JP2003012645A - 窒素含有6員環の製造方法 - Google Patents
窒素含有6員環の製造方法Info
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Abstract
たワンポットでのピリジン誘導体やピリドン誘導体製造
方法であって、ピリジン誘導体やピリドン誘導体を選択
的に、かつ、短いスキームで得る方法の提供。 【解決手段】 遷移金属ハロゲン化物存在下、ジルコナ
シクロペンタジエン(2)と、ニトリル(3)とを反応
させ、ピリジン誘導体(1a)を得る。同様に、ジルコ
ナシクロペンタジエン(2)と、イソシアネートとを反
応させ、ピリドン誘導体を得る。 【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4及びAは、それぞれ、同一
又は異なって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基等を表す。L1及びL2は配位子を表す。)
Description
製造方法に関し、より詳しくは、ピリジン誘導体および
ピリドン誘導体の製造方法に関する。
ン誘導体やピリドン誘導体といった窒素含有6員環は、
医薬、農薬、ファインケミカル等で幅広く用いられいる
中間体である。そして、これらの用途では、ピリジン環
やピリドン環に様々な置換基を導入することが求められ
ている。
クロペンタジエンを経て、多置換ベンゼン誘導体等の化
合物を簡便に合成する方法は知られている。しかしなが
ら、ジルコニウムを用いてピリジン誘導体やピリドン誘
導体を合成する場合、ジルコナシクロペンタジエンをニ
トリル類やイソシアネート類と反応させることによって
得ることはできないものと思われていた。従って、ジル
コニウムを用いて、2分子のアセチレン類と、ニトリル
類またはイソシアネート類と反応させる場合には、はじ
めに1分子のアセチレン類とニトリル類またはイソシア
ネート類をジルコニウム上でカップリングさせてアザジ
ルコナシクロペンタジエン誘導体を生成させ、その後、
塩化銅等の金属化合物存在下、もう1分子のアセチレン
類を反応させる方法が開発されていた。
て用いられるジルコナシクロペンタジエンを用いること
ができれば、中間体が共通化でき、コストを下げるなど
のメリットが生じる。
ンを経由したワンポットでのピリジン誘導体やピリドン
誘導体製造方法であって、ピリジン誘導体やピリドン誘
導体を選択的に、かつ、短いスキームで得る方法が所望
された。
属を含む金属ハロゲン化物存在下でジルコナシクロペン
タジエンを用いた新規な反応により、ピリジン誘導体及
びピリドン誘導体を得る方法を提供することを目的とす
る。
は、下記式(1a)で示されるピリジン誘導体の製造方
法であって、
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、
又は水酸基であり、ただし、R2及びR3は、互いに架橋
してC4〜C2 0飽和環又は不飽和環を形成してもよく、
前記環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、
ゲルマニウム原子又は式−N(Q)−で示される基(式
中、Qは水素原子又はC1〜C20炭化水素基である。)
で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していても
よく、Aは、水素原子;置換基を有していてもよいC1
〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C
20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20
アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ
基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基で
ある。)、周期表第6族の遷移金属を含む金属ハロゲン
化物存在下、下記式(2)で示されるジルコナシクロペ
ンタジエンと、
る。L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、
アニオン性配位子を示し、ただし、L1及びL2は、架橋
されていてもよい。)、下記式(3)で示されるニトリ
ルと
を特徴とするピリジン誘導体の製造方法が提供される。
非局在化環状η5−配位系配位子であって、置換されて
いてもよいシクロペンタジエニル基、インデニル基、フ
ルオレニル基又はアズレニル基であることが好ましい。
また、金属ハロゲン化物がクロムを含むことが好まし
い。
b)で示されるピリドン誘導体の製造方法であって、
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、
又は水酸基であり、ただし、R2及びR3は、互いに架橋
してC4〜C2 0飽和環又は不飽和環を形成してもよく、
前記環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、
ゲルマニウム原子又は式−N(Q)−で示される基(式
中、Qは水素原子又はC1〜C20炭化水素基である。)
で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していても
よく、Bは、水素原子;置換基を有していてもよいC1
〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C
20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20
アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ
基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基で
ある。)、周期表第6族の遷移金属を含む金属ハロゲン
化物存在下、下記式(2)で示されるジルコナシクロペ
ンタジエンと、
る。L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、
アニオン性配位子を示し、ただし、L1及びL2は、架橋
されていてもよい。)、下記式(4)で示されるイソシ
アネートと
を特徴とするピリドン誘導体の製造方法が提供される。
非局在化環状η5−配位系配位子であって、置換されて
いてもよいシクロペンタジエニル基、インデニル基、フ
ルオレニル基又はアズレニル基であることが好ましい。
また、金属ハロゲン化物がクロムを含むことが好まし
い。
a)で示されるピリジン誘導体の製造方法であって、周
期表第6族の遷移金属を含む金属ハロゲン化物存在下、
下記式(2)で示されるジルコナシクロペンタジエン
と、下記式(3)で示されるニトリルとを反応させるこ
とを特徴とするピリジン誘導体の製造方法が提供され
る。
の意味を有する。)
に独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有
していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有して
いてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有してい
てもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有して
いてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル
基、又は水酸基である。
飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若
しくは不飽和の環式であってもよい。C1〜C20炭化水
素基が非環式の場合には、線状でもよいし、枝分かれで
もよい。C1〜C20炭化水素基には、C1〜C20アルキル
基、C2〜C20アルケニル基、C2〜C20アルキニル基、
C3〜C20アリル基、C4〜C20アルキルジエニル基、C
4〜C20ポリエニル基、C6〜C18アリール基、C6〜C
20アルキルアリール基、C6〜C20アリールアルキル
基、C4〜C20シクロアルキル基、C4〜C20シクロアル
ケニル基、(C 3〜C10シクロアルキル)C1〜C10アル
キル基などが含まれる。
ル基、C2〜C20アルキニル基、C3〜C20アリル基、C
4〜C20アルキルジエニル基、及び、C4〜C20ポリエニ
ル基は、それぞれ、C1〜C10アルキル基、C2〜C10ア
ルケニル基、C2〜C10アルキニル基、C3〜C10アリル
基、C4〜C10アルキルジエニル基、及び、C4〜C1 0ポ
リエニル基であることが好ましい。
アリール基、C6〜C20アリールアルキル基、C4〜C20
シクロアルキル基、及び、C4〜C20シクロアルケニル
基は、それぞれ、C6〜C10アリール基、C6〜C12アル
キルアリール基、C6〜C12アリールアルキル基、C4〜
C10シクロアルキル基、及び、C4〜C10シクロアルケ
ニル基が好ましい。
ていてもよいアルキル基の例としては、制限するわけで
はないが、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、t
−ブチル、ドデカニル、トリフルオロメチル、ペルフル
オロ−n−ブチル、2,2,2−トリフルオロエチル、
ベンジル、2−フェノキシエチル等がある。
ていてもよいアリール基の例としては、制限するわけで
はないが、フェニル、2−トリル、3−トリル、4−ト
リル、ナフチル、ビフェニル、4−フェノキシフェニ
ル、4−フルオロフェニル、3−カルボメトキシフェニ
ル、4−カルボメトキシフェニル等がある。
ていてもよいアルコキシ基の例としては、制限するわけ
ではないが、メトキシ、エトキシ、2−メトキシエトキ
シ、t−ブトキシ等がある。
ていてもよいアリールオキシ基の例としては、制限する
わけではないが、フェノキシ、ナフトキシ、フェニルフ
ェノキシ、4−メチルフェノキシ、2−トリルオキシ、
3−トリルオキシ、4−トリルオキシ、ナフチルオキ
シ、ビフェニルオキシ、4−フェノキシフェニルオキ
シ、4−フルオロフェニルオキシ、3−カルボメトキシ
フェニルオキシ、4−カルボメトキシフェニルオキシ等
がある。
シ基、C6〜C20アリールオキシ基、アミノ基、シリル
基には、置換基が導入されていてもよく、この置換基と
しては、例えば、C1〜C10炭化水素基、ハロゲン原
子、水酸基、アミノ基などが挙げられる。
ていてもよいアミノ基の例としては、制限するわけでは
ないが、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチ
ルフェニルアミノ、フェニルアミノ等がある。
ては、制限するわけではないが、トリメチルシリル、ト
リエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシ
リル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、
トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメ
チルフェノキシシリル、メチルメトキシフェニル等があ
る。
4〜C20飽和環又は不飽和環を形成してもよい。これら
の置換基が形成する環は、4員環〜16員環であること
が好ましく、4員環〜12員環であることが更に好まし
い。この環は、ベンゼン環等の芳香族環あってもよい
し、脂肪族環であってもよい。また、これらの置換基が
形成する環に、更に単数又は複数の環が形成されていて
もよい。
硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子,ま
たは式−N(Q)−で示される基(式中、Qは水素原子
またはC1〜C20炭化水素基である。)で中断されてい
てもよい。即ち、前記飽和環または不飽和環はヘテロ環
であってもよい。かつ、置換基を有していてもよい。不
飽和環は、ベンゼン環等の芳香族環であってもよい。
であることが好ましく、水素原子またはC1〜C7炭化水
素基であることが更に好ましく、Bは水素原子、C1〜
C3アルキル基、フェニル基またはベンジル基であるこ
とが更になお好ましい。
ていてもよく、たとえば、C1〜C2 0炭化水素基、C1〜
C20アルコキシ基、C6〜C20アリールオキシ基、アミ
ノ基、水酸基又は式シリル基などの置換基が導入されて
いてもよい。
であることが好ましく、メチル、エチル、プロピルまた
はブチル基であることがさらに好ましい。
子が1〜6のことをさす。
いC1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1
〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜
C20アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミ
ノ基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基
である。
ていてもよいアリール基であることが好ましく、メチ
ル、エチル、プロピルもしくはブチル基、または置換基
を有していてもよいフェニル基であることがさらに好ま
しい。
において、下記式(2)で示されるジルコナシクロペン
タジエンが用いられる。
る。)
なって、アニオン性配位子を示す。ただし、L1及びL2
は、架橋されていてもよい。前記アニオン性配位子は、
非局在化環状η5−配位系配位子、C1〜C20アルコキシ
基、C6〜C20アリールオキシ基又はジアルキルアミド
基であることが好ましい。
配位子であることが好ましい。非局在化環状η5−配位
系配位子の例は、無置換のシクロペンタジエニル基、及
び置換シクロペンタジエニル基である。この置換シクロ
ペンタジエニル基は例えば、メチルシクロペンタジエニ
ル、エチルシクロペンタジエニル、イソプロピルシクロ
ペンタジエニル、n−ブチルシクロペンタジエニル、t
−ブチルシクロペンタジエニル、ジメチルシクロペンタ
ジエニル、ジエチルシクロペンタジエニル、ジイソプロ
ピルシクロペンタジエニル、ジ−t−ブチルシクロペン
タジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、イン
デニル基、2−メチルインデニル基、2−メチル−4−
フェニルインデニル基、テトラヒドロインデニル基、ベ
ンゾインデニル基、フルオレニル基、ベンゾフルオレニ
ル基、テトラヒドロフルオレニル基、オクタヒドロフル
オレニル基及びアズレニル基である。
在化環状π系の1個以上の原子がヘテロ原子に置換され
ていてもよい。水素の他に、周期表第14族の元素及び
/又は周期表第15、16及び17族の元素のような1
個以上のヘテロ原子を含むことができる。
ば、シクロペンタジエニル基は、中心金属と、環状であ
ってもよい、一つの又は複数の架橋配位子により架橋さ
れていてもよい。架橋配位子としては、例えば、C
H2、CH2CH2、CH(CH3)CH2、CH(C
4H9)C(CH3)2、C(CH3)2、(CH3)2Si、
(CH3) 2Ge、(CH3)2Sn、(C6H5)2Si、
(C6H5)(CH3)Si、(C6H 5)2Ge、(C
6H5)2Sn、(CH2)4Si、CH2Si(CH3)2、
o−C6H4又は2、2'−(C6H4)2が挙げられる。
ンタジエンは、二つ以上のメタロセン部分 (moiety)を
有する化合物も含む。このような化合物は多核メタロセ
ンとして知られている。前記多核メタロセンは、いかな
る置換様式及びいかなる架橋形態を有していてもよい。
前記多核メタロセンの独立したメタロセン部分は、各々
が同一種でも、異種でもよい。前記多核メタロセンの例
は、例えばEP−A−632063、特開平4−802
14号、特開平4−85310、EP−A−65447
6に記載されている。
において、下記式(3)で示されるニトリルが用いられ
る。
それぞれ、ジルコナシクロペンタジエン(2)1モルに
対し、0.1モル〜100モルであり、好ましくは0.
5モル〜5モルであり、更に好ましくは0.9モル〜2
モルであり、特に好ましくは約1モルである。
は、周期表第6族の遷移金属を含む金属ハロゲン化物の
存在下で行われる。
ン、モリブデンイオン、またはタングステンイオンを含
む塩を挙げることができる。CrX2 、CrX3、Cr
X4、MoX3 、MoX4 、MoX5 、MoX6 、W
X4、WX5、若しくは、WX6(式中、Xは、塩素原
子、臭素原子、フッ素原始等のハロゲン原子を示す。)
であることが好ましく、より好ましくはCrX3であ
り、さらに好ましくはCrCl3である。
ペンタジエン(2)1モルに対し、0.0001モル〜
20モルであり、好ましくは0.1モル〜10モルであ
り、更に好ましくは、0.9モル〜3モルである。
的には、上記式(2)で示されるジルコナシクロペンタ
ジエンの溶液に、ニトリル(3)と金属ハロゲン化物を
添加し、攪拌して製造する。ジルコナシクロペンタジエ
ン(2)は単離されたものを用いる必要はなく、溶液中
で調製されたジルコナシクロペンタジエンをそのまま用
いても良い。ニトリル(3)及び金属ハロゲン化物を添
加する順序には、制限がない。ニトリル(3)及び金属
ハロゲン化物を同時に添加してもよいし、ニトリル
(3)を添加した後に金属ハロゲン化物を添加してもよ
いし、金属ハロゲン化物を添加した後にニトリル(3)
を添加してもよい。
を含む金属ハロゲン化物の存在下で反応を進めるため、
ジルコナシクロペンタジエン(2)をより強く活性化さ
せることができ、ピリジン誘導体は、ジルコナシクロペ
ンタジエン(2)のジルコニウム−炭素結合から、クロ
ムへのトランスメタル化を経由して製造されると推測さ
れる。
ンタジエンは、ビスシクロペンタジエニルジルコニウム
ジクロリドのジアルキル体のようなメタロセンに2当量
のアルキン、または1当量のジインを作用させることに
より得ることができる。
本発明はこれらの反応機構に限定されるものではない。
の温度範囲で行われ、特に好ましくは−80℃〜80℃
の温度範囲、更に好ましくは−80℃〜50℃の温度範
囲で行われる。圧力は、例えば、0.1バール〜250
0バールの範囲内で、好ましくは0.5バール〜10バ
ールの範囲内である。
ルコナシクロペンタジエンを溶解することができる溶媒
が好ましい。溶媒は、脂肪族又は芳香族の有機溶媒が用
いられる。エーテル系溶媒、例えばテトラヒドロフラン
又はジエチルエーテル;塩化メチレンのようなハロゲン
化炭化水素;o−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
芳香族炭化水素;N,N−ジメチルホルムアミド等のア
ミド、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド;ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素が用いられる。
b)で示されるピリドン誘導体の製造方法であって、周
期表第6族の遷移金属を含む金属ハロゲン化物存在下、
下記式(2)で示されるジルコナシクロペンタジエン
と、下記式(4)で示されるイソシアネートとを反応さ
せることを特徴とするピリドン誘導体の製造方法が提供
される。
の意味を有する。)
に独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有
していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有して
いてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有してい
てもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有して
いてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル
基、又は水酸基である。
4〜C20飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環
は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマ
ニウム原子又は式−N(Q)−で示される基(式中、Q
は上記の意味を有する。)で中断されていてもよく、か
つ、置換基を有していてもよい。
であることが好ましく、メチル、エチル、プロピルまた
はブチル基であることがさらに好ましい。
いC1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1
〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜
C20アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミ
ノ基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基
である。
ていてもよいアリール基であることが好ましく、メチ
ル、エチル、プロピルもしくはブチル基、または置換基
を有していてもよいフェニル基であることがさらに好ま
しい。
において、下記式(2)で示されるジルコナシクロペン
タジエンが用いられる。
味を有する。)
ての説明は、ピリジン誘導体の製造方法において説明し
たのと同様である。
において、下記式(4)で示されるイソシアネートが用
いられる。
量は、それぞれ、ジルコナシクロペンタジエン(2)1
モルに対し、0.1モル〜100モルであり、好ましく
は0.5モル〜5モルであり、更に好ましくは1モル〜
4モルであり、特に好ましくは約3モルである。
は、周期表第6族の遷移金属を含む金属ハロゲン化物の
存在下で行われる。
のピリジン誘導体の製造方法において説明したのと同様
である。
ペンタジエン(2)1モルに対し、0.0001モル〜
20モルであり、好ましくは0.1モル〜10モルであ
り、更に好ましくは、0.9モル〜3モルである。
的には、上記式(2)で示されるジルコナシクロペンタ
ジエンの溶液に、イソシアネート(4)と金属ハロゲン
化物を添加し、攪拌して製造する。ジルコナシクロペン
タジエン(2)は単離されたものを用いる必要はなく、
溶液中で調製されたジルコナシクロペンタジエンをその
まま用いても良い。イソシアネート(4)及び金属ハロ
ゲン化物を添加する順序には、制限がない。イソシアネ
ート(4)及び金属ハロゲン化物を同時に添加してもよ
いし、イソシアネート(4)を添加した後に金属ハロゲ
ン化物を添加してもよいし、金属ハロゲン化物を添加し
た後にイソシアネート(4)を添加してもよい。
を含む金属ハロゲン化物の存在下で反応を進めるため、
ジルコナシクロペンタジエン(2)をより強く活性化さ
せることができ、ピリドン誘導体は、ジルコナシクロペ
ンタジエン(2)のジルコニウム−炭素結合から、クロ
ムへのトランスメタル化を経由して製造されると推測さ
れる。
本発明はこれらの反応機構に限定されるものではない。
の温度範囲で行われ、特に好ましくは−80℃〜80℃
の温度範囲、更に好ましくは−80℃〜50℃の温度範
囲で行われる。圧力は、例えば、0.1バール〜250
0バールの範囲内で、好ましくは0.5バール〜10バ
ールの範囲内である。
ルコナシクロペンタジエンを溶解することができる溶媒
が好ましい。溶媒は、脂肪族又は芳香族の有機溶媒が用
いられる。エーテル系溶媒、例えばテトラヒドロフラン
又はジエチルエーテル;塩化メチレンのようなハロゲン
化炭化水素;o−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
芳香族炭化水素;N,N−ジメチルホルムアミド等のア
ミド、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド;ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素が用いられる。
ルコナシクロペンタジエンは、例えば、下記のメタロセ
ンを用いて合成することができる。
ルコニウム;ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジブ
チルジルコニウム;ビス(ブチルシクロペンタジエニ
ル)ジブチルジルコニウム。
ロロジルコニウム;ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジクロロジルコニウム;ビス(ブチルシクロペンタ
ジエニル)ジクロロジルコニウムなどのジクロロ体につ
いては、ナトリウム等のアルカリ金属、マグネシウム等
のアルカリ土類金属のような強塩基で還元するか、又
は、ジアルキル体に変換してから、ジルコナシクロペン
タジエンを生成させる。
ただし、本発明は、下記の実施例に制限されるものでは
ない。
われた。溶媒として用いたテトラヒドロフラン(THF)は
ナトリウム金属、ベンゾフェノンで蒸留して無水とし
た。その他の試薬は市販品を購入し、そのまま用いた。
℃の溶液(TMS1%含有)を用いて、JEOLスペクトロ
メター上で測定した。ガスクロマトグラフ分析は、シリ
カガラスキャピラリカラムSHIMADZU CBP1-M25-O25 及び
SHIMADZU C-R6A-Chromatopac integrator を備えたSHI
MADZU GC-14A ガスクロマトグラフで測定した。内部標
準としてドデカン及びメシチレンを用いた。
−78℃に冷却し、そこにn-BuLi(1.56 M ,1.41 mL, 2.
2 mmol)を滴下した。1時間後、5−デシン(0.36 ml,
2.0 mmol)を加え室温で3時間撹拌した後、CrCl3(0.316
g, 2.0 mmol)とアセトニトリル (3-5 mmol)を加えて5
0℃に加温し、2-3日間撹拌した後に10% NaOH水溶液
で加水分解した。その後、酢酸エチルで抽出して硫酸マ
グネシウムで乾燥した後溶媒除去し、シリカゲルでカラ
ムクロマトグラフィーを行ない、82 mg(26%)の表題化合
物を得た。GC収率: 43%. 単離収率: 26%。
H), 1.46-1.47(m, 14H), 1.63-1.66(m, 2H), 2.47-2.55
(m, 8H), 2.67-2.73(m, 3H). 13C NMR(CDCl3, Me4Si):
δ13.85, 13.88, 13.90, 14.10, 22.55, 23.22, 23.39,
23.41, 23.51, 28.34, 28.73, 28.90, 32.37, 32.85,
33.22, 33.49, 35.33, 130.95, 131.41, 147.45, 153.0
7, 156.94。
ジン
代わりに、4−オクチンを用いた。また、アセトニトリ
ルの代わりに、シアン化p−フルオロフェニルを用い
た。
Hz, 3H), 0.99 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.08 (t, J= 7.2
Hz, 6H), 1.32-1.39 (m, 2H), 1.50-1.61(m, 4H), 1.6
9-1.76(m, 2H), 2.43-2.49(m, 2H), 2.57-2.62 (m, 4
H), 2.71-2.76 (m, 2H), 7.07(t, J= 8.8Hz, 2H), 7.34
(d, J= 5.5Hz, 1H), 7.37(d, J= 5.7 Hz, 1H). 13C NMR
(CDCl3, Me4Si)δ14.42, 14.56, 14.90, 15.00, 23.6
6, 24.55(3C), 30.99, 31.39, 31.48, 37.48, 114.69,
114.99, 130.55, 130.66, 131.28, 132.58, 138.50, 13
8.54, 148.33, 155.48, 157.26, 160.59, 163.84. 高分
解能質量分析計計算値 C23H32FN 341.2519, 実測値 34
1.2529。
(2.0 mmol)の代わりに、トリデカ−4,9−ジイン(1.0
mmol)を用いた)。GC収率: 60%. 単離収率: 48%。
H), 1.45-1.56(m, 2H), 1.61-1.74(m, 2H), 2.01-2.11
(m, 2H), 2.49-2.56(m, 4H), 2.61-2.67(m, 3H), 2.82-
2.89(J=7.2 Hz, q, 4H). 13C NMR(CDCl3, Me4Si):δ1
4.25, 14.40, 21.54, 22.58, 22.69, 24.63, 30.68, 3
1.62, 32.06, 38.07, 129.37, 134.96, 152.51, 153.2
8,153.95。
(2.0 mmol)の代わりに、トリデカ−4,9−ジイン(1.0
mmol)を用いた。また、アセトニトリルの代わりに、シ
アン化プロピルを用いた。GC収率: 54%. 単離収率: 43
%。
H), 1.48-1.56(m, 2H), 1.64-1.73(m, 4H), 2.01-2.11
(m, 2H), 2.51-2.56(m, 2H), 2.62-2.75(m, 4H), 2.82-
2.89(m, 4H). 13C NMR(CDCl3, Me4Si):δ14.19, 14.35,
14.54, 22.62, 23.47, 23.95, 24.59, 30.67, 31.72,
36.72, 38.01, 128.91, 134.78, 152.60, 154.11, 157.
17。
代わりに、4−オクチンを用いた。また、アセトニトリ
ルの代わりに、シアン化プロピルを用いた。GC収率: 62
%. 単離収率: 50%。
5H), 1.45-1.54(m, 5H), 1.67-1.74(m, 5H), 2.48-2.54
(m, 5H), 2.65-2.70(m, 5H). 13C NMR(CDCl3, Me4Si):
δ14.42, 14.86, 14.98, 23.56, 24.49, 24.56, 30.92,
31.43, 37.33, 130.75, 147.51, 156.77。
ジエチルイソキノリン
(2.0 mmol)の代わりに、ドデカ−3,9−ジイン(1.0 m
mol)を用いた。また、アセトニトリルの代わりに、シア
ン化p−フルオロフェニルを用いた。
Hz, 3H), 1.24(t, J= 7.6 Hz, 3H), 1.82-1.84(m, 4
H), 2.51(q, J= 7.4 Hz, 2H), 2.75-2.81 (m, 6H), 7.0
8 (t,J= 8.7 Hz, 2H), 7.36 (d, J= 5.5 Hz, 1H), 7.39
(d, J= 5.6 Hz, 1H). 13C NMR (CDCl3, Me4Si)δ13.2
0, 14.09, 21.53, 22.40 (2C), 25.79, 26.34, 28.12,1
14.66, 114.88, 128.89, 130.43, 130.51, 132.40, 13
8.04, 138.08, 144.59,154.19, 158.19, 160.89, 163.3
3. 元素分析 計算値 C19H22FN: C, 80.53; H,7.82; N,
4.94, 実測値: C, 80.19; H, 8.06; N, 4.80。
下に示す。
成時間、生成物であるピリジン誘導体、及び収率を下記
の表1に示す。なお、表中、収率はGC収率であり、括弧
内は単離収率を示す。
に冷却し、そこにn-BuLi(2.2eq.)を滴下した。1時間
後、3−ヘキシン (2eq.)を加え室温で3時間撹拌した
後、CrCl3(317mg, 2.0mmol)とイソシアン酸フェニル
(3.0mmol)を加え、50℃で12-24時間撹拌した後、10% Na
OH水溶液で加水分解した。その後、抽出して硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒除去し、カラムクロマトグラフ
ィーにより単離し、表題化合物を得た。
Hz, 3H), 1.14(t, J= 7.4Hz, 3H), 1.18(t, J= 7.2H
z, 3H), 1.21(t, J= 7.1Hz, 3H), 2.34(q, J= 7.5Hz, 2
H), 2.49(q, J= 7.4Hz, 2H), 2.58-2.63(m, 4H), 7.19-
7.27(m, 2H), 7.38-7.49(m, 3H); 13C NMR (CDCl3, Me4
Si)δ13.44, 13.72, 14.73, 15.81, 20.34, 20.48, 22.
40, 22.99, 117.50, 127.98, 128.31(2C), 129.12(2C),
129.64, 139.69, 144.02, 151.45, 162.73. 高分解能
質量分析計 計算値 C19H25NO 283.1936, 実測値283.193
1。
ロピルピリド-2-オン
の代わりに、4−オクチンを用いた。また、イソシアン
酸フェニルの代わりに、イソシアン酸o−トリフルオロ
メチルフェニルを用いた。
7.3 Hz, 3H), 0.96(t, J= 7.4Hz, 3H), 1.01(t, J= 7.4
Hz, 3H), 1.07(t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.33-1.56(m, 8
H), 2.33-2.66(m, 8H), 7.31(d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.5
5 (t, J= 7.7 Hz, 1H), 7.68(t,J= 7.5 Hz, 1H), 7.79
(d, J= 7.7 Hz, 1H). 13C NMR (CDCl3, Me4Si)δ14.16,
14.32(2C), 14.65, 21.99, 22.62, 23.87, 24.57, 29.3
9, 29.96, 31.81, 32.52, 116.72, 118.71, 121.44, 12
4.16, 126.87, 127.17, 127.21, 127.26, 127.31, 127.
36, 127.48, 127.78, 128.40, 128.60, 130.90, 132.6
1, 137.79, 137.80, 142.88, 150.88, 162.88. 高分解
能質量分析計 計算値 C24H32F3NO 407.2436,実測値407.
2428。
ゾピリド-3-オン
3−ヘキシン (2eq.)の代わりに、ドデカ−3,9−ジ
イン(1eq.)を用いた。また、イソシアン酸フェニルの代
わりに、イソシアン酸n−ブチルを用いた。GC収率: 66
%、単離収率: 33 %。
Hz, 3H), 1.01 (t, J=7.4 Hz, 3H), 1.11 (t, J=7.5 H
z, 3H), 1.31-1.44 (m, 2H), 1.55-1.68 (m, 6H), 2.46
-2.63 (m, 8H), 4.00 (t, J=7.8 Hz, 2H); 13C NMR (CD
Cl3, Me4Si):δ12.25, 12.56, 13.64, 19.73, 20.35, 2
1.77, 22.37, 22.92, 25.35, 26.87, 31.38, 44.17,11
2.91, 128.09, 143.43, 145.59, 161.49。
の代わりに、4−オクチンを用いた。また、イソシアン
酸フェニルの代わりに、イソシアン酸p−トリルを用い
た。
3 Hz, 3H), 0.97(t, J= 7.3Hz, 3H), 1.02(t, J=7.2 H
z, 3H), 1.07(t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.30-1.62(m, 8H),
2.22-2.28(m, 2H), 2.30-2.42(m, 2H), 2.38(s, 3H),
2.46-2.53(m, 4H), 7.04(d, J=8.0Hz, 2H), 7.24-7.27
(m, 2H); 13C NMR (CDCl3, Me4Si)δ14.21, 14.61, 14.
63, 14.81, 21.08, 22.25 , 22.75, 23.91, 24.85, 29.
79, 30.42, 31.98, 32.17, 116.61, 128.02(2C), 128.4
2, 129.73(2C), 137.10, 137.70, 143.14, 150.23, 16
3.00. 高分解能質量分析計 計算値C24H35NO 353.2719,
実測値 353.2719。
リド-3-オン
(2eq.)の代わりに、ドデカ−3,9−ジイン(1eq.)を
用いた。また、イソシアン酸フェニルの代わりに、イソ
シアン酸p−トリルを用いた。GC収率: 88 %、単離収
率: 70 %。
Hz, 3H), 1.00 (t, J=7.4 Hz, 3H), 1.69 (m, 4H), 2.
23 (q, J=7.5 Hz, 2H), 2.32 (s, 3H), 2.48-2.55 (m,
4H),2.63 (m, 2H), 7.00 (d, J=8.1 Hz, 2H), 7.19 (d,
J=4.4Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, Me4Si):δ12.20, 12.
23, 19.64, 21.07, 22.42, 22.80 (2C), 25.19, 26.99,
112.68, 128.02 (2C), 128.68, 129.83 (2C), 136.95,
137.82, 144.00, 146.70, 162.30。
6,7,8-テトラヒドロベンゾピリド-3-オン
(2eq.)の代わりに、ドデカ−3,9−ジイン(1eq.)を
用いた。また、イソシアン酸フェニルの代わりに、イソ
シアン酸o−トリフルオロメチルフェニルを用いた。GC
収率: 95 %、単離収率: 78 %。
Hz, 3H), 0.97 (t, J=7.4 Hz, 3H), 1.69 (m, 4H), 1.
79-1.88 (q, J=7.4 Hz, 2H) 2.38-2.56 (m, 4H), 2.63
(m,2H), 7.25 (d, J=7.7 Hz, 1H), 7.45 (t, J=7.5 Hz,
1H), 7.59 (t, J=7.6 Hz,1H), 7.69 (d, J=7.7 Hz, 1
H); 13C NMR (CDCl3, Me4Si):δ11.82, 11.94, 19.40,
22.24, 22.56, 22.98, 24.95, 26.87, 113.06, 121.02,
124.65, 127.15, 127.74, 128.66, 130.90, 132.72, 1
37.50, 143.44, 147.28, 162.12。
チルピリド-2-オン
フェニルの代わりに、イソシアン酸o−トリフルオロメ
チルフェニルを用いた。GC収率: 95 %、単離収率: 78
%。
Hz, 3H), 1.07 (t, J=7.1 Hz, 3H), 1.12 (t, J=7.1 H
z, 3H), 1.17 (t, J=7.5 Hz, 3H), 1.80-1.93 (q, J=7.
4 Hz, 2H), 2.37-2.69 (m, 6H), 7.34 (d, J=7.7 Hz, 1
H), 7.50 (t, J=7.6 Hz, 1H), 7.64 (t, J=7.3 Hz, 1
H), 7.73 (d, J=7.9 Hz, 1H); 13C NMR (CDCl3, Me4S
i):δ13.16, 13.54, 14.72, 15.57, 20.31, 20.52, 22.
37, 23.29, 117.76, 121.04, 124.66, 127.25, 128.68,
129.73, 131.08, 132.67, 137.73, 143.98, 151.96, 1
62.80。
下に示す。
応時間、生成物であるピリドン誘導体、及び収率を下記
の表2に示す。なお、表中、収率はGC収率であり、括弧
内は単離収率を示す。
導体、多置換ピリドン誘導体といった窒素含有6員環を
簡便に、かつ選択的に得ることができる。
Claims (6)
- 【請求項1】下記式(1a)で示されるピリジン誘導体
の製造方法であって、 【化1】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ、互いに独
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、
又は水酸基であり、 ただし、R2及びR3は、互いに架橋してC4〜C20飽和
環又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸素原
子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子
又は式−N(Q)−で示される基(式中、Qは水素原子
又はC1〜C20炭化水素基である。)で中断されていて
もよく、かつ、置換基を有していてもよく、 Aは、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C20
炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20アル
コキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アリー
ルオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ基;置換
基を有していてもよいシリル基、又は水酸基である。)
周期表第6族の遷移金属を含む金属ハロゲン化物存在
下、下記式(2)で示されるジルコナシクロペンタジエ
ンと、 【化2】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、上記の意味を有す
る。L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、
アニオン性配位子を示し、ただし、L1及びL2は、架橋
されていてもよい。)下記式(3)で示されるニトリル
と 【化3】 (式中、Aは、上記意味を有する。)を反応させること
を特徴とするピリジン誘導体の製造方法。 - 【請求項2】 前記アニオン性配位子が非局在化環状η
5−配位系配位子であって、置換されていてもよいシク
ロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基又
はアズレニル基である、請求項1に記載のピリジン誘導
体の製造方法。 - 【請求項3】 金属ハロゲン化物がクロムを含む、請求
項1または2に記載のピリジン誘導体の製造方法。 - 【請求項4】下記式(1b)で示されるピリドン誘導体
の製造方法であって、 【化4】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ、互いに独
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、
又は水酸基であり、 ただし、R2及びR3は、互いに架橋してC4〜C20飽和
環又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸素原
子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子
又は式−N(Q)−で示される基(式中、Qは水素原子
又はC1〜C20炭化水素基である。)で中断されていて
もよく、かつ、置換基を有していてもよく、 Bは、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C20
炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20アル
コキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アリー
ルオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ基;置換
基を有していてもよいシリル基、又は水酸基である。)
周期表第6族の遷移金属を含む金属ハロゲン化物存在
下、下記式(2)で示されるジルコナシクロペンタジエ
ンと、 【化5】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、上記の意味を有す
る。L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、
アニオン性配位子を示し、ただし、L1及びL2は、架橋
されていてもよい。)下記式(4)で示されるイソシア
ネートと 【化6】 (式中、Bは、上記意味を有する。)を反応させること
を特徴とするピリドン誘導体の製造方法。 - 【請求項5】 前記アニオン性配位子が非局在化環状η
5−配位系配位子であって、置換されていてもよいシク
ロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基又
はアズレニル基である、請求項4に記載のピリドン誘導
体の製造方法。 - 【請求項6】 金属ハロゲン化物がクロムを含む、請求
項4または5に記載のピリドン誘導体の製造方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8304413B2 (en) | 2008-06-03 | 2012-11-06 | Intermune, Inc. | Compounds and methods for treating inflammatory and fibrotic disorders |
US8741936B2 (en) | 2005-05-10 | 2014-06-03 | Intermune, Inc. | Method of modulating stress-activated protein kinase system |
US9359379B2 (en) | 2012-10-02 | 2016-06-07 | Intermune, Inc. | Anti-fibrotic pyridinones |
US10233195B2 (en) | 2014-04-02 | 2019-03-19 | Intermune, Inc. | Anti-fibrotic pyridinones |
US11046658B2 (en) | 2018-07-02 | 2021-06-29 | Incyte Corporation | Aminopyrazine derivatives as PI3K-γ inhibitors |
US11926616B2 (en) | 2018-03-08 | 2024-03-12 | Incyte Corporation | Aminopyrazine diol compounds as PI3K-γ inhibitors |
-
2001
- 2001-06-29 JP JP2001198969A patent/JP4180254B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10010536B2 (en) | 2005-05-10 | 2018-07-03 | Intermune, Inc. | Method of modulating stress-activated protein kinase system |
US8741936B2 (en) | 2005-05-10 | 2014-06-03 | Intermune, Inc. | Method of modulating stress-activated protein kinase system |
US9527816B2 (en) | 2005-05-10 | 2016-12-27 | Intermune, Inc. | Method of modulating stress-activated protein kinase system |
US8969347B2 (en) | 2008-06-03 | 2015-03-03 | Intermune, Inc. | Compounds and methods for treating inflammatory and fibrotic disorders |
US9290450B2 (en) | 2008-06-03 | 2016-03-22 | Intermune, Inc. | Compounds and methods for treating inflammatory and fibrotic disorders |
USRE47142E1 (en) | 2008-06-03 | 2018-11-27 | Intermune, Inc. | Compounds and methods for treating inflammatory and fibrotic disorders |
US8304413B2 (en) | 2008-06-03 | 2012-11-06 | Intermune, Inc. | Compounds and methods for treating inflammatory and fibrotic disorders |
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