【発明の詳細な説明】
医薬化合物の製造方法
発明の背景
細胞成長の正常な制御を受けない細胞増殖を特徴とする新生物病はヒトおよび
他の哺乳動物の主要な死の原因である。癌の化学療法における臨床経験は、これ
らの病気を治療するには新しいより有効な薬剤が望ましいことを示している。そ
のような臨床経験は、新生物細胞の増殖を阻害するには細胞骨格の微小管系を崩
壊させる薬剤が有効であり得ることも示した。
クリプトフィシン化合物は現在完全な合成方法を用いて製造する事ができるが
、有用なクリプトフィシン化合物の多くは酸不安定性エポキシド基を含んでいる
。Barrow,R.A.ら、J.Am.Chem.Soc.117,2479(1995)。出願人は、β−エポキシド
が特に望ましいものであり得ることを発見した。しかしながら、Barrowらの、下
記式(I)で示されるクリプトフィシン化合物のいくつかの合成法では、所望の
エポキシドについての選択性が2:1のみであるエポキシド化が最終工程で行わ
れている。さらに、この段階ではジアステレオマーを分けることは難しい。この
方法ではより初期の中間体をエポキシド化することが望ましいが、エポキシドは
多くの反応条件に感受性である。
本発明はエポキシド機能性を有するクリプトフィシン化合物を製造するための
はるかに望ましい新規で効率的な方法を提供する。全体的合成方法ではエポキシ
ド化は初期の工程で生じ、ジアステレオマーの分離がより簡単となり、選択性が
より高くなる。さらに、より初期の段階でのエポキシド化は物質を保存し、経費
を削減し、処理能力を増すことにより該方法の全体的効率を増大させる。
発明の簡単な要約
本発明は、式:[式中、GはC1−C12アルキル、C2−C12アルケニル、C2−C12アルキニル
、またはArであり、
Arは芳香族もしくはヘテロ芳香族基、または置換された芳香族もしくはヘテロ
芳香族基であり、
R3はC1−C6アルキルであり、
R4およびR5はそれぞれ水素であるか、またはR4とR5が一緒になってC−13
とC−14の間に第二結合を形成し、
R7およびR8はそれぞれ独立して水素もしくはC1−C6アルキルであるか、また
は
R7とR8が一緒になってシクロプロピルまたはシクロブチル環を形成し、
R9は水素、C1−C6アルキル、C2−C6アルケニル、C2−C6アルキニル、−(
CH2)m−(C3−C5)シクロアルキル、またはベンジルであり(ここで、mは1
〜3の整数である)、
R10は水素またはC1−C6アルキルであり、
R11は水素、C1−C6アルキル、フェニル、またはベンジルであり、
R14は水素またはC1−C6アルキルであり、
R50は水素または(=O)であり、
YはCH、O、NR12、S、SO、SO2であり(ここで、R12はHまたはC1−
C3アルキルである)、
R6はC1−C6アルキル、置換(C1−C6)アルキル、(C3−C8)シクロアル
キル、置換(C3−C8)シクロアルキル、ヘテロ芳香族もしくは置換ヘテロ芳香
族、または式(IA)、(IB)、または(IC):(式中、R6a、R6b、およびR6cは独立してH、(C1−C6)アルキル、ハロN
R18R19、またはOR18であり、
R15、R16、およびR17は独立して水素、ハロ、(C1−C6)アルキル、OR18
、O−アリール、NH2、NR18R19、NO2、OPO4H2、(C1−C6アルコキ
シ)フェニル、S−ベンジル、CONH2、CO2H、PO3H2、SO2R23、ま
たはZ’であり、
R18およびR19は独立して水素またはC1−C6アルキルであり、
R23は水素または(C1−C3)アルキルであり、
Zは−(CH2)n−または(C3−C5)シクロアルキルであり、
nは0、1、または2であり、
Z’は芳香族もしくは置換芳香族基である)で示される基である]
で示される化合物、またはその医薬的に許容される塩の製造方法であって、式:
[式中、G、R3、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、および
Yは前記と同意義であり、qは整数1または2であり、R81はC1−C6アルキル
、C3−C8シクロアルキル、フェニル、またはベンジルであり、R82は塩基不安
定性保護基である]で示される化合物を脱保護剤で脱保護して、
式:[式中、G、R3、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、Y、q
、およびR81は前記と同意義である]で示される化合物を形成し、所望により式
(9c)の化合物を環化剤と接触させて式(I)の化合物を形成し、所望により
その医薬的に許容される塩を形成することを含む方法に関する。
さらに、本発明は、
(a)式:
[式中、G、R3、R4、およびR5は前記と同意義であり、R2aは水素またはト
リ(C1−C6アルキル)シリルであり、Rpは水素、または適切に活性化すること
ができるカルボキシ保護基である]で示される化合物をエポキシド化剤でエポキ
シド化して、式:
[式中、G、R3、R4、R5、R2a、およびRpは前記と同意義である(ただし、
R2aとRpが共に水素であることはない)]で示される化合物を形成し、
(b)式(3)の化合物を式:[式中、R6およびR14は前記と同意義であり、Rp1は水素またはC1−C6アル
キルである]で示されるアミノ酸と、さらにR14およびRp1が水素であるときは
シリル化剤の存在下でカップリングさせることにより、式:
[式中G、R3、R4、R5、R2a、Rp1、R6、およびR14は前記と同意義である
]で示される化合物を得、
(c)式(5)の化合物を適切なアルコキシ脱保護剤で脱保護し、そしてさらに
Rp1がC1−C6がアルキルであるときは式(5)の化合物を適切な塩基でカルボ
キシ脱保護して式:
[式中、G、R3、R4、R5、R6、およびR14は前記と同意義であり、M+はカ
チオンである]で示される化合物を形成し、
(d)式(6)の化合物とチオエステル形成剤と接触させて式:[式中、G、R3、R4、R6、R14、およびR81は前記と同意義である]で示さ
れる化合物を形成し、
(e)式(7)の化合物を式:
[式中、R7、R8、R9、R10、R11、R50、およびR82は前記と同意義である
]で示される化合物とカップリングさせて式:
[式中、G、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、
R81、R82、およびYは前記と同意義である]で示される化合物を形成し、
(f)式(9)の化合物を酸化剤で酸化して式:[式中、G、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、
R81、R82、Y、およびqは前記と同意義である]で示される化合物を形成し、
(g)式(10)の化合物を適切な脱保護剤で脱保護して式:
[式中、G、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、
Y、およびR81は前記と同意義である]で示される化合物を形成し、所望により
、式(10a)の化合物を環化剤と接触させて式(I)の化合物を形成し、
(h)所望により、式(I)の化合物の医薬的に許容される塩を形成する工程を
含む式(I)の化合物の製造方法に関する。
さらに、本発明は抗新生物剤および/または抗黴剤を製造するための中間体と
して有用な、式:
[式中、G、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、
R81、R82、Y、およびqは前記と同意義である]で示される化合物またはその
医薬的に許容される塩に関する。
さらに本発明は抗新生物剤および/または抗黴剤を製造するための中間体とし
て有用な、式:
[式中、G、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、
Y、およびR81は前記と同意義である]で示される化合物またはその医薬的に許
容される塩に関する。
さらに、本発明は抗新生物剤および/または抗黴剤を製造するための中間体と
して有用な、式:
[式中、G、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、
R81、R82、およびYは前記と同意義である]で示される化合物またはその医薬
的に許容される塩に関する。
さらに、本発明は抗新生物剤および/または抗黴剤を製造するための中間体と
して有用な、式:[式中、G、R3、R4、R5、R2a、およびRpは前記と同意義である(ただしR2a
とRpが共に水素であることはない)]で示される化合物に関する。
さらに、本発明は抗新生物剤および/または抗黴剤を製造するための中間体と
して有用な、式:
[式中、G、R3、R4、R5、R2a、Rp1、R6およびR14は前記と同意義である
]で示される化合物に関する。
さらに、本発明は抗新生物剤および/または抗黴剤を製造するための中間体と
して有用な、式:
[式中、G、R3、R4、R5、R6、およびR14は前記と同意義であり、M+はカ
チオンである]で示される化合物に関する。
さらに、本発明は式(9)の化合物を脱保護剤で脱保護して、式:[式中、G、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R14、R50、
およびYは前記と同意義である]で示される化合物を形成し、所望により式(9
c)の化合物を環化剤と接触させて式(I)の化合物を形成し、所望によりその
医薬的に許容される塩を形成することを含む式(I)の化合物の製造方法に関す
る。
発明の詳細な説明
本出願で用いている:
本明細書で用いている用語「医薬的に許容される塩」は酸付加塩か塩基付加塩
のいずれかを表す。
表現「医薬的に許容される酸付加塩」は式Iの化合物またはそのあらゆる中間
体のあらゆる無毒性有機または無機酸付加塩に適用することを意図する。適切な
塩を形成する無機酸の例には、塩酸、臭化水素酸、硫酸、およびリン酸ならびに
オルソリン酸一水素ナトリウムならびに硫酸水素カリウムのような酸金属塩が含
まれる。適切な塩を形成する有機酸の例には、モノ−、ジ−、およびトリカルボ
ン酸が含まれる。そのような酸の例には、例えば酢酸、グリコール酸、乳酸、ピ
ルビン酸、マロン酸、琥珀酸、グルタール酸、フマル酸、リンゴ酸、酒石酸、ク
エン酸、アスコルビン酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸、安息香酸、ヒド
ロキシ安息香酸、フェニル酢酸、ケイ皮酸、サリチル酸、2−
フェノキシ−安息香酸、およびp−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、な
らびに2−ヒドロキシエタンスルホン酸のようなスルホン酸がある。そのような
塩は水和形または実質的に無水形のいずれかで存在し得る。
表現「医薬的に許容される塩基付加塩」は式Iの化合物またはそのあらゆる中
間体のあらゆる無毒性の有機または無機塩基付加塩に適用することを意図する。
適切な塩を形成する塩基の例には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
カルシウム、水酸化マグネシウム、もしくは水酸化バリウムのようなアルカリ金
属またはアルカリ土類金属水酸化物、アンモニア、およびメチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピ
ルジエチルアミン、ピリジン、およびピコリンのような脂肪族、環状、または芳
香族有機アミンが含まれる。
本明細書で用いている用語「C1−C12アルキル」は、炭素数1〜12の飽和
直鎖または分岐鎖炭化水素基を表す。この用語の範囲内には、メチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、te
rt−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル
、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、およびデシルなどが含まれる。該用
語には炭素数1〜6の飽和、不飽和、直鎖または分岐鎖炭化水素基を表す用語「
C1−C6アルキル」が含まれる。この用語の範囲内には、メチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert
−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、お
よびヘキシルなどが含まれる。用語「C1−C12アルキル」および「C1−C6ア
ルキル」には、炭素数1〜3の飽和、不飽和、直鎖または分岐鎖炭化水素基を表
す用語「C1−C3アルキル」が含まれる。この用語の範囲内にはメチル、エチル
、およびイソプロピルなどが含まれる。
「置換(C1−C6)アルキル」は1またはそれ以上の異種原子を含む置換基を
3個まで含んでいてよい。そのような置換基の例には、OH、NH2、CONH2
、CO2H、PO2H、およびSO2R21(ここで、R21は水素、C1−C3アルキ
ルまたはアリールである)がある。
用語「(C3−C8シクロアルキル」は飽和C3−C8シクロアルキル基を表す。
この基の範囲内にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシル、およびシ
クロオクチルなどが含まれる。「置換(C3−C8)シクロアルキル基」は3個ま
でのC1−C3アルキル、ハロ、またはOR21置換基を有する(C3−C8)シクロ
アルキル基を表す。該置換基はあらゆる利用可能な炭素原子と結合してよい。シ
クロヘキシルは特に好ましいシクロアルキル基である。用語「−(CH2)m−(
C3−C5)シクロアルキル」(ここで、mは整数1、2または3である)はメチ
ルイデン、エチルイデン、またはプロピルイデン置換基と結合したシクロプロピ
ル、シクロブチル、またはシクロペンチル環を表す。
用語「C2−C12アルケニル」は1〜3個の三重結合結合を有する、炭素数2
〜12の不飽和直鎖または分岐鎖炭化水素基を表す。この用語の範囲内には、エ
テニル、プロペニル、イソプロペニル、n−ブテニル、イソブテニル、ペンテニ
ル、2−メチルブテニル、3−メチルブテニル、ヘキセニル、オクテニル、ノネ
ニル、およびデセニルなどが含まれる。アルケニルが二重結合を1個だけ有する
ことが特に好ましい。
用語「C2−C12アルキニル」は、1〜3個の二重結合を有する、炭素数2〜
12の不飽和直鎖または分岐鎖炭化水素基を表す。この用語の範囲内には、エチ
ニル、プロピニル、イソプロピニル、2−メチルプロピニル、ヘキシニル、およ
びデシニルなどが含まれる。アルキニルは三重結合を1個だけ有することが特に
好ましい。
用語「C1−C6アルコキシ」は、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソ
プロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、および2−メチルペン
トキシなどのような炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖アルコキシ基を表す。用語
「(C1−C6アルコキシ)フェニル」はフェニル環上のあらゆる利用可能な炭素
がC1−C6アルコキシ基で置換されたフェニル基を表す。
用語「ハロ」はクロロ、ブロモ、フルオロ、またはヨードを表す。
用語「芳香族基」および「ヘテロ芳香族基」は、単環または2環結合系におい
て4n+2pi電子を有する普通の芳香族環を表す。用語「アリール」は芳香族
基を表し、用語「アラルキル」はアリール(C1−C6−アルキル)基を表す。芳
香族基の例には、フェニル、ベンジル、およびナフチルがある。ヘテロ
芳香族基は環内に1またはそれ以上の酸素、窒素、および/または硫黄原子を含
むであろう。ヘテロ芳香族基の例には、フリル、ピロリル、チエニル、およびピ
リジルなどが含まれる。芳香族基またはヘテロ芳香族基が置換されると、それら
は、1〜3個の独立して選ばれたC1−C6アルキル、C1−C6−アルコキシ、ま
たはハロ、置換基を有してよい。芳香族基はさらにトリフルオロメチル、COO
R57(ここでR57は水素またはC1−C6アルキルである)、PO3H、SO3H、
SO2R57、N(R59)(R60)(ここで、R59は水素またはC1−C6アルキル
であり、R60は水素、C1−C6アルキル、BOCまたはFMOCである)、−C
N、−NO2、−OR57、−CH2OC(O)(CH2)m'NH2(ここで、m’は
1〜6の整数である)または−CH2−O−Si(R57)(R58)(R59)(こ
こで、R58は水素またはC1−C6アルキルである)で置換されていてよい。該芳
香族基の特に好ましい置換基にはメチル、ハロ、N(R59)(R60)、および−
OR57が含まれる。該置換基はあらゆる利用可能な炭素原子と結合結合してよい
。
特に好ましい異種環または置換異種環基には、
[ここで、R20は水素またはC1−C6アルキルである]が含まれる。
用語「アリール」は、所望によりC1−C4アルキル、ハロ−置換Cl−C4アル
キル、ハロゲン、またはC1−C4アルコキシからなる群から選ばれる1、
2、または3個の置換基で置換されたフェニルまたはナフチル基のような炭素数
6〜12個の芳香族基を表す。用語「低級アルコイル基」または「C1−C5アル
コキシ」は、炭素数1〜5の飽和直鎖または分岐鎖ヒドロカルビル基を有する酸
素基を構成するアルキルオキシ基を表し、特に、メトキシ、エトキシ、プロピル
オキシ、イソプロピルオキシ、n−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、sec−
ブチルオキシ、第3ブチルオキシ、およびペンチルオキシなどを含む。用語「ア
リール」の範囲内には、特にフェニル、p−トルオイル、p−メトキシフェニル
、p−クロロフェニル、およびナフチルなどが含まれる。
本明細書で用いている用語「ヘテロアリール」は、環内に、酸素、窒素、また
は硫黄から選ばれる、1またはそれ以上の非炭素置換基を含む飽和または不飽和
ヘテロ芳香族基を表す。環内の炭素原子と非炭素原子の総数は4〜12原子の範
囲である。用語「ヘテロアリール」の範囲内には、特にフリル、ピロリル、チエ
ニル、およびピリジルなどのような単環結合系、およびインドールのような2環
結合系が含まれる。
本明細書で用いている「エポキシド環」は、2個の炭素と1個の酸素原子から
なる母体構造(backbone)を有する3員環を意味する。本明細書で用いている「ア
ジリジン環」は2個の炭素原子と1個の窒素原子からなる母体構造を有する3員
環を意味する。本明細書で用いている「スルフィド環」は2個の炭素原子と1個
の硫黄原子からなる母体構造を有する3員環を意味する。本明細書で用いている
「エピスルフィド環」は2個の炭素原子と1個の硫黄原子からなる母体構造を有
する3員環を意味する。本明細書で用いている「サルフェート基」は、硫黄原子
と連結したさらに2個の酸素原子を有する炭素−炭素−酸素−硫黄−酸素母体構
造からなる5員環を意味する。本明細書で用いている「シクロプロピル環」は、
3個の炭素原子からなる母体構造を有する3員環を意味する。本明細書で用いて
いる「モノアルキルホスフェート環」は、さらに2個の酸素原子を有し、その1
個がリン原子と連結した低級アルキル基を有する、炭素−炭素−酸素−リン−酸
素母体構造からなる5員環を意味する。
本明細書で用いている用語「(=O)」は、それが結合している環上の炭素と
一緒になって式:のカルボニル基を表す。
用語「O−アリール」は、アリールオキシ、またはオキシ部分と結合したアリ
ール基を表す。
本明細書で用いている用語「TBS」は、式:
で示されるtert−ブチルジメチルシリルを表す。
本明細書で用いている用語「NHS」は、式:
で示されるN−ヒドロキシスクシンイミドを表す。
本明細書で用いている用語「Ph」はフェニル部分を表す。
本明細書で用いている用語「塩基不安定性アミノ保護基」は塩基不安定性であ
ることが知られている普通のアミノ保護基を表す。当業者はGreene,T.W.「Prote
cting Groups in Organic Synthesis」、Wiley(New York,1981)のような一般的
研究を参考にすることができる(特にGreeneの第7章参照)。特に好ましいアミ
ノ保護基はフルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)である。
用語「適切に活性化することができるカルボキシ保護基」は、活性化すること
ができるエステル置換基を含むカルボキシ保護基を表し、当業者に知られており
、上記Greene,T.W.に開示されている。適切なカルボキシ保護基はN−ヒドロキ
シ−スクシンイミド、N−ヒドロキシスルホスクシンイミドならびにその塩、2
−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、および2,4−ジクロロフェニルなど
を含む活性化することができるエステル置換基である基である。特に好ましい活
性化することができるカルボキシ保護基はN−ヒドロキシ−スクシ
ンイミド(NHS)である。
一般的合成方法は反応式Aに示している。反応式Aにおいて、特記しない限り
すべての置換基は先に定義したとおりである。反応式Aで用いた試薬、技術、お
よび手順は当業者によく知られており、十分理解されている。
反応式A 反応式A(続き) 反応式Aの工程1において、式(2)のアルケンをエポキシド化剤でエポキシ
ド化し、式(3)のエポキシドを形成十る。
式(2)の化合物は、適切なエポキシド化剤を用いて非選択的にエポキシド化
することができよう。「エポキシド化剤」は化合物(2)のアルケン類似体を化
合物(3)のエポキシドに変換することができる物質である。適切なエポキシド
化剤には、アセトン、m−CPBA、メチルトリオキソレニウム(VII)、ト
リフルオロ過酢酸、およびマグネシウムモノパーオキシフタレートと一緒になっ
たカリウムパーオキソモノサルフェート(オキソン)が含まれ、アセトンまたは
m−CPBAと一緒になったオキソンが好ましい。式(2)の化合物のエポキシ
ド化用の可能な溶媒には、アセトン、DMF、グリム、ジオキサン、CH3CN
、アルコール、THF、EtOAc、ハロ炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロ
メタンおよびトルエンが含まれる。所望により該反応はNaHCO3のような適
切な塩基の存在下で生じる。反応温度は約−30℃〜約50℃の範囲であり、約
−10℃〜約25℃が好ましい。式(3)のエポキシドはカラムクロマトグラフ
ィのような当該分野でよく知られた技術と手順に従って単離し、精製することが
できよう。式(3)のα−およびβ−エポキシドは、さらにHPLCにより分離
することができよう。式(3)のβ−エポキシド、化合物(3b)を式(3)の
α−エポキシド、化合物(3a)から分離し、これをさらに本発明の方法の残り
の工程に用いて式(I)の化合物のβ−エポキシ形を形成することが好ましい。
しかしながら、反応式A、工程1のエポキシド化反応は式(3a)のα−エポキ
シド、または2つのエポキシドの混合物と共に用いることもできる。
RpがHである式(2)の化合物をm−CPBAを用いて直接エポキシド化し
てよい。式(2)の化合物を用いてm−CPBAエポキシド化を行い、エポキシ
ドの1.2:1 β/αジアステレオマー混合物を得ることができよう。(3)の
個々のα−およびβ−ジアステレオマーは上記のごとくHPLCにより分離する
ことができよう。この直接的エポキシド化を反応式Bに示す。
反応式B
N−ヒドロキシスクシンイミドエステルの使用を除くことにより、該合成から1
工程が除かれる。
さらに、式(3c)の化合物は、...に従って化合物(2b)を脱エステル
化することにより製造することができよう。
さらに、式(3c)の化合物は反応式B1に従って化合物(2b)を脱エステ
ル化することにより製造することができよう。反応式B1において、RaはC1−
C6アルキルであるが、残る全ての置換基は先に定義した通りである。
反応式B1
反応式B1において、式(2b)のアルキルエステルを適切な脱エステル化剤
で脱エステル化することにより式(3c)の酸を形成する。用語「適切な脱エス
テル化剤」には、エポキシドに対しては不活性でありながら、Raのエステル部
分を除去するのに適した方法または条件が含まれる。例えば、水酸化カリウムの
ような適切な塩基を、テトラヒドロフランのような適切な溶媒中の式(2b)の
アルキルエステルの溶液に加える。次に、二相性混合物を約20℃
〜約80℃、好ましくは40℃および65℃の範囲の温度で、約6〜24時間攪
拌する。室温まで冷却した後、水性相を1N塩酸のような適切な酸、次いで塩水
で洗浄する。混合物を乾燥し、ろ過し、濃縮して(3c)の酸を得る。
式(2b)のエステルは当該分野で知られている製造例1、工程10のアルケ
ン誘導体をエポキシド化することにより製造することができよう
(Barrow,R.A.ら、J.Am.Chem.Soc.117,2479(1995)。
式(2)の化合物を立体選択的にエポキシド化し、Tu,Y.ら、J.Am.Chem.Soc.1
18,9806(1996)、Wang,Z-Xら、J.Org.Chem.62,2328(1997)、Wang,Z-Xら、J.Am.Ch
em.Soc.119,11224(1997)に開示の方法と類似の方法を用いてNaHCO3のよう
な適切な塩基の存在下でキラルケトンとオキソンを用いて式(3a)または(3
b)の化合物のいずれかを形成することもできよう。この反応の式(2)の好ま
しい化合物にはGがフェニルであり、R3がメチルであり、R4とR5が第二結合
を形成し、RがNHSである該化合物が含まれる。本明細書で用いている用語「
キラルケトン」は以下の一般的特徴を含むケトンを表す:
1)立体中心が反応中心と密接しており、
2)該ケトンは融合環とカルボニル基に対する第4中心を有し、
3)該ケトンの1表面は立体的にブロックされている。
ある特に好ましいキラルケトンは構造:
を有する。
この好ましいキラルケトンは、常套的条件下でケタール化および酸化すること
によりD−フルクトースから製造することができる。例えば、ケタール化はアセ
トン、HClO4を用いて完結させることができ、該方法は約0℃で行われる。
例えば、酸化は室温でピリジニウムクロロクロマートを用いて完結させ
ることができる。これらの反応は当該分野で知られている(例えば、Tu,Y.ら、
上記、およびWang,Z-Xら、上記参照)。不斉エポキシド化は反応中約7.0〜約
11.5の範囲内のpHで行うことができる。
約8.0のpHで多くのクリプトフィシン中間体を用いて95%以上の変換体
を得るには約3〜4当量のキラルケトンが必要であるが、約9.0またはそれ以
上のpHではより少ないキラルケトン(約1〜2当量)を用いることができる。
エポキシド化工程に有用な適切な溶媒には、H2O、DMF、グリム、ジオキサ
ン、CH3CN、アルコール、THF、EtOAc、ハロ炭化水素、クロロベン
ゼン、およびトルエンが含まれるが、CH3CN/H2O溶媒混合物が好ましい。
反応温度は約−20℃〜約25℃の範囲であってよいが、約−10℃〜約10℃
が好ましい。粗生成物(3)の個々の異性体(3a)または(3b)は、抽出、
蒸発、クロマトグラフィ、および再結晶のような当該分野でよく知られた技術に
より単離し、精製することができる。好ましい立体選択的エポキシド化では構造
(2b)のキラルケトンを利用し、α:β比が約1:5の粗生成物(3)中のエ
ポキシド混合物を得る。
Rpが水素である式(2)の化合物は知られており、当該分野で知られている
か、または知られている類似の方法により容易に製造される(PCT国際公開公報
第WO97/07798(1997年3月6日公開)、PCT国際公開公報第WO96/40184(1996年
12月19日公開)、Barrow,R.A.ら、J.Am.Chem.Soc.117,2479(1995))。式(3)
のβ−エポキシドが一般的に好ましく、本発明の方法を通して用いている。
反応式A、工程2において、式(3)のエポキシドを式(4)のアミノ酸とカ
ップリングさせ、式(5)の断片A−B化合物を得る。
式(4)のアミノ酸は市販されているか、当該分野で知られた方法により容易
に製造される。式(4)の特に好ましいアミノ酸には、R6が式(IA)の基で
あり、R6aがメトキシであり、R6bがクロロであり、R6cがHであり、R14が水
素であり、Rp1が水素である該アミノ酸であるが含まれる。該アミノ酸はPCT国
際公開公報第WO97/07798(1997年3月6日公開)、PCT国際公開公報第WO96/4018
4(1996年12月19日公開)、Barrow,R.A.ら、J.Am.Chem.Soc.117,2479(1995)に開
示されている。
RpがNHSである式(3)のエポキシドを、エポキシドの機能性に対して不
活性なカップリング法に従って式(4)のアミノ酸とカップリングさせる。例え
ば、式(3)のエポキシドを、適切な有機溶媒の存在下で、約1.5〜3.5当
量の、Rp1とR14が共に水素であるアミノ酸(4)、および適切なシリル化剤と
接触させる。適切な有機溶媒にはDMF、グリム、ジオキサン、CH3CN、T
HF、EtOAc、および塩化メチレンのようなハロ炭化水素が含まれる。該反
応は約−30℃〜約75℃の範囲の温度、好ましくは約20℃〜約60℃の範囲
の温度で行われる。式(5)の断片A−B化合物は、抽出、蒸発、クロマトグラ
フィ、および再結晶といった当該分野でよく知られた技術および手順に従って単
離し、精製することができよう。
本明細書で用いている用語「シリル化剤」は、標的の置換基にシリル基を結合
させることができるあらゆる試薬から選ばれる。一般的に知られているシリル化
剤が用いられる(例えば、Calvin,E.W.,「Silicon Reagents in Organic Synthe
sis」,Academic Press,(London,1988)参照)。一般的に典型的なシリル物質には
、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジメチルイ
ソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、ジメチルゼキシル(thexyl)シ
リル、およびt−ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシリル基を有する
あらゆる試薬、トリベンジルシリル、ジフェニルメチルシリル、t−ブチルメト
キシフェニルシリル、およびトリ−p−キシリルシリルのようなアルキルアリー
ルシリル基を有するあらゆる試薬、およびトリフェニルシリルのようなトリアリ
ールシリル基を有するあらゆる試薬が含まれる。好ましいシリル化剤はトリメチ
ルシリル化剤である。典型的なトリメチルシリル化剤にはN,O−ビス(トリメ
チルシリル)アセトアミド、アリルトリメチルシラン、N,O−ビス(トリメチ
ルシリル)−カルバメートN,N−ビス(トリメチルシリル)メチルアミン、ビ
ス(トリメチルシリル)サルフェート、N,O−ビス(トリメチルシリル)トリ
フルオロアセトアミド、N,N−ビス(トリメチルシリル)ウレア、(エチルチ
オ)トリメチルシラン、エチルトリメチルシリルアヤテート、ヘキサメチルジシ
ラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシ
ルチアン、(イソプロペニルオキシ)トリ
メチルシラン、1−メトキシ−2−メチル−1−トリメチル−シロキシ−プロペ
ン、(メチルチオ)トリメチルシラン、メチル3−トリメチルシロキシ−2−ブ
テノエート、N−メチル−N−トリメチルシリルアセトアミド、メチルトリメチ
ルシリルアセテート、N−メチル−N−トリメチルシリル−ヘプタ−フルオロブ
チルアミド、N−メチル−N−トリメチルシリル−トリフルオロアセトアミド、
(フェニルチオ)トリメチルシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルクロ
ロシラン、トリメチルヨードシラン、4−トリメチルシロキシ−3−ペンテン−
2−オン、N−(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセテー
ト、トリメチルシリルアジド、トリメチルシリルベンゼンスルホネート、トリメ
チルシリルシアニド、N−トリメチルシリルジエチルアミン、N−トリメチルシ
リルジメチルアミン、トリメチルシリルN,N−ジメチルカルバメート、1−(
トリメチルシリル)イミダゾール、トリメチルシリルメタンスルホネート、4−
(トリメチルシリル)モルホリン、3−トリメチルシリル−2−オキサゾリジノ
ン、トリメチルシリルトリクロロアセテート、トリメチルシリルトリフルオロア
セテート、およびトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートが含まれる
。特に有用なシリル化剤には、「トリ−低級アルキルシリル」物質が含まれ、こ
の用語にはトリイソプロピルシリル、トリメチルシリルならびにトリエチルシリ
ル、トリメチルシリルハロゲン化物、ビス(トリメチルシリル)尿素(BSU)
のようなシリル化尿素、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BS
A)のようなシリル化アミドが含まれる。ビスN,O−トリメチルシリルアセト
アミド(BSA)が特に好ましいシリル化剤である。
あるいはまた、Rp1が水素であるときは適切なカップリング剤、好ましくはジ
フェニルホスフィニッククロリド、およびシリル物質を用いて、所望のβ−エポ
キシド(3c)を(4)とカップリングさせることにより断片A−B(5)を得
ることができよう。適切なカップリング剤は、Greene,T.W.「Protecting FGroup
sin Organic Syntehsis」、Wiley(New York,1981)に記載のごとく当該分野でよ
く知られており、これにはN,O−ジフェニルホスフィニッククロリド、ジフェ
ニルクロロホスフェート、DCC、EDCI、クロロホルメート、
および2−クロロ−4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジンが含まれる。
ジフェニルホスフィニッククロリドが好ましいカップリング剤である。上記の適
切な有機溶媒、好ましくは塩化メチレンを用いてよい。この方法では、カルボキ
シ保護工程を除くことができ、より少ない量のアミノ酸(4)を用いることがで
きる。
反応式A、工程3において式(5)の断片A−B化合物を適切なアルコキシ脱
保護剤を用いて脱保護することにより、式(6)の化合物を形成する。
適切なアルコキシ脱保護剤は、式(5)の断片A−B化合物のエポキシド部分
に対しては不活性でありながらR2a置換基によって示されるヒドロキシ保護基を
除去する該脱保護剤である。好ましい脱保護剤にはテトラブチルアンモニウムフ
ロリド、フッ化ピリジニウム、トリエチルアンモニウムフロリド、およびフッ化
セシウムなどのような塩基性フロリド供給源が含まれ、テトラブチルアンモニウ
ムフロリドが好ましい。脱保護反応はテトラヒドロフランのような適切な有機溶
媒の存在下で、所望により重炭酸ナトリウム(NaHCO3)のような適切な塩
基の存在下で生じる。該反応は約0℃〜約80℃、好ましくは約20℃〜約70
℃の範囲で生じる。該反応は約3〜24時間行われる。粗生成物(6)はさらに
精製することなく用いてよい。あるいはまた、式(6)の化合物は、抽出、蒸発
、クロマトグラフィ、および再結晶のような当該分野でよく知られた方法に従っ
て単離し、精製することができよう。
式(6)の化合物のRp1が水素であるときは、Rp1部分は実質的には脱保護剤
のカチオン塩、例えば、セシウム、テトラブチルアンモニウムなどである。
反応式A、工程4において、式(6)の化合物をチオエステル形成剤と接触さ
せ式(7)のエステルを得る。
用語「チオエステル形成剤」には式(7)のチオエステル部分を形成するのに
適したあらゆる適切な方法または条件が含まれる。この定義内には、Ono,N.ら、
Bull.Chem.Soc.Jpn.51(8),2401(1978)、Ho,Tse-Lok,Synth.Comm.9(4),267-270(
1979)、Narasaka,K.ら、J.Am.Chem.Soc.106(10),2954-2960(1984)、L.G.Wade,Jr
.ら、Tetrahedron Lett.731-732(1978)、Mora,N.ら、Tetrahedron Lett.34(15),2
461-2464(1993)、およびDossena,Aら、J.Chem.Soc.Perkin
Trans.I,2737(1981)に記載の、および/またはそれらの記載と類似の条件が含ま
れる。
例えば、式(6)の化合物を、重炭酸ナトリウム(NaHCO3)のような適
切な塩基の存在下でtert−ブチルブロミドのような立体的に妨げられたアル
キルハロゲン化物、および式:(R81)(Me)SO(ここで、R81は前記と同意義
)で処理することができる。反応のための好ましい溶媒はジメチルスルホキシド
(DMSO)である。立体的に妨げられたアルキルハロゲン化物および適切な塩
基を、共に式(6)の化合物に比べて約7.0〜12.0モル過剰に加える。該
反応は約0℃〜約60℃、好ましくは約10℃〜約30℃の範囲で生じる。約1
〜24時間の範囲で反応を行う。粗生成物(7)はさらに精製することなく用い
ることができる。あるいはまた、式(7)のエステルは、抽出、蒸発、クロマト
グラフィ、および再結晶といった当該分野でよく知られた方法に従って単離し、
精製することができる。
置換基Rp1が水素以外の部分である場合は、式(6)の化合物は最初にカルボ
キシ脱保護する必要がある。塩基性条件下のカルボキシ脱保護は当業者に知られ
ている。例えば、式(6)の化合物は、カルボキシ保護基を除去するのに十分な
期間、例えば、約1〜24時間、水酸化リチウム(LiOH)のような適切な塩
基で処理することができよう。
反応式A、工程5において、式(7)のエステルを式(8)のカルボン酸とカ
ップリングさせることにより式(9)の化合物を得る。
例えば、式(8)のカルボン酸をDMF、グリム、ジオキサン、THF、CH3
CN、EtOAc、およびハロ炭化水素のような適切な有機溶媒、好ましくは
ジクロロメタンに溶解させる。次に、この溶媒をカップリング試薬で処理する。
考えられるカップリング試薬には、DCC、EDCI、およびカルボン酸をアル
コールでエステル化するために活性化するDMAPのような同様の試薬が含まれ
る。次に、この溶液を所望により固体重炭酸ナトリウムのような適切な塩基で処
理し、次いで式(7)のエステルと接触させることができる。これらを添加した
後の(8)の濃度は約0.1M〜約2.0Mの範囲であるはずである。該反応は
約−30℃〜約60℃、好ましくは約10℃〜約30℃の範
囲で生じる。約0.5〜12時間の範囲で反応を行う。最終濃度の粗生成物(9
)はさらに精製することなく用いることができよう。あるいはまた、式(9)の
化合物は濃縮、蒸発、クロマトグラフィ、および再結晶といった当該分野でよく
知られた方法に従って単離し、精製することができよう。
反応式A、工程6において、式(9)の化合物を適切な酸化剤で酸化し、式(
10)のスルホンまたはスルホキシドを得る。
適切な酸化剤は、該分子のエポキシド部分に対しては不活性でありながら、式
(9)のスルフィドを式(10)のスルホンに変換することができる物質である
。適切な酸化剤にはカリウムパーオキソモノサルフェート(オキソン)、m−C
PBA、メチルトリオキソレニウム(VII)、およびマグネシウムモノパーオ
キシフタレート、好ましくはオキソンが含まれる。
例えば、式(9)のスルフィドは重炭酸ナトリウムのような適切な塩基、次い
でオキソンのような適切な酸化剤で処理される。該反応は、アセトン、DMF、
グリム、ジオキサン、CH3CN、アルコール、THF、EtOAc、ハロ炭水
化物、クロロベンゼン、およびトルエン、好ましくはアセトンのような適切な溶
媒中で行われる。一般的に、該反応は約−30℃〜約50℃、好ましくは−10
℃〜約10℃の温度で行われる。一般的に、該反応には約15分間〜約5時間を
要する。粗スルホンまたはスルホキド(10)はさらに精製することなく用いて
よい。あるいはまた、式(10)のスルホンまたはスルホキドは、抽出、蒸発、
クロマトグラフィ、および再結晶のような当該分野でよく知られた方法に従って
単離し、精製することができよう。
反応式A、工程7において、式(10)のスルホンまたはスルホキシドを適切
な脱保護剤で脱保護することにより式(10a)のアミンを得る。
適切な脱保護剤は、該分子のエポキシド部分に対しては不活性でありながら式
(10)の化合物の塩基不安定性置換基R82を除去することができる物質である
。適切な脱保護剤には、第二ならびに第三アミンおよび無機塩基のような塩基、
例えば、ピペリジン、モルホリン、ジシクロヘキシルアミン、p−ジメチルアミ
ノピリジン、ジイソプロピルメチルアミンなどを含むが、ピペリジンが好ましい
。該反応はDMF、グリム、ジオキサン、CH3CN、アルコール、
THF、EtOAc、ハロ炭水化物、クロロベンゼン、またはトルエンのような
適切な溶媒中で行われる。一般的には、該反応は約0℃〜約120℃の範囲の温
度で行われる。一般的に、該反応は約1〜72時間を要する。式(I)の化合物
は、抽出、蒸発、クロマトグラフィ、および再結晶のような当該分野でよく知ら
れた方法に従って単離し、精製することができよう。あるいはまた、式(10a
)の化合物を単離し、さらに環化剤で環化して式(I)の化合物を得ることがで
きよう。
典型的には、式(10)の化合物は脱保護されるとすぐに自然に環化される。
しかしながら、式(10)のある特定の化合物ではさらなる環化工程が必要なこ
とがある。例えば、式(9)のスルフィドは、塩基不安定性保護基の除去におい
てその酸化対応物よりはるかに活性が低いが、2−ヒドキシピリジンのような適
切な環化剤を用いて環化することにより式(I)の化合物を形成することができ
よう。例えば、式(9)のスルフィドか、あるいはまた、式(10a)の選ばれ
た化合物を、ピペリジンおよび2−ヒドロピリジンの存在下、DMFのような適
切な溶媒中で約60℃で数日間加熱する。式(I)の化合物は、抽出、蒸発、ク
ロマトグラフィ、および再結晶のような当該分野でよく知られた方法に従って単
離し、精製することができよう。
所望により、塩基性または酸性官能基を含む式(I)の化合物において、式(
I)の化合物の医薬的に許容される塩を標準的技術を用いて形成することができ
よう。例えば、遊離塩基を、適切な酸を含む水性もしくは水性アルコール溶液、
または他の適切な溶媒に溶解し、溶液を蒸発させることにより該塩を単離するこ
とができよう。あるいはまた、遊離塩基を適切な酸を含む有機溶媒と反応させる
ことにより、溶液を蒸発させることにより塩を単離することができよう。さらに
、遊離塩基を有機溶媒中で反応させてよく、その場合は、塩は直接分離されるか
、または該溶液を濃縮するか、もしくは水のような溶媒中に得ることができ、次
いでこれを減圧下でかもしくは凍結乾燥により、または存在する塩のカチオンを
、適切なイオン交換樹脂上の別のカチオンと交換することにより除去する。
式(8)のカルボン酸を製造するための合成反応式を反応式Cに示す。試薬
および出発物質は当業者に容易に利用可能である。反応式Cにおいて、すべての
置換基は特記しない限り前記と同意義である。
反応式C 反応式C、工程1において、式(11)のBoc−保護アミンを脱保護して式
(12)の脱保護アミンを得る。
例えば、脱保護反応には、当業者によく知られ、認められた技術と手順による
アミノ保護基の除去が含まれる。保護基の選択、使用、および除去は、Greene,T
.W.「Protecting Groups in Organic Syntehsis」、Wiley(New York,1981)に記
載されている。例えば、式(11)のBoc−保護アミンをトリフルオロ酢酸や
塩酸のような適切な酸に溶解する。一般的に、該反応は約0℃〜約60℃の範囲
の温度で行われる。一般的に、該反応は約1〜24時間を要する。式(12)の
脱保護アミンは、抽出、蒸発、クロマトグラフィ、および再結晶のような当該分
野でよく知られた方法に従って単離し、精製することができよう。
式(11)のBoc−保護アミンはBarrow,R.A.ら、J.Am.Chem.Soc.117,2479(
1995)、PCT国際公開公報第WO96/40184(1996年12月19
日公開)、およびPCT国際公開公報第WO97/07798(1997年3月6日公開)。
反応式C、工程2において、式(12)の脱保護アミンを塩基不安定性アミノ
保護基でアミノ保護し、式(8)のカルボン酸を得る。
例えば、アミノ基の塩基不安定性アミノ保護基による保護には、当業者によく
知られ、認められた技術と手順による塩基不安定性アミノ保護基の付加が含まれ
る。塩基不安定性アミノ保護基の選択、使用、および除去は、Greene,T.W.「Pro
tecting Groups in Organic Syntehsis」、Wiley(New York,1981)に記載されて
いる。好ましい塩基不安定性アミノ保護基はFmocである。例えば、ジオキサ
ンのような適切な溶媒中の、式(12)の脱保護アミンの溶液に重炭酸ナトリウ
ムのような適切な塩基、次いでFmoc−ClまたはFmoc−ONHSスクシ
ンイミドのような式:R82−ClまたはR82−ONHSの化合物を加える。所望
により、該混合物を少量の水で希釈し、約0℃〜約60℃の範囲の温度で12〜
48時間の範囲で攪拌してよい。塩酸のような適切な酸で混合物の反応を止める
ことができよう。式(8)のカルボン酸は、抽出、蒸発、クロマトグラフィ、お
よび再結晶のような当該分野でよく知られた方法に従って単離し、精製すること
ができよう。
所望により、反応式Aに記載の手順に従って式(I)の化合物の医薬的に許容
される塩を形成することができよう。
本発明の好ましい態様を提供するために独立して選んでよい本発明のある好ま
しい特性を以下の表に示す。本発明は下記の特性に何ら限定されるものではない
。
A)R8はエチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、またはイ
ソペンチルであり、
B)R7はエチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル
、またはイソペンチルであり、
C)R7はHであり、R8はメチルであり、R3はメチルであり、
D)R3はエチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル
、またはイソペンチルであり、
E)R9はメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ま
たはイソペンチルであり、
F)R10はメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、また
はイソペンチルであり、
G)Arは、所望により、水素、ハロゲン、−CH2C(O)(CH2)m'NH2
、および単純なアルキルからなる群から選ばれる置換基で置換されたフェニル
であり、
H)YがO、NH、S、SO、およびSO2からなる群から選ばれる化合物、
I)YがCHであり、R7、R8、R9、およびR10がそれぞれ水素である化合
物、
J)R7、R8がそれぞれ水素であり、
K)R7およびR8はそれぞれ水素またはOHから選ばれ、
L)R7およびR8はそれぞれメチルであり、
M)R7およびR8は一緒になってシクロプロピル基を形成し、
N)YはNHであり、
O)R4およびR5は二重結合を形成し、
P)R6は1つの置換基がハロゲンであり、1つがOR12基である(ここで、
R12は低級アルキルである)置換ベンジルであり、
Q)エポキシド化剤はオキソンであり、
R)エポキシド化は選択的であり、
S)キラルケトンは式:
で示され、そして
T)RpはNHSまたは水素である。
エステル出発物質は、例えば反応式Dに従って製造することができる。試薬お
よび出発物質は当業者に容易に利用可能である。反応式Dにおいて、全ての置換
基は特記しない限り前記と同意義である。反応式D エステルを製造するための反応式は、さらに当業者に好都合なように該反応式
のある特定の応用を示す本明細書中の製造例の項に記載されている。
エステルを製造するための反応式Dは本明細書においてクレームしたAr置換
基に応用できる。該反応式の例示は、例示したフェニル環のみの合成反応式に限
定することを意図するものではない。むしろ、当業者は、本明細書においてクレ
ームした方法で用いるための所望の出発物質を得るためにこの方法を広く応用す
ることができる。
必要な反応時間は出発物質と操作温度に関係する。該方法の最適反応時間は、
例によって、短い反応時間が好ましい処理能力と長い反応時間が好ましい最大収
量という競合する目標を考慮することにより決定される妥協点である。
以下の実施例において本発明をさらに例示する。本発明の範囲は以下の実施例
に、またはそれによって何ら限定されるものでない。製造例1
工程1。メチル5−フェニルペンタ−2(E)−エノエート。
THF(750mL)中のトリメチルホスホノアセテート(376g、417
mL、2.07mol)の溶液を、機械式スターラーとN2注入口を備えた3L
三首丸底フラスコ中で0℃で攪拌した。氷冷溶液に、生(き)テトラメチルグア
ニジン(239g、260mL、2.07mol)を添加漏斗から滴加した。氷
冷した透明淡黄色溶液を0℃で25分間攪拌した。THF(125mL)中のヒ
ドロシンナムアルデヒド(90%、253g、248mL、1.9mL)の溶液
を反応溶液に徐々に滴加した。加え終わったら、反応物を室温に上昇させながら
10時間攪拌した。GCは、生成物と出発物質の比が95:5であることを示し
た。反応容器に水500mLを加え、反応物を一夜攪拌し、2層に分離させた。
有機層を単離し、水性層をt−BuOMeで抽出した。有機層を混合し、MgS
O4で乾燥し、次いで減圧下で濃縮して橙色油状物を得
た。粗生成物を129℃/0.3mmHgで蒸留し、透明淡黄色油状物360.
5g(収率91.7%)を得た。工程2.5−フェニル−ペンタ−2−エン−1−オール
熱電対、機械式スターラー、およびN2注入口を備えた12L四首丸底フラス
コにTHF(1.5L)中の製造例1、工程1のエノエートエステル(310.
5g、1.5mol)の溶液を満たし、i−PrOH/CO2浴で−71℃に冷
却する。反応温度を<−50℃に維持する速度で、反応容器にDIBAL(2.
5L、トルエン中1.5M、3.75mol)を滴加する。加え終わったら、反
応物を、<−50℃の反応温度で一夜攪拌した。TLC(3:1ヘキサン:Et
OAc、SiO2)により16時間後に出発物質がないことが示された。反応温
度を−15℃に上昇させた。1N HCl(150mL)中で徐々に反応を止め
た。この時点で、反応物はゼラチン状固形物になった。スパーテルを用いて半固
形物を崩壊させ、1N HCl(200mL)を加えて、より液状の混合物とした
。濃HCl(625mL)を満たして2相系を形成した。層を分離し、生成物を
t−BuOMeで抽出した。有機層をMgSO4で乾燥し、減圧下で濃縮して透
明淡黄色油状物247.8gを得た。粗生成物を145℃
/0.25mmHgで蒸留し、209.7g(86.2%)を得た。工程3.(2S、3S)−2,3−エポキシ−5−フェニル−1−ペンタノール
機械式スターラー、熱電対、窒素注入口を備えた1L三首丸底フラスコにCH2
Cl2(350mL)、乾燥4Å分子ふるい(30g)、およびL−(+)−ジ
エチルタートレート(7.62g、0.037mol)を加えた。得られた混合
物を−20℃に冷却し、Ti(O−i−Pr)4(9.2mL、0.031mo
l)で処理し、次いで温度2−20℃を維持する速度でt−ブチルヒドロパーオ
キサイド(CH2Cl2中4.0M、182mL、0.78mol)を加えた。加
え終わったら、反応混合物をさらに30分間攪拌し、次いで、次いで温度2−2
0℃を維持する速度でCH2Cl2(30mL)中の製造例1、工程2(50g、
0.31mol)のアリルアルコールの溶液で処理した。反応物を同じ温度で5
時間攪拌し、次いで、0℃の、水(400mL)中の硫酸第一鉄7水和物(13
2g)および酒石酸(40g)の溶液中にろ過した。混合物を20分間攪拌し、
次いで分離漏斗に移し、t−BuOMe(2x200mL)で抽出した。混合有
機層を0℃で1時間、NaClを含む30%NaOH溶液と攪拌した。層を再度
分離し、水性層をt−BuOMeで抽出した。混
合有機層を塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃縮して褐色油状物52.8g
を得た。
工程4.(2R,3R)−2−ヒドロキシ−3−メチル−5−フェニルペンタン
−1−オール。
機械式スターラー、熱電対、および窒素注入口を備えた5L三首丸底フラスコ
にヘキサン(1L)を加え、0℃に冷却した。ヘキサン(800mL、1.6m
ol)中のMe2Alの2.0M溶液、次いでヘキサン(250mL)/CH2C
l2(50mL)中の製造例1、工程3のエポキシド(120g、0.677m
ol)の溶液を加え、20℃以下の温度に維持した。加え終わったら、濁った反
応混合物を5℃で35分間攪拌し、これに10%HCl(300mL)溶液を滴
加し、次いで濃HCl(350mL)を加えた。層を分離し、有機相を塩水で洗
浄し、MgSO4で乾燥した。揮発性物質を減圧下で除去して油状物122.1
gを得た。
工程5.(2R,3R)−2−ヒドロキシ−3−メチル−5−フェニルペンタ−
1−イルトシレート
機械式スターラーおよび窒素注入口を備えた2L三首丸底フラスコに、製造例
1、工程4のジオール(58g、0.30mol)、ジブチルチンオキシド(1
.5g、0.006mol、2mol%)、トルエンスルホニルクロリド(57
.5g、0.30mol)、CH2Cl2(580mL)、およびトリエチルアミ
ン(42.0mL、0.30mol)を加えた。得られた混合物を室温で2時間
攪拌し(反応は1時間以内で完結するが)、ろ過し、水洗し、次いでMgSO4
で乾燥した。減圧下で揮発性物質を濃縮して、わずかに琥珀色の
油状物104.1gを得た。
工程6.(2R,3R)−2−[(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ]−3
−メチル−5−フェニルペンタ−1−イルトシレート
CH2Cl2(1200mL)中の、製造例1、工程5のトシレート(100g
、0.29mol)およびトリエチルアミン(81.0mL、0.58mol)
の溶液を、生TBS−OTf(99mL、0.43mol)を滴加して処理し、
さらに20分間攪拌を続けた。反応物を塩水で2回洗浄し、MgSO4で乾燥し
、濃縮して乾燥させた。油状物を最小量のヘキサンに溶解し、シリカパッドでろ
過し、ヘキサン:EtOAc(9:1)で溶出してわずかに琥珀色の油状物13
4gを得た。
工程7.(2R,3R,5RS)−2−[(tert−ブチルジメチルシリル)オ
キシ]−3−メチル−5−ブロモ−5−フェニルペンタ−1−イルトシレート。
機械式スターラー、還流濃縮装置、および窒素注入口を備えた5L三首丸底フ
ラスコに、製造例1、工程6のTBS Ts生成物(140g、0.30mol
)、NBS(65g、0.365mol)、およびAIBN(16.5g、0.
10mol)を加えた。攪拌しながら完全な真空下で排気して混合物を脱気し、
窒素(3x)を逆充填した。次に、反応混合物を加熱還流するとその色は暗褐色
となった。勢いよく還流して15分後、反応混合物は明黄色となり、クロマトグ
ラフィ分析により反応が完結したことが示された。室温に冷却した後、反応物を
ろ過し、ろ過物を濃縮して乾燥させた。残留物をヘキサンに再溶
解し、再度ろ過し、濃縮して乾燥することにより琥珀色油状物170.3gを得
た。
工程8.(2R,3R)−2−[(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ]−3
−メチル−5−フェニルペンタ−4(E)−エン−1−イルトシレート。
機械式スターラー、還流濃縮装置、および窒素注入口を備えた2L三首丸底フ
ラスコにアセトニトリル(700mL)中の製造例1、工程7のブロミド(10
0g、0.186mol)の溶液を加えた。DBU(83.6mL、0.557
mol)を加え、得られた暗褐色溶液を15分間還流温度で攪拌した。室温に冷
却した後、減圧下で溶媒を除去し、残留物をCH2Cl2(200mL)中で消化
し、シリカパッドでろ過した。揮発性物質を再度蒸発させ、残留物をEtOAc
に溶解し、水ならびに塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、次いで濃縮して乾燥
させた。製造的mplc(Prep500)クロマトグラフィにより所望の不飽
和化合物(50.3g、4工程に対する収率60%)。
工程9.(3S,4R)−3−[(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ]−
4−メチル−6−フェニルヘキサ−5(E)−エン−1−ニトリル。
製造例1、工程8のトシレート(50g、0.11mol)をDMSO(1L
)に溶解し、KCN(14.2g、0.22mol)および水(25mL)で処
理し、得られた混合物を窒素下、60℃で18時間攪拌した。室温に冷却した後
、反応混合物をEtOAc(1L)と水(1L)の間に分配した。水性相をEt
OAc(500mL)で抽出し、混合有機相を塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥
した。CH2Cl2を用いるシリカフラッシュクロマトグラフィに
より所望のニトリルを収率92%で得た。
工程10.メチル(5S,6R)−5−[(tert−ブチルメチルシリル)オ
キシ]−6−メチル−8−フェニルオクタ−2(E),7(E)−ジエノエート。
製造例1、工程9のニトリル(14.67g、46.5mol)をトルエン(
200mL)に溶解し、窒素下で−78℃に冷却した。トルエン(37.2mL
、55.8mmol)中のDIBALの1.5M溶液を勢いよく攪拌しながら滴
加した。加え終わったら、冷浴を除去し、反応物を室温で1時間攪拌した。反応
混合物を注意深く1N HClに注ぎ入れ、混合物を室温で30分間攪拌した。
層を分離し、有機相を酒石酸ナトリウムカリウムの飽和水溶液(2x)、塩水で
洗浄し、Na2SO4で乾燥した。減圧下で揮発性物質を除去し、粗淡黄色油状物
を次の縮合に直接用いた。
上記の粗アルデヒドをTHF(90mL)に溶解し、窒素下、室温にてトリメチ
ルホスホノアセテート(9.03mL、55.8mmol)およびテトラメチル
グアニジン(7.0mL、55.8mmol)で処理した。反応混合物を16時
間攪拌し、次いでEtOAc(200mL)と水(100mL)の間に分配した
。水性相をEtOAc(100mL)で逆抽出し、混合有機相を水および塩水で
洗浄し、Na2SO4で乾燥した。減圧下で揮発性物質を除去し、粗黄色油状物(
17.0g)をCH2Cl2:シクロヘキサン(1:1〜2:1)を用いるシリカ
ゲルクロマトグラフィにかけ、所望のエステル13.67g(78.5%)を得
た。製造例2
(5S,6R)−5−[(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ]−6−メチ
ル−8−フェニルオクタ−2(E),7(E)−ジエノイック酸 製造例1、工程10から得られたメチル(5S,6R)−5−[(tert−ブ
チルジメチルシリル)オキシ]−6−メチル−8−フェニルオクタ−2(E),7(E
)−ジエノエートをアセトン(44mL)に溶解し、次いで室温で1N水性Li
OH(26mL)を加えた。濁った混合物をさらにアセトン(20mL)で希釈
し、得られた黄色混合物を室温で23.5時間攪拌した。反応物をジエチルエー
テル(400mL)で希釈し、有機物を1N HCl(120mL)、塩水(2
00mL)、およびH2O(160mL)で希釈した。有機物を乾燥し(MgS
O4)、減圧下で濃縮して黄色油状物を残し、これをカラムクロマトグラフィ(
勾配溶出:5%AcOH+20%−40%EtOAc/ヘキサン)で精製して黄
色油状のカルボン酸(960mg、100%)を得た。
C21H32O3の元素分析:
理論値:C,69.95;H,8.95%
実測値:C,69.19;H,8.39%製造例3 乾燥ジメチルホルムアミド(5.50mL)中の製造例2のカルボン酸(72
0mg、2mmol)の攪拌溶液に、室温で1−エチル−3−(3−ジメチルア
ミノプロピル)カルボジイミド(459mg、2.4mmol)およびN−ヒド
ロキシスクシンイミド(299mg、2.6mmol)を加えた。混合物を28
時間攪拌し、次いでEtOAc(100mL)で希釈し、1N水性HCl(2x
50mL)、H2O(75mL)で洗浄し、乾燥し(MgSO4)、次いで減圧下
で濃縮して油状物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィ(勾配溶出:5−
30%EtOAc/ヘキサン)で精製し、淡黄色油状の活性エステル(724m
g、80%)を得た。
C25H35NO5の元素分析:
理論値:C,65.61;H,7.71;N,3.06%
実測値:C,65.51;H,7.56;N,3.02%製造例4 CH3CN(130mL)中の製造例3(2.50g、5.47mmol)の
活性エステルの攪拌溶液に、0℃で48%水性HF(15mL)を加えた。溶液
を0℃で0.75時間、次いで室温で4時間攪拌した。反応物をジエチルエーテ
ル(300mL)で希釈し、洗浄物が〜pH7となるまでH2Oで洗浄した。有
機物を乾燥し(MgSO4)、減圧下で濃縮して黄色残留物を得、これをEt2
Oから再結晶して白色結晶のアルコール(1.46g、78%)を得た。
C19H21NO5Sの元素分析:
理論値:C,66.46;H,6.16;N,4.08%
実測値:C,66.49;H,6.16;N,4.07%製造例5 アセトン(10mL)を、ジクロロメタン(20mL)中の製造例3の活性エ
ステル(2.90g、6.35mmol)の溶液に加え、該溶液を0℃に冷却し
た。H2O(30mL)中のオキソン(11.7g、19mmol)の水性溶液
を、H2O(30mL)中の水性NaHCO3(5.3g、63.5mmol)の
攪拌溶液に徐々に加えた(ガスの放出がみられた!)。得られた溶液
を反応混合物に加え、0℃で7時間攪拌した(tlc−50%変換)。さらにオ
キソン(6g)およびアセトン(15mL)を加え、混合物を1.5時間攪拌し
た(tlc−全SMが消費された)。反応混合物をH2O(5容量)で希釈し、
生成物をCH2Cl2(5x100mL)で抽出した。混合した乾燥(MgSO4
)有機物を減圧下で濃縮し、粘着性の黄色固体の生成物(2.88g)を得た。
tlcおよび1H NMRは、所望のエポキシド生成物(α:β=1:1.62)
90%:SM10%であることを示した。粗生成物をカラムクロマトグラフィ(
SiO2:勾配溶出:15%−25%EtOAc:ヘキサン)で精製し、回収さ
れたスチレン(389mg、13%)、および黄色油状のエポキシド(2.38
g、80%)を得た。エポキシド(2g、α:β=1:1.50)をPHLCで
分離し、白色結晶固体のβ−エポキシド(1.17g、59%、99.8%de
)、および白色結晶固体のa−エポキシド(0.864g、43.2%、99%
ee)を得た。製造例5A
別の製造例
アセトニトリル(7.5mL)中のスチレン(229mg、0.50mmol
)の勢いよく攪拌している溶液に、0℃で0.1M水性Na2EDTA(5mL
)、および触媒水性0.1Mテトラ−n−ブチル水酸化アンモニウム(0.1m
L)を加えた。オキソン(770mg、1.25mmol)と重炭酸ナトリウム
(326mg、3.88mmol)の混合物を粉砕し、部分(〜1/5)を反応
混合物に加え、pHを〜7とした。5分後、ケトン(194mg、0.752m
mol)を分割して1時間かけて加えた。同時に、残るオキソン−重炭酸ナトリ
ウム混合物を〜1時間かけて加えた。加え終わった後、反応物を0℃で4.5時
間攪拌した(HPLCは、スチレン:エポキシドが50:50、およびα:βエ
ポキシドが1:5.6であることを示した)。さらにオキソン(3
80mg)および重炭酸ナトリウム(170mg)を分割して1時間かけて加え
、次いで反応物をさらに3.5時間攪拌した。反応物を酢酸エチル(50mL)
で希釈し、次いで水洗した(50mL)。有機物を乾燥し(MgSO4)、減圧
下で濃縮して油状の粗生成物(140mg)を得た。
HPLC:逆相C18カラム、70:30 CH3CN:H2O、流速1.0mL
/分、1=220nm
β−エポキシドRt=6.80分(38.3%)、α−エポキシドRt=8.4
3分(8.71%)、スチレンRt=13.90分(2.81%)。
a:βエポキシド=1:4.4、およびスチレン:エポキシド=6:94製造例6 HPLC:C18逆相、流速1.0mL/分、60:40−CH3CN:H2O、
λmax=254nm、β−エポキシドRt=17.2分(AUS 1.5)、[α]D 589 C25H35NO6の元素分析:
理論値:C,63.40;H,7.45;N,2.96%
実測値:C,63.45;H,7.31;N,3.21%製造例7 HPLC:C18逆相、流速1.0mL/分、60:40−CH3CN:H2O、
λmax=254nm、α−エポキシドRt=21.0分(AUS 1.0)、[α]D 589 C25H35NO6の元素分析:
理論値:C,63.40;H,7.45;N,2.96%
実測値:C,63.20;H,7.63;N,3.07%製造例8 β−エポキシ断片A酸(3c’)の製造。
CH2Cl2(18mL)中の式:
の2a’(1.91g、5.30mmol)の溶液をm−クロロ過安息香酸(0
.96g、5.6mmol)で処理し、混合物を4時間攪拌し、次いで揮発性物
質を蒸発させて無色油状物(2.88g)を得た。製造的HPLCを用いてエポ
キシド(1.2:1β:α)を分離し、無色固体の所望のβ−エポキシド(42
%)を得た。
製造例9 β−エポキシ断片A酸の別の製造例。
0℃のCH3CN(3.7mL)中の酸2a’(100mg、0.277mm
ol)の攪拌溶液に、Na2EDTA(H2O中1x10-4M、2.8mL、0.
28μmol)および水酸化テトラブチルアンモニウム(MeOH中1M、28
μL、28μmol)の溶液を加えた。NaHCO3(23.3mg、0.27
7mmol)を加えた後、2M NaOHを用いてpHを8.0に調整し、オキ
ソン(1.70g、2.77mmol)およびNaHCO3(722mg、8.
59mmol)の混合物を調製した。オキソン/NaHCO3の100mg部分
、次いでケトン(2b)(143mg、0.554mmol)を加えた。pHを
、2M NaOHで速やかに7.8−8.0に調整した。オキソン/NaHCO3
混合物の残りの95mg部分を10分間隔で加え、この期間の間に、CH3CN
(500μL)中の(2b)(143mg、0.554mmol)
の溶液をシリンジポンプで混合物に加えた。実験を通して、pHを2M NaO
Hおよび1N H2SO4で7.8−8.0に維持した。オキソン添加後3時間に
おけるHPLC分析(C18逆相、220nmで検出、流速1mL/分、CH3
CN(0.05%TFA)/H2O(0.05%TFA)−%CH3CN:10分
間で80%〜90%)により、変換が95%以上であり、β/αエポキシド比が
5.0:1であることがわかった。混合物をろ過し、湿潤ケーキをCH2Cl2(
15mL)で洗浄した。ろ過物をH2O(15mL)で洗浄し、水性相をCH2C
l2(15mL)で逆抽出した。混合有機相を0.1M HCl(10mL)およ
びH2O(10mL)で洗浄し、乾燥し(MgSO4)、濃縮して黄色油状の粗生
成物4a(104mg、100%)を得た。製造例10 β−エポキシ断片Aメチルエステルの製造例。
製造例1、工程10のメチルエステル(104mg、0.278mmol)の
エポキシド化は、水酸化テトラブチルアンモニウムを加えた後、重炭酸ナトリウ
ムを加える前に、1N H2SO4でpHを3.3に低下させた以外は製造例9の
記載と同じ方法で行った。オキソン添加後2時間におけるHPLC分析(%CH3
CN:95%(イソクラティック)以外は製造例9の生成物の分析に用いたの
と同じ方法)により、変換が95%以上であり、β/αエポキシド比が4.9:
1であることがわかった。CH2Cl2(6mL)を加えた後、混合物をろ過し、
湿潤ケーキをCH2Cl2(14mL)で洗浄した。ろ過物をH20(10mL)
で洗浄し、水性相をCH2Cl2(2x20mL)、で逆抽出した。混合有機相を
乾燥し(MgSO4)、濃縮して黄色油状の粗生成物(123mg、113%)
を得た。
製造例11 β−エポキシ断片Aの別の製造例。
テトラヒドロフラン35mL中の製造例10のメチルエステル(7.35g、
18.8mmol)の溶液に、2N水酸化カリウム35mLを加えた。二相性混
合物を56℃で14時間攪拌した。室温まで冷却したら、層を分離し、水性相を
t−ブチルメチルエーテル(1x50mL)で洗浄した。混合有機物を1N塩酸
(1x35mL)、次いで塩水(1x35mL)で洗浄した。Darco(20−4
0メッシュ)処理と同時に乾燥し(Na2SO4)、次いでろ過し、減圧下で濃縮
して褐色油状の粗酸7.85gを得た。実施例1 乾燥DMF(6.7mL)中の製造例6のβ−エポキシド(473mg、1.
0mmol)の溶液に、窒素ガス雰囲気下、室温で、式:で示されるアミノ酸「B」(459mg、2.0mmol)(PCT国際公開公
報第WO97/07798(1997年3月6日公開))、次いでN,O−ビス−(トリメチル
シリル)アセテート(618uL、2.5mmol)を加えた。得られた混合物
を55℃(溶液を形成)で8時間加熱し、EtOAc(250mL)で希釈し、
1N水性HCl(3x80mL)、H2O(100mL)で洗浄した。混合した
乾燥(MgSO4)有機物を減圧下で濃縮し、黄色泡沫状物(590mg)を得
、これをさらにカラムクロマトグラフィ(SiO2、勾配溶出、CH2Cl2−5
%−10%MeOH;CH2Cl2)で精製して白色泡沫状のシリルエーテル生成
物(489mg、89%)を得た。
実施例2 方法A
乾燥DMF(3.5mL)中の実施例1のシリルエーテル(160mg、0
.272mmol)の溶液に、重炭酸ナトリウム(228mg、2.72mmo
l)、次いで固体テトラブチルアンモニウムフロリド−水和物(TBAF)(3
58mg、1.36mmol)を加えた。混合物を60℃で17時間加熱し、次
いでさらにTBAF(358mg、1.36mmol)、そして9時間加熱し、
最後に、THF(360uL、1.36mmol)中の1M TBAFの溶液を
加えると反応物の色は褐色になった。混合物を20分間加熱し、次いで水(10
0mL)で反応を止め、EtOAc(3x50mL)で抽出した。混合した乾燥
(Na2SO4)有機物を減圧下で濃縮し、褐色油性ガム(248mg)を得た。
粗カルボン酸塩をさらに精製することなく次の工程に用いた。実施例3 方法B
乾燥テトラヒドロフラン(3.0mL)中の実施例1のシリルエーテル(14
5mg、0.247mmol)の溶液に、乾燥窒素ガス雰囲気下でテトラブチル
アンモニウムフロリド(800uL、0.8mmol)の1M溶液を加えた。得
られた溶液を60℃で7時間加熱し、次いで上記のごとく後処理し、褐色残留物
(166mg、94%)を得た。粗カルボン酸塩を、さらに精製する
ことなく次の工程に用いた。実施例4 DMSO(3.5mL)中の粗カルボン酸塩(0.272mmol)の乾燥溶
液に、窒素下、室温で〜2時間かけて、重炭酸ナトリウム(274mg、3.2
6mmol)、次いでDMSO(1.5mL)中の臭化t−ブチル(373mg
、2.72mmol)の溶液を徐々に加えた。混合物をさらに21時間攪拌し、
次いで塩水(50mL)で反応を止め、EtOAc(3x30mL)で抽出した
。混合有機物を水(50mL)で洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、減圧下で濃縮
して粘着性固体の粗エステル(117mg、81%)を得た。粗アルコールA−
Bをさらに精製することなく次の工程に用いた。実施例5 式:
で示されるBocアミン(1.69g、5.09mmol)(PCT国際公開公
報第WO97/07798(1997年3月6日公開))をトリフルオロ酢酸(17mL)に溶
解し、溶液を乾燥窒素ガス雰囲気下、室温で4.75時間攪拌し、次いで
減圧下で濃縮し、高真空下で24時間乾燥して黄色粘性油状のアミン塩(1.7
6g、100%)を得た。
実施例6 ジオキサン(20mL)中の実施例5のアミン塩(5.09mmol)の攪拌
溶液に、重炭酸ナトリウム(2.14g、25.5mmol)、次いでFmoc
Cl(1.58g、6.11mmol)を加えた。混合物をH2O(4mL)で
希釈し、19時間攪拌した。1N水性HCl(150mL)で反応混合物の反応
を止め、EtOAc(2x100mL)で抽出した。混合有機物をH2O(10
0mL)で洗浄し、乾燥し(MgSO4)、減圧下で濃縮して黄色粘着性固体を
得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィ(Biotage-SiO2:勾配溶出、10%−
75%EtOAc:ヘキサン)で精製して淡黄色固体のFmocアミン(850
mg、37%)を得た。生成物にアミノ酸が夾雑していたので、生成物をEtO
Acに溶解してこれを除去し、1N HCl水溶液で数時間攪拌した。有機物を
乾燥し、濃縮して生成物(85:15生成物:アミノ酸)を得た。
C26H31NO6の元素分析:
理論値:C,68.86;H,6.89;N,3.09%
実測値:C,68.92;H,7.01;N,3.34%実施例7 乾燥ジクロロメタン(1.0mL)中の実施例6のカルボン酸D−C’(12
9mg、0.285mmol)の攪拌溶液に、乾燥窒素ガス雰囲気下、室温でD
MAP(5.4mg、0.044mmol)およびDCC(59mg、0.28
5mmol)を加えた。溶液を0.5時間攪拌し、次いで固体重炭酸ナトリウム
(37mg、0.44mmol)、次いで乾燥ジクロロメタン(1.2mL)中
の実施例4の粗アルコールA−B(117mg、0.22mmol)の溶液を加
えた。10分以内に沈殿物が形成され、混合物をさらに50分間攪拌した。粗反
応混合物を直接SiO2カラムにかけ、精製して(勾配溶出、10%−40%E
tOAc:ヘキサン)、淡黄色固体のメチルスルフィド生成物(122mg、3
工程で46%)を得た。 実施例8 アセトン(10mL)中の実施例7のメチルスルフィド(56mg、0.05
8mmol)の攪拌溶液に、重炭酸ナトリウム(64mg、0.764mmol
)、次いで水(3.0mL)中のオキソン(234mg、0.382mmol)
の水性溶液を加えた。反応混合物を室温で20分間攪拌した(SMは速やかにき
わめて極性のある成分であるスルホキシドに変換され、次いで時間と共に極性の
低いスルホン生成物に変換される)。水(40mL)で反応を止め、EtOAc
(3x20mL)で抽出した。有機物を塩水(30mL)で洗浄し、乾燥し(M
gSO4)し、減圧下で濃縮して固体を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィ(SiO2:勾配溶出;25%−60%EtOAc:ヘキサン)
で精製し、白色泡沫状固体のスルホン(43mg、74%)を得た。
実施例9
クリプトフィシン52
乾燥DMF(2.0mL)中の実施例8のスルホン(18mg、17.98u
mol)の攪拌溶液に、窒素下、室温で生ピペリジン(8.9uL、90umo
l)を加えた。得られた溶液を5時間攪拌し、次いで減圧下で濃縮して泡沫状の
粗アミンを得た。アミンをトルエン(3mL)に溶解し、窒素下、60℃で40
分間加熱した。反応溶液を直接カラムクロマトグラフィ((SiO2;勾配溶出
;20%−75%EtOAc:ヘキサン)で精製し、白色ガラス状の
クリプトフィシン52(6.1mg、2工程で51%)を得た。
実施例10 β−エポキシ断片A−Bの製造。
DMF(330μL)中の製造例8の生成物(60.4mg、0.160mm
ol)、およびN,N−ジイソプロピルエチルアミン(56μL、0.32mm
ol)の溶液に、ジフェニルホスフィンクロリド(32μL、0.17mmol
)を加えた。混合物を1時間攪拌し、次いでこれを、20分前に調製したDMF
(330μL)中の式:で示されるアミノ酸「B」(40.0mg、0.176mmol)およびN,O
−ビス−(トリメチルシリル)−アセトアミド(99μL、0.40mmol)
に加えた。反応混合物を2時間攪拌し、次いでこれをEtOAc(14mL)で
希釈し、1M HCl(3x4.5mL)およびH2O(4.5mL)で洗浄した
。有機相を乾燥し(MgSO4)、濃縮して黄色油状物を得た。5〜10%Me
OH/CH2Cl2を用いるシリカゲルクロマトグラフィにより無色固体の所望の
生成物(83.2mg、88%)を得た。実施例11
クリプトフィシン52の別の製造法。
DMF(34mL)中の、実施例7の化合物(325mg、0.335mmo
l)とピペリジン(166μL、1.68mmol)の混合物を、室温で1時間
、次いで60℃で2時間攪拌し、HPLC(C18逆相、220nmで検出、流
速1mL/分、CH3CN(0.05%TFA)/H2O(0.05%TFA)−
%CH3CN:25分間で60%〜95%)によりFmoc保護が除去され、そ
の時、中間体遊離アミンとクリプトフィシン52の混合物が存在していることが
わかった。2−ヒドロキシピリジン(63.7mg、0.670mmol)を加
え、反応物を18時間攪拌し、次いでHPLCで再度試験すると中間体がまだ残
っていることが示された。さらにピペリジン(66μL、0.
67mmol)を加え、反応物をさらに64時間攪拌したところ、その時点で中
間体が残っていないことがHPLCにより示された。混合物をEtOAc(90
mL)で希釈し、H2O(3x90mL)で洗浄した。混合水性相をEtOAc(
30mL)で逆抽出し、混合有機相を乾燥し(MgSO4)、濃縮して橙色油状
物を得た。EtOAc/ヘキサン(1:1〜4:1)を用いるシリカゲルクロマ
トグラフィにより無色固体のクリプトフィシン52(143mg、N−ホルミル
ピペリジンの夾雑により64%を58%に訂正)を得た。
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(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
A61P 35/00 A61P 35/00
C07F 7/18 C07F 7/18 A
(C07D 413/06 (C07D 413/06
273:08 273:08
303:36) 303:36)
(81)指定国 OA(BF,BJ,CF,CG,
CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN,T
D,TG),AP(GH,GM,KE,LS,MW,SD
,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,
KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AU,
AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CN,C
U,CZ,EE,GE,GH,GM,GW,HU,ID
,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,
LC,LK,LR,LS,LT,LV,MD,MG,M
K,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,RO,RU
,SD,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,
TT,UA,UG,US,UZ,VN,YU,ZW
(72)発明者 ホード,デイビッド・ダブリュー
アメリカ合衆国46142インディアナ州グリ
ーンウッド、デイビッド・ドライブ440番
(72)発明者 モーアー,エリック・ディ
アメリカ合衆国46237インディアナ州イン
ディアナポリス、ペッパー・コート4524番
(72)発明者 ペイテル,ビノッド・エフ
アメリカ合衆国02451マサチューセッツ州
ウォルサム、キングズ・ウェイ46番、ユニ
ット801ビー