ステアロアミド)、オレイン酸アミド、ス
テアリン酸アミド、3,9−ビス(3−アミノプロピ
ル)−2,4,8,10−テトラオクサスピロ[5.
5]ウンデカン、チオカルボヒドラジド、チオセミカル
バジド、チオ尿素、ドデカン二酸ジヒドラジド、トラン
ス−1,2−シクロヘキサンジアミン、アジピン酸ジヒ
ドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、二酸化チオ尿
素、2−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、2−
ブロモエチルアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,6
−ヘキサメチレンビス(N,N−ジメチルセミカルバジ
ド)、n−ヘキシルアミン、ポリエチレンイミン、ホル
ムアミジン、ホルムアミド、メタクリルアミド、モノメ
チルアミン、ジメチルアミン、N,N’−メチレンビス
(アクリルアミド)、N−メチロールアクリルアミド、
モノメチルヒドラジン、3−(ラウリルオキシ)プロピ
ルアミン、アセトアニリド、アセト酢酸o−アニシダイ
ド、アセト酢酸アニリド、アセト酢酸m−キシリダイ
ド、アセト酢酸トルイダイド、アニシジン、アニリン、
p−アミノアセトアニリド、p−アミノ安息香酸、p−
アミノ安息香酸エチルエステル、2−アミノ−4−クロ
ロフェノール、2−アミノチアゾール、2−アミノチオ
フェノール、2−アミノ−5−ニトロベンゾニトリル、
アミノフェノール、p−アミノベンズアルデヒド、4−
アミノベンゾニトリル、アントラニル酸、3−イソプロ
ポキシアニリン、N−エチルアニリン、2,4−キシリ
ジン、3,4−キシリジン、m−キシリレンジアミン、
p−クレシジン、ジアニシジン、1,4−ジアミノアン
トラキノン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチル
ジフェニルメタン、4,4’−ジアミノベンズアニリ
ド、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノナフタレ
ン、ジアミノアントラセン、ジフェニルアミン、ジベン
ジルアミン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノ
ジフェニルメタン、スルファニル酸、1,1,1’1’
−テトラメチル−4,4’−(メチレンジ−p−フェニ
レン)ジセミカルバジド、2,4,5−トリクロロアニ
リン、o−トリジン、o−トルイジン、m−トルイジ
ン、p−トルイジン、m−トルイレンジアミン、o−ニ
トロアニリン、m−ニトロアニリン、p−ニトロアニリ
ン、o−ニトロ−p−クロロアニリン、m−ニトロ−p
−トルイジン、フェニルヒドラジン、o−フェニレンジ
アミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジア
ミン、フェネチルアミン、ベンジルアミン、ベンゾフェ
ノンヒドラゾン、メシジン、N−メチルアニリン、2−
メチル−4−ニトロアニリン、2−メチル−4−メトキ
シジフェニルアミン、パラミン、p−ヒドロキシフェニ
ルグリシン、アセトアルデヒドアンモニア、アセトグア
ナミン、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール、2−
アミノピリジン、3−アミノピリジン、4−アミノピリ
ジン、1−(2−アミノエチル)ピペラジン、N−(3
−アミノプロピル)モルホリン、1−アミノ−4−メチ
ルピペラジン、イソシアヌル酸、イミダゾール、2−メ
チルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾー
ル、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダ
ゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル
−4−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メ
チルイミダゾール、イミダゾール−4,5−ジカルボン
酸、3−カルバモイル−2−ピラジンカルボン酸、コハ
ク酸イミド、1,3−ジ(4−ピペリジル)プロパン、
2−イミダゾリジノン、5,5−ジメチルヒダントイ
ン、2,5−ジメチルピペラジン、シス−2,6−ジメ
チルピペラジン、3,5−ジメチルピラゾール、2−メ
チル−4−ピラゾロン、5,5’−ビ−1H−テトラゾ
ール、5−フェニル−1H−テトラゾール、5−メチル
−1H−テトラゾール、ビス(アミノプロピル)ピペラ
ジン、1,3−ビス(ヒドラジノカルボエチル)−5−
イソプロピルヒダントイン、ヒダントイン、(ヒドロキ
シエチル)ピペラジン、2−ピペコリン、3−ピペコリ
ン、4−ピペコリン、2−(1−ピペラジニル)ピリミ
ジン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロー
ル、フェニルピラゾリドン、ベンゾグアナミン、2−メ
チルピペラジン、3−メチル−5−ピラゾロン、1−メ
チロール−5,5−ジメチルヒダントイン、メラミン、
およびモルホリンなどを挙げることができる。
【0085】また、ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)セバケート、SanolLS−7
70(三共製)、アデカスタブLA−77(旭電化
製)、スミソープ577(住友化学製)、バイオソーブ
04(共同薬品製)、Chimassorb944LD
(Ciba Specialty製)、Tinuvin
144(Ciba Specialty製)、アデカス
タブLA−52(旭電化製)、アデカスタブLA−57
(旭電化製)、アデカスタブLA−67(旭電化製)、
アデカスタブLA−68(旭電化製)、アデカスタブL
A−77(旭電化製)、アデカスタブLA−87(旭電
化製)、およびGoodriteUV−3034(Go
odrich製)などのヒンダードアミン系光安定剤
(HALS)を使用することもできる。これらは単独で
用いてもよく、複数を組合せて用いてもよい。これらの
うち、精製工程を簡略化できる点で、メチルアミン、エ
チルアミンなどの、沸点が100℃以下の1級アミン;
ジメチルアミン、ジエチルアミンなどの沸点が100℃
以下の2級アミン;およびヒンダードアミン系光安定剤
(HALS)が好ましい。沸点が100℃以下の1級ア
ミンおよび沸点が100℃以下の2級アミン化合物を用
いた場合には、過剰のアミン化合物を容易に減圧留去す
ることができ、ヒンダードアミン系光安定剤(HAL
S)を用いた場合には、過剰のHALSが安定剤として
作用するため除去の必要がなく、さらに、得られる重合
体の耐候性、および耐光性が向上する。
【0086】本発明の上記方法(I)において、使用す
る塩基性化合物、酸性化合物、アンモニア、ヒドラジ
ン、1級アミン化合物、および2級アミン化合物のう
ち、精製工程を簡略化できる点でアンモニア、ヒドラジ
ン、1級アミン化合物、2級アミン化合物、およびヒン
ダードアミン系光安定剤(HALS)が好ましく、アン
モニア、ヒドラジン、沸点100℃以下の1級アミン化
合物、沸点100℃以下の2級アミン化合物、およびヒ
ンダードアミン系光安定剤(HALS)がより好まし
い。
【0087】本発明の上記方法(I)において、塩基性
化合物、または酸性化合物を使用する場合、使用量は特
に限定されないが、取り扱いやすさや反応性の点で、重
合体100重量部に対して0.01〜100重量部が好
ましく、0.05〜50重量部がより好ましく、0.1
〜30重量部が特に好ましい。本発明の上記方法(I)
においてアンモニア、ヒドラジン、1級アミン化合物、
または2級アミン化合物を使用する場合、使用量は特に
限定されないが、メルカプト基の導入率が高い点で、チ
オカルボニルチオ構造1モルに対して0.5〜1000
モルのアンモニア、ヒドラジン、1級アミン化合物、ま
たは2級アミン化合物を用いるのが好ましく、1〜50
0モルのアンモニア、ヒドラジン、1級アミン化合物、
または2級アミン化合物を用いるのがより好ましい。
【0088】本発明の上記方法(I)において、重合体
を塩基性化合物、酸性化合物、アンモニア、ヒドラジ
ン、1級アミン化合物、または2級アミン化合物からな
る処理剤で処理する際の反応条件に関して特に限定はな
く、有機溶媒中に重合体を溶解させて上記処理剤を加え
てもよく、水系分散液、あるいは乳化液に上記処理剤を
加えてもよく、あるいは固体の重合体そのもの、または
溶融状態の重合体そのものに直接上記処理剤を加えても
よい。処理温度についても特に限定されないが、反応性
の点で−50〜200℃が好ましく、−10〜150℃
がより好ましく、0〜120℃が特に好ましい。
【0089】本発明の上記方法(I)において、チオカ
ルボニルチオ基を有するビニル系重合体を上記処理剤で
処理した後、過剰の処理剤を除去する目的でシリカゲル
などの吸着剤による処理を実施することができる。使用
する吸着剤としては、シリカゲル、アルミナ、活性炭、
珪藻土、イオン交換樹脂などをあげることができるが、
これらに限定されるものではない。吸着剤のうち、入手
性、および精製能力の点でシリカゲル、およびアルミナ
が好ましい。使用する吸着剤の量については特に限定さ
れないが、精製に供するビニル系重合体100重量部に
対して1〜100重量部が好ましく、3〜50重量部が
より好ましい。1重量部未満では精製の効果が認められ
ない場合があり、100重量部を超えると経済的でな
い。
【0090】本発明の上記方法(I)において使用す
る、一分子中にアルケニル基と、メルカプト基またはメ
ルカプチド基と反応して結合形成可能な官能基とをあわ
せもつ化合物において、メルカプト基またはメルカプチ
ド基と反応して結合形成可能な官能基としては、ヒドロ
キシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基
(エステル結合)、アミド基、エポキシ基、グリシジル
基、メルカプト基、チオンエステル結合、チオールエス
テル結合、ジチオエステル結合、イソシアナート基、イ
ソチオシアナート基、カルボニル基、アルデヒド基、ア
リールオキシ基、4級アンモニウムイオン、スルホン結
合、ハロゲン原子、炭素−炭素二重結合、および炭素−
炭素三重結合などの構造を挙げることができるが、これ
らに限定されるものではない。
【0091】本発明の上記方法(I)において使用す
る、一分子中にアルケニル基と,メルカプト基またはメ
ルカプチド基と反応して結合形成可能な官能基とをあわ
せもつ化合物としては、例えば、アリルアルコール、2
−ビニルフェノール、4−ビニルフェノール、4−ブテ
ン−1−オール、3−メチル−1−ブチン−3−オー
ル、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、3,6−
ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,
7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオー
ル、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、
2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、
2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、N,N
−ジアリルアミノアルコール、N,N−ジアリルエタノ
ールアミン、N−アリルエタノールアミン、2−アリル
−1−ヘキサノール、エチレングリコールモノアリルエ
ーテル、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ト
リメチロールプロパンモノアリルエーテル、ペンタエリ
スリトールモノアリルエーテル、ペンタエリスリトール
ジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエ
ーテル、ポリエチレングリコールモノアリルエーテル、
ポリテトラメチレンエーテルグリコールモノアリルエー
テル、ポリプロピレングリコールモノアリルエーテル、
2−アリルシクロヘキサノール、3−アリルシクロヘキ
サノール、4−アリルシクロヘキサノール、2−アリル
フェノール、3−アリルフェノール、4−アリルフェノ
ール、1,4−ジヒドロキシ−5−アリルナフタレン、
ビスフェノールAモノアリルエーテル、1−アリル−2
−ナフトール、4−アリル−1−ナフトール、4−アリ
ルカテコール、スピログリコールモノアリルエーテル、
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジア
リルエーテル、フルフリルアルコール、および4−アリ
ルフルフリルアルコールなどの、ヒドロキシル基とアル
ケニル基を併せ持つ化合物;アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、ウンデシレン酸、マロン酸モノアリ
ル、2−アリル安息香酸、3−アリル安息香酸、4−ア
リル安息香酸、3−アリルアントラニル酸、4−アリル
アントラニル酸、5−アリルアントラニル酸、5−アリ
ルイソフタル酸、4−アリルサリチル酸、2−アリルテ
レフタル酸、2−アリルチオ安息香酸、3−アリルチオ
安息香酸、4−アリルチオ安息香酸、トリメリット酸モ
ノアリル、トリメリット酸ジアリル、2−アリル−1−
ナフタレンカルボン酸、1−アリル−2−ナフタレンカ
ルボン酸、6−ヒドロキシ−1−アリル−2−ナフトエ
酸、ビニル酢酸、2−アリルフェノキシ酢酸、3−アリ
ルフェノキシ酢酸、4−アリルフェノキシ酢酸、2−ア
リル−4−ピリジンカルボン酸、4−アリルキノリン−
2−カルボン酸、および2−アリルニコチン酸などの、
カルボキシル基とアルケニル基を併せ持つ化合物;アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロ
ピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシ
ル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、
アクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸フ
ェニル、アクリル酸トルイル、アクリル酸ベンジル、ア
クリル酸イソボルニル、アクリル酸2−メトキシエチ
ル、アクリル酸3−メトキシブチル、アクリル酸2−ヒ
ドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、
アクリル酸ステアリル、アクリル酸グリシジル、2−ア
クリロイルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、2
−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ア
クリル酸トリフルオロメチル、アクリル酸ペンタフルオ
ロエチル、アクリル酸2,2,2−トリフルオロエチ
ル、アクリル酸3−ジメチルアミノエチル、アクリル酸
イソブチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、アクリ
ル酸t−ブチル、アクリル酸ラウリル、アルキル変性ジ
ペンタエリスリトールのアクリレート、エチレンオキサ
イド変性ビスフェノールAジアクリレート、アクリル酸
カルビトール、ε−カプロラクトン変性ジペンタエリス
リトールのアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート、カプロラクトン変性ヒド
ロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジア
クリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、アクリル酸
テトラエチレングリコール、アクリル酸テトラヒドロフ
ルフリル、アクリル酸トリプロピレングリコール、トリ
メチロールプロパンエトキシトリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロ
キシピバリン酸エステルジアクリレート、アクリル酸
1,9−ノナンジオール、アクリル酸1,4−ブタンジ
オール、2−プロペノイックアシッド〔2−〔1,1−
ジメチル−2−〔(1−オキソ−2−プロペニル)オキ
シ〕エチル〕−5−エチル−1,3−ジオキサン−5−
イル〕メチルエステル、アクリル酸1,6−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリトールトリアクリレート、2−
アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンフタレー
ト、3−メトキシアクリル酸メチル、およびアクリル酸
アリル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタ
クリル酸t−ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシ
ル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、
メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2−ヒドロキ
シエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタ
クリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、メタクリル酸
N,N−ジエチルアミノエチル、メタクリル酸グリシジ
ル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、ジメタクリ
ル酸エチレングリコール、ジメタクリル酸トリエチレン
グリコール、ジメタクリル酸テトラエチレングリコー
ル、ジメタクリル酸1,3−ブチレングリコール、トリ
メタクリル酸トリメチロールプロパン、メタクリル酸イ
ソプロピル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ヘキ
シル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、
メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ドデシル、メタ
クリル酸フェニル、メタクリル酸トルイル、メタクリル
酸イソボルニル、メタクリル酸2−メトキシエチル、メ
タクリル酸3−メトキシブチル、メタクリル酸2−アミ
ノエチル、メタクリル酸トリエチレングリコール、2−
メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、2
−メタクリロイルオキシプロピルジメトキシメチルシラ
ン、メタクリル酸トリフルオロメチル、メタクリル酸ペ
ンタフルオロエチル、メタクリル酸2,2,2−トリフ
ルオロエチル、エチレングリコールモノアリルエーテル
アセテート、ジアリルカーボネート、2−(トリメチル
アンモニオ)エチルメタクリレート塩化物、プロピレン
グリコールモノアリルエーテルアセテート、ビニル酢酸
アリル、ビニル酢酸メチル、および無水イタコン酸など
の、オキシカルボニル基とアルケニル基とを併せ持つ化
合物;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチル
アクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N,N
−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリ
ルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、N−t−ブ
チルメタクリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミ
ド、N−n−ブチルメタクリルアミド、N−メチロール
アクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N
−エチロールアクリルアミド、N−エチロールメタクリ
ルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、およびト
リアクリルホルマールなどの、アミド基とアルケニル基
とを併せ持つ化合物;3−アリル−1,2−エポキシシ
クロヘキサンなどの、エポキシ基とアルケニル基とを併
せ持つ化合物;アリルグリシジルエーテルなどの、グリ
シジル基とアルケニル基とを併せ持つ化合物;アリルメ
ルカプタン、4−ブテンチオール、4−メルカプトスチ
レン、2−アリルチオフェノール、3−アリルチオフェ
ノール、4−アリルチオフェノール、3−アリルチオサ
リチル酸、4−アリルチオサリチル酸、5−アリルチオ
サリチル酸、フルフリルメルカプタン、および4−アリ
ルフルフリルメルカプタンなどの、メルカプト基とアル
ケニル基とを併せ持つ化合物;チオンエステル結合とア
ルケニル基とを併せ持つ化合物;2−アリルチオ安息香
酸メチル、3−アリルチオ安息香酸エチル、および4−
アリルチオ安息香酸アリルなどの、チオールエステル結
合とアルケニル基とを併せ持つ化合物;4−アリルジチ
オ安息香酸、4−アリルジチオ安息香酸メチル、4−ア
リルジチオ安息香酸エチル、2,4−ジアリルイミダゾ
ール−5−ジチオカルボン酸、および2,4−ジアリル
イミダゾール−5−ジチオカルボン酸メチルなどの、ジ
チオエステル結合とアルケニル基とを併せ持つ化合物;
アリルイソシアナート、3−ブテニルイソシアナート、
5−ヘキセニルイソシアナート、ビニル3−イソシアナ
ートプロピルエーテル、アリル3−イソシアナートプロ
ピルエーテルおよび4−アリルフェニルイソシアナート
などの、イソシアナト基とアルケニル基とを併せ持つ化
合物;3−ブテニルイソチオシアナート、および5−ヘ
キセニルイソチオシアナートなどの、イソチオシアナト
基とアルケニル基とを併せ持つ化合物;アセト酢酸アリ
ル、メチルアリルケトン、エチルアリルケトン、ジアリ
ルケトン、2−アリルシクロヘキサノン、3−アリルシ
クロヘキサノン、4−アリルシクロヘキサノン、5−ア
リル−5−メチルヒダントイン、およびN−アリル−2
−ピロリドンなどの、カルボニル基とアルケニル基とを
併せ持つ化合物;アクロレイン、メタクロレイン、アリ
ルグリオキザール、2−アリルベンズアルデヒド、3−
アリルベンズアルデヒド、4−アリルベンズアルデヒ
ド、5−アリル−3−アルデヒドピリジン、2−アリル
−4−フォルミルイミダゾール、2,4−ジアリル−5
−フォルミルイミダゾール、フルフラール、および4−
アリルフルフラールなどの、アルデヒド基とアルケニル
基とを併せ持つ化合物;アリルフェニルエーテルなど
の、アリールオキシ基とアルケニル基とを併せ持つ化合
物;ジアリルジメチルアンモニウムクロライドなどの、
4級アンモニウムイオンとアルケニル基とを併せ持つ化
合物;アリルスルホン酸アリルなどの、スルホン結合と
アルケニル基とを併せ持つ化合物;アリルクロライド、
アリルブロマイド、クロロ炭酸アリルエステル、ジアリ
ルクロレンデート、クロロプレン、メタリルクロライ
ド、塩化ビニル、1−アリル−2−クロロベンゼン、1
−アリル−3−クロロベンゼン、1−アリル−4−クロ
ロベンゼン、2−ブロモ−3−ブテン、および1−ブロ
モ−3−ブテンなどの、ハロゲン原子とアルケニル基と
を併せ持つ化合物;1,6−ヘキサンジオールジアリル
エーテル、イソプレン、ジビニルベンゼン、4−ビニル
−α−メチルスチレン、テレフタル酸ジアリル、フタル
酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、トリアリルイソシ
アヌレート、トリアリルシアヌレート、およびトリメタ
リルイソシアヌレートなどの、炭素−炭素二重結合とア
ルケニル基とを併せ持つ化合物;3−ブテン−1−イ
ン、3−メチル−3−ブテン−1−イン、および5−ヘ
キセン−1−インなどの、炭素−炭素三重結合とアルケ
ニル基とを併せ持つ化合物などが挙げられるが、これら
に限定されるものではない。これらは単独で使用しても
よく、複数を組み合わせて使用してもよい。これらの化
合物のうち、反応が容易で、確実にアルケニル基を導入
でき、かつ副生物が生成しない点で、一分子中にアルケ
ニル基とイソシアナト基とを有する化合物が好ましい。
【0092】これらの一分子中にアルケニル基と、メル
カプト基またはメルカプチド基と反応して結合形成可能
な官能基とをあわせもつ化合物を、メルカプト基、また
はメルカプチド基と反応させる際、触媒や反応条件は任
意であり、これら反応させる官能基に応じて適当なもの
を用いることができる。このようなメルカプト基、また
はメルカプチド基を利用した反応については、例えば、
“COMPREHENSIVE ORGANIC CH
EMISTRY;The Synthesisand
Reactions of Organic Comp
ounds:Volume3 Sulphur,Sel
enium,Silicon,Boron,Organ
ometallic Compounds,” D.N
EVILLE JONES Ed., 1979, P
ERGAMON PRESSに記載の方法、および引用
されている文献に記載の方法を適用可能である。
【0093】このような方法としては、例えば、末端に
メルカプト基を有するビニル系重合体とアリルメルカプ
タンとを、酸素や二酸化鉛などの酸化剤の存在下反応さ
せることにより、末端にジスルフィド結合を介してアリ
ル基を有するビニル系重合体を合成する方法、末端にメ
ルカプチド基を有するビニル系重合体とアリルクロライ
ドとを、Williamson法により反応させること
により、末端にアリル基を有するビニル系重合体を合成
する方法、末端にメルカプト基を有するビニル系重合体
とアリルイソシアナートとを、触媒非存在下、あるいは
ジブチルスズビスアセチルアセトナート、ジオクチルス
ズジラウレート等の有機錫化合物などのウレタン化触媒
の存在下、ウレタン化反応させることにより、末端にチ
オウレタン結合を介してアリル基を有するビニル系重合
体を合成する方法、末端にメルカプト基を有するビニル
系重合体をN−アリルマレイミドなどに付加させること
により、末端にアリル基を有するビニル系重合体を合成
する方法、末端にメルカプト基を有するビニル系重合体
を、ブタジエン、あるいはイソプレンに付加させること
により、それぞれ末端にアリル基、あるいはメタリル基
を有するビニル系重合体を合成する方法、末端にメルカ
プト基、あるいはメルカプチド基を有するビニル系重合
体を、アクリル酸、あるいはメタクリル酸とエステル化
反応させることにより、それぞれ末端にアクリロイル
基、あるいはメタクリロイル基を有するビニル系重合体
を合成する方法、末端にメルカプト基、あるいはメルカ
プチド基を有するビニル系重合体を、アクリル酸エステ
ル、あるいはメタクリル酸エステルとエステル交換反応
させることにより、それぞれ末端にアクリロイル基、あ
るいはメタクリロイル基を有するビニル系重合体を合成
する方法、末端にメルカプト基を有するビニル系重合体
とアリルエチルケトンとを酸性条件下反応させることに
より、末端にチオケタール結合を介してアリル基を有す
るビニル系重合体を合成する方法、末端にメルカプト基
を有するビニル系重合体とアリルアルコールとの脱水縮
合により、末端にアリル基を有するビニル系重合体を合
成する方法、末端にメルカプト基を有するビニル系重合
体とビニル酢酸とを、エステル化反応させることによ
り、末端にビニル基を有するビニル系重合体を合成する
方法、末端にメルカプト基、あるいはメルカプチド基を
有するビニル系重合体とジアリルカーボネートとをエス
テル交換反応させることにより、末端にカーボネート結
合を介してアリル基を有するビニル系重合体を合成する
方法、さらにこのような末端にカーボネート結合を介し
てアリル基を有するビニル系重合体を、パラジウム触媒
や塩基性化合物の存在下脱炭酸反応させることにより、
末端にアリル基を有するビニル系重合体を合成する方法
などが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
【0094】本発明の上記方法(II)メルカプト基
と、アセチレン化合物とを、塩基性化合物の存在下反応
させる方法は、一般的にレッペ反応と呼ばれ、反応条件
に関しては従来公知のものを適用可能である。
【0095】本発明のビニル系重合体を、上記方法(I
I)で製造する場合には、ビニル系重合体中のチオカル
ボニルチオ構造をメルカプト基に変換する必要がある
が、その方法、使用する化合物については、上記方法
(I)に関する説明と同様のものを適用可能である。す
なわち、ビニル系重合体中のチオカルボニルチオ構造を
メルカプト基に変換する際、上記記載の塩基性化合物、
酸性化合物、アンモニア、ヒドラジン、1級アミン化合
物、および2級アミン化合物からなる処理剤を使用する
ことができる。ただし、本発明のビニル系重合体を、上
記方法(II)で製造する場合には、レッペ反応の触媒
として塩基性化合物が必要であることから、チオカルボ
ニルチオ基をメルカプト基に変換する際に塩基性化合物
を使用することにより、連続してアセチレン化合物を反
応させることが可能となるため、塩基性化合物を使用す
ることが好ましい。このような、チオカルボニルチオ基
をメルカプト基に変換し、続いてアセチレン化合物を反
応させることが可能な、塩基性化合物としては、上記方
法(I)に関して記載した塩基性化合物を挙げることが
できる。これらの塩基性化合物のうち、入手性、価格、
および反応性の点で、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウムなどの、アルカリ金属水酸化物が好
ましい。
【0096】本発明のビニル系重合体を、上記方法(I
I)によって製造する場合、使用できるアセチレン化合
物としては、アセチレン、プロピン、1−ブチン、1−
ペンチン、1−オクチン、フェニルアセチレン、シクロ
ヘキシルアセチレン、クロロアセチレン、3−メチル−
1−ブチン、4−メチル−1−ペンチン、4,4−ジメ
チル−1−ペンチン、4−メトキシフェニルアセチレ
ン、3−メトキシプロピンなど、エチニル基を有する化
合物を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。このようなエチニル基を有する化合物として
は、ビニル系重合体の末端にアルケニル基を確実に導入
できる点で、アセチレンが好ましい。
【0097】本発明における上記方法(II)におい
て、使用するアセチレン化合物の量は特に限定されない
が、ビニル系重合体にアルケニル基を確実に導入できる
点で、ビニル系重合体中のメルカプト基1モルに対して
0.5モル以上が好ましく、1モル以上がより好まし
い。また、製造コストの点で、ビニル系重合体中のメル
カプト基1モルに対して10000モル以下が好まし
く、5000モル以下が好ましい。過剰のアセチレン化
合物は、回収して再利用することが可能である。
【0098】本発明における上記方法(II)におい
て、反応温度は特に限定されないが、反応がスムーズに
進行し、副反応が抑制される点で0〜200℃が好まし
く、30〜150℃がより好ましい。また、一般的に加
圧反応となるため、耐圧容器で反応させることが好まし
い。
【0099】本発明のアルケニル基含有ビニル系重合体
は、一分子中に2つ以上の水素−ケイ素結合を有する化
合物と混合することにより、ヒドロシリル化触媒の存在
下、ヒドロシリル化反応により架橋し、硬化する材料と
なる。また、本発明のアルケニル基含有ビニル系重合体
は、一分子中に水素−ケイ素結合と、架橋性シリル基と
を有する化合物によるヒドロシリル化反応により、架橋
性シリル基含有ビニル系重合体とすることができ、この
ような架橋性シリル基含有ビニル系重合体は空気中の湿
分や水分によって架橋し、硬化する材料となる。このよ
うな硬化性材料は、接着剤、粘着剤、シーリング剤、ポ
ッティング材、ガスケットやパッキンなどの各種成形体
などの用途に利用可能である。また、本発明のアルケニ
ル基含有ビニル系重合体は、ガラス転移温度の互いに異
なる複数の重合体ブロックを含有するブロック共重合体
とすることにより、熱可塑性エラストマーとしての性質
を発現できる。このような熱可塑性エラストマーは、各
種成形体、ホットメルト接着剤、樹脂改質材、フィル
ム、シートなどの用途に利用可能である。また、本発明
のビニル系重合体を熱可塑性エラストマーとする場合に
おいても、上述のアルケニル基を利用したヒドロシリル
化反応により、架橋して硬化する性質を付与することが
できる。このような反応性熱可塑性エラストマーは、耐
熱性を有する各種成形体、反応性ホットメルト接着剤、
樹脂改質剤などの用途に利用できる。
【0100】本発明のビニル系重合体中のアルケニル基
を利用したヒドリシリル化反応を行う場合、白金化合物
などの従来公知のひどろしりる化触媒を使用することが
でき、反応条件についても従来公知の条件を適用可能で
ある。
【0101】
【実施例】以下に本発明を実施例に基づき説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下
の記述において、重量平均分子量(Mw)、数平均分子
量(Mn)、および分子量分布(Mw/Mn)は、ゲル
浸透クロマトグラフィー(GPC)測定により求めた。
クロロホルムを溶出液とし、ポリスチレンゲルカラムを
使用し、ポリスチレン換算で解析した。
【0102】(実施例1)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、還流冷却管を備えた100mL反応器に、ビニル
系単量体としてメタクリル酸メチル28.3g、重合開
始剤としてアゾビス(イソブチロニトリル)40mg、
チオカルボニルチオ基を有する化合物として式(11)
【0103】
【化27】 で示される化合物121mg、および溶剤としてトルエ
ン10mLを入れ、系内を窒素置換した。反応液を撹拌
しながら60℃で8時間加熱した。反応液を室温まで冷
却した後、メタノール100mL中に注ぎ込み、Mw=
35800、Mn=29800、Mw/Mn=1.20
のポリメタクリル酸メチル12gを得た。 1H NMR
測定の結果、チオカルボニルチオ基はポリメタクリル酸
メチルの片末端に導入されており、導入率は片末端基準
で92%であることを確認した。
【0104】得られた重合体10gをトルエン40mL
に溶解し、室温でアミン化合物としてジエチルアミン3
gを添加し、1時間撹拌したところ、溶液の色が赤橙色
から無色透明へ変化した。さらに4時間室温で撹拌した
後、溶液をシリカゲルカラム(3g)で処理した後減圧
脱揮した。得られた重合体の1H NMR測定から、片
末端にメルカプト基を有するポリメタクリル酸メチルで
あることを確認した。メルカプト基の導入率は片末端基
準で88%であった。
【0105】こうして得られた、片末端にメルカプト基
を有するポリメタクリル酸メチル8.5gを脱水したト
ルエン40mLに溶解し、窒素雰囲気で一分子中にアル
ケニル基と、メルカプト基と反応して結合形成可能な官
能基とをあわせもつ化合物としてアリルイソシアナート
22.9mgを添加し、ウレタン化触媒としてジブチル
スズビスアセチルアセトナート3mgを加えて、80℃
で8時間加熱撹拌した。減圧脱揮した後得られた重合体
1H NMRスペクトルより、片末端にチオウレタン
結合を介したアリル基を有するポリメタクリル酸メチル
であることを確認した。アリル基の導入率は、片末端基
準で83%であった。
【0106】(実施例2)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、還流冷却管を備えた100mL反応器に、ビニル
系単量体としてアクリル酸n−ブチル18.0g、重合
開始剤としてアゾビス(イソブチロニトリル)3mg、
チオカルボニルチオ基を有する化合物として式(12)
【0107】
【化28】 で示される化合物20mg、および溶剤としてトルエン
30mLを入れ、系内を窒素置換した。反応液を撹拌し
ながら60℃で3時間加熱した。反応液からトルエンを
減圧留去し、Mw=38000、Mn=33800、M
w/Mn=1.12のポリアクリル酸n−ブチル2.1
gを得た。1H NMR測定の結果、チオカルボニルチ
オ基がポリアクリル酸n−ブチルの片末端に導入されて
おり、導入率は片末端基準で97%であることを確認し
た。
【0108】得られたポリアクリル酸n−ブチル2gを
トルエン10mLに溶解し、0℃でアミン化合物として
ジメチルアミン2gを添加し、6時間撹拌した後シリカ
ゲルカラム(1g)で処理し、減圧脱揮した。得られた
重合体の1H NMR測定から、片末端にメルカプト基
を有するポリアクリル酸n−ブチルであることを確認し
た。メルカプト基の導入率は片末端基準で95%であっ
た。
【0109】こうして得られた、片末端にメルカプト基
を有するポリアクリル酸n−ブチル1.5gを脱水した
トルエン10mLに溶解し、窒素雰囲気で一分子中にア
ルケニル基と、メルカプト基と反応して結合形成可能な
官能基とをあわせもつ化合物としてアリルイソシアナー
ト4.4mgを添加し、ウレタン化触媒としてジブチル
スズビスアセチルアセトナート0.5mgを加えて、8
0℃で10時間加熱撹拌した。減圧脱揮した後得られた
重合体の1H NMRスペクトルより、片末端にチオウ
レタン結合を介したアリル基を有するポリアクリル酸n
−ブチルであることを確認した。アリル基の導入率は、
片末端基準で90%であった。
【0110】(実施例3)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、還流冷却管を備えた100mL反応器に、ビニル
系単量体としてスチレン27.0g、重合開始剤として
アゾビス(イソブチロニトリル)9mg、およびチオカ
ルボニルチオ基を有する化合物として式(13)
【0111】
【化29】 で示される化合物68mgを入れ、系内を窒素置換し
た。反応液を撹拌しながら60℃で20時間加熱した。
反応液を室温まで冷却した後、メタノール200mL中
に注ぎ込み、Mw=16200、Mn=14000、M
w/Mn=1.16のポリスチレン4.3gを得た。1
H NMR測定の結果、チオカルボニルチオ基はポリス
チレンの片末端に導入されており、導入率は片末端基準
で90%であることを確認した。
【0112】得られたポリスチレン2gをトルエン40
mLに溶解し、室温でアミン化合物としてジエチルアミ
ン2gを添加し、50℃で4時間撹拌した後シリカゲル
カラム(0.8g)で処理し、減圧脱揮した。得られた
重合体の1H NMR測定から、片末端にメルカプト基
を有するポリスチレンであることを確認した。メルカプ
ト基の導入率は片末端基準で85%であった。
【0113】こうして得られた、片末端にメルカプト基
を有するポリスチレン2gを脱水したトルエン5mLに
溶解し、アルゴン雰囲気で一分子中にアルケニル基と、
メルカプト基と反応して結合形成可能な官能基とをあわ
せもつ化合物としてアリルイソシアナート13.7mg
を添加し、ウレタン化触媒としてジオクチルスズジラウ
レート1mgを加えて、70℃で8時間加熱撹拌した。
減圧脱揮した後得られた重合体の1H NMRスペクト
ルより、片末端にチオウレタン結合を介したアリル基を
有するポリスチレンであることを確認した。アリル基の
導入率は、片末端基準で83%であった。
【0114】(実施例4)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、滴下漏斗、還流冷却管を備えた300mL反応器
に、乳化剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム111
mgと蒸留水98gを入れ、80℃で加熱撹拌しながら
系内を窒素置換した。チオカルボニルチオ構造を有する
化合物として式(11)
【0115】
【化30】 で示される化合物217mgをビニル系単量体としての
メタクリル酸メチル3.0gに溶解させて添加し、20
分後に重合開始剤として4,4’−アゾビス(4−シア
ノ吉草酸)186mgを蒸留水5gと共に添加した。8
0℃で30分間撹拌した後、滴下漏斗からビニル系単量
体としてメタクリル酸メチル17.3gを110分かけ
て滴下した。2時間後に室温まで冷却し、塩化ナトリウ
ムで塩析し、蒸留水で洗浄することにより、ポリメタク
リル酸メチル18.0gを得た。GPC測定の結果、M
w=25200、Mn=20100、Mw/Mn=1.
25であり、1H NMR測定の結果、チオカルボニル
チオ構造がポリメタクリル酸メチルの片末端に導入され
ており、導入率は片末端基準で85%であることを確認
した。
【0116】得られたポリメタクリル酸メチル10gを
トルエン50mLに溶解し、0℃でアミン化合物として
モノエチルアミン5gを添加し、8時間撹拌した後シリ
カゲルカラム(3g)で処理し、60℃で減圧脱揮し
た。得られた重合体の1H NMR測定から、片末端に
メルカプト基を有するポリメタクリル酸メチルであるこ
とを確認した。メルカプト基の導入率は片末端基準で8
0%であった。
【0117】こうして得られた、片末端にメルカプト基
を有するポリメタクリル酸メチル9.5gを脱水したト
ルエン20mLに溶解し、窒素雰囲気でヘキサメチレン
ジイソシアナート79.5mgを添加し、ウレタン化触
媒としてジブチルスズビスアセチルアセトナート3mg
を加えて、80℃で6時間加熱撹拌した。続いてアリル
アルコール200mgを添加し、80℃で5時間加熱撹
拌した。減圧脱揮した後得られた重合体の1H NMR
スペクトルより、片末端にウレタン結合を介したアリル
基を有するポリメタクリル酸メチルであることを確認し
た。アリル基の導入率は、片末端基準で72%であっ
た。なお、GPC測定より、3%のポリメタクリル酸メ
チルがヘキサメチレンジイソシアナートによりカップリ
ングしていることが確認された。
【0118】(実施例5)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、滴下漏斗、還流冷却管を備えた300mL反応器
に、乳化剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム110
mgと蒸留水100gを入れ、80℃で加熱撹拌しなが
ら系内を窒素置換した。チオカルボニルチオ構造を有す
る化合物として式(11)
【0119】
【化31】 で示される化合物217mgをビニル系単量体としての
メタクリル酸メチル3.0gに溶解させて添加し、20
分後に重合開始剤として4,4’−アゾビス(4−シア
ノ吉草酸)185mgを蒸留水4gと共に添加した。8
0℃で20分間撹拌した後、滴下漏斗からビニル系単量
体としてメタクリル酸メチル17.5gを90分かけて
滴下した。30分後、ビニル系単量体としてアクリル酸
n−ブチル20.0gを1時間かけて滴下漏斗から滴下
した。80℃で5時間撹拌した後、乳化液を塩化ナトリ
ウムで塩析し、蒸留水で洗浄することにより、ポリメタ
クリル酸メチル−ポリアクリル酸n−ブチル ジブロッ
ク共重合体31.2gを得た。GPC測定の結果、Mw
=66000、Mn=44300、Mw/Mn=1.4
9であり、1H NMR測定の結果、チオカルボニルチ
オ構造がポリメタクリル酸メチル−ポリアクリル酸n−
ブチル ジブロック共重合体のポリアクリル酸n−ブチ
ル側末端に導入されており、導入率は片末端基準で82
%であることが確認された。
【0120】得られた重合体20gをトルエン100m
Lに溶解し、アミン化合物としてジエチルアミン8gを
添加し、室温で2時間、50℃で3時間撹拌した後シリ
カゲルカラム(2g)で処理し、減圧脱揮した。得られ
た重合体の1H NMR測定から、ポリアクリル酸n−
ブチル側末端にメルカプト基を有するポリメタクリル酸
メチル−ポリアクリル酸n−ブチル ジブロック共重合
体であることを確認した。メルカプト基の導入率は片末
端基準で77%であった。
【0121】こうして得られた、ポリアクリル酸n−ブ
チル側末端にメルカプト基を有するポリメタクリル酸メ
チル−ポリアクリル酸n−ブチル ジブロック共重合体
12gを脱水したトルエン20mLに溶解し、窒素雰囲
気で一分子中にアルケニル基と、メルカプト基と反応し
て結合形成可能な官能基とをあわせもつ化合物としてア
リルイソシアナート23.9mgを添加し、ウレタン化
触媒としてジブチルスズビスアセチルアセトナート3m
gを加えて、80℃で7時間加熱撹拌した。減圧脱揮し
た後得られた重合体の1H NMRスペクトルより、ポ
リアクリル酸n−ブチル側末端にチオウレタン結合を介
してアリル基を有するポリメタクリル酸メチル−ポリア
クリル酸n−ブチル ジブロック共重合体であることを
確認した。アリル基の導入率は、片末端基準で73%で
あった。(ちなみに、ポリメタクリル酸メチルブロック
部のTgは約100℃、ポリアクリル酸n−ブチルブロ
ック部のTgは約−50℃である。) (実施例6)撹拌機、温度計、窒素ガス導入管、還流冷
却管を備えた100mL反応器に、ビニル系単量体とし
てアクリル酸n−ブチル18.1g、重合開始剤として
アゾビス(イソブチロニトリル)3mg、チオカルボニ
ルチオ基を有する化合物として式(12)
【0122】
【化32】 で示される化合物20mg、および溶剤としてトルエン
30mLを入れ、系内を窒素置換した。反応液を撹拌し
ながら60℃で3時間加熱した。反応液からトルエンを
減圧留去し、Mw=39200、Mn=33900、M
w/Mn=1.15のポリアクリル酸n−ブチル2.1
gを得た。1H NMR測定の結果、チオカルボニルチ
オ構造はポリアクリル酸n−ブチルの片末端に導入され
ており、導入率は片末端基準で96%であることが確認
された。
【0123】得られたポリアクリル酸n−ブチル1.0
gをジメチルホルムアミド12mLに溶解し、ビニル系
単量体としてアクリル酸8.3g、重合開始剤としてア
ゾビスイソブチロニトリル0.3mgと共にガラス製ア
ンプルに入れ、系内を窒素置換した後封緘した。60℃
で4時間加熱した後開封し、アミン化合物としてジメチ
ルアミン3gを添加して0℃で10時間撹拌した。シリ
カゲルカラム(2g)で処理した後減圧留去し、得られ
た重合体を1H NMR測定により解析すると、ポリア
クリル酸n−ブチル−ポリアクリル酸 ジブロック共重
合体であり、ポリアクリル酸側の末端にメルカプト基が
導入されていることが確認された。ポリアクリル酸部分
をメチルエステル化した後GPC測定を行ったところ、
Mw=63500、Mn=50100、Mw/Mn=
1.27であった。また、メルカプト基の導入率は片末
端基準で72%であった。
【0124】こうして得られた、ポリアクリル酸側末端
にメルカプト基を有するポリアクリル酸n−ブチル−ポ
リアクリル酸 ジブロック共重合体7gを脱水したトル
エン10mLに溶解し、空気雰囲気で一分子中にアルケ
ニル基と、メルカプト基と反応して結合形成可能な官能
基とをあわせもつ化合物としてアリルメルカプタン11
mgを添加し、酸化剤として二酸化鉛0.1mgを加え
て、80℃で9時間加熱撹拌した。減圧脱揮した後得ら
れた重合体の1H NMRスペクトルより、ポリアクリ
ル酸側末端にジスルフィド結合を介してアリル基を有す
るポリアクリル酸n−ブチル−ポリアクリル酸 ジブロ
ック共重合体であることを確認した。アリル基の導入率
は、片末端基準で70%であった。
【0125】(実施例7)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、シリンジポンプ(2個)、還流冷却管を備えた3
00mL反応器に、乳化剤としてドデシルスルホン酸ナ
トリウム50mgと蒸留水75gを入れ、80℃で加熱
撹拌しながら系内を窒素置換した。チオカルボニルチオ
構造を有する化合物として式(13)
【0126】
【化33】 で示される化合物155mgと重合開始剤として4,
4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)120mgをビニ
ル系単量体としてのスチレン3.7gに溶解させて添加
し、80℃で10分間撹拌した。一方のシリンジポンプ
にビニル系単量体としてスチレン32.9gを入れて
0.20mL/minの速度で添加すると共に、他方の
シリンジポンプから、重合開始剤として4,4’−アゾ
ビス(4−シアノ吉草酸)210mgを乳化剤としての
ドデシルスルホン酸ナトリウムの1%水溶液24gに溶
解させた水溶液を0.09mL/minの速度で添加し
た。添加終了後、さらに80℃で2時間撹拌した後室温
まで冷却し、アミン化合物としてジブチルアミン3gを
添加し、さらにアミン化合物と同様の処理剤としてアン
モニアガスを吹き込みながら室温で3時間撹拌した。そ
の後乳化液を塩化ナトリウムで塩析し、トルエン‐メタ
ノールで再沈殿することにより、ポリスチレン35.1
gを得た。GPC測定よりMw=37700、Mn=2
9400、Mw/Mn=1.28であることを確認し、
1H NMR測定より、90%の導入率(片末端基準)
でメルカプト基がポリスチレンの片末端に導入されてい
ることを確認した。
【0127】こうして得られた、片末端にメルカプト基
を有するポリスチレン20gを脱水したトルエン50m
Lに溶解し、空気雰囲気で一分子中にアルケニル基と、
メルカプト基と反応して結合形成可能な官能基とをあわ
せもつ化合物としてアリルメルカプタン53mgを添加
し、酸化剤として酸素を吹き込みながら、80℃で30
時間加熱撹拌した。減圧脱揮した後得られた重合体の1
H NMRスペクトルより、片末端にジスルフィド結合
を介してアリル基を有するポリスチレンであることを確
認した。アリル基の導入率は、片末端基準で84%であ
った。
【0128】(実施例8)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、還流冷却管を備えた100mL反応器に、ビニル
系単量体としてアクリル酸n−ブチル18.1g、重合
開始剤として1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサン
カルボニトリル)4.0mg、チオカルボニルチオ構造
を有する化合物として式(14)
【0129】
【化34】 で示される化合物63.5mg、および溶剤としてトル
エン30mLを入れ、系内を窒素置換した。反応液を撹
拌しながら90℃で5時間加熱した。反応液からトルエ
ンを減圧留去し、Mw=77000、Mn=5690
0、Mw/Mn=1.35の重合体10.0gを得た。
1H NMR測定の結果、チオカルボニルチオ基がポリ
アクリル酸n−ブチルの両末端に導入されており、導入
率は両末端基準で93%であることを確認した。
【0130】両末端にチオカルボニルチオ基を有するポ
リアクリル酸n−ブチル3.0gをトルエン20mLに
溶解し、アミン化合物としてモノエチルアミン3.3g
を添加して10℃で5時間撹拌した。反応溶液をシリカ
ゲルカラム(2g)で処理した後減圧脱気し、得られた
重合体の1H NMR測定の結果、メルカプト基を両末
端に有するポリアクリル酸n−ブチルであり、メルカプ
ト基の導入率が両末端基準で90%であることを確認し
た。
【0131】こうして得られた、両末端にメルカプト基
を有するポリアクリル酸n−ブチル2.5gを脱水した
トルエン10mLに溶解し、空気雰囲気で一分子中にメ
ルカプト基と反応して結合形成可能な官能基とをあわせ
もつ化合物としてアリルメルカプタン3.4mgを添加
し、酸化剤として二酸化鉛0.1mgを加えて、80℃
で12時間加熱撹拌した。減圧脱揮した後得られた重合
体の1H NMRスペクトルより、両末端にジスルフィ
ド結合を介してアリル基を有するポリアクリル酸n−ブ
チルであることを確認した。アリル基の導入率は、両末
端基準で85%であった。
【0132】(実施例9)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、還流冷却管を備えた300mL反応器に、ビニル
系単量体としてアクリル酸n−ブチル90.5g、重合
開始剤として1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサン
カルボニトリル)20mg、チオカルボニルチオ構造を
有する化合物として式(14)
【0133】
【化35】 で示される化合物701mg、および溶剤としてトルエ
ン140mLを入れ、系内を窒素置換した。反応液を撹
拌しながら90℃で40時間加熱した。反応液をサンプ
リングし、GPC測定よりMw=56500、Mn=4
1100、Mw/Mn=1.37の重合体生成を確認す
ると共に、1H NMR測定より、チオカルボニルチオ
構造がポリアクリル酸n−ブチルの両末端に導入されて
おり、導入率は両末端基準で85%であることを確認し
た。
【0134】続いて、アミン化合物としてジエチルアミ
ン75gを添加して30℃で8時間撹拌した。得られた
重合体の1H NMR測定の結果、メルカプト基を両末
端に有するポリアクリル酸n−ブチルであり、メルカプ
ト基の導入率が両末端基準で90%であることを確認し
た。
【0135】こうして得られた、両末端にメルカプト基
を有するポリアクリル酸n−ブチル50gを脱水したト
ルエン130mLに溶解し、空気雰囲気で一分子中にア
ルケニル基と、メルカプト基と反応して結合形成可能な
官能基とをあわせもつ化合物としてアリルメルカプタン
190mgを添加し、酸化剤として二酸化鉛0.5mg
を加えて、80℃で12時間加熱撹拌した。減圧脱揮し
た後得られた重合体の 1H NMRスペクトルより、両
末端にジスルフィド結合を介してアリル基を有するポリ
アクリル酸n−ブチルであることを確認した。アリル基
の導入率は、両末端基準で88%であった。
【0136】(実施例10)撹拌機、温度計、窒素ガス
導入管、還流冷却管を備えた300mL反応器に、ビニ
ル系単量体としてスチレン225.5gとチオカルボニ
ルチオ構造を有する化合物として式(15)
【0137】
【化36】 で示される化合物1.37gを秤取し、系内を窒素置換
した。100℃で20時間加熱撹拌し、サンプリングし
てGPC測定を行ったところ、Mw=35500、Mn
=25800、Mw/Mn=1.38の重合体の生成を
確認した。この重合体は4本の枝を持つ星状重合体であ
り、1H NMR測定より、それぞれの末端にチオカル
ボニルチオ構造を有することを確認した。チオカルボニ
ルチオ構造の導入率は、全末端基準で78%であった。
【0138】反応液を室温まで冷却し、ヒンダードアミ
ン系光安定剤(HALS)としてアデカスタブLA−7
7(旭電化製)12.5gを添加して50℃で20時間
加熱撹拌した。溶媒を減圧留去して得られた重合体は、
4本の枝を持つ星状重合体であり、1H NMR測定よ
り、それぞれの末端にメルカプト基を有することを確認
した。メルカプト基の導入率は全末端基準で72%であ
った。
【0139】こうして得られた、それぞれの末端にメル
カプト基を有する星状ポリスチレン100gを脱水した
トルエン250mLに溶解し、空気雰囲気で一分子中に
アルケニル基と、メルカプト基と反応して結合形成可能
な官能基とをあわせもつ化合物としてアリルメルカプタ
ン1.20gを添加し、酸化剤として二酸化鉛12mg
を加えて、80℃で12時間加熱撹拌した。減圧脱揮し
た後得られた重合体の 1H NMRスペクトルより、そ
れぞれの末端にジスルフィド結合を介してアリル基を有
する星状ポリスチレンであることを確認した。アリル基
の導入率は、全末端基準で68%であった。
【0140】(実施例11)撹拌機、温度計、圧力計、
窒素ガス導入管、単量体導入管、還流冷却管を備えた2
0L耐圧反応器に、懸濁分散剤としてポリビニルアルコ
ールの3%水溶液155.3g、重合開始剤としてジ−
2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネートのアルコ
ール溶液3.33g、チオカルボニルチオ構造を有する
化合物として式(16)
【0141】
【化37】 で示される化合物9.32g、および蒸留水18640
gを入れ、系内を窒素置換した。単量体導入管からビニ
ル系単量体として塩化ビニル単量体4660gを導入し
た。反応液の温度が57℃となるように加熱し、10時
間撹拌した。未反応単量体を留去し、懸濁液をろ過、メ
タノールで洗浄し、ポリ塩化ビニル2140gを得た。
テトラヒドロフラン(THF)を留出液としたGPC測
定の結果、Mw=53500、Mn=37600、Mw
/Mn=1.42であることを確認した。1H NMR
測定の結果、得られたポリ塩化ビニルは片末端にチオカ
ルボニルチオ構造を有し、その導入率は片末端基準で8
2%であることを確認した。
【0142】このポリ塩化ビニル10gをTHF100
gに溶解し、アミン化合物としてジエチルアミン1.5
gを添加して室温で10時間撹拌した。得られた重合体
は片末端にメルカプト基を有するポリ塩化ビニルであ
り、1H NMR測定の結果、メルカプト基の導入率は
片末端基準で78%であった。
【0143】こうして得られた、片末端にメルカプト基
を有するポリ塩化ビニル8.5gを脱水したTHF40
mLに溶解し、シリカゲルカラム(3g)で処理した
後、窒素雰囲気で一分子中にアルケニル基と、メルカプ
ト基と反応して結合形成可能な官能基とをあわせもつ化
合物としてアリルイソシアナート16.8mgを添加
し、ウレタン化触媒としてジブチルスズビスアセチルア
セトナート5mgを加えて、60℃で15時間加熱撹拌
した。減圧脱揮した後得られた重合体の1H NMRス
ペクトルより、片末端にチオウレタン結合を介したアリ
ル基を有するポリ塩化ビニルであることを確認した。ア
リル基の導入率は、片末端基準で73%であった。
【0144】(実施例12)撹拌機、温度計、窒素ガス
導入管、滴下漏斗、還流冷却管を備えた300mL反応
器に、乳化剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム10
9mgと蒸留水100gを入れ、80℃で加熱撹拌しな
がら系内を窒素置換した。チオカルボニルチオ構造を有
する化合物として式(11)
【0145】
【化38】 で示される化合物218mgをビニル系単量体としての
メタクリル酸メチル3.0gに溶解させて添加し、20
分後に重合開始剤として4,4’−アゾビス(4−シア
ノ吉草酸)185mgを蒸留水4gと共に添加した。8
0℃で20分間撹拌した後、滴下漏斗からビニル系単量
体としてメタクリル酸メチル17.5gを90分かけて
滴下した。30分後、ビニル系単量体としてアクリル酸
n−ブチル20.0gを1時間かけて滴下漏斗から滴下
した。80℃で5時間撹拌した後、乳化液を塩化ナトリ
ウムで塩析し、蒸留水で洗浄することにより、ポリメタ
クリル酸メチル−ポリアクリル酸n−ブチル ジブロッ
ク共重合体31.3gを得た。GPC測定の結果、Mw
=476000、Mn=42700、Mw/Mn=1.
11であり、1H NMR測定の結果、チオカルボニル
チオ構造がポリメタクリル酸メチル−ポリアクリル酸n
−ブチル ジブロック共重合体のポリアクリル酸n−ブ
チル側末端に導入されており、導入率は片末端基準で8
8%であることが確認された。
【0146】得られた重合体30gをトルエン100m
Lに溶解し、塩基性化合物として水酸化カリウム0.1
gを添加し、室温で2時間、50℃で3時間撹拌した
後、水5gを加えて激しく撹拌した。共沸蒸留により水
を除去した。得られた重合体の 1H NMR測定から、
ポリアクリル酸n−ブチル側末端にメルカプト基を有す
るポリメタクリル酸メチル−ポリアクリル酸n−ブチル
ジブロック共重合体であることを確認した。メルカプ
ト基の導入率は片末端基準で80%であった。
【0147】こうして得られた、ポリアクリル酸n−ブ
チル側末端にメルカプト基を有するポリメタクリル酸メ
チル−ポリアクリル酸n−ブチル ジブロック共重合体
の、水酸化カリウムを含有するトルエン溶液をオートク
レーブに入れ、窒素置換した後系内を減圧し、アセチレ
ンを5kg/cm2の圧力となるように充填し、80℃
で10時間撹拌した。得られたトルエン溶液を水洗し、
トルエンを減圧留去することにより、片末端にビニルス
ルフィド基を有するポリメタクリル酸メチル−ポリアク
リル酸n−ブチル ジブロック共重合体を得た。ビニル
スルフィド基の導入率は、メルカプト基基準で93%で
あった。この重合体のGPC分析より、Mw=4820
0、Mn=42800、Mw/Mn=1.13であるこ
とを確認した。
【0148】(実施例13)撹拌機、温度計、窒素ガス
導入管、滴下漏斗、還流冷却管を備えた300mL反応
器に、乳化剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム11
0mgと蒸留水99gを入れ、80℃で加熱撹拌しなが
ら系内を窒素置換した。チオカルボニルチオ基を有する
化合物として式(11)
【0149】
【化39】 で示される化合物215mgをビニル系単量体としての
メタクリル酸メチル3.0gに溶解させて添加し、20
分後に重合開始剤として4,4’−アゾビス(4−シア
ノ吉草酸)186mgを蒸留水5gと共に添加した。8
0℃で30分間撹拌した後、滴下漏斗からビニル系単量
体としてメタクリル酸メチル17.3gを100分かけ
て滴下した。2時間後に室温まで冷却し、塩化ナトリウ
ムで塩析し、蒸留水で洗浄することにより、ポリメタク
リル酸メチル18.4gを得た。GPC測定の結果、M
w=25000、Mn=20400、Mw/Mn=1.
23であり、1H NMR測定の結果、チオカルボニル
チオ構造がポリメタクリル酸メチルの片末端に導入され
ており、導入率は片末端基準で85%であることを確認
した。
【0150】得られたポリメタクリル酸メチル15gを
トルエン100mLに溶解し、0℃でアミン化合物とし
てモノエチルアミン5gを添加し、8時間撹拌した後6
0℃まで昇温して減圧脱揮した。得られた重合体の1
NMR測定から、片末端にメルカプト基を有するポリ
メタクリル酸メチルであることを確認した。メルカプト
基の導入率は片末端基準で80%であった。
【0151】こうして得られた、片末端にメルカプト基
を有するポリメタクリル酸メチル15gを、アセトン1
0mLとテトラヒドロフラン30mLの混合溶媒に溶解
し、塩基性化合物としてナトリウムメチラート0.11
gを添加し、耐圧容器に入れて窒素置換した。圧力が2
5℃で3kg/cm2となるようにアセチレンを充填
し、60℃で15時間撹拌した。得られた溶液をメタノ
ール200mLに注ぎ、ポリメタクリル酸メチルを得
た。1H NMR測定の結果、このポリメタクリル酸メ
チルは片末端にビニルスルフィド基を有しており、その
導入率はメルカプト基基準で90%であった。また、こ
のポリメタクリル酸メチルのGPC分析より、Mw=2
6800、Mn=21400、Mw/Mn=1.25で
あることを確認した。
【0152】(実施例14)撹拌機、温度計、圧力計、
窒素ガス導入管、単量体導入管、還流冷却管を備えた2
0L耐圧反応器に、懸濁分散剤としてポリビニルアルコ
ールの3%水溶液155.3g、重合開始剤としてジ−
2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネートのアルコ
ール溶液3.33g、チオカルボニルチオ構造を有する
化合物として式(16)
【0153】
【化40】 で示される化合物9.33g、および蒸留水18650
gを入れ、系内を窒素置換した。単量体導入管からビニ
ル系単量体として塩化ビニル単量体4660gを導入し
た。反応液の温度が57℃となるように加熱し、10時
間撹拌した。未反応単量体を留去し、ポリ塩化ビニルの
分散液を得た。サンプリングを行い、テトラヒドロフラ
ン(THF)を留出液としたGPC測定の結果、Mw=
53200、Mn=38400、Mw/Mn=1.39
であることを確認した。1H NMR測定の結果、得ら
れたポリ塩化ビニルは片末端にチオカルボニルチオ構造
を有し、その導入率は片末端基準で87%であることを
確認した。
【0154】このポリ塩化ビニルの分散液に塩基性化合
物として水酸化ナトリウム3.4gを添加し、50℃で
12時間撹拌することにより、ポリ塩化ビニルのチオカ
ルボニルチオ基をメルカプト基に変換した。サンプリン
グして1H NMR測定を実施し、メルカプト基の導入
率が片末端基準で82%であることを確認した。
【0155】こうして得られた、片末端にメルカプト基
を有するポリ塩化ビニルの分散液を60℃に加熱し、撹
拌しながら、圧力が常に5kg/cm2となるようにア
セチレンガスを導入し、30時間反応させた。過剰のア
セチレンガスを除去した後、ろ過、メタノールで洗浄
し、片末端にビニルスルフィド基を有するポリ塩化ビニ
ル2050gを得た。1H NMR測定の結果、ビニル
スルフィド基がメルカプト基基準で89%導入されてい
ることを確認し、GPC測定の結果、Mw=5520
0、Mn=39000、Mw/Mn=1.42であるこ
とを確認した。
【0156】(実施例15)撹拌機、温度計、窒素ガス
導入管、還流冷却管、および滴下ろうとを備えた1L反
応器に、乳化剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム4
10mgと、蒸留水400gを入れ、80℃に加熱撹拌
しながら窒素置換した。チオカルボニルチオ基を有する
化合物として式(17)
【0157】
【化41】 で示される化合物23.34gを、ビニル系単量体とし
てのアクリル酸n−ブチル50gに溶解させて添加し、
80℃で20分間、窒素気流下で撹拌した後、重合開始
剤として4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)7.
0gを蒸留水25gと共に添加した。80℃で30分撹
拌した時点で、滴下ろうとからビニル系単量体としてア
クリル酸n−ブチル100gとアクリル酸2−メトキシ
エチル50gの混合溶液を、1時間30分かけて滴下し
た。さらに80℃で4時間撹拌した後、乳化液を室温ま
で冷却し、塩析、ろ過、洗浄により、両末端にチオカル
ボニルチオ構造を有する、アクリル酸n−ブチル−アク
リル酸2−メトキシエチルランダム共重合体を得た。G
PC分析、および1H NMR分析より、この重合体は
Mw=4320、Mn=3970、Mw/Mn=1.0
9であり、チオカルボニルチオ基の導入率は、両末端基
準で97%であることを確認した。
【0158】このチオカルボニルチオ基を両末端に有す
る重合体180gを、トルエン200mLに溶解し、ア
ミン化合物としてモノエチルアミン20gを加えて5℃
で10時間撹拌し、過剰のモノエチルアミンとトルエン
とを留去することにより、メルカプト基を両末端に有す
るアクリル酸n−ブチル−アクリル酸2−メトキシエチ
ル ランダム共重合体を得た。この重合体をトルエン2
00mLに溶解し、耐圧容器に入れて塩基性化合物とし
て水酸化カリウム0.2gとアセチレン25gを仕込
み、80℃で12時間反応させることにより、両末端に
ビニルスルフィド基を有するアクリル酸n−ブチル−ア
クリル酸2−メトキシエチル ランダム共重合体を得
た。GPC測定の結果、Mw=4450、Mn=400
0、Mw/Mn=1.11であることを確認した。
【0159】(比較例1)撹拌機、温度計、窒素ガス導
入管、シリンジポンプ、還流冷却管を備えた300mL
反応器に、ビニル系単量体としてスチレン40g、チオ
カルボニルチオ基を有する化合物のかわりにチオ酢酸
0.18g、および酒石酸0.4mgを秤取し、系内を
窒素置換した。70℃で加熱撹拌しながら、チオ酢酸の
3%トルエン溶液4gと重合開始剤として2,2’−ア
ゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリ
ル)の2%メチルエチルケトン溶液0.8gとの混合溶
液をシリンジポンプから6時間かけて添加した。さらに
6時間70℃で加熱撹拌を続けた後室温まで冷却し、メ
タノール200mLに注ぎ、片末端にチオ酢酸エステル
を有するポリスチレンを得た。GPC測定より、Mw=
655000、Mn=283000、Mw/Mn=2.
31であることを確認し、1H NMR測定より、チオ
酢酸エステルの導入率は片末端基準でで52%と低いこ
とを確認した。
【0160】得られたポリスチレン10gをメタノール
12.5gとトルエン37.5gとの混合溶媒に溶解さ
せ、40℃で加熱撹拌しながら塩基性化合物として10
%の水酸化ナトリウムのメタノール溶液0.1gを添加
した。40℃で2時間撹拌し、片末端にメルカプト基を
有するポリスチレンを得た。1H NMR測定の結果、
メルカプト基の導入率は片末端基準で41%と低いこと
を確認した。また、GPC測定の結果、Mw/Mn=
2.31であり、分子量分布が広いことを確認した。
【0161】
【発明の効果】本発明のアルケニル基含有重合体は、耐
候性、耐光性、耐熱性、耐加水分解性に優れ、精製工程
を簡略化できるため、簡便に、かつ経済的に製造可能で
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J011 AA05 NA26 PA45 PB40 PC02 4J026 HA02 HA06 HA09 HA10 HA11 HA12 HA23 HA38 HA41 HB02 HB09 HB10 HB11 HB12 HB23 HB38 HB41 HE01 4J100 CA03 CA31 DA01 FA02 HA61 HA62 HB14 HB20 HB25 HB28 HB39 HB52 HB63 HC11 HC12 HC27 HC29 HC30 HC34 HC45 HC69 HC75 HC83

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一分子中に一つ以上のアルケニル基、お
    よび硫黄原子を有し、ゲル浸透クロマトグラフィー分析
    により求めた数平均分子量が3000〜5000000
    の範囲にあり、かつ、ゲル浸透クロマトグラフィー分析
    により求めた分子量分布(Mw/Mn)が2以下である
    ことを特徴とする、ビニル系重合体。
  2. 【請求項2】 分子鎖の末端にアルケニル基を有する、
    請求項1に記載の、ビニル系重合体。
  3. 【請求項3】 ゲル浸透クロマトグラフィー分析により
    求めた数平均分子量が5000〜1000000の範囲
    にある、請求項1または2に記載の、ビニル系重合体。
  4. 【請求項4】 ゲル浸透クロマトグラフィー分析により
    求めた分子量分布(Mw/Mn)が1.5以下である、
    請求項1〜3のいずれか1項に記載の、ビニル系重合
    体。
  5. 【請求項5】 アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸
    エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル、
    メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミ
    ド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、スチレ
    ン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレン、ク
    ロロプレン、エチレン、プロピレン、およびテトラフル
    オロエチレンからなる群から選ばれる、一種以上の単量
    体を重合してなる、請求項1〜4のいずれか1項に記載
    の、ビニル系重合体。
  6. 【請求項6】 アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸
    エステル、メタクリル酸エステル、およびアクリロニト
    リルからなる群から選ばれる、一種以上の単量体を重合
    してなる、請求項1〜5のいずれか1項に記載の、ビニ
    ル系重合体。
  7. 【請求項7】 アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシ
    ル基含有アクリル酸エステル、ヒドロキシル基含有メタ
    クリル酸エステル、エポキシ基含有アクリル酸エステ
    ル、およびエポキシ基含有メタクリル酸エステルからな
    る群から選ばれる一種以上の単量体を、0.1〜50重
    量%重合してなる、請求項1〜6のいずれか1項に記載
    の、ビニル系重合体。
  8. 【請求項8】 ガラス転移温度が30℃以上の重合体ブ
    ロック(A)と、ガラス転移温度が30℃未満の重合体
    ブロック(B)とを含有する、請求項1〜7のいずれか
    1項に記載の、ビニル系重合体。
  9. 【請求項9】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1は炭素数1以上のp価の有機基であり、窒
    素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
    子、リン原子、金属原子を含んでいてもよく、高分子量
    体であってもよい。Z1は水素原子、ハロゲン原子、ま
    たは炭素数1以上の1価の有機基であり、窒素原子、酸
    素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原
    子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよい。p
    は1以上の整数である。pが2以上の場合、Z1は同じ
    でもよく異なっていてもよい。)、および一般式(2) 【化2】 (式中、R2は炭素数1以上の1価の有機基であり、窒
    素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
    子、リン原子、金属原子を含んでいてもよく、高分子量
    体であってもよい。Z2は硫黄原子(q=2の場合)、
    酸素原子(q=2の場合)、窒素原子(q=3の場
    合)、または炭素数1以上のq価の有機基であり、窒素
    原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原
    子、リン原子を含んでいてもよく、高分子量体であって
    もよい。qは2以上の整数である。R2は同じでもよく
    異なっていてもよい。)からなる群から選ばれる1種以
    上のチオカルボニルチオ基を有する化合物の存在下に、
    ビニル系単量体をラジカル重合して、チオカルボニルチ
    オ基を有するビニル系重合体を製造する工程;該ビニル
    系重合体にアルケニル基を導入する工程により製造され
    る、請求項1〜8のいずれか1項に記載の、ビニル系重
    合体。
  10. 【請求項10】 チオカルボニルチオ基を有する化合物
    が、一般式(3) 【化3】 (式中、R3は2価の有機基であり、窒素原子、酸素原
    子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子、
    金属原子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよ
    い。Z1は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1以
    上の1価の有機基であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原
    子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子を含んでいて
    もよく、高分子量体であってもよい。Z1は同じでもよ
    く異なっていてもよい。)で示される化合物である、請
    求項9に記載の、ビニル系重合体。
  11. 【請求項11】 前記チオカルボニルチオ基を有するビ
    ニル系重合体にアルケニル基を導入する工程が、該ビニ
    ル系重合体中のチオカルボニルチオ基を、処理剤により
    メルカプト基、またはメルカプチド基に変換する工程;
    該メルカプト基、または該メルカプチド基と、一分子中
    にアルケニル基と、メルカプト基またはメルカプチド基
    と反応して結合形成可能な官能基とをあわせもつ化合物
    とを反応させる工程からなる、請求項9または10に記
    載の、ビニル系重合体。
  12. 【請求項12】 前記処理剤が、塩基性化合物、酸性化
    合物、アンモニア、ヒドラジン、1級アミン化合物、お
    よび2級アミン化合物からなる群から選ばれる1種以上
    の化合物である、請求項11に記載の、ビニル系重合
    体。
  13. 【請求項13】 前記処理剤が、アンモニア、ヒドラジ
    ン、沸点100℃以下の1級アミン化合物、沸点100
    ℃以下の2級アミン化合物、およびヒンダードアミン系
    光安定剤(HALS)からなる群から選ばれる1種以上
    の化合物である、請求項11または12に記載の、ビニ
    ル系重合体。
  14. 【請求項14】 一分子中にアルケニル基と、メルカプ
    ト基またはメルカプチド基と反応して結合形成可能な官
    能基とをあわせもつ化合物において、メルカプト基また
    はメルカプチド基と反応して結合形成可能な官能基が、
    ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニ
    ル基(エステル結合)、メルカプト基、チオンエステル
    結合、チオールエステル結合、ジチオエステル結合、イ
    ソシアナト基、イソチオシアナト基、カルボニル基、ア
    ルデヒド基、アリールオキシ基、4級アンモニウムイオ
    ン、スルホン結合、ハロゲン原子、炭素−炭素二重結
    合、および炭素−炭素三重結合からなる群から選ばれる
    構造である、請求項11〜13のいずれか1項に記載
    の、ビニル系重合体。
  15. 【請求項15】 一分子中にアルケニル基と、メルカプ
    ト基またはメルカプチド基と反応して結合形成可能な官
    能基とをあわせもつ化合物が、一分子中にアルケニル基
    とイソシアナト基とを有する化合物である、請求項11
    〜14のいずれか1項に記載の、ビニル系重合体。
  16. 【請求項16】 前記チオカルボニルチオ基を有するビ
    ニル系重合体にアルケニル基を導入する工程が、該ビニ
    ル系重合体中のチオカルボニルチオ基を、処理剤により
    メルカプト基に変換する工程;該メルカプト基と、アセ
    チレン化合物とを、塩基性化合物の存在下反応させる工
    程からなる、請求項9または10に記載の、ビニル系重
    合体。
  17. 【請求項17】 前記処理剤が、塩基性化合物、酸性化
    合物、アンモニア、ヒドラジン、1級アミン化合物、お
    よび2級アミン化合物からなる群から選ばれる1種以上
    の化合物である、請求項16に記載の、ビニル系重合
    体。
  18. 【請求項18】 前記処理剤が塩基性化合物である、請
    求項16または17に記載の、ビニル系重合体。
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