JP2003001200A - メッキ済み部品の洗浄水処理方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メッキ済み部品の洗浄において、洗浄水を循
環して使用するクローズド処理システムを確立し、濃廃
液での排出をすることなく、実質的に固形物である最小
限の排出物だけが排出されるようにして、環境汚染の問
題を解消する。 【解決手段】 メッキ浴槽でメッキ処理されたメッキ済
み部品を収容したバレルユニットを、洗浄水で洗浄する
バレルユニット水洗部と、該バレルユニット水洗部の排
水から固形分となる成分を含む濃縮液を除去する逆浸透
膜装置２０３と、前記濃縮液の水分を蒸発させて固形分
を取り出す蒸発装置２２１とを備え、逆浸透膜装置２０
３で前記固形分となる成分を含む濃縮液を除去した残り
の排水と、前記濃縮液を蒸発装置２２１で蒸発させて固
形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷却した水とを
再生して前記洗浄水として前記バレルユニット水洗部に
供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、メッキ済み部品の
洗浄水処理方法及び装置に係り、とくにチップ部品等の
電子部品をバレル電解メッキ後に洗浄水で洗浄するが、
その洗浄水処理方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、チップ部品の端子電極（外部電
極）を形成するバレルメッキ装置として、メッキ液を入
れたメッキ浴槽内にバレルユニットを浸漬させる構成が
知られる。そのメッキ浴槽はメッキする金属毎に異なり
複数を用いるが、そのバレルメッキ装置では、メッキ前
洗浄及びメッキ浴槽間洗浄、そうして最終洗浄を行う。
メッキ浴槽は各々単独であり、洗浄も単独にディップタ
イプの水洗が広く実施されているが、そのディップタイ
プの水洗では、オーバーフローとして多くの水洗水量を
必要としている。

【０００３】メッキ工程の水洗水排水は、濾過されて陽
イオン交換手段、陰イオン交換手段を通し陽・陰イオン
交換が行われて循環するが、いずれ陽イオン交換手段及
び陰イオン交換手段の濃廃液の処理が必要になり、一般
に専門の水処理業者に依頼して所定の処理が実施され
る。しかし、水処理業者に濃廃液の処理を依頼するとか
なりの費用を要し、また、何処においても水処理業者が
近くで容易に利用できるとは限らない。さらに、外国に
バレルメッキ装置を設置することを考慮すると濃廃液の
処理が問題である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】バレルユニットを用い
てチップ部品のバレル電解メッキを行うバレルメッキ装
置と、メッキ済みチップ部品とメディアを分離するとと
もにメッキ済みチップ部品を水洗する分離・洗浄装置と
を一連の装置として構成し、バレルメッキ装置はバレル
ユニットを自動で搬送する構成とし、分離・洗浄装置は
専用の洗浄用ポットを自動で搬送する構成にし、バレル
メッキ装置と分離・洗浄装置間に受渡装置を備え、バレ
ルユニットに収容したメッキ済みチップ部品とメディア
を洗浄用ポットに自動で受渡し、チップ部品の端子電極
を形成するメッキが自動で行われる構成において、チッ
プ部品とメディアに対し、メッキ前洗浄及びメッキ浴槽
間洗浄、そうして最終洗浄、さらに分離・洗浄装置によ
る仕上げの洗浄を構成するような場合、これらの洗浄に
おいて多量の洗浄水を用いる。

【０００５】本発明は、その洗浄水を循環して使用する
クローズド処理システムを確立し、濃廃液での排出をす
ることなく、実質的に固形物である最小限の排出物だけ
が排出されるようにして、廃液の放出がなく、環境汚染
の問題を解消可能なメッキ済み部品の洗浄水処理方法及
び装置を提供することを目的とする。

【０００６】本発明のその他の目的や新規な特徴は後述
の実施の形態において明らかにする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願請求項１の発明に係るメッキ済み部品の洗浄水
処理方法は、メッキ浴槽に浸漬されてメッキ処理された
メッキ済み部品を収容したバレルユニットを、前記メッ
キ浴槽から取り出して洗浄水で洗浄するバレルユニット
水洗工程を備え、該バレルユニット水洗工程に用いる洗
浄水として、当該水洗工程の排水から固形分を除去し、
再生した水を繰り返し使用することを特徴としている。

【０００８】本願請求項２の発明に係るメッキ済み部品
の洗浄水処理方法は、メッキ浴槽に浸漬されてメッキ処
理されたメッキ済み部品及びメディアを収容したバレル
ユニットを、前記メッキ浴槽から取り出して洗浄水で洗
浄するバレルユニット水洗工程と、該水洗工程を終了し
たバレルユニットから前記メッキ済み部品及びメディア
を洗浄用ポットに移し替えて洗浄水で洗浄するとともに
メディア分離を行うポット水洗工程とを備え、前記バレ
ルユニット水洗工程及び前記ポット水洗工程に用いる洗
浄水として、当該バレルユニット水洗工程の排水から固
形分を除去したものと前記ポット水洗工程の排水とを合
わせて再生した水を繰り返し使用することを特徴として
いる。

【０００９】本願請求項３の発明に係るメッキ済み部品
の洗浄水処理方法は、請求項１又は２において、前記バ
レルユニット水洗工程の排水を逆浸透膜装置で処理して
固形分となる成分を含む濃縮液を除去した残りの排水
と、前記濃縮液を蒸発装置で蒸発させて固形分を取り出
すときに発生する水蒸気を冷却した水とを再利用するこ
とを特徴としている。

【００１０】本願請求項４の発明に係るメッキ済み部品
の洗浄水処理方法は、請求項３において、前記メッキ浴
槽が複数あり、各メッキ浴槽に対応して複数のバレルユ
ニット水洗工程を備え、個々のバレルユニット水洗工程
の排水毎に前記逆浸透膜装置が設けられていることを特
徴としている。

【００１１】本願請求項５の発明に係るメッキ済み部品
の洗浄水処理装置は、部品を収容したバレルユニットが
浸漬されるメッキ浴槽の後段に配置されていて、該メッ
キ浴槽でメッキ処理されたメッキ済み部品を収容したバ
レルユニットを、洗浄水で洗浄するバレルユニット水洗
部と、該バレルユニット水洗部の排水から固形分となる
成分を含む濃縮液を除去する逆浸透膜装置と、前記濃縮
液の水分を蒸発させて固形分を取り出す蒸発装置とを備
え、前記逆浸透膜装置で前記固形分となる成分を含む濃
縮液を除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装置で
蒸発させて固形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷
却した水とを再生して前記洗浄水として前記バレルユニ
ット水洗部に供給することを特徴としている。

【００１２】本願請求項６の発明に係るメッキ済み部品
の洗浄水処理装置は、部品を収容したバレルユニットが
浸漬されるメッキ浴槽の後段に配置されていて、該メッ
キ浴槽でメッキ処理されたメッキ済み部品を収容したバ
レルユニットを、洗浄水で洗浄するバレルユニット水洗
部と、該水洗工程を終了したバレルユニットから前記メ
ッキ済み部品及びメディアを洗浄用ポットに移し替えて
洗浄水で洗浄するとともにメディア分離を行うポット水
洗部と、前記バレルユニット水洗部の排水から固形分と
なる成分を含む濃縮液を除去する逆浸透膜装置と、前記
濃縮液の水分を蒸発させて固形分を取り出す蒸発装置と
を備え、前記逆浸透膜装置で前記固形分となる成分を含
む濃縮液を除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装
置で蒸発させて固形分を取り出すときに発生する水蒸気
を冷却した水と、前記ポット水洗部の排水とを合わせて
再生して前記洗浄水として前記バレルユニット水洗部及
び前記ポット水洗部に供給することを特徴としている。

【００１３】本願請求項７の発明に係るメッキ済み部品
の洗浄水処理装置は、請求項５又は６において、前記メ
ッキ浴槽が複数あり、各メッキ浴槽に対応して前記バレ
ルユニット水洗部を複数設け、個々のバレルユニット水
洗部の排水毎に前記逆浸透膜装置を設けたことを特徴と
している。

【００１４】本願請求項８の発明に係るメッキ済み部品
の洗浄水処理装置は、請求項５，６又は７において、前
記洗浄水の供給経路にイオン除去用のイオン交換装置
と、紫外線で殺菌処理を行う紫外線照射装置とを設けた
ことを特徴としている。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るメッキ済み部
品の洗浄水処理方法及び装置の実施の形態を図面に従っ
て説明する。

【００１６】図１は本発明に係るメッキ済み部品の洗浄
水処理方法及び装置の実施の形態であって、洗浄水の処
理系統を示し、図２は各種水洗工程を含む連続搬送バレ
ルメッキ装置の例を示す。また、図３は図２の連続搬送
バレルメッキ装置における１つのメッキ浴槽を含むバレ
ルメッキ装置部を、図４は洗浄部（水洗部）を、図５は
受渡装置部を、図６は分離洗浄装置部をそれぞれ示す。

【００１７】まず、図２乃至図６で洗浄水処理が必要な
各種水洗工程等を含む一連の装置からなる連続搬送バレ
ルメッキ装置について説明する。

【００１８】これらの図において、１はＣｕの電解メッ
キを施す第１バレルメッキ装置部、２はＮｉの電解メッ
キを施す第２バレルメッキ装置部、３はＳｎの電解メッ
キを施す第３バレルメッキ装置部である。

【００１９】図３で第１乃至第３バレルメッキ装置部
１，２，３の構成について説明する。これらのバレルメ
ッキ装置部１，２，３はメッキ液の組成及びメッキ用ア
ノードの金属材質が異なること以外は実質的に同じ構成
であり、メッキすべきチップ部品及びメディアを収容し
た筒状のバレル５ａを持つバレルユニット５を用いるも
ので、該バレルユニット５が浸されるメッキ液６を貯留
したメッキ浴槽７と、該メッキ浴槽７内にてバレルユニ
ット５を横方向に移動させながらバレル５ａを回転（自
転）させる搬送手段８と、バレルユニット５側の集電器
９が接触する給電器１０と、メッキ浴槽内側底部に配置
されたメッキ用アノード１１とを有している。そして、
矢印Ｄのようにバレルユニット５をメッキ浴槽７に投入
し、搬送手段８で横方向に搬送し、矢印Ｕで取り出す間
に、前記給電器１０を通して前記集電器９に通電してバ
レル５ａ内のチップ部品にバレル電解メッキ処理を行う
ようになっている。

【００２０】バレルメッキ処理に伴うチップ部品の水洗
工程を実行する水洗部として、図２のように、第１バレ
ルメッキ装置部１の前段にはメッキ前の洗浄を行うメッ
キ前洗浄部２０が、第１バレルメッキ装置部１と第２バ
レルメッキ装置部２との間にはＣｕのメッキ液を洗浄し
て落とす第１洗浄部２１が、第２バレルメッキ装置部２
と第３バレルメッキ装置部３との間にはＮｉのメッキ液
を洗浄して落とす第２洗浄部２２が、第３バレルメッキ
装置部３の後段にはＳｎのメッキ液を洗浄して落とす第
３洗浄部２３が配置され、この後段にバレルユニット５
を傾斜状態で洗浄する傾斜洗浄部２４が配置されてい
る。この傾斜洗浄部２４は後述の受渡装置部３０へのバ
レルユニット５の取り出し位置となる。

【００２１】前記メッキ前洗浄部２０と第１バレルメッ
キ装置部１と第１洗浄部２１と第２バレルメッキ装置部
２とはメッキ部架台１４の下段位置に１列に配置されて
いるが、第２洗浄部２２と第３バレルメッキ装置部３と
第３洗浄部２３と傾斜洗浄部２４とは架台１４の上段位
置に１列に配置されている。このため、下段位置の第２
バレルメッキ装置部２からバレルユニット５を上段位置
に引き上げるエレベータ機構１５が設置されている。

【００２２】図４で第１乃至第３洗浄部２１，２２，２
３の構成について説明する。これらの洗浄部２１，２
２，２３は同じ構成であり、バレルユニット５が１個毎
入る３つの区画、つまり第１水洗槽部２５ａ、第２水洗
槽部２５ｂ及び第３水洗槽部２５ｃを有する水洗槽２５
を有し、各水洗槽部ではシャワー洗浄がディップ洗浄と
共に行われる。各水洗槽部２５ａ，２５ｂ，２５ｃには
バレルユニット５が載置される台座２６が設置されてい
る。各水洗槽部２５ａ，２５ｂ，２５ｃには台座２６上
に載置されたバレルユニット５の筒状のバレル５ａ全体
が浸る洗浄水２７ａ，２７ｂ，２７ｃが満たされてい
る。そして、バレルユニット５は各水洗槽部２５ａ，２
５ｂ，２５ｃの順に搬送され、浸されたバレルユニット
５のチップ部品及びメッキ用メディアに付着した前段の
バレルメッキ装置部のメッキ液を洗浄水で洗浄して落と
す。つまり、次段のバレルメッキ装置部のメッキ液を汚
染しないようにする。

【００２３】メッキ前洗浄部２０の詳細は省略するが、
ディップ洗浄を行うための水洗槽を有し、これにバレル
ユニット５のバレル５ａ部分を浸すものである。

【００２４】また、傾斜洗浄部２４はバレルユニット５
を水平状態から傾斜状態に姿勢を変化させなからシャワ
ー洗浄及びディップ洗浄を行う。

【００２５】これらの洗浄部の水洗槽には図１の経路で
洗浄水が供給され（詳細は後述する）、メッキ前洗浄部
２０及び傾斜洗浄部２４では洗浄水の汚染が少ないの
で、その排水は処理水槽２１０に戻される。同様に、第
１乃至第３洗浄部２１，２２，２３がそれぞれ備える最
も後段の第３水洗槽部２５ｃからの排水も汚染が少ない
ので処理水槽２１０に戻される。第１乃至第３洗浄部２
１，２２，２３がそれぞれ備える中段の第２水洗槽部２
５ｂからの排水は図１では前段の第１水洗槽部２５ａの
洗浄水として用いている。第１乃至第３洗浄部２１，２
２，２３がそれぞれ備える前段の第１水洗槽部２５ａか
らの排水は汚染の度合いが大きいため原水槽２００に戻
される。

【００２６】なお、メッキ前洗浄部２０から第１バレル
メッキ装置部１へ、バレルメッキ装置部１，２，３から
後段の洗浄部２１，２２，２３へ、第３洗浄部２３から
後段の傾斜洗浄部２４への移し替え動作は、ピック・ア
ンド・プレース機構等の移し替え手段によって行う。

【００２７】図２において、受渡装置部３０はバレルユ
ニットの取り出し位置となる傾斜洗浄部２４に近接して
設置されており、つまり受渡装置部架台３１がメッキ部
架台１４に連結されており、最後の第３バレルメッキ装
置部３でのバレルメッキ処理して傾斜洗浄部２４での洗
浄が終了したバレルユニット５をバレル移送手段により
受け取り、当該バレルユニットからチップ部品とメッキ
用メディアを取り出して、メディアは通過可能であるが
チップ部品は通過させない筒状メッシュを有する洗浄用
ポット４０に移し替える動作を自動的に実行するもので
ある。

【００２８】図５に示すように、受渡装置部３０は、受
渡装置部架台３１上に設置されたバレル移送手段として
のロボットアーム３２にて第３バレルメッキ装置部３の
後段側のバレルユニット取り出し位置である傾斜洗浄部
２４からメッキ済チップ部品及びメッキ用メディアを収
納したバレルユニット５を取り出し、後述する機構にて
バレル５ａの内容物、つまりメッキ済チップ部品及びメ
ッキ用メディアを洗浄用ポット４０に移し替えるもので
ある。なお、ロボットアーム３２はバレル排出手段とし
ても機能し、空になったバレルユニット５を排出する。

【００２９】一方、新規の（空の）洗浄用ポット４０の
供給手段及びメッキ済チップ部品及びメッキ用メディア
が移し替えられた洗浄用ポット４０の分離洗浄装置部６
０への排出手段としてロボットアーム３３が前記架台３
１上に設けられている。

【００３０】受渡装置部３０は、第１及び第２のロボッ
トアーム３２，３３の他に、メッキ済チップ部品及びメ
ッキ用メディアを収納したバレルユニット５のバレル開
閉蓋を開ける蓋開け手段３６と、バレルユニット５を載
置する載置台３７とを有していて、蓋開け手段３６で開
閉蓋を開けられたバレル５ａの開口を傾斜させて下に向
けるバレル支持手段３５と、前記開閉蓋を開けられたバ
レル５ａから落下したメッキ済チップ部品及びメッキ用
メディアを受ける漏斗４１と、該漏斗を通って落下した
メッキ済チップ部品及びメッキ用メディアを受け取る位
置に洗浄用ポット４０を支えるポット支持手段４２と、
前記漏斗４１及び洗浄用ポット４０が浸るように衝撃緩
和用液体としても機能する洗浄水５０を満たすことので
きる液槽４３と、洗浄用ポットを前記漏斗下方の液槽内
位置と液槽外位置との間で移送するポット移送手段４４
とを備えている。

【００３１】この受渡装置部３０においては、まず、ロ
ボットアーム３２にて第３洗浄部２３後段の最後尾のス
テーションである傾斜洗浄部２４からメッキ済チップ部
品及びメッキ用メディアを収納したバレルユニット５を
取り出し、バレル支持手段３５の載置台３７上に移載す
る。載置台３７上に上向きに置かれたバレルユニット５
に対して蓋開け手段３６にてバレル５ａの開閉蓋を開け
る。

【００３２】一方、ロボットアーム３３は新規の洗浄用
ポット４０をポット仮置き台５１に移送し、この上に載
置された洗浄用ポット４０をさらにポット移送手段４４
のチャックで保持して液槽４３内におけるポット支持手
段４２の位置Ｐ２に載置する。ポット移送手段４４のチ
ャックはその洗浄用ポット４０から着脱式蓋を外し、当
該着脱式蓋を保持して待機位置に復帰する。位置Ｐ２に
置かれた上部が開口した洗浄用ポット４０はさらに位置
Ｐ１に移送されて漏斗４１の下方位置となる。

【００３３】前述のように開閉蓋の外されたバレルユニ
ット５を配置した載置台３７を回転し、図５の仮想線の
ようにバレル５ａを斜め下向きに傾斜させる。これによ
りバレル５ａの内容物は漏斗４１を通してその下方に待
機した洗浄用ポット４０の開口に入る。

【００３４】なお、バレル５ａ内面に付着したメッキ済
チップ部品及びメッキ用メディアはバレル５ａを回転さ
せながら洗浄水噴射ノズル４４でバレル内側に向け洗浄
水（液槽４３内の洗浄水と同じ）をシャワー状に出して
漏斗４１上に落下させる。

【００３５】バレル５ａの内容物が移し替えられた位置
Ｐ１の洗浄用ポット４０は、ポット支持手段４２で位置
Ｐ２となり、着脱式蓋を持って待機していたポット移送
手段４４のチャックが下降して洗浄用ポット４０の着脱
式蓋を装着してからポット仮置き台５１に移載する。そ
して、ポット仮置き台５１上のメッキ済チップ部品及び
メッキ用メディアを収容した洗浄用ポット４０はロボッ
トアーム３３にて分離洗浄装置部６０のポット受入位置
Ｑに移送する。

【００３６】この受渡装置部３０における液槽４３やシ
ャワー等へは図１の経路で洗浄水が供給され（詳細は後
述する）、液槽４３からの排水は汚染が少ないので処理
水槽２１０に戻される。

【００３７】前記受渡装置部３０に隣接して分離洗浄装
置部６０が設置されている。この分離洗浄装置部６０
は、前記受渡装置部３０にてチップ部品とメッキ用メデ
ィアが収容された洗浄用ポット４０をポット移送手段か
ら受け取り、当該洗浄用ポットに洗浄液を噴射して当該
洗浄用ポットからメディアを落下させて分離するととも
にチップ部品を洗浄し、乾燥する工程を自動的に実行す
るものである。

【００３８】図６を用いて分離洗浄装置部６０の要部構
成について説明する。この分離洗浄装置部６０は、図５
のポット受入位置Ｑで受け入れた洗浄用ポット４０を矢
印Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の順に間欠搬送し、移送される洗浄
用ポット４０内のメッキ済チップ部品及びメッキ用メデ
ィアを、メディア分離部７０、超音波洗浄部８０及び純
水リンス部９０にて洗浄するものであり、さらに図２の
乾燥部１００で乾燥処理する。

【００３９】なお、洗浄用ポット４０は搬送手段１１０
に載せることで移送され、一連の分離、洗浄、乾燥プロ
セスが完了できるようになっている。

【００４０】分離洗浄装置部６０に洗浄用ポット４０を
投入すると、搬送手段１１０上に載置され、まずメディ
ア分離部７０に間欠搬送され、ここのシャワー部７１に
おいて洗浄用ポット４０を回転させながら洗浄水を噴射
して洗浄用ポット４０からメディアを分離する。つま
り、洗浄用ポット４０のメッシュはチップ部品は通過し
ないが、メディアは通過可能な粗さであり、シャワー部
７１の洗浄水の噴射によりメディアが落下する。

【００４１】洗浄用ポット４０は搬送手段１１０により
メディア分離部７０から超音波洗浄部８０のシャッター
８１，８２が開いた状態において洗浄槽８３内に導入さ
れる。洗浄用ポット４０が洗浄槽８３内に入るとシャッ
ター８１，８２が閉じ、洗浄槽８３内に洗浄水が満たさ
れ、超音波振動子８４より超音波を放射し、洗浄用ポッ
ト４０内のチップ部品に超音波振動を与えることで超音
波洗浄が行われる。

【００４２】超音波洗浄の終了した洗浄用ポット４０は
洗浄槽８３内の水位を下げ、シャッター８１，８２を開
いた状態にて搬送手段１１０により純水リンス部９０に
移送される。純水リンス部９０においてはスプレーノズ
ル９１から洗浄用ポット４０に純水を噴射して洗浄し、
チップ部品の表面を純水置換する。

【００４３】純水リンス部９０を出た洗浄用ポット４０
は、搬送手段１１０の間欠搬送により図２の乾燥部１０
０に移送され、エアーブローによってチップ部品は乾燥
させられる。その後、洗浄用ポット４０は搬送手段１１
０の排出側端に移送される。

【００４４】これらの分離洗浄装置部６０のメディア分
離部７０、超音波洗浄部８０及び純水リンス部９０には
図１の経路で洗浄水が供給され（詳細は後述する）、各
部からの排水は汚染が少ないので処理水槽２１０に戻さ
れる。

【００４５】図１で図２の各種水洗工程（バレルユニッ
ト水洗工程、ポット水洗工程）等を含む連続搬送バレル
メッキ装置の洗浄水の供給並びに排水処理について説明
する。

【００４６】前述したように、第１乃至第３洗浄部２
１，２２，２３の前段及び中段の第１及び第２水洗槽部
２５ａ，２５ｂで使用された排水は原水槽２００に戻さ
れるが、この原水槽２００は各種混雑物によってかなり
汚染されている（例えばＴＤＳ（Total Dissociated So
lutes：全塩濃度）：３０００〜５０００ｐｐｍ程
度）。この原水槽２００の水は活性炭による吸着効果で
浮遊物等を吸着除去する吸着除去手段としてのＡＣ塔２
０１、濾過手段としてのプレフィルター２０２を通して
ＲＯ装置（逆浸透膜装置）２０３に供給される。このＲ
Ｏ装置２０３の逆浸透膜により溶解分が除去されて純水
に近くなった水が処理水槽２１０に供給される。なお、
メッキ前洗浄部２０及び傾斜洗浄部２４の排水を、原水
槽２００の濃度調整のために当該原水槽２００に戻す構
成としてもよい。

【００４７】一方、ＲＯ装置２０３で分離、除去された
溶解分を含む濃縮液は濃縮液槽２２０に蓄えられる。濃
縮液槽２２０からは濃縮液が蒸発装置２２１に連続的又
は随時供給され、ここで水分が蒸発させられてほぼ固形
分であるスラッジが排出物として得られる。このスラッ
ジの体積は、１時間当たり数百リットルの洗浄水を循環
させるような場合であっても、極めて少量であり、廃棄
処理するまでの保管が容易である。また、メッキに使用
した金属成分を多量に含むため、資源として再利用する
ことも可能である。

【００４８】前記蒸発装置２２１の蒸発処理において発
生した水蒸気はクーリングタワー２２２で冷却されて水
に戻され、前記原水槽２００に供給される。

【００４９】前記受渡装置部３０と分離洗浄装置部６０
の排水は処理水槽２１０に戻されるとともに、補給水
（純水）が処理水槽２１０に適量供給される。処理水槽
２１０の水はＣＯＮ（Conductivity：電導度）が１００
μＳ／cm程度であり、その水は濾過手段としてのファイ
ナルフィルター２１１、イオン除去用のイオン交換装置
としてのＭＢ塔２１２、紫外線で殺菌処理を行う紫外線
照射装置２１３、さらにＭＢ塔２１４を通して前記受渡
装置部３０及び分離洗浄装置部６０に再生した洗浄水と
して供給される。

【００５０】洗浄水は一連の装置において蒸発したり付
着したりして水分が失われ、処理水槽２１０に前記補給
水（純水）を追加して所定の水量を維持するようにする
が、１時間当たり数百リットルの洗浄水を循環させる場
合でも前記補給水は１時間当たり数リットル以下で済
む。水の再利用率は９９．６％程度にまで高めることが
できる。

【００５１】この実施の形態によれば、次の通りの効果
を得ることができる。

【００５２】(1) バレルユニット水洗工程（メッキ前
洗浄部２０、第１乃至第３洗浄部２１，２２，２３及び
傾斜洗浄部２４）に用いる洗浄水として、図１のように
第１乃至第３洗浄部２１，２２，２３がそれぞれ備える
第１及び第２水洗槽部２５ａ，２５ｂの排水からＡＣ塔
２０１、プレフィルター２０２やＲＯ装置２０３を用い
て浮遊物や溶解分を分離し、さらに、ファイナルフィル
ター２１１を通し、ＭＢ塔２１２によるイオン除去、紫
外線照射装置２１３の殺菌により再生した水を繰り返し
使用する構成である。そして、ＲＯ装置２０３より出た
濃縮液から更に水分を蒸発装置２２１で蒸発させてスラ
ッジを排出するとともに、水蒸気は水に戻して再利用す
るため、一連の装置における蒸発や付着で失われる水分
を除いて完全にクローズドに循環するシステムとするこ
とができ、スラッジとして排出される固形分は体積が微
小で、従来の濃廃液に比較して格段に取り扱いと保管が
容易である。

【００５３】(2) 前記スラッジはメッキに使用された
金属成分が含まれるため、金属資源としての利用が可能
である。

【００５４】(3) 一連の装置に１時間当たり数百リッ
トルの洗浄水を循環させる場合でも、処理水槽２１０に
補給する純水は１時間当たり数リットル以下で済み（例
えば約４００リットル／時で洗浄水を循環させる場合、
補給水は１．５リットル／時程度で済み）、水の再利用
率を９９．６％程度にまで高めることができ、水資源が
あまり豊富でない所での稼働も可能である。

【００５５】上記実施の形態では、バレルユニット水洗
工程（メッキ前洗浄部２０、第１乃至第３洗浄部２１，
２２，２３及び傾斜洗浄部２４）のうち、第１乃至第３
洗浄部２１，２２，２３に用いた洗浄水の排水を１系統
のＡＣ塔２０１、プレフィルター２０２及びＲＯ装置２
０３で処理している。この場合、スラッジにはＣｕの電
解メッキを施す第１バレルメッキ装置部１、Ｎｉの電解
メッキを施す第２バレルメッキ装置部２、Ｓｎの電解メ
ッキを施す第３バレルメッキ装置部３の各金属成分、つ
まり Ｃｕ，Ｎｉ，Ｓｎが混在しており、再利用に際
し、金属毎に分離する必要がある。

【００５６】そこで、本発明の他の実施の形態では、各
メッキ浴槽の後段の第１、第２、第３洗浄部２１，２
２，２３の各排水に対して、ＡＣ塔２０１、プレフィル
ター２０２、ＲＯ装置２０３及び濃縮液槽２２０の系統
をそれぞれ設けるようにする。これにより、第１洗浄部
２１の排水を処理した濃縮液槽２２０中にはＣｕ成分
が、第２洗浄部２２の排水を処理した濃縮液槽２２０中
にはＮｉ成分が、第３洗浄部２３の排水を処理した濃縮
液槽２２０中にはＳｎ成分がそれぞれ分離されて得られ
るため、別々に蒸発装置２２１で蒸発処理することで、
主にＣｕ成分のスラッジ、主にＮｉ成分のスラッジ、及
び主にＳｎ成分のスラッジが別々に得られ、スラッジの
再利用が一層容易となる。

【００５７】以上本発明の実施の形態について説明して
きたが、本発明はこれに限定されることなく請求項の記
載の範囲内において各種の変形、変更が可能なことは当
業者には自明であろう。

【００５８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るメッ
キ済み部品の洗浄水処理方法及び装置は、蒸発や付着で
失われる水分を除いて完全にクローズドに循環するシス
テムであり、スラッジとして排出される固形分は体積が
微小で、従来の濃廃液に比較して格段に取り扱いと保管
が容易であり、従って、スラッジを処理業者に渡すこと
は従来に比して遥かに容易であり、輸送に係る費用も遥
かに節約でき、安全かつ容易なスラッジ処理（一般に金
属を回収することが行われる）が可能になる大きな効果
が生じる。また、水の再利用率（リサイクル率）は最高
９９．６％程度と高く、環境を汚染することなく資源の
無駄が省ける大きな効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るメッキ済み部品の洗浄水処理方法
及び装置の実施の形態を示す説明図である。

【図２】実施の形態において、各種水洗工程を含む連続
搬送バレルメッキ装置の例を示す正面図である。

【図３】連続搬送バレルメッキ装置におけるバレルメッ
キ装置部の正断面図である。

【図４】連続搬送バレルメッキ装置におけるメッキ浴槽
後段の洗浄部の正断面図である。

【図５】連続搬送バレルメッキ装置における受渡装置部
であって一部を断面とした正面図である。

【図６】連続搬送バレルメッキ装置における分離洗浄装
置部の要部構成を示す説明図である。

【符号の説明】

１，２，３ バレルメッキ装置部 ５ バレルユニット ５ａ バレル ６ メッキ液 ７ メッキ浴槽 ２０ メッキ前洗浄部 ２１，２２，２３ 洗浄部 ２４ 傾斜洗浄部 １５ エレベータ機構 ３０ 受渡装置部 ３２，３３ ロボットアーム ４０ 洗浄用ポット ４３ 液槽 ４４ 洗浄水噴射ノズル ５０ 洗浄水 ６０ 分離洗浄装置部 ７０ メディア分離部 ８０ 超音波洗浄部 ８４ 超音波振動子 ９０ 純水リンス部 １００ 乾燥部 ２００ 原水槽 ２０１ ＡＣ塔 ２０２ プレフィルター ２０３ ＲＯ装置 ２１０ 処理水槽 ２１１ ファイナルフィルター ２１２ ＭＢ塔 ２１３ 紫外線照射装置 ２２０ 濃縮液槽 ２２１ 蒸発装置 ２２２ クーリングタワー

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 1/32 Ｃ０２Ｆ 1/32 1/42 1/42 Ｇ 1/44 ＺＡＢ 1/44 ＺＡＢＥ 9/00 ５０２ 9/00 ５０２Ｄ ５０２Ｆ ５０２Ｊ ５０２Ｎ ５０３ ５０３Ｇ ５０４ ５０４Ｂ ５０４Ｅ Ｃ２５Ｄ 17/16 Ｃ２５Ｄ 17/16 Ｂ 21/16 21/16 Ａ (72)発明者 小野寺 晃 東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティー ディーケイ株式会社内 (72)発明者 伊藤 武 東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティー ディーケイ株式会社内 (72)発明者 櫻井 隆司 東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティー ディーケイ株式会社内 (72)発明者 藤原 勝也 秋田県湯沢市岩崎字狐崎８−７湯沢ティー ディーケイ株式会社内 (72)発明者 小西 陽夫 東京都足立区千住寿町９番11号株式会社コ サク内 (72)発明者 小西 忠之 東京都足立区千住寿町９番11号株式会社コ サク内 (72)発明者 五十嵐 恒雄 東京都足立区千住寿町９番11号株式会社コ サク内 Ｆターム(参考） 3B201 AA48 AB02 AB23 BB01 BB21 BB83 BB92 BC01 CD22 4D006 GA03 KA72 KB04 KB11 KB14 KB18 PA01 PB08 PC22 4D025 AA09 AB02 BA10 DA04 DA05 4D034 AA19 BA01 CA12 DA02 4D037 AA14 AB03 BA18 CA02 CA03 CA15

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 メッキ浴槽に浸漬されてメッキ処理され
   たメッキ済み部品を収容したバレルユニットを、前記メ
   ッキ浴槽から取り出して洗浄水で洗浄するバレルユニッ
   ト水洗工程を備え、 該バレルユニット水洗工程に用いる洗浄水として、当該
   水洗工程の排水から固形分を除去し、再生した水を繰り
   返し使用することを特徴とするメッキ済み部品の洗浄水
   処理方法。
2. 【請求項２】 メッキ浴槽に浸漬されてメッキ処理され
   たメッキ済み部品及びメディアを収容したバレルユニッ
   トを、前記メッキ浴槽から取り出して洗浄水で洗浄する
   バレルユニット水洗工程と、該水洗工程を終了したバレ
   ルユニットから前記メッキ済み部品及びメディアを洗浄
   用ポットに移し替えて洗浄水で洗浄するとともにメディ
   ア分離を行うポット水洗工程とを備え、 前記バレルユニット水洗工程及び前記ポット水洗工程に
   用いる洗浄水として、当該バレルユニット水洗工程の排
   水から固形分を除去したものと前記ポット水洗工程の排
   水とを合わせて再生した水を繰り返し使用することを特
   徴とするメッキ済み部品の洗浄水処理方法。
3. 【請求項３】 前記バレルユニット水洗工程の排水を逆
   浸透膜装置で処理して固形分となる成分を含む濃縮液を
   除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装置で蒸発さ
   せて固形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷却した
   水とを再利用する請求項１又は２記載のメッキ済み部品
   の洗浄水処理方法。
4. 【請求項４】 前記メッキ浴槽が複数あり、各メッキ浴
   槽に対応して複数のバレルユニット水洗工程を備え、個
   々のバレルユニット水洗工程の排水毎に前記逆浸透膜装
   置が設けられている請求項３記載のメッキ済み部品の洗
   浄水処理方法。
5. 【請求項５】 部品を収容したバレルユニットが浸漬さ
   れるメッキ浴槽の後段に配置されていて、該メッキ浴槽
   でメッキ処理されたメッキ済み部品を収容したバレルユ
   ニットを、洗浄水で洗浄するバレルユニット水洗部と、
   該バレルユニット水洗部の排水から固形分となる成分を
   含む濃縮液を除去する逆浸透膜装置と、前記濃縮液の水
   分を蒸発させて固形分を取り出す蒸発装置とを備え、 前記逆浸透膜装置で前記固形分となる成分を含む濃縮液
   を除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装置で蒸発
   させて固形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷却し
   た水とを再生して前記洗浄水として前記バレルユニット
   水洗部に供給することを特徴とするメッキ済み部品の洗
   浄水処理装置。
6. 【請求項６】 部品を収容したバレルユニットが浸漬さ
   れるメッキ浴槽の後段に配置されていて、該メッキ浴槽
   でメッキ処理されたメッキ済み部品を収容したバレルユ
   ニットを、洗浄水で洗浄するバレルユニット水洗部と、 該水洗工程を終了したバレルユニットから前記メッキ済
   み部品及びメディアを洗浄用ポットに移し替えて洗浄水
   で洗浄するとともにメディア分離を行うポット水洗部
   と、前記バレルユニット水洗部の排水から固形分となる
   成分を含む濃縮液を除去する逆浸透膜装置と、前記濃縮
   液の水分を蒸発させて固形分を取り出す蒸発装置とを備
   え、 前記逆浸透膜装置で前記固形分となる成分を含む濃縮液
   を除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装置で蒸発
   させて固形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷却し
   た水と、前記ポット水洗部の排水とを合わせて再生して
   前記洗浄水として前記バレルユニット水洗部及び前記ポ
   ット水洗部に供給することを特徴とするメッキ済み部品
   の洗浄水処理装置。
7. 【請求項７】 前記メッキ浴槽が複数あり、各メッキ浴
   槽に対応して前記バレルユニット水洗部を複数設け、個
   々のバレルユニット水洗部の排水毎に前記逆浸透膜装置
   を設けてなる請求項５又は６記載のメッキ済み部品の洗
   浄水処理装置。
8. 【請求項８】 前記洗浄水の供給経路にイオン除去用の
   イオン交換装置と、紫外線で殺菌処理を行う紫外線照射
   装置とを設けてなる請求項５，６又は７記載のメッキ済
   み部品の洗浄水処理装置。