JPWO2010119970A1 - チオカルボニル化合物並びにこれを用いた重合体の製造方法およびその重合体 - Google Patents
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Abstract
Description
上記式(a)中、nは1〜6であり、Zは置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリールから選択される有機基である。
上記式(a)中、nは1〜6であり、Zは置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリールから選択される有機基である。
(1)ラジカル重合性単量体
(2)ラジカル発生剤
(3)下記式(a)で表されるチオカルボニル化合物
上記式(a)中、nは1〜6であり、Zは置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリールから選択される有機基である。
上記式(b)中、iは2またはそれ以上であり、nは1〜6であり、Miは同一または異なるラジカル重合性単量体由来の反復単位を示し、piは互いに独立して1またはそれ以上であり反復単位Miの重合度を示す。Zは、置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリールから選択される有機基である。
(1)ラジカル重合性単量体
(2)ラジカル発生剤
(3)下記式(a)で表されるチオカルボニル化合物
上記式(a)中、nは1〜6であり、Zは置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリールから選択される有機基である。
上記式(b)中、iは2またはそれ以上であり、nは1〜6であり、Miは同一または異なるラジカル重合性単量体由来の反復単位を示し、piは互いに独立して1またはそれ以上であり反復単位Miの重合度を示す。Zは、置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリールから選択される有機基である。
RAFT剤1の合成
滴下ロートを接続した100mLの三口丸底フラスコを窒素置換した後、ベンジルマグネシウムクロライドの1.0Mジエチルエーテル溶液(22mL)を加えて氷浴で0℃に冷却した。ここに二硫化炭素(1.32mL)を滴下ロートから10分間かけて滴下した後、0℃で4.5時間攪拌した。その後、水30mLを加え室温に戻した後、ジエチルエーテル(計100mL)で2回洗浄した。ジエチルエーテル(50mL)と30%HCL(5mL)を加え、有機層より生成物を抽出した。その後、水(計150mL)で3回洗浄した。ジエチルエーテル層を濃縮することによりフェニルエチルジチオカルボン酸(1.86g)を得た。
1H−NMR(CDCl3)(ppm):4.1(s、12H)、4.2(s、12H)、7.2−7.4(m、30H)
13C−NMR(CDCl3)(ppm):36.9、57.5、127.4、128.6、129.1、135.5、136.3
500mLナスフラスコに、ラジカル重合開始剤として2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(以下「AIBN」)(70mg)、RAFT試薬1(230mg)を加え窒素置換した。これに、蒸留精製して重合禁止剤を除去したブチルアクリレート(以下「BA」)(46mL:320mmol)、トルエン(26mL)を加え、窒素を10分間吹き込んだ。その後、ナスフラスコを60℃の油浴に入れ20時間反応させた。
100mLナスフラスコに、ラジカル重合開始剤としてAIBN(1.4mg)、RAFT剤1(4.6mg)を加え窒素置換した。これに、蒸留精製し重合禁止剤を除去したBA(4.6mL:32mmol)、トルエン(2.6mL)を加え、窒素を10分間吹き込んだ。その後、ナスフラスコを60℃の油浴に入れ20時間反応させた。
100mLナスフラスコに、ラジカル重合開始剤としてAIBN(140mg)、RAFT剤1(460mg)を加え窒素置換した。これに、蒸留精製し重合禁止剤を除去したBA(4.6mL:32mmol)、トルエン(2.6mL)を加え、窒素を10分間吹き込んだ。その後、ナスフラスコを60℃の油浴に入れ20時間反応させた。反応が進行するにつれて、反応溶液の粘度上昇が確認された。ガスクロマトグラフィーにより求めたBAの転化率は90%、GPCにより求めたMwは8,000、Mw/Mnは1.5であった。
100mLナスフラスコに、ラジカル重合開始剤としてAIBN(45mg)、RAFT剤1(160mg)を加え窒素置換した。これに、蒸留精製し重合禁止剤を除去したブチルメタクリレート(以下「BMA」)(4.6mL:29mmol)、トルエン(2.6mL)を加え、窒素を10分間吹き込んだ。その後ナスフラスコを60℃の油浴に入れ20時間反応させた。反応が進行するにつれて、反応溶液の粘度上昇が確認された。ガスクロマトグラフィーにより求めたBMAの転化率は90%、GPCにより求めたMwは116,000、Mw/Mnは1.9であった。
重合例4で得られた重合体のガラス転移点を示差走査熱量計(DSC)により測定した。その結果、20℃と90℃の2箇所にガラス転移点のピークが確認された(図3参照)。このことより、ポリマーがブロック共重合体であることが確認された。
500mLナスフラスコに、ラジカル重合開始剤としてAIBN(500mg)を入れ窒素置換した。これに、蒸留精製して重合禁止剤を除去したBA(46mL:320mmol)、2HEA(6.3mL:55mmol)、酢酸エチル(44mL)、およびトルエン(11mL)を加え、窒素を10分間吹き込んだ。ナスフラスコを油浴に入れ、還流下で6時間反応させた。反応が進行するにつれて反応溶液の粘度上昇が確認された。室温に戻した後、分析を行った。GPCにより求めたMwは110,000、Mw/Mnは2.5であった。
重合例1で得られた重合体を10g、希釈剤として酢酸エチルを10g、架橋剤として旭化成ケミカルズ社製デュラネートD−201を0.1g混合し、粘着剤溶液を得た。これを厚さ38μmのPET製セパレーター上にアプリケーターを用いて、乾燥後の膜厚が25μmとなるように塗布した。100℃で1分間の乾燥後、50μmの未処理PETを貼り合わせ、23℃、湿度65%で7日間養生を行い、粘着シート1を得た。
粘着力:粘着シート1を25mm幅に切り出し、セパレータを剥いでSUS#304板に23℃、湿度65%の雰囲気下で2kgのローラーを用いて貼付した。貼付30分後に、テンシロンを用いて剥離角180°、剥離速度300mm/minの条件でSUS#400板から剥離し、このときの剥離強度を粘着力として求めた。
保持力:粘着シート1を25mm幅×75mm長に切り出し、セパレータを剥いで、SUS#304板に23℃、湿度65%の雰囲気下で2kgのローラーを用いて、25mm×25mmの面積だけ貼付した。貼付1時間後に80℃の恒温槽に1時間放置し、その後SUS板に貼付されていない側の試料端部に1kgの錘を取り付けて、24時間後の試料のSUS板からのずれを測定した。
ボールタック(30°):J.Dow法に従って測定した。
Claims (5)
- ラジカル重合性単量体が、置換または非置換のスチレン、置換または非置換のアルキルアクリレート、置換または非置換のアルキルメタクリレート、アクリロニトリル、N−アルキルアルキルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N,N−ジアルキルアクリルアミド、N,N−ジアルキルメタクリルアミド、イソプレン、ブタジエン、エチレン、ビニルアセテートおよびこれらの組み合わせから選択されることを特徴とする、請求項3に記載された重合体。
- 請求項3または4に記載された重合体を含むことを特徴とする、粘着剤用または接着剤用組成物。
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JP2002265508A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-18 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 末端にメルカプト基を有する重合体の製造方法 |
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2010
- 2010-04-13 US US13/138,868 patent/US8796386B2/en not_active Expired - Fee Related
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