JP2002509982A - 特にステレオリソグラフ法による柔軟な硬化物品を製造するための液体放射線硬化性組成物 - Google Patents

特にステレオリソグラフ法による柔軟な硬化物品を製造するための液体放射線硬化性組成物

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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 本発明は、化学線硬化性およびカチオン重合性有機物質、カチオン開始剤、ラジカル光開始剤、ならびに一分子につき反応基を少なくとも二個含むカチオン反応性変性剤の少なくとも一種またはポリエーテルポリオール成分の少なくとも一種あるいはそれらの混合物を含むステレオリソグラフ法のための組成物に関する。カチオン反応性変性剤は少なくとも約100であって約2000よりは多くない分子量を有する鎖延長セグメントの少なくとも一個を有する。ポリエーテルポリオール成分は約4000より多いか、または約4000に等しい分子量を有する。カチオン反応性変性剤およびポリエーテルポリオール変性剤の使用は、組成物の光速度、精密性および湿式リコート能力(wetting-recoatability)を低下させることなく、硬化物品の柔軟性および靭性を本質的に増加させる。本発明は更に、上記の組成物を化学線で処理することにより硬化製品、特に三次元造形品の製造方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、特にステレオリソグラフ法による三次元造形品の製造に適する液体
放射線硬化性組成物、この組成物から硬化製品を製造する方法、および特に三次
元造形品をステレオリソグラフ法により製造する方法に関する。
【0002】 ステレオリソグラフ法による複雑な造形の三次元物品の製造については、比較
的以前から知られている。この技術では、連続的な二つの段階(a)および(b
)の交互の繰り返しにより液体放射線硬化性組成物から所望の造形品が形成され
;段階(a)では、液体放射線硬化性組成物の層であってその境界が組成物表面
であるものが、形成されるべき造形品の所望の横断面積に相当する表面領域内で
、この層の高さで、適当な放射、一般的に好ましくコンピュータにより制御され
たレーザー光源により製造された放射により硬化され、段階(b)では、該硬化
層が液体放射性硬化組成物の新しい層により被覆され、そして連続的な段階(a
)および(b)は、所望の造形品のいわゆる未加工モデルが仕上げられるまで繰
り返される。この未加工モデルは、一般的に、まだ充分に硬化されておらず、従
って通常、後硬化を受けなければならない。
【0003】 未加工強さとも称される未加工モデルの機械的強度(弾性率、破壊強さ)は、
未加工モデルの重要な特性を構成し、そして基本的に使用されるステレオリソグ
ラフ法のための樹脂組成物の性質により決定される。ステレオリソグラフ法のた
めの樹脂組成物の他の重要な特性には、未加工モデルの硬化に使用される放射線
に関する高い感度および高い形状定義を可能にする最小カール因子が含まれる。
加えて、例えば予備硬化材料層は液体ステレオリソグラフ法のための樹脂組成物
により容易に湿り得るべきであり、そして当然未加工モデルだけではなく最後ま
で硬化された造形品もまた最適な機械的特性を有するべきである。硬化物品の更
に重要な特性は、減少された柔軟性および靭性であって、破断点伸びおよびアイ
ゾット衝撃試験により測定される。
【0004】 上述された要求の少なくとも幾つかに一致するステレオリソグラフ法のための
液体放射線硬化性組成物は、例えば本分に参照として取り入れられている米国特
許第5,476,748号に記載されている。そこに示されている、いわゆるハ
イブリッド系組成物には、遊離ラジカルおよびカチオン光重合性成分が含まれる
。そのようなハイブリッド組成物は少なくとも: (A)液体二官能性もしくはより高官能性のエポキシ樹脂、あるいは二官能性も
しくはより高官能性のエポキシ樹脂からなる液体混合物; (B)カチオン光開始剤またはカチオン光開始剤の混合物; (C)遊離ラジカル光開始剤または遊離ラジカル光開始剤の混合物; (D)2より大きい(メタ)アクリレート官能価を有する液体ポリ(メタ)アク
リレートの少なくとも一種; (E)液体ジアクリレートの少なくとも一種;および (F)OH末端ポリエーテル、ポリエステルおよびポリウレタンからなる群から
選択されたポリオール成分;を含む。 そのようなハイブリッド系は任意により、ビニルエーテルをベースとする樹脂
または他のカチオン硬化成分、例えばオキセタン、スピロ−オルトエステルを更
に含む。
【0005】 市販の主なハイブリッドステレオリソグラフ法のための組成物が非常に低い破
断点伸びおよびアイゾット耐衝撃性を与えることは、当業者に公知である。それ
らの平均値は、それぞれ約4%および0.45ft.lb/inである。これらの組成物
から得られた硬化物品は非常に脆く、迅速なプロトタイピング(prototyping)お よび検証型用途には全く向いていない。
【0006】 一般的に、ステレオリソグラフ法のための組成物から製造された硬化物品の脆
化の問題を解決するために試みが行われている。現在まで、その努力は、アクリ
レートウレタンオリゴマーまたはそれらそれぞれの低分子量ポリマーを柔軟剤と
して使用するアクリレートをベースとする組成物に集中している。ウレタンアク
リレートオリゴマーまたはポリマーは、非常に柔軟で強靭(高アイゾット耐衝撃
性)な材料であることも良く知られている。従って、これらの分子のアクリレー
ト組成物への取り込みは、硬化物品を柔軟および強靭(耐久)にさせる。これら
の努力は、Loctite Corp.による欧州特許公開公報第562,826号に示され ているウレタンアクリレート、EOS GmbH (Electro Optical Systems)による独国
特許公開公報第4,138,309号に示されているモノマーまたはオリゴマー
脂肪族ウレタン、Mitsubishi Rayon Co., Ltd.による特願平9−431498号
明細書に示されている一官能性希釈モノマーおよびTakemoto Oil & Fat Co., Lt
d.による特願平9−466285号明細書に示されている不飽和ウレタンのよう
な特有の希釈剤を使用する。そのような組成物から得られた硬化物品は柔軟であ
り、時には1ないし1.3fit.lb/inに近い高耐衝撃性を示す。
【0007】 柔軟なアクリレートウレタン組成物の主な欠点は:1)それらの重合はラジカ
ルの性質によるものなので、重合が大気中酸素により阻害される;2)硬化収縮
が許容され得ないほど大きい;および3)特に粘度が低い場合、アクリレートウ
レタン化合物は皮膚に刺激性である(ステレオリソグラフ法の用途には低粘度が
非常に好ましい);ということである。アクリレートウレタン柔軟剤をハイブリ
ッドステレオリソグラフ法のための組成物中に混入する試みは、柔軟性および靭
性の向上方法として不向きである。この方法は光速度を許容され得ないレベルま
で減少させる傾向がある。この光速度の減少は、エポキシ環または他のカチオン
硬化化合物の重合を起こすカチオン光開始剤の分解から生じる酸がウレタン基の
窒素と反応し、カチオン光重合反応の発生を阻害することによる。
【0008】 他方では、カチオンまたはハイブリッドカチオンラジカルステレオリソグラフ
法のための組成物はアクリレート化学に関する上述の問題の影響を緩和し得るが
、硬化物品は非常に脆く、非常に低い靭性を示す。
【0009】 ハイブリッドステレオリソグラフ法のための組成物の柔軟性を改良するために
使用されてきた他の技術は、低量ないし中量範囲の分子量のジオール、トリオー
ルまたはポリオール、特にポリエーテルポリオールの使用を伴う。この方法は長
年使用され、依然使用されている。それは、硬化物品の脆性を減少させる方法に
よる三次元網目構造の架橋密度の減少によるものである。例として、DSM Corp. 、Japan Synthetic Rubber Co.およびジャパンJapan Fine Coatings, Co., Ltd.
による光硬化性ステレオリソグラフ法のための樹脂組成物についての最近の世界
特許出願、WO97/38354号(1997年10月16日)には、三次元物
品の伸び率および靭性を増加させるためにポリエーテルポリオールを使用するこ
とが開示されている。これらのポリエーテルポリオールは一分子につき平均で約
3またはそれより多くのヒドロキシル基を有する。提案されたポリエーテルポリ
オールの例には、原型の、またはエチレンオキシド鎖により延長されたグリセロ
ール、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ソルビトール、スクロ
ースが含まれる。ポリエーテルポリオールの好ましい分子量は約100ないし2
000、そしてより好ましくは約160ないし1000である。この特許はまた
、“大きすぎる分子量を有するポリエーテルポリオールを使用する場合、光二次
加工により得られた三次元物品の機械強度を低下させることになる”ことも開示
している。
【0010】 しかし、ポリエーテルポリオールによる柔軟化方法の主な欠点は、1)熱撓み
温度、ガラス転移温度のような熱特性の猛烈な減少、2)硬化物品の硬質性の減
少、3)硬化物品の水分および湿度の減少である。全ての上述の試みにも係らず
、光速度および硬化深度が市販品としても許容され得るような柔軟で耐久性の硬
化物品を製造することが可能なステレオリソグラフ法のための組成物に対する必
要性が存在する。
【0011】 本発明の第一の態様は、放射線硬化性組成物を使用したステレオリソグラフ法
による三次元物品の製造方法に関する。該組成物は、カチオン重合性化合物の少
なくとも一種および/またはラジカル重合性化合物の少なくとも一種、カチオン
および/またはラジカル重合のための光開始剤の少なくとも一種、ならびに一分
子につき反応基を少なくとも二個含むカチオン反応性変性剤(RCM)の少なく
とも一種および/またはポリエーテルポリオール(PEPO)の少なくとも一種
(RCMは少なくとも約100であって約2000よりは多くない分子量を有す
る鎖延長セグメントの少なくとも一個を有し、そしてPEPOは約4000より
多いか、または約4000に等しい)の混合物である。放射線硬化性組成物中の
固体または液体カチオン重合性化合物は、少なくとも一種の脂肪族もしくは脂環
族もしくは芳香族アルコールまたは多塩基酸のグリシジルエーテル、環式脂肪族
エポキシド、クレゾールエポキシノボラック、フェノールエポキシノボラック、
ビニルエーテル、ラクトン、スピロ−オルトエステル、オキセタン、アセタール
、環式スルフィド、環式エーテルまたはシロキサン誘導体である。
【0012】 より好ましくは、本発明は、化学線硬化性およびカチオン重合性有機物質20
ないし90重量%、カチオン開始剤0.05ないし12重量%、一分子につき反
応基を少なくとも二個含む反応性カチオン変成剤の少なくとも一種またはポリエ
ーテルポリオールの少なくとも一種またはそれらの混合物0.5ないし60重量
%を含む液体放射線硬化性ステレオリソグラフ法のための組成物に関する。RC
Mは少なくとも約100であって約2000よりは多くない分子量を有する鎖延
長セグメントの少なくとも一個を有する。そしてPEPOは約4000より多い
か、または約4000に等しい分子量を有する。更に組成物は任意により、10
重量%までのラジカル光開始剤、モノ−もしくはポリ(メタクリレート)の少な
くとも一種を含む40重量%までの遊離ラジカル硬化性成分、および10重量%
までの慣用の添加剤を含む。
【0013】 化学線硬化性およびカチオン重合性有機物質は、好ましくは70および350
g/当量の間のエポキシ当量を有するエポキシ基を少なくとも二個有する固体ま
たは液体環式脂肪族ポリエポキシドの少なくとも一種またはそれらの混合物20
ないし80重量%を含む。他には、化学線硬化性およびカチオン重合性有機物質
は、固体または液体の、脂肪族、脂環族または芳香族アルコールあるいは多塩基
酸のポリグリシジルエーテル、エポキシクレゾールノボラック、エポキシフェノ
ールノボラック、スピロ−オルトエステル化合物、オキセタン化合物であって、
一分子につきカチオン反応性基を少なくとも二個有するものの少なくとも一種ま
たはそれらの混合物3ないし70重量%を含む。
【0014】 他の態様では、化学線硬化性およびカチオン重合性有機物質は、ビニルエーテ
ル基を少なくとも二個またはヒドロキシル−もしくはエポキシ官能基化ビニルエ
ーテル化合物の少なくとも一個を有する固体または液体ビニルエーテルの少なく
とも一種2ないし40重量%を含む。 カチオン硬化性成分は、ポリグリシジル化合物または環式脂肪族ポリエポキシ
ドまたは芳香族環含有、エポキシクレゾールノボラック含有またはエポキシフェ
ノールノボラック含有ポリグリシジル化合物であって一分子あたり平均で少なく
とも二個のエポキシ基を有するものの少なくとも一種およびビニルエーテルをベ
ースとする樹脂の少なくとも一種からなる混合物であり得る。 硬化性組成物は、所望によりモノ−またはポリ(メタ)アクリレートの少なく
とも一種を含む遊離ラジカル硬化性成分約3ないし40重量%を含む。多官能性
(メタ)アクリレートは、好ましくは平均で一分子につき2ないし7の間のアク
リレート基を有する。
【0015】 カチオン反応性変性剤およびポリエーテルポリオール変性剤は、好ましくは室
温で固体または液体である。あるいは、カチオン反応性変性剤は、グリシジル基
または環式脂肪族エポキシ基またはビニルエーテル基またはスピロ−オルトエス
テル基またはオキセタン基の少なくとも一種を有する脂肪族または芳香族エポキ
シドを含む反応性固体または液体化合物の少なくとも一種からなる。他の対応に
おいては、RCMは、カチオン反応性基の少なくとも一種およびヒドロキシル基
の少なくとも一種を有する成分からなる。更に好ましくは、反応性変性剤は、エ
ポキシドにつき少なくとも約180であって約2000よりは多くない当量を有
するか、または反応性変性剤のそれぞれの鎖延長セグメントは、互いに独立して
炭素原子数2ないし4のアルコキシ基、オキシテトラメチレン−、エチル−、プ
ロピル−、イソプロピル−、飽和または不飽和炭素原子数2ないし4の炭素原子
もしくはそれらの混合物の少なくとも4個であって約80個よりは多くない繰り
返し単位を含む。
【0016】 反応性変性剤は、好ましくは一分子につき鎖延長セグメントを多数含む、脂肪
族、脂環族または芳香族アルコールあるいは多塩基酸の一分子につき平均でエポ
キシ基を少なくとも二個有する反応性の液体または固体のグリシジルエーテル化
合物の少なくとも一種であって、各鎖延長セグメントは少なくとも約100であ
って約2000よりは多くない分子量を有する。より好ましくは、カチオン反応
性変性剤は、脂肪族多価アルコールまたは付加物もしくはそれらの多塩基酸のポ
リグリシジルエーテルであって、エポキシ−、プロポキシ−、イソプロポキシ−
、オキシテトラメチレン−、飽和または不飽和アルキル−、脂環式−、ポリエー
テル−、およびポリエステル−架橋またはそれらの組み合わせにより鎖延長され
たものである。最も好ましくは、応性変性剤は、次式:
【化5】 を有するポリ(イソプロポキシル化)グリセロールのトリグリシジルエーテルで
ある。
【0017】 他には、カチオン反応性変性剤が、一分子につきエポキシ基を少なくとも二個
有するヒマシ油の二量体酸ジグリシジルエーテルエステルまたはポリグリコール
ポリエポキシドまたはポリグリシジルエーテルである。 硬化性組成物は、好ましくは約0.5ないし約60重量%のカチオン性反応変
性剤を含む。
【0018】 本発明の他の態様において、ポリエーテルポリオール成分は次式:
【化6】 [式中、mはポリエーテルポリオールの分子量が4000より大きいか、または 4000に等しくなるようなものであり、Aは、(不)飽和炭素原子数1ないし
5のアルキル基、エーテル−またはエステル基を有する脂肪族または芳香族置換
基により置換されたビスフェノールA、ビスフェノールF、p、m、o−ビフェ
ニル、p−、m−、o−ヒドロキノン;以下の構造:
【化7】 (式中、R2は−O−、‐SO2−、‐CO‐、‐COO‐、‐OCH2−、−C H2−、(CH32C<、ならびに飽和および/または不飽和アルキル−、アル コキシ−、アリルオキシ−、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オキシテ
チラメチレン、脂肪族または芳香族エステル、シロキサンおよびカーボネート架
橋の炭素原子数1ないし4の繰り返し単位1ないし100を有する脂肪族または
芳香族鎖延長セグメントの少なくとも一個を表す。)のパラ、メタおよびオルト
置換芳香族構造体から選択されたパラ−、メタ−またはオルト−置換された芳香
族ジオール残基を表し、R1はCH2CH(OH)(CR34n−(式中、nは 1より大きいか、または1に等しく、R3およびR4は互いに独立して−H、−C
3、−CH2CH3、飽和または不飽和直鎖または分枝鎖状炭素原子数1ないし 20のアルキル基、芳香族エーテル、脂環族エーテル、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、オキシテトラメチレン、脂肪族または芳香族エステル、シロキ
サンおよびカーボネート架橋を含む脂肪族または脂環族または芳香族セグメント
を表す。)を表す。]を有する。
【0019】 Aは、飽和または不飽和炭素原子数1ないし20のアルキル基、エーテル、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オキシテトラメチレン、エステル、スル
ホン、スルホキシド、シロキサンおよびカーボネート架橋を有する直鎖または分
枝鎖脂肪族または置換脂環族ジオールまたは未置換脂環族ジオール残基であり得
る。あるいはAは、脂肪族または置換脂環族ジオールまたは未置換脂環族ジオー
ル、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールAおよび水素化ビスフ
ェノールFであり得る。好ましくは、Aは、芳香族環の間に柔軟なセグメントを
有するビスフェノールA、ビスフェノールF、ヒドロキノン、ビフェノール、芳
香族ジオールから選択された芳香族ジオール残基であり、そしてR1は−CH2
H(OH)CH2−である。より好ましくは、Aは、ビスフェノールAから選択 された芳香族ジオール残基であり、そしてR1は−CH2CH(OH)CH2−で あり、mは15より大きい。
【0020】 上記組成物は、好ましくは反応性ポリエーテルポリオール変性剤約0.5ない
し約45重量%を含む。 反応性変性剤の固体または液体ポリエーテル−ポリオール成分は、芳香族環ま
たはポリエステル架橋またはポリエーテル架橋を含む液体または固体ジオールま
たはポリオールあるいは脂肪族、脂環族または芳香族多価アルコールの誘導体で
ある液体または固体ジオールまたはポリオールの少なくとも一種にブレンドされ
るか、分散されるか、希釈されるか、または溶解される。 硬化性組成物は更に液体または固体ポリヒドロキシル化合物0.5ないし40
重量%を含み得る。ポリヒドロキシル化合物は、脂肪族、脂環族または未置換の
脂環族基を有し得る。他には、ポリヒドロキシル化合物は、分子中に芳香族炭素
原子環を有し得る。
【0021】 本発明は更に、上記組成物を化学線で処理する、硬化性製品の製造方法に関す
る。更に好ましくは、本発明は、上述の放射線硬化性組成物を化学線で処理し、
形成されるべき三次元造形品の所望の横断面積に相当する表面領域の内部で該組
成物の表面に、少なくとも部分的に硬化された層を形成することによる三次元造
形品の製造方法に関する。段階(a)で製造された少なくとも部分的に硬化され
た層を次いで該放射線硬化性組成物の新しい層で被覆する。所望の造形を有する
製品が形成されるまで段階(a)および(b)を繰り返す。所望により、得られ
た製品を後硬化する。
【0022】 本発明のこれら、および他の態様は単独でか、または組み合わせで行われ得る
。本発明の他の態様は、本発明の開示の再検討により、当業者に明白であろう。 本発明の新規組成物には、最も広い意味で、カチオン硬化性化合物の少なくと
も一種、カチオン硬化性化合物のための光開始剤、およびカチオン反応性変性剤
またはポリエーテルポリオール変性剤の混合物を含む。更に所望により組成物は
、少なくとも一種の遊離ラジカル硬化性化合物、遊離ラジカル光開始剤/増感剤
およびヒドロキシ基含有化合物を含む。
【0023】 カチオン硬化性液体または固体化合物は迅速にポリグリシジル化合物または環
式脂肪族ポリエポキシドまたはエポキシクレゾールノボラックまたはエポキシフ
ェノールノボラック化合物になり得、そして平均的に一分子につきエポキシ基(
オキシラン環)を一個より多く有する。そのような樹脂は、脂肪族、芳香族、環
式脂肪族、芳香族脂肪族または複素環式構造を有し得、それらは側鎖としてエポ
キシ基を含むか、またはこれらの基は脂肪族または複素環式環系の一部を形成す
る。これらの型のエポキシ樹脂は一般的な表現で公知であり、市販品として入手
可能である。
【0024】 ポリグリシジルエステルおよびポリ(β−メチルグリシジル)エステルが、適
当なエポキシ樹脂の一例である。一分子につきカルボキシル基を少なくとも二個
有する化合物とエピクロロヒドリンまたはグリセロールジクロロヒドリンまたは
β−メチルエピクロロヒドリンとを反応させることにより上記ポリグリシジルエ
ステルを得ることができる。反応は塩基の存在下、都合よく行われる。一分子に
つきカルボキシル基を少なくとも二個有する化合物は、この場合、例えば、脂肪
族ポリカルボン酸、例えばグルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸または二量化もしくは三量化リノレン酸であり得る。
しかしながら、同様に、環式脂肪族ポリカルボン酸、例えばテトラヒドロフタル
酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸または4−メチル
ヘキサヒドロフタル酸も使用することが可能である。芳香族ポリカルボン酸、例
えばフタル酸、イソフタル酸、トリメリット酸またはポリメリット酸を使用する
ことも可能であり、また他のカルボキシル末端付加物、例えばトリメリット酸付
加物とポリオール、例えばグリセロールまたは2,2−ビス(4−ヒドロキシシ
クロヘキシル)プロパンとのものを使用することもできる。
【0025】 ポリグリシジルエーテルまたはポリ(β−メチルグリシジル)エーテルもまた
同様に使用され得る。該ポリグリシジルエーテルは、アルカリ条件下または続く
アルカリ処理が伴う酸触媒の存在下において、遊離アルコール性水酸基および/
またはフェノール性水酸基を少なくとも2個含む化合物と適当な置換型エピクロ
ロヒドリンを反応させることにより得ることができる。このタイプのエーテルは
例えば非環式アルコール、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコールお
よびより高級なポリ(オキシエチレン)グリコール、プロパン−1,2−ジオー
ルまたはポリ(オキシプロピレン)グリコール、プロパン−1,3−ジオール、
ブタン−1,4−ジオール、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコール、ペンタ
ン−1,5−ジオール、ヘキサン−1,6−ジオール、ヘキサン−2,4,6−
トリオール、グリセロール、1,1,1−トリメチロールプロパン、ビストリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールならびにポリエピクロ
ロヒドリンから誘導され得る。しかしながら、適当なグリシジルエーテルは環式
脂肪族、例えば1,3−もしくは1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン、ビス(
4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロ
ヘキシル)プロパンまたは1,1−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキセ−3
−エンからも得られ、あるいはそれらはN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)
アニリンまたはp,p'−ビス(2−ヒドロキシエチルアミノ)ジフェニルメタ ンのような芳香核を含む。
【0026】 特に重要なポリグリシジルエーテルまたはポリ(β−メチルグリシジル)エー
テルの代表は、フェノール;単核のフェノール、例えばレソルシノールまたはヒ
ドロキノンあるいは多核のフェノール、例えばビス(4−ヒドロキシフェニル)
メタン(ビスフェノールF)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン(ビスフェノールA)の両方、あるいは酸性条件下で得られるフェノールまた
はクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物、例えばフェノールノボラックおよ
びクレゾールノボラックをベースとするものである。これらの化合物は本発明の
ためのエポキシ樹脂として特に好ましく、特にビスフェノールAおよびビスフェ
ノールF、ならびにそれらの混合物をベースとするジグリシジルエーテルである
。 ポリ(N−グリシジル)化合物は同様に本発明の目的に適当であり、例えば、
エピクロロヒドリンとアミノ水素原子を少なくとも2個有するアミンの反応生成
物の脱塩化水素化により得ることができる。これらのアミンは、例えばn−ブチ
ルアミン、アニリン、トルイジン、m−キシリレンジアミン、ビス(4−アミノ
フェニル)メタン、またはビス(4−メチルアミノフェニル)メタンであってよ
い。しかしながら、ポリ(N−グリシジル)化合物の他の例には、シクロアルキ
レンウレア、例えばエチレンウレアまたは1,3−プロピレンウレアのN,N' −ジグリシジル誘導体ならびにヒダントイン、例えば5,5−ジメチルヒダント
インのN,N'−ジグリシジル誘導体が含まれる。 本発明ではカチオン硬化性樹脂として、ポリ(S−グリシジル)化合物、例え
ばエタン−1,2−ジオールまたはビス(4−メルカプトメチルフェニル)エー
テルのようなジチオールから誘導されるジ−S−グリシジル誘導体も適当である
【0027】 エポキシ基が脂環式または複素環式環系を形成するエポキシ化合物の例は、ビ
ス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、2,3−エポキシシクロペン
チルグリシジルエーテル、1,2−ビス(2,3−エポキシシクロペンチルオキ
シ)エタン、ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタンジグリシジルエーテ
ル、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンジグリシジルエー
テル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサ ンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6‐メチル-シクロヘキシルメチル3 ,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ジ(3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル)ヘキサンジオエート、ジ(3,4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキシルメチル)ヘキサンジオエート、エチレンビス(3,4-エポ キシシクロヘキサン-カルボキシレート、エタンジオールジ(3,4−エポキシ シクロヘキシルメチル)エーテル、ビニルシクロヘキサンジオキシド、ジシクロ
ペンタジエンジエポキシドまたは2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,
5‐スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−1,3−ジオキサンを含む。
【0028】 しかしながら、1,2−エポキシド基が異なる複素原子または官能基に結合し
ているエポキシ樹脂を使用することも可能である。これらの化合物の例は、4−
アミノフェノールのN,N,O−トリグリシジル誘導体、サリチル酸のグリシジ
ルエーテル/グリシジルエステル、N−グリシジル−N’‐(2−グリシジルオ
キシプロピル)−5,5−ジメチルヒダントインまたは2−グリシジルオキシ−
1,3−ビス(5,5−ジメチル−1−グリシジルヒダントイン−3−イル)プ
ロパンが含まれる。 また、例えば上記のもののようなエポキシ樹脂と、エポキシ樹脂のための硬化
剤の前反応された液体付加物の使用もあり得る。 新規組成物におけるエポキシ樹脂の液体混合物の使用もまた、もちろん可能で
ある。
【0029】 エポキシ樹脂化合物の他のカチオン重合有機物質の例は、トリメチレンオキシ
ド、3,3−ジメチルオキセタンおよび3,3−ジクロロメチルオキセタン、3
−エチル−3−フェノキシメチルオキセタンおよびビス(3−エチルー3−メチ
ルオキシ)ブタンのようなオキセタン化合物;テトラヒドロフランおよび2,3
−ジメチル−テトラヒドロフランのようなオキソラン化合物;トリオキサン、1
,3−ジオキサランおよび1,3,6−トリオキサンシクロオクタンのような環
式アセタール化合物;β−プロピオラクトンおよびε−カプロラクタムのような
環式ラクトン化合物;エチレンスルフィド、1,2−プロピレンスルフィドおよ
びチオエピクロロヒドリンのようなチイラン(thiirane)化合物;1,3−プロピ
レンスルフィドおよび3,3−ジメチルチオタンのようなチオタン化合物を含む
【0030】 ステレオリソグラフ法のための組成物に使用され得るビニルエーテルには、エ
チルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテ
ル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニ
ルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル
、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニ
ルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、第三ブチルビニルエー
テル、第三アミルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、ドデシルビ
ニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールブチ
ルビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ジエチレングリコール
モノビニルエーテル、トリエチレングリコールメチルビニルエーテル、テトラエ
チレングリコールビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル
、アミノプロピルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、エチ
レングリコールジビニルエーテル、ポリアルキレングリコールジビニルエーテル
、アルキルビニルエーテルおよび3,4−ジヒドロピラン−2−メチル 3,4 −ジヒドロピラン−2−カルボキシレートが含まれる。市販されている鎖延長ビ
ニルエーテルには、Pluriol-E200ジビニルエーテル(PEG200-DVE)、ポリ-THF290
ジビニルエーテル(PTHF290-DVE)およびポリエチレングリコール-520メチルビニ ルエーテル(MPEG500-VE)(全てBASF Corp.製)が含まれる。ヒドロキシル官能化さ
れたビニルエーテルには、ブタンジオールモノビニルエーテル、シクロヘキサン
ジメタノールモノビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ヘ
キサンジオールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテ
ルが含まれる。
【0031】 ステレオリソグラフ法に適当であり、ハイブリッドの柔軟なステレオリソグラ
フ組成物に使用され得るビニルエーテルのもう一つの重要な種類は、本明細書に
参照として取り入れられている米国特許第5,506,087号に含まれるもの
全てである。より好ましくは、商標名Vectomer 4010、Vectomer 5015、Vectomer
4020の下、AlliedSignalから市販品として入手可能であるビニルエーテルであ る。 他のカチオン硬化性化合物には、エポキシ化合物とラクトンを反応させること
により製造されるスピロオルトエステル;エチレン系不飽和化合物、例えばビニ
ルシクロヘキサン、n−ビニル−2−ピロリドンおよびその種々の誘導体、イソ
ブチレンおよびポリブタジエン、ならびに上記化合物の誘導体が含まれる。 望まれる特性に依存して、上記カチオン重合性化合物は単独で、またはそれら
の二種もしくはそれより多くからなる混合物として使用され得る。
【0032】 本発明で使用され得る付加的なカチオン硬化性の市販製品には;Uvacure 1500
、Uvacure 1501、Uvacure 1502、Uvacure 1530、Uvacure 1531、Uvacure 1532、
Uvacure 1533、Uvacure 1534、Uvacure 1561、Uvacure 1562(全てUCB Radcure
Corp. (Smyrna, Georgia)の市販製品);UVR-6105、UVR-6100、UVR-6110、UVR-61
28、UVR-6200、UVR-6216(Union Carbide Corp.)、ビスフェノールAエポキシ液 体樹脂であるAraldite GYシリーズ、ビスフェノールAエポキシ固体樹脂であるA
raldite CTおよびGTシリーズ、ビスフェノールFエポキシ液体であるAraldite G
YおよびPYシリーズ、環式脂肪族エポキシドAraldite CY 179およびPY 284、Aral
dite DYおよびRD反応性希釈剤シリーズ、エポキシクレゾールノボラックのArald
ite ECNシリーズ、エポキシフェノールノボラックのAraldite EPNシリーズ(全 てCiba Specialty Chemicals Corp.の市販製品)、Shell Corp.のHeloxyおよびE
ponシリーズ、柔軟な脂肪族およびビスフェノールA液体または固体エポキシ樹 脂のDERシリーズ、エポキシノボラック樹脂のDENシリーズ(全てDow Corp.の市 販製品)、Celoxide 2021、Celoxide 2021P、Celoxide 2081、Celoxide 2083、C
eloxide 2085、Celoxide 2000、Celoxide 3000、Glycidole、AOEX-24、Cyclomer
A200、Cyclomer M-100、Epolead GT-300、Epolead GT-302、Epolead GT-400、E
polead 401、Epolead 403、(Daicel Chemical Industries Co., Ltd.)、Epicoat
828、Epicoat 812、Epicoat 872、Epicoat CT 508、(Yuka Shell Co., Ltd.)、
KRM-2100、KRM-2110、KRM-2199、KRM-2400、KRM-2410、KRM-2408、KRM-2490、KR
M-2200、KRM-2720、KRM-2750 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)が含まれる。
【0033】 本発明を実施するためのエポキシ樹脂のために、公知で工業的に試験されたカ
チオン光開始剤のホストを使用することも可能である。これらの光開始剤の例は
弱求核性アニオンによるオニウム塩である。それらの例は、例えば米国特許公開
公報第3,708,296号に記載されているように、ハロニウム塩、ヨードシ
ル塩またはスルホニウム塩、スルホキソニウム塩またはジアゾニウム塩である。
他のカチオン光開始剤はメタロセン塩である。 更なる一般的なオニウム塩開始剤および/またはメタロセン塩についての概説
は、本明細書に参照として取り入れられている“UV-Curing, Science and Techn
ology”(編集者:S.P. Pappas, Technology Marketing Corp., 642 Westover R
oad, Stamford, Connecticut, USA)または“Chemistry & Technology of UV &
EB Formulations for Coatings, Inks & Paints”第3巻( P. K. T. Oldring編
)に提案されている。
【0034】 好ましい組成物は、カチオン光開始剤として次式(B−I)、(B−II)ま
たは(B−III)
【化8】 〔式中、R1B、R2B、R3B、R4B、R5B、R6BおよびR7Bは互いに独立して、未
置換の、または適当な基により置換された炭素原子数6ないし18のアリール基
を表し、そしてA-はCF3SO3 -または式[LQmB-(式中、Lはホウ素原子 、リン原子、ヒ素原子またはアンチモン原子を表し、Qはハロゲン原子を表すか
、または基アニオンLQm -の中のQのいくつかはヒドロキシル基も表して得、そ
してmBは1まで増加されたLの原子価に相当する。)で表されるアニオンを表
す。〕で表される化合物を含む。
【0035】 この文脈における炭素原子数6ないし18のアリール基の例は、フェニル基、
ナフチル基、アントリル基およびフェナントリル基である。適当な基に存在する
これらの置換基は、アルキル基、好ましくは炭素原子数1ないし6のアルキル基
、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基
、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基または種々のペンチル基もしくは
ヘキシル基異性体、アルコキシ基、好ましくは炭素原子数1ないし6のアルコキ
シ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ
基たはヘキソキシ基、アルキルチオ基、好ましくは炭素原子数1ないし6のアル
キルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ
基、ペンチルチオ基またはヘキシルチオ基、原子、例えばフッ素原子、塩素原子
、臭素原子またはヨウ素原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基またはたアリール
チオ基、例えばフェニルチオ基である。好ましいハロゲン原子Qの例は、塩素原
子および、特にフッ素原子である。好ましいアニオンLQmBは、BF4 -、PF6 - 、AsF6 -、SbF6 -およびSbF5(OH)-である。 特に好ましい組成物は、カチオン光開始剤として式(B−III)(式中、R 5B 、R6BおよびR7Bはアリール基を表し、アリール基は特にフェニル基またはナ
フチル基、またはこれら二種の基の混合物である。)で表される化合物を含むも
のである。
【0036】 更に好ましい組成物は、光開始剤として次式(B−IV)
【化9】 (式中、cBは1または2であり、dBは1、2、3、4または5であり、XB は非求核性アニオン、特にPF6 -、AsF6 -、SbF6 -、CF3SO3 -、C25 SO3 -、n−C37SO3 -、n−C49SO3 -、n−C613SO3 -およびn− C817SO3 -を表し、R8Bはπ−アレーン基を表し、そしてR9Bはπ−アレー ン基のアニオン、特にシクロペンタジエニル基のアニオンを表す。)を含むもの
である。
【0037】 R8Bとしてのπ−アレーン基およびR9Bとしてのπ−アレーン基のアニオンの
例は、欧州特許公開公報第0 094 915号に見られる。R8Bとして好ましい
π−アレーン基の例は、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メトキ
シベンゼン、メチルナフタレン、ピレン、ピリレン、スチルベン、ジフェニレン
オキシドおよびジジフェニレンスルフィドである。クメン、メチルナフタレンま
たはスチルベンは特に好ましい。非求核性アニオンX-の例は、FSO3 -、有機 スルホン酸のアニオンの、カルボン酸の、またはアニオンLQmB -のアニオンで ある。好ましいアニオンは部分的フルオロ−もしくはパーフルオロ−脂肪族、ま
たは部分的フルオロ−もしくはパーフルオロ−芳香族カルボン酸、例えばCF3 SO3 -、C25SO3 -、n−C37SO3 -、n−C49SO3 -、n−C613S O3 -、n−C817SO3 -から、あるいは特に部分的フルオロ−もしくはパーフ ルオロ−脂肪族、または部分的フルオロ−もしくはパーフルオロ−芳香族有機ス
ルホン酸、例えばC65SO3 -から誘導されるか、あるいは好ましくは、アニオ
ンLQmB -、例えばBF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -およびSbF5(OH) - を表す。好ましくは、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、CF3SO3 -、C25SO 3 - 、n−C37SO3 -、n−C49SO3 -、n−C613SO3 -およびn−C8 17 SO3 -である。
【0038】 酸化剤との組み合わせでメタロセン塩も使用され得る。そのような組み合わせ
については欧州特許公開公報第0 126 712号に記載されている。 光収率を増加させるために、開始剤の種類に依存して、増感剤を使用すること
も可能である。これらの例は、多環式芳香族炭化水素または芳香族ケト化合物で
ある。好ましい増感剤の特例は欧州特許公開公報第0 153 904号に記載さ
れている。
【0039】 更に好ましい市販のカチオン光開始剤は、UVI-6974、UVI-6970、UVI-6960、UV
I-6990(Union Carbide Corp.製)、CD-1010、CD-1011、CD-1012(Sartomer Corp. 製)、Adekaoptomer SP-150、SP-151、SP-170、SP-171(Asahi Denka Kogyo Co.,
Ltd.製)、Irgacure 261(Ciba Specialty Chemicals Corp.)、CI-2481、CI-2624 、CI-2639、CI-2064(Nippon Soda Co, Ltd.)、DTS-102、DTS-103、NAT-103、NDS
-103、TPS-103、MDS-103、MPI-103、BBI-103(Midori Chemical Co, Ltd.)である
。最も好ましくは、UVI-6974、CD-1010、UVI-6970、Adekaoptomer SP-170、SP-1
71、CD-1012およびMPI-103である。上記カチオン光開始剤は、個々に、または二
種もしくはそれより多くの組み合わせで使用され得る。
【0040】 適当な照射を与える遊離ラジカルを形成する全ての種類の光開始剤を使用する
ことが可能である。遊離ラジカル光開始剤の代表例は、ベンゾイン、例えばベン
ゾイン、ベンゾインエーテル、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエー
テルおよびベンゾインアセテート、アセトフェノン、例えばアセトフェノン、2
,2−ジメトキシ−アセトフェノンおよび1,1−ジクロロアセトフェノン、ベ
ンジル、ベンジルケタール、例えばベンジルジメチルケタールおよびベンジルジ
エチルケタール、アントラキノン、例えば2−メチルアントラキノン、2−エチ
ルアントラキノン、2−第三ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン
および2−アミルアントラキノン、ならびにまたトリフェニルホスフィン、ベン
ゾイルホスフィンオキシド、例えば2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルホスフィンオキシド(登録商標Luzirin TPO)、ビスアシルホスフィンオキシド 、ベンゾフェノン、例えばベンゾフェノンおよび4,4’‐ビス(N,N’−ジ
メチルアミノ)ベンゾフェノン、チオキサントンおよびキサントン、アクリジン
誘導体、フェナジン誘導体、キノクサリン誘導体または1−フェニル−1,2−
プロパンジオン2−O−ベンゾイルオキシム、1−アミノフェニルケトンまたは
1−ヒドロキシフェニルケトン、例えば1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、フェニル1−ヒドロキシイソプロピルケトンおよび4−イソプロピルフ
ェニル1−ヒドロキシイソプロピルケトンであって、これらの全ては公知化合物
である。
【0041】 光源としてのHe/Cdレーザーとの組み合わせで慣用に使用される特に適当
な遊離ラジカル光開始剤は、アセトフェノン、例えば2,2−ジアルコキシベン
ゾフェノンおよび1−ヒドロキシフェニルケトン、例えば1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトンまたは2−ヒドロキシイソプロピルフェニルケトン(=
2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルアセトフェノン)であるが、特に1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトンである。 アルゴンイオンレーザーが使用される場合に一般的に使用される光開始剤の種
類はベンジルケタール、例えばベンジルジメチルケタールを含む。特に、使用さ
れる光開始剤は、α−ヒドロキシフェニルケトン、ベンジルジメチルケタールま
たは2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル−ホスフィンオキシドである
【0042】 適当な光開始剤の更なる種類は、化学線照射の吸収、ならびにアクリレートの
重合を開始し得る遊離ラジカル形成が可能であるイオン染料−対イオン化合物で
ある。この場合、イオン染料−対イオン化合物を含む新規組成物は、400ない
し700nmの調整可能な波長範囲で可視光により、より可変的に硬化され得る
。イオン染料−対イオン化合物およびその作用機構は公知であり、例えば米国特
許第4,751,102号、第4,772,530号および第4,772,54
1号に記載されている。適当なイオン染料−対イオン化合物は、アニオン染料−
ヨードニウムイオン錯体、アニオン染料−ピリリウムイオン錯体および特に次式
【化10】 (式中、DC +はカチオン染料を表し、そしてR1C、R2C、R3CおよびR4Cは互い
に独立して、それぞれアルキル基、アリール基、アルカリール基、アリル基、ア
ルアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂環族または未置換もしくは置換
複素環式基を表す。)で表されるカチオン染料−ボレートアニオン化合物である
。基R1CないしR4Cに関する好ましい定義は、例えば欧州特許公開公報第0 2 23 587号から理解される。
【0043】 光開始剤として、新規組成物は、好ましくは1−ヒドロキシフェニルケトン、
特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを含む。 遊離ラジカルおよびカチオン光開始剤は有効量、すなわち組成物の全量を基準
として0.1ないし12、特に0.5ないし9重量%の量で添加される。通常、
レーザー光線が使用されるリソグラフ法に新規組成物を使用する場合、組成物の
吸収能に関して、光開始剤の種類および濃度により適合されることは極めて重要
であり、そのような方法では、通常のレーザー速度における硬化深度は約0.1
ないし2.5mmである。 新規混合物は、種々の波長の放射線を放射するUV/VIS光源をより良好に
利用するため、種々の放射線照射に対して異なる感応性の種々の光開始剤も含み
得る。これに関連して、種々の光開始剤に関して、使用された放射線により等し
い光学吸収が発生するように選択され、そのような濃度で使用されることが有利
である。
【0044】 任意の遊離ラジカル硬化性成分は、好ましくは少なくとも一種の固体または液
体ポリ(メタ)アクリレート、例えば、二、三、四または五官能価モノマーまた
はオリゴマー脂肪族、環式脂肪族または芳香族アクリレートまたはメタクリレー
トからなる。該化合物は、好ましくは200ないし500の分子量を有する。 適当な脂肪族ポリ(メタ)アクリレートの例は、ヘキサン−2,4,6−トリ
オール、グリセロールまたは1,1,1−トリメチロールプロパン、エトキシ化
またはプロポキシ化グリセロールまたは1,1,1−トリメチロールプロパンの
トリアクリレートおよびトリメタクリレート、ならびにトリエポキシド化合物、
例えば上記チオールのトリグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とを反応さ
せることにより得られるヒドロキシル基含有トリ(メタ)アクリレートである。 例えばペンタエリスリトールテトラアクリレート、ビストリメチロールプロパ
ンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシトリアクリレート
または−メタクリレートあるいはジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ
アクリレートまたは−メタクリレートを使用することも可能である。
【0045】 例えば、多官能性ウレタンアクリレートまたはウレタンメタクリレートを使用
することも付加的に可能である。これらのウレタン(メタ)アクリレートは当業
者に公知であり、公知の方法で、例えばヒドロキシ1−末端ポリウレタンとアク
リル酸またはメタクリル酸とを反応させることにより、またはイソシアネート末
端プレポリマーとヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとを反応させてウレ
タン(メタ)アクリレートとすることにより製造され得る。 適当な芳香族トリ(メタ)アクリレートの例は、三価フェノールおよびヒドロ
キシル基を3個含むフェノールまたはクレゾールノボラックのトリグリシジルエ
ーテルと(メタ)アクリル酸との反応生成物である。 本発明で使用される(メタ)アクリレートは公知化合物であり、それらのいく
つかは市販品として入手可能であり、例えばSARTOMER 社からの製品名称、例え ば登録商標SR 295、登録商標SR 350、登録商標SR 351、登録商標SR 367、登録商
標SR 399、登録商標SR 444、登録商標SR 454または登録商標SR 9041である。
【0046】 好ましい組成物は、遊離ラジカル硬化性成分がトリ(メタ)アクリレートまた
はペンタ(メタ)アクリレートを含むものである。 ジ(メタ)アクリレートの適当な例は、環式脂肪族ジ(メタ)アクリレートま
たは芳香族ジオール、例えば1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシシ
クロヘキシル)メタン、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、エトキシ化またはプロ
ポキシ化ビスフェノールA、エトキシ化またはプロポキシ化ビスフェノールFあ
るいはエトキシ化またはプロポキシ化ビスフェノールSである。この種のジ(メ
タ)アクリレートは公知であり、それらのいくつかは市販で入手可能である。
【0047】 使用され得る他のジ(メタ)アクリレートは、次式(F−I)、(F−II)
、(F−III)または(F−IV)
【化11】 〔式中、R1Fは水素原子またはメチル基を表し、YFは直接結合、炭素原子数1 ないし6のアルキレン基、−S−、−O−、−SO−、−SO2−または−CO ‐を表し、R2Fは炭素原子数1ないし8のアルキル基、未置換の、もしくは炭素
原子数1ないし4のアルキル基、ヒドロキシル基もしくはハロゲン原子により置
換された炭素原子数1ないし4のアルキル基を表すか、または式−CH2−OR3 F (式中、R3Fは炭素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表す。 )で表される基を表し、そして AFは次式
【化12】 および
【化13】 で表される基から選択された基を表す。〕で表される化合物である。
【0048】 可能なジ(メタ)アクリレートの更なる例は、次式(F−V)、(F−VI)
、(F−VII)および(F−VIII)
【化14】 で表される化合物である。 式(F−I)ないし(F−VIII)で表されるこれらの化合物は公知であり
、いくつかは市販品として入手可能である。それらの製造に関しては、欧州特許
公開公報第0 646 580号にも記載されている。
【0049】 これらの多官能性モノマーの市販で入手可能な製品の例は、KAYARAD R-526、H
DDA、NPGDA、TPGDA、MANDA、R-551、R-712、R-604、R-684、PET-30、GPO-303、T
MPTA、THE-330、DPHA-2H、DPHA-2C、DPHA-21、D-310、D-330、DPCA-20、DPCA-30
、DPCA-60、DPCA-120、DN-0075、DN-2475、T-1420、T-2020、T-2040、TPA-320、
TPA-330、RP-1040、R-011、R-300、R-205 (Nippon Kayaku Co., Ltd.)、Aronix
M-210、M-220、M-233、M-240、M-215、M-305、M-309、M-310、M-315、M-325、M-
400、M-6200、M-6400 (Toagosei Chemical Indtustry Co, Ltd.)、Light acryla
te BP-4EA、BP-4PA、BP-2EA、BP-2PA、DCP-A (Kyoeisha Chemical Industry Co.
, Ltd.)、New Frontier BPE-4、TEICA、BR-42M、GX-8345 (Daichi Kogyo Seiyak
u Co., Ltd.)、ASF-400 (Nippon Steel Chemical Co.)、Ripoxy SP-1506、SP-15
07、SP-1509、VR-77、SP-4010、SP-4060 (Showa Highpolymer Co., Ltd.)、NK E
ster A-BPE-4 (Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)、SA-1002 (Mitsu
bishi Chemical Co., Ltd.)、Viscoat-195、Voscoat-230、Viscoat-260、Viscoa
t-310、Viscoat-214HP、Viscoat-295、Viscoat-300、Viscoat-360、Viscoat-GPT
、Viscoat-400、Viscoat-700、Viscoat-540、Viscoat-3000、Viscoat-3700 (Osa
ka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)である。
【0050】 本発明によると、放射線硬化性およびカチオン重合性有機成分(a)が、一分
子につき少なくとも3個のエポキシ基を有する多官能性脂肪族、脂環族または芳
香族グリシジルエーテルである成分(a1)の少なくとも一種を任意により含む
ことが好ましい。成分(a1)は硬化物品の側壁仕上げおよび液体組成物のウェ
ットリコート能力(wet recoatability)を改良する。より好ましい組成物は、1 00および2000の間のエポキシ当量(EEW)を伴う一分子につき少なくと
も3個のエポキシ基を有する多官能性脂肪族、脂環族または芳香族グリシジルエ
ーテルである成分(a1)を含む。最も好ましくは、100および800の間の
EEW量を有するものである。例として、トリメチロールプロパンのトリグリシ
ジルエーテル、約140ないし160のEEWを有するShell Corp.製Heloxy 48
は、最も好ましいポリグリシジルエーテル化合物の一種である。その分子中に少
なくとも3個のエポキシ基を有する多官能性グリシジルエーテルは、組成物の全
カチオン成分の約2および90重量%の間で含まれてよい。より好ましくは約5
ないし約60重量%の間である。最も好ましくは7ないし40重量%の間である
【0051】 本発明によると、放射線硬化性およびカチオン重合性有機成分(a)が一分子
につき少なくとも2個のエポキシ基を有する脂環族ポリエポキシドである成分(
a2)の少なくとも一種を任意により含むことが好ましい。より好ましい組成物
は、モノマー純度が80%以上で成分(a2)を含む。例としては、種々の程度
の純度を有する3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 3’,4’−エポキシ シクロヘキサンカルボキシレート(ECEC)は種々の販売元から購入できる。
好ましくはCiba Specialty Chemicals Corporation製Araldite CY179(ここでは
、ECECは、数パーセントの二量体または約10%もしくはそれより少ないオ
リゴマーを含む。)。より好ましくは、Union Carbide Corp.製UVR6105(ここで
は、ECECは、Araldite CY 179よりも少ないパーセントのオリゴマーを含む 。)。成分(a2)の純度が増加するにつれ、粘度は低下する。出願人は成分(
a2)に関して、より高い純度およびより低い粘度範囲は、全液体組成物の改良
された光速度を導く。好ましい組成物は5ないし80重量%の間で成分(a2)
を含む。より好ましい組成物は、20および75重量%の間で成分(a2)を含
む。最も好ましい組成物は、25ないし70重量%の間で成分(a2)を含む。
【0052】 本発明によると、放射線硬化性およびカチオン重合性有機成分(a)が一分子
につき少なくとも2個のエポキシ基を有する固体または液体エポキシクレゾール
ノボラックである成分(a3)の少なくとも一種を任意により含むことが好まし
い。成分(a3)のエポキシ当量は100ないし400グラム/当量の間である
。成分(a3)の好ましい量は3および80重量%の間である。より好ましい量
は6ないし75重量%の間である。最も好ましい量は10ないし40重量%の間
である。 好ましいビニルエーテルは、その分子中に脂肪族、芳香族または脂環族部分を
有するものである。またヒドロキシル官能基化されたビニルエーテルも好ましい
。ビニルエーテル成分の好ましい量は1ないし40重量%の間である。より好ま
しい量は3ないし30重量%の間である。最も好ましい量は4ないし20重量%
の間である。
【0053】 本発明によると、放射線硬化性およびラジカル重合性有機成分(e)が0.5
ないし40重量%の量で含まれることが好ましい。より好ましい組成物は、成分
(e)を7ないし30重量%の間で含む。最も好ましい組成物は、成分(e)を
8ないし20重量%の間で含む。最も好ましい組成物は、2よりも大きい(メタ
)アクリレート官能性を有する液体または固体ポリ(メタ)アクリレートの少な
くとも一種4ないし10重量%およびジ(メタ)アクリレートの一種もしくはそ
れより多く4ないし10重量%を含む。
【0054】 本発明によると、放射線硬化性組成物が固体または液体ポリオール成分(f)
の少なくとも一種0.5ないし40重量%を任意に含むことが好ましい。より好
ましい組成物は、ポリエステル、カプロラクタム、ポリエーテル、ポリアルキレ
ン、ポリシロキサン誘導体またはそれらの混合物を有する脂肪族または脂環族多
価アルコールからなる成分(f)を含む。最も好ましくは、それらの分子中に芳
香族炭素環を有する物質、特に少なくとも二個のヒドロキシル基を有するフェノ
ール系化合物、エチレンオキシド、プロピレンオキシドまたはエチレンおよびプ
ロピレンオキシドと反応される少なくとも二個のヒドロキシル基を有するフェノ
ール系化合物、80より多くない炭素原子を有する脂肪族ヒドロキシ化合物、少
なくとも一個のヒドロキシル基および少なくとも一種のエポキシド基を有する化
合物、またはそれらの混合物からなるポリオール成分(f)である。ポリオール
成分(f)のより好ましい量は、3および30重量%の間、最も好ましい量は五
および25重量%の間である。
【0055】 好ましい組成物は、カチオン光開始剤またはカチオン光開始剤の混合物を0.
1ないし12重量%の間で成分(b)を含む。より好ましい組成物は、0.2な
いし9重量%の間で成分(b)を含む。最も好ましい組成物は、0.25ないし
8重量%の間で成分(b)を含む。成分(d)に関して、遊離ラジカル光開始剤
または遊離ラジカル光開始剤の混合物が0.1ないし10重量%の間で含まれる
ことが好ましい。より好ましい組成物は、0.3ないし5重量%の間で成分(d
)を含む。最も好ましい組成物は、0.4ないし4重量%の間で成分(d)を含
む。 好ましい、より好ましい、そして最も好ましい組成物は添加剤または反応希釈
剤を0ないし10重量%の間で含み得る。
【0056】 ここで、新規組成物は更に、カチオン反応性変性剤(エポキシ−、ビニルエー
テル−、スピロ−オルトエステル−またはオキセタンをベースとするもの)また
はポリエーテル−ポリオール成分を含む。カチオン反応性変性剤成分は、液体組
成物の光速度を落とすことなく、または硬化物品の水抵抗を落とすことなく硬化
物品に柔軟性および耐衝撃性を分与する。選択されたカチオン反応性変性剤は、
少なくとも二官能性化合物であるべきであり、より好ましくは少なくとも約10
0であって2000より大きくない分子量を有する鎖延長セグメントを少なくと
も一種含む一分子につき平均で少なくとも二個のカチオン反応性基を有する脂肪
族、脂環族および/または芳香族化合物である。それぞれの鎖延長セグメントは
、主分子の心部または主鎖によりエポキシド環またはビニルエーテル基または他
のカチオン反応性基が結合した有機または無機鎖である。エポキシドあたりの当
量は約180および約2000の間を変化し得る。ビニルエーテル基あたりのま
たは他のカチオン硬化性基あたりの当量は約100および1600の間で変化し
得る。別の態様では、RCMは、少なくとも一個はカチオン反応性基であり、少
なくとも一個はヒドロキシルまたはエポキシ基である二個の反応性基からなる。
例にはポリエチレングリコールモノビニルエーテルおよびポリアルキレンアルコ
ールモノ(ポリ)ビニルエーテルが含まれる。
【0057】 カチオン反応性基を二個より多く、および相当数の鎖延長セグメントを有する
カチオン反応性変性剤は好ましい。好ましい鎖延長セグメントは、(不)飽和未
置換脂肪族または炭素原子数1ないし10のアルキル基もしくは炭素原子数1な
いし10のアルコキシ基により置換された(不)飽和脂肪族、未置換環式脂肪族
または炭素原子数1ないし10のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし10の
アルコキシ基により置換された環式脂肪族、未置換芳香族または炭素原子数1な
いし10のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし10のアルコキシ基により置
換された芳香族、飽和および不飽和ポリエステル、ポリエーテル、ポリシロキサ
ン、ポリシラン、ポリカーボネート、ポリアルキレンエーテルである。4ないし
60の繰り返し炭素原子数2ないし4のアルコキシ基、例えばイソプロピル基、
プロパキシ基、およびエトキシ基を有する鎖延長セグメントが最も好ましい。同
様に、芳香族エポキシドに関して、グリシジルエーテル基と多価アルコールの芳
香族核の間の鎖延長セグメントは、少なくとも約100であって2000より多
くない分子量を有するべきである。
【0058】 少なくとも約100であって2000より多くない分子量を有する鎖延長セグ
メントを有するポリグリシジルエステルおよびポリ(β−メチルグリシジル)エス
テルが好ましい。分子中に少なくとも二個のカボキシ基を有する化合物とエピク
ロロヒドリン、グリセロールジクロロヒドリンまたはβ−メチルエピクロロヒド
リンとを反応させることにより上記化合物を得ることができる。同様に、環式脂
肪族ポリカルボン酸、例えばテトラヒドロフタル酸を使用することも可能である
。 芳香族ポリカルボン酸、例えばフタル酸、ピロメリット酸、または他のカルボキ
シル末端付加物、例えばトリメリット酸とポリオール、例えばグリセロールまた
は2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのものを使用するこ
とも可能である。 少なくとも約400であって5000より多くない分子量を有する鎖延長セグ
メントを有するエポキシ化油(例えば Union Carbide FLEXOL, LOEまたはEPO) も好ましいエポキシをベースとするカチオン反応性変性剤である。
【0059】 より好ましいエポキシをベースとするカチオン反応性変性剤は、多価アルコー
ルまたは付加物もしくはそれらの多塩基酸であってアルキレンオキシドを有する
ものの液体または固体ポリグリシジルエーテル(例えば、グリシジルエーテル基
につき5および14個の間のイソプロピル基により鎖延長されたグリセロールの
トリグリシジルエーテル)である。また炭素原子数約15ないし約150の間の
脂肪族主鎖を有する二量体酸ジグリシジルエーテル、例えば脂肪族主鎖を有する
炭素原子数約34の登録商標Heloxy 71、約4および50の間でイソプロポキシ 単位を含む主鎖を有するポリグリコールジエポキシド、例えば約7個のイソプロ
ポキシ単位を含む登録商標Heloxy 32、ヒマシ油のポリグリシジルエーテル、例 えば登録商標Heloxy 505も好ましく、これらの製品は全てShell Corp., Houston
, TX により市販品で入手可能である。最も好ましいエポキシをベースとするカ チオン反応性変性剤は、以下の構造:
【化15】 を有するポリプロポキシル化グリセロールのトリグリシジルエーテルであって、
Shell Company, Houston, TX から商標名Heloxy 84の名称の下、市販品として入
手可能である。
【0060】 他の好ましいカチオン反応性変性剤は液体または固体ビニルエーテル、例えば
ポリアルキレングリコールジ−(ポリ)ビニルエーテル、ポリアルコキシビニルエ
ーテルであって多価アルコールのもの、ポリアルコキシアルコールモノ(ポリ)
ビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル;また少なくとも
一種の鎖延長セグメントにより鎖延長された環式脂肪族または芳香族(ジ)ポリ
ビニルエーテルをベースとする。好ましい鎖延長セグメントは、飽和および/ま
たは不飽和未置換脂肪族または炭素原子数1ないし10のアルキル基もしくは炭
素原子数1ないし10のアルコキシ基により置換された脂肪族、未置換の環式脂
肪族または炭素原子数1ないし10のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし1
0のアルコキシ基により置換された環式脂肪族、未置換の芳香族炭素原子数1な
いし10のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし10のアルコキシ基により置
換された芳香族、飽和および不飽和ポリエステル、ポリエーテル、ポリシロキサ
ン、ポリシラン、ポリカーボネート、ポリアルキレンエーテルである。ビニルエ
ーテルをベースとするカチオン反応性変性剤は少なくとも二官能性であるべきで
ある。炭素原子数2ないし4のアルコキシ基の繰り返しを4ないし80個有する
鎖延長セグメント、例えばイソプロポキシ、プロポキシおよびエトキシが最も好
ましい。
【0061】 反応性ポリエーテル−ポリオール変性剤(PEPO)成分は室温で個体または
液体であり得、そして好ましくは以下の式:
【化16】 (式中、mはPEPOの分子量が約4000より大きいか、または4000に等
しくなるようなものである。)を特徴とする。Aはパラ−、メタ−またはオルト
−置換された芳香族ジオール残基を表し、該芳香族ジオールは、好ましくは、脂
肪族または芳香族置換基により置換されたビスフェノールA、ビスフェノールF
、p、m、o−ビフェニル、p−、m−、o−ヒドロキノン;以下の構造:
【化17】 〔式中、R2は直接結合、または−O−、‐SO2−、‐CO‐、‐COO‐、‐
OCH2−、−OCX12−、−CX12−(式中、X1およびX2は互いに独立 して水素原子および炭素原子数1ないし3のアルキル基であり得る。)を表す。
〕のパラ、メタおよびオルト置換芳香族構造体である。 上記化学構造の芳香族環の置換基は、互いに独立して水素原子、炭素原子数1
ないし5のアルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、エステル基
およびヒドロキシル基であり得る。
【0062】 他には、Aは未置換もしくは置換された(不)飽和脂肪族または脂環族または
芳香族ジオール残基であって、1ないし100の繰り返し炭素原子数1ないし4
のアルキル基またはアルコキシ基、エーテル基、オキシテトラメチレン基、エス
テル基、スルホン基、スルホキシド基、シロキサン基およびカルボネート基を有
する飽和および/または不飽和鎖延長セグメントに結合したものであり得る。該
ジオール残基のための置換基は炭素原子数1ないし6のアルキル基および炭素原
子数1ないし6のアルコキシ基である。脂環族ジオールの好ましい例は、水素化
ビスフェノールAおよび水素化ビスフェノールFを含む。
【0063】 R1は次式:−CH2CH(OH)(CR34n−(式中、nは1より大きい か、または1に等しく、R3およびR4は互いに独立して水素原子、炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし12の環式脂肪族、炭素原子数5な
いし12の芳香族環であって、芳香族エーテル、脂肪族エーテル、炭素原子数2
ないし4のアルコキシ基、オキシテトラメチレン基、脂肪族または芳香族エステ
ル、シロキサンおよびカーボネート架橋を含むものを表す。)で表現され得る。 より好ましくは、ポリエーテルポリオール変性剤は次式:
【化18】 (式中、ポリエーテルポリオールの分子量は約4000より大きいか、または約
4000に等しく、Aは芳香族ジオール残基を表し、そしてR1は−CH2CH(
OH)CH2−を表す。)で表される構造を有する。
【0064】 最も好ましくは、PEPOは次式:
【化19】 (式中、cは約15ないし60である。)で表される構造を有するポリアリール
エーテルポリオール変性剤である。上述のポリマー構造体の末端基は製造過程に
おける原料の供給比、反応条件、および原料の純度に依存している。末端基は、
特有の化学および用途を基礎として仕上げられ得る。PEPOは室温で液体また
は固体であり得る。最も好ましいPEPOはPKHM-85X、PKHC、PKHH、PKHJ、PKHM
-30、PKHM-301、PKFE(全てPhenoxy Specialties, Corp., NC 製)である。これ
ら特有の候補は10000および20000の間の分子量を有する。特有の性質
または適合性の程度を分与するために、PEPOを一般的なトリオールまたはポ
リオールに溶解または希釈して、柔軟剤および強化剤として適当な低ないし高粘
度中間体を形成させてもよい。例として、Paphen PKHM-85Xは固体パフェンフェ ノキシと液体の一般的なポリオールの混合物である。
【0065】 組成物の極性に依存して、カチオン反応性変性剤が液体硬化性組成物と非常に
相溶性であるように鎖延長セグメントを選択できる。そのような選択は、伸びお
よび耐衝撃性における改良の点において結果をもたらすだけではなく、改良され
たリコート能力(recoatability)および望ましくない相分離現象の抑制の点にお いても結果をもたらす。わずかに極性の液体組成物の場合、鎖延長セグメントは
エトキシまたはプロポキシまたはイソプロポキシまたはオキシテトラメチレンま
たはそれらの誘導体であってよい。高い柔軟性に加えて、組成物中に水抵抗の分
与を必要とする場合、芳香族または炭化水素またはイソプロポキシまたは低エー
テル含有鎖延長剤が最も好ましい。
【0066】 カチオン反応性変性剤およびポリエーテル−ポリオール変性剤は、好ましくは
全組成物中に、約0.5%ないし約60重量%の間で、より好ましくは約1%な
いし50重量%の間で、最も好ましくは約2%ないし30重量%の間で存在する
。固体または液体反応性カチオン変性剤およびポリエーテル−ポリオール変性剤
は単独で、または混合物で使用されてよい。
【0067】 新規組成物は、ジヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシベンゼンおよび次式(
D‐I):
【化20】 (式中、R1DおよびR2Dは水素原子またはメチル基を表す。)で表される化合物
;次式(D‐II):
【化21】 (式中、R1DおよびR2Dはそれぞれ水素原子またはメチル基を表し;R3Dおよび
4Dは全て互いに独立して水素原子またはメチル基を表し、そしてxDおよびy
Dはそれぞれ1ないし15の整数である。)で表される化合物;トリメチロール
プロパン、グリセロール、ヒマシ油および次式(D‐III)および(D‐IV
):
【化22】 (式中、R5Dは非分枝鎖状または分枝鎖状(zD)価の炭素原子数2ないし20
のアルカン残基、好ましくは炭素原子数2ないし20アルカン残基、好ましくは
(zD)価の炭素原子数2ないし6のアルカン残基を表し、全てのR6Dは互いに
独立して水素原子またはメチル基を表し、zDは1ないし4の整数であり、そし
てvDは2ないし20の整数である。)で表される化合物;および、また、次式
(D−V)、(D−VI)、(D−VII)、(D−VIII)、(D−IX)
および(D−X):
【化23】 (C3−C20アルキル)−R8D (D−VII), R8D−(C3−C20アルキレン)−R8D (D−VIII),
【化24】 (式中、R7D、R9DおよびR10Dはそれぞれ水素原子またはメチル基を表し、そ して、それぞれR8Dは次式(D−XI)、(D−XII)、(D−XIII)お
よび(D−XIV):
【化25】 で表される基から選択された基を表す。)で表される化合物;からなる群から選
択された化合物の少なくとも一種を任意に含む。 上記式(D−I)、(D−II)、(D−V)、(D−VI)および(D−I
X)の化合物は、好ましくはそれぞれ1,4誘導体またはビス−1,4誘導体で
ある。式(D−I)ないし(D−X)の化合物およびそれらの製造方法は当業者
に公知である。
【0068】 任意のポリオール成分は、(D2)少なくとも2個のヒドロキシル基を有する
フェノール系化合物であって、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、または
エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドと反応するものからなり得、特に次
式(D−IIa):
【化26】 (式中、R1DおよびR2Dは両方水素原子または両方メチル基を表し;R3Dおよび
4Dは全て互いに独立して、それぞれ水素原子またはメチル基を表し、そしてx
DおよびyDはそれぞれ1ないし15の整数である。)で表される化合物からな
り得る。
【0069】 任意のポリオール成分は、少なくとも一種の脂肪族多価アルコールと少なくと
も一種の一塩基酸、多塩基酸、またはフェノールとをエステル化することにより
得られるヒドロキシル基含有ポリエステル化合物、および少なくとも一種のラク
トン化合物および少なくとも一種の一塩基酸、多塩基酸、またはフェノールの間
のエステル化反応を通して得られるヒドロキシル基含有ポリエステルも含み得る
。上記脂肪族多価アルコールとしては、例えば1,3−ブタンジオール、1,4
−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリト
ールおよびジペンタエリスリトールを使用できる。上記一塩基酸としては、例え
ば ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸および安息香酸を使用できる。上記多塩基酸
としては、例えばアジピン酸、テレフタル酸、フタル酸無水物およびトリメリッ
ト酸を使用できる。上記フェノールとしては、例えばフェノール、p‐ノニルフ
ェノール、ビスフェノールAおよびビスフェノールFを使用できる。上記ラクト
ンとしては、例えばβ−プロピロラクトンおよびε−カプロラクトンを使用でき
る。他の適当な化合物はオリゴ−およびポリエステル、例えばトリメチロールプ
ロパントリエステルとカプロラクトンをベースとするカプロラクトン、Union ca
rbide Corp.のTone 0301およびTone 0310またはTone 02xxシリーズを含む。
【0070】 上記ポリエステルポリオールとしては、Bayer Corp.のDesmophenシリーズ、Ki
ng Industries, Corp.のK-Flexシリーズ、Ruco Polymer Corp.のRucoflexシリー
ズ、Witco Corp.のFomrezシリーズおよびSolvay Corp.のCapaシリーズも使用で きる。ヒドロキシル基含有ポリエステルを単独で、または望ましい特性に関係し
て二種もしくはそれより多くとの組み合わせで使用することもできる。任意のポ
リオール成分は、ヒドロキシ官能化ポリエーテルアルコール、例えばアルコキシ
ル化トリメチロールプロパン、アルコキシル化ビスフェノールA、アルコキシル
化ビスフェノールF、ポリテトラメチレンエーテルグリコールであってポリブチ
レングリコールとして公知であるもの(分子量:250および9000の間)、
特にプロポキシル化、イソプロポキシル化およびエトキシ化化合物、ポリエチレ
ングリコール−200または−600等も含み得る。ポリエーテルアルコールは
、Bayer Corp.のDesmophen U&LおよびMutranolシリーズ、Dow Corp.のVoranolシ
リーズおよびArco Corp.のArcolシリーズ(LHT28, LHT42, E786)も含み得る。ポ リオールの好ましい分子量は、約100ないし2000、そしてより好ましくは
約160ないし1000である。ポリオール濃度は、0および30重量%の間で
変化してよい。
【0071】 好ましい態様において、ハイブリッドカチオンおよびラジカル硬化性組成物は
任意のポリオール成分を含まない。ヒドロキシル含有化合物がステレオリソグラ
フ方に使用されるハイブリッド組成物の必要成分であることは広く受け入れられ
ている。組成物があるパーセントのジオール、トリオールまたはポリオールを含
まない限り、エポキシ配合物は高程度まで硬化および後硬化しないと考えられて
いた。ジオールまたはポリオールの存在は、非常に良好な機械および熱特性を有
するUV硬化物品を得るための主要因子であると考えられていた。ヒドロキシル
基はエポキシ開環の間にエポキシ基と反応し、そして三次元網目構造の形成に寄
与する。DSM Corp., Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., Japan Fine Coatings
Co., Ltd.による最近の特許出願 WO 97/38354号(1997年10月
16日)には、臨界点以上ではハイブリッド液体組成物にジオールまたはトリオ
ールまたはポリオール成分が存在することが極めて重要であることが開示されて
いる。この特許明細書には、“ポリオール成分の比率が低すぎる場合、光硬化を
特徴的に進展させることの目的は達成され得ず、その場合、その樹脂組成物から
は形状および特性に関して充分な安定性を有する三次元物品は製造され得ない。
”ことも開示されている。ここでは、本出願人は、ジオールまたはトリオールま
たはポリオールのないハイブリッドエポキシ組成物を光重合することにより良好
な機械および熱特性を有する高い架橋網目構造を得ることができた。これまで、
そして以下の実施例に記載されたカチオン反応性および/またはポリアリールエ
ーテル−ポリオール変性剤を使用することにより、ステレオリソグラフ法に使用
されたポリオールを含有しない液体ハイブリッド組成物は容易に柔軟化され得る
【0072】 必要であれば、本発明によるステレオリソグラフ用途のための樹脂組成物は、
本発明の効果に不利な影響が及ぼされない限り、他の材料を適当な量で含んでよ
い。そのような材料の例には、上記カチオン重合性有機物質の他にラジカル重合
性有機物質;感熱性重合開始剤;種々の樹脂用添加剤、例えば着色剤、例えば顔
料および染料、消泡剤、均染剤、増粘剤、難燃剤および酸化防止剤;充填剤、例
えばシリカ、アルミナ、ガラス粉末、セラミック粉末、金属粉末および変性樹脂
が含まれる。ラジカル重合性有機物質の特例には、限定されないが、熱により重
合する化合物であって、その感熱性重合開始剤に特開昭57−49613号公報
および特開昭58−37004号公報に記載の脂肪族オニウム塩を含むものが含
まれる。
【0073】 本発明に使用されるべき充填剤は反応性または非反応性、有機または無機、粉
末状、繊維状または薄片状物質である。有機充填剤材料の例は、ポリマー化合物
、熱可塑性樹脂、コアー−シェル、アラミド、ケプラー、ナイロン、架橋ポリス
チレン、架橋ポリ(メチルメタクリレート)、ポリスチレンまたはポリプロピレ
ン、架橋ポリエチレン粉末、架橋フェノール系樹脂粉末、架橋尿素樹脂粉末、架
橋メラミン樹脂粉末、架橋ポリエステル樹脂粉末および架橋エポキシ樹脂粉末で
ある。無機充填剤の例は、ガラスまたはシリカビーズ、炭酸カルシウム、硫酸バ
リウム、タルク、マイカ、ガラスまたはシリカ泡体、ケイ酸ジルコニウム、酸化
鉄、ガラス繊維、アスベスト、珪藻土、ドロマイト、粉末金属、酸化チタン、パ
ルプ粉末、カオリン、変性カオリン、水和化カオリン金属充填剤、セラミックお
よび複合物である。有機および/または無機充填剤の混合物も使用できる。
【0074】 好ましい充填剤の更なる例は、微結晶性シリカ、結晶性シリカ、非晶性シリカ
、アルカリアルミノシリケート、長石、ウールアストナイト、アルミナ、水酸化
アルミニウム、ガラス粉末、アルミナ三水和物、表面処理されたアルミナ三水和
物、ケイ酸アルミナである。好ましい充填剤は一般的に入手可能である。最も好
ましい充填剤材料は無機充填剤、例えばイムシル(Imsil)、ノバサイト(Novasite
)、マイカ、非晶性シリカ、長石およびアルミナ三水和物である。光硬化性組成 物から沈降する傾向が低いため、マイカは充填剤として非常に魅力的である。そ
れはUV光に対して透過性であるので入射光を屈折または反射する傾向が低く、
良好な寸法安定性および熱抵抗性を提供する。
【0075】 本発明によるステレオリソグラフ法のための樹脂組成物に使用されるべき充填
剤は、カチオンまたはラジカル重合のどちらも阻害せず、充填されたSL組成物
はステレオリソグラフ法に適するような比較的低い粘度を有するという要求を満
足させなければならない。これらの充填剤は単独で、または望ましい性能に依存
してそれらの二種またはそれより多くの混合物として使用されてよい。本発明に
使用される充填剤は、中性酸性または塩基性であってよい。充填剤粒子サイズは
用途および望ましい樹脂特性に依存して変化してよい。それは50ナノメートル
および50マイクロメートルの間で変化してよい。
【0076】 充填剤材料は任意により種々の化合物カップリング剤により表面処理され得る
。例には、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ガンマ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランおよびメチルトリエトキシシランが含まれる。最も好まし
いカップリング剤は、Osi Chemicals Corp.および他の試薬会社から市販品とし て入手可能である。 充填される充填剤は、充填される樹脂組成物の全量に関して、好ましくは約0
.5ないし約90重量%、より好ましくは約5ないし約75重量%、最も好まし
くは約5ないし約60%重量である。
【0077】 新規組成物は公知の方法で、例えば個々の成分を予備混合し、次いでこれらの
予備混合物を混合することにより、または撹拌容器のような慣用の装置を使用し
て、光の不存在下で、そして望ましければ僅かに高められた温度で全成分を混合
することにより製造され得る。
【0078】 新規組成物は化学線照射により、例えば電子ビーム、X線、UVまたはVIS
光により、好ましくは280ないし650nmの波長範囲の放射線で重合され得
る。HeCd、アルゴンまたは窒素のレーザービームおよびまた金属蒸気および
NdYAGレーザーが特に適当である。本発明は、ステレオリソグラフ法に使用
されるべき、既存の、または開発下にある種々のタイプのレーザー、例えば固体
状態、アルゴンイオン、ヘリウムカドミウムレーザー等を通して伸展される。そ
れぞれ選択された光源に関して、適当な光開始剤を選択すること、および適当で
あれば増感を行うことが必要であることは当業者には明白である。重合されるべ
き組成物中への放射線浸透深度およびまた作用速度は、吸収係数および光開始剤
濃度と直接的に比例関係にあると認識されている。ステレオリソグラフ法におい
て、遊離ラジカルまたはカチオン粒子の形成を最高数まで上げ、そして重合され
るべき組成物への放射線浸透深度を最深とし得る、それらの光開始剤を使用する
ことが好ましい。
【0079】 付加的に本発明は、上述の組成物が化学線により処理される硬化製品を製造す
る方法に関する。例えば、これに関して、新規組成物を粘着剤として、コーティ
ング材料として、フォトレジストとして、例えばソルダーレジストとして、また
は迅速なプロトタイピングのために、しかし特にステレオリソグラフ法のために
使用することが可能である。新規組成物をコーティング材料として使用する場合
、木材、紙、金属、セラミックまたは他の表面上に得られるコーティングは透明
で硬質である。コーティング厚は大きく変化することができ、例えば0.01m
mないし約1mmであり得る。新規混合物を使用して、印刷回路のリリーフイメ
ージまたは印刷版を直接、混合物の照射により、例えば適当な波長のコンピュー
タ制御されたレーザービームの方法により、またはフォトマスクおよび適当な光
源を使用することにより、製造することが可能である。
【0080】 上記方法のある特別な態様は、三次元造形品のステレオリソグラフ法による製
造方法であって、造形品が連続段階(a)および(b)を交互に繰り返すことに
より新規組成物から製造される方法であり;段階(a)では、その領域が組成物
の表面である組成物の層は、形成されるべき三次元造形品の所望の横断面積に相
当する表面領域の内部で、この層の高さで、適当な放射線により硬化され、そし
て段階(b)では、新しい硬化層を液体放射線硬化性組成物の新しい層で被覆し
、所望の造形を有する製品が形成されるまで、この連続段階(a)および(b)
は繰り返される。この方法では、使用される放射線源は、好ましくはレーザービ
ームであり、特に好ましくはコンピュータ制御されているものである。
【0081】 一般的に、その中で、まだ充分な強度を示さない、いわゆる未加工モデルが得
られる上記の初期放射線硬化は、続いて熱および/または更なる照射による造形
品の最終硬化が行われる。 本出願において、それに反する記述がいずれもない場合、“液体”との表現は
“室温で液体”との表現に等しく、室温とは一般的に5および45℃の間、好ま
しくは15ないし30℃の間の温度であると理解される。
【0082】 実施例: 本発明の代表的な態様を実施例として記述するが、本発明は決してそれらに限
定されない。以下の実施例1では、全ての部は重量によるものである。 チバ スペシャルティ ケミカルズ コーポレイション(カリフォルニア州ロサ ンゼルス)(Ciba Specialty Chemicals Corporation, Los Angeles, California
)から入手可能な原樹脂SL520は多官能価エポキシ樹脂、ビニルエーテルを ベースとする樹脂、およびポリアクリレート成分の混合物の混合物である。カチ
オン反応性変性剤はヘロキシ(Heloxy)84、イソプロポキシ架橋8個からなる鎖
延長セグメントを有するグリセロールのトリグリシジルエーテルである。ヘロキ
シ(Heloxy)84は、シェル コーポ.(テキサス州ヒューストン)(Shell Corp.,
Houston, TX)の市販製品である。ポリアリールエーテルポリオール反応性変性 剤,PEPOは、ビスフェノールAとエピクロロヒドリンとのコポリマーまたは
ホモポリマーである。それは、フェノキシ スペシャルティ コーポ.(Phenoxy S
pecialties Corp., NC)のパフェン(Paphen) PKHM- 85X という商標の下で市販製
品である。製造者により提供された情報によると、それは固体ポリエーテル−ポ
リオールパフェンと液体の市販ポリオールとの混合物である。
【0083】 実施例に示された実施例に示された配合物は、均一な組成物が得られるまで、
種々の成分の粘度に依存して20および80℃の間で撹拌することにより、成分
を混合することにより製造される。ほとんどの組成物は、約25ないし30℃の
室温で混合される。配合物に関連する物理的データが以下の通り得られる。 配合物の機械的特性は、Hd/Cdレーザーで製造された三次元試験試料で決
定される。特に、(光速度を測定するための)ウインドウパン、ドッグボーン(d
ogbone)およびアイゾット衝撃試験試料は、3DシステムSL250/30ステ レオリソグラフ機において、325nmで放射されるヘリウムカドミウムレーザ
ーを使用することにより製造された。破断点伸びを測定するために、12センチ
メートルの長さのドッグボーン4本を製造した。耐衝撃性バーは0.15インチ
の厚さを有し、自動ノッチ機でノッチされた。ドッグボーンおよびアイゾットバ
ーを紫外線エネルギーにより90分間、慣用のUV後硬化装置において後硬化し
た。
【0084】 配合物の感光性は、いわゆるウインドウパンで決定される。この決定において
、異なるレーザーエネルギーを使用して単層試験試料は製造され、得られた層厚
は測定される。結果の層厚を、使用された照射エネルギーの対数に対してグラフ
上にプロットし、“作用曲線”を作成する。この曲線の傾斜はDpと表現される
(ミリメートルまたはミルで与えられる)。曲線がx軸と交差するときのエネル
ギー値はEcと表現される(そして、これは材料のゲル化が生じるエネルギーで
ある:P. Jacobs著,Rapid Prototyping and Manufacturing, Soc. of Manufact
uring Engineers, 1992, p. 270を参照せよ)。
【0085】 実施例1 液体樹脂組成物1は原樹脂100%からなる。液体組成物2および3は、それ
ぞれヘロキシ(Heloxy)84またはパフェン(Paphen)85X 17%と原樹脂83 %とを混合し、45℃で3時間混合物を撹拌することにより製造される。その後
、三種の液体組成物全部をステレオリソグラフ機SL250/30でヘリウムカ
ドミウムレーザーを使用して評価した。実験データを表1に示す。
【表1】 カチオン反応性変性剤を含む樹脂番号2は、選択された原樹脂番号1と比べて
、破断点伸びにおいて7倍以上の改良を示すことが表1から見られる。更に、ア
イゾット耐衝撃性は、原樹脂に対して85%まで改良されている。同様に、PE
POを含む樹脂番号3は原樹脂と比べて、破断点伸びにおいて15倍の改良およ
びアイゾット耐衝撃性において140%の改良を示す。上述の反応性変性剤を使
用することによる伸びおよび耐衝撃性における増加は、慣用柔軟剤の添加の通常
の結果である減少した光速度を犠牲にして現れるものではない。その上、比較す
ると、光速度は増加している。表1は、カチオン反応性変性剤およびPEPO含
有化合物からなる樹脂番号2および3のDp値は、それぞれ原樹脂番号1に関す
る相当する値よりも高く、そしてそれらのEc値はより低いことを示している。
これらの数は、カチオン反応性変性剤またはPEPOを含有する柔軟化された変
性樹脂が原樹脂よりも高い光速度を示すことを証明する。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年4月4日(2000.4.4)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 で表されるカチオン反応性変性剤の少なくとも一種または4000より多いか、
または4000に等しい分子量を有するポリエーテルポリオール成分の少なくと
も一種0.5ないし60重量%; d)ラジカル光開始剤0ないし10重量%; e)モノ−またはポリ(メタ)アクリレートの少なくとも一種を含む遊離ラジカ
ル硬化性成分0ないし40重量%; f)上記ポリエーテルポリオール成分とは異なるポリオール0ないし30重量%
;および g)慣用の添加剤0ないし10重量%; からなる、三次元造形品を製造するための液体放射線硬化性組成物。
【化2】 [式中、mはポリエーテルポリオールの分子量が4000より大きいか、または 4000に等しくなるようなものであり、Aは、(不)飽和炭素原子数1ないし
5のアルキル基、エーテル−またはエステル基を有する脂肪族または芳香族置換
基により置換されたビスフェノールA、ビスフェノールF、p,m,o−ビフェ
ニル、p−,m−,o−ヒドロキノン;以下の構造:
【化3】 (式中、R2は−O−、‐SO2−、−CO−、−COO−、−OCH2−、−C H2−、(CH32C<、ならびに飽和および/または不飽和アルキル−、アル コキシ−、アリールオキシ−、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オキシ
テトラメチレン、脂肪族または芳香族エステル、シロキサンおよびカーボネート
架橋の炭素原子数1ないし4の繰り返し単位1ないし100を有する脂肪族また
は芳香族鎖延長セグメントの少なくとも一個を表す。)のパラ、メタおよびオル
ト置換芳香族構造体から選択されたパラ−、メタ−またはオルト−置換された芳
香族ジオール残基を表し、R1はCH2CH(OH)(CR34n−(式中、n は1より大きいか、または1に等しく、R3およびR4は互いに独立して−H、−
CH3、−CH2CH3、飽和または不飽和直鎖または分枝鎖状炭素原子数1ない し20のアルキル基、芳香族エーテル、脂環族エーテル、エトキシ、プロポキシ
、イソプロポキシ、オキシテトラメチレン、脂肪族または芳香族エステル、シロ
キサンおよびカーボネート架橋を含む脂肪族または脂環族または芳香族セグメン
トを表す。)を表す。]を有する請求項1記載の組成物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レニイ,ワン アメリカ合衆国,91803 カリフォルニア 州,アルハンブラ,ウエスト ガーベイ アベニュー 1801,アパートメント 210 (72)発明者 トーマス ハシング,パン アメリカ合衆国,91201 カリフォルニア 州,グレンダール,ローズダール アベニ ュー 1169,アパートメント 110 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA02 AA13 AA18 AB20 AC08 AD01 BC13 CB21 CB41 CC20 4F213 AA21L AA32L AA39L AA44 AB04 WA25 WB01 WL02 WL12 WL23 WL25 WL95 4J036 AB02 AB09 AB10 AC01 AC05 AC08 AC09 AD01 AD08 AG03 AJ02 JA09 KA01

Claims (32)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 a)化学線硬化性およびカチオン重合性有機化合物20ない
    し90重量%; b)カチオン開始剤0.05ないし12重量%; c)一分子につき反応基を少なくとも二個含むカチオン反応性変性剤の少なくと
    も一種またはポリエーテルポリオール成分の少なくとも一種あるいはそれらの混
    合物0.5ないし60重量%であって、該カチオン反応性変性剤が、少なくとも
    約100であって約2000よりは多くない分子量を有する鎖延長セグメントの
    少なくとも一個を有し、そして該ポリエーテルポリオール成分が、約4000よ
    り多いか、または約4000に等しい分子量を有するもの; d)ラジカル光開始剤0ないし10重量%; e)モノ−またはポリ(メタ)アクリレートの少なくとも一種を含む遊離ラジカ
    ル硬化性成分0ないし40重量%; f)上記ポリエーテルポリオール成分とは異なるポリオール0ないし30重量%
    ;および g)慣用の添加剤0ないし10重量%; からなる液体の、放射線硬化性ステレオリソグラフ法のための組成物。
  2. 【請求項2】 化学線硬化性およびカチオン重合性有機物質が、70および
    350g/当量の間のエポキシ当量を有するエポキシ基を少なくとも二個有する
    固体または液体環式脂肪族ポリエポキシドの少なくとも一種またはそれらの混合
    物10ないし80重量%を含む請求項1記載の硬化性組成物。
  3. 【請求項3】 化学線硬化性およびカチオン重合性有機物質が、固体または
    液体の、脂肪族、脂環族または芳香族アルコールあるいは多塩基酸のポリグリシ
    ジルエーテル、エポキシクレゾールノボラック、エポキシフェノールノボラック
    、スピロ−オルトエステル化合物、オキセタン化合物であって、一分子につきカ
    チオン反応性基を少なくとも二個有するものの少なくとも一種またはそれらの混
    合物3ないし70重量%を含む請求項1記載の硬化性組成物。
  4. 【請求項4】 化学線硬化性およびカチオン重合性有機物質が、ビニルエー
    テル基を少なくとも二個またはヒドロキシル官能化ビニルエーテルの少なくとも
    一個を有する固体または液体ビニルエーテルの少なくとも一種0.5ないし40
    重量%を含む請求項1記載の硬化性組成物。
  5. 【請求項5】 上記組成物が、モノ−またはポリ(メタ)アクリレートの少
    なくとも一種を含む遊離ラジカル硬化性成分約3ないし40重量%を含む請求項
    1記載の硬化性組成物。
  6. 【請求項6】 カチオン反応性変性剤およびポリエーテルポリオール変性剤
    が室温で固体または液体である請求項1記載の硬化性組成物。
  7. 【請求項7】 カチオン反応性変性剤が、グリシジルエーテル基または環式
    脂肪族エポキシ基またはビニルエーテル基またはスピロ−オルトエステル基また
    はオキセタン基の少なくとも一種を有する脂肪族または芳香族エポキシドを含む
    反応性固体または液体化合物の少なくとも一種からなる請求項1記載の硬化性組
    成物。
  8. 【請求項8】 カチオン反応性変性剤が、エポキシドにつき少なくとも約1
    80であって約2000よりは多くない当量を有する請求項7記載の硬化性組成
    物。
  9. 【請求項9】 反応性変性剤のそれぞれの鎖延長セグメントが互いに独立し
    て炭素原子数2ないし4のアルコキシ基、オキシテトラメチレン−、エチル−、
    プロピル−、イソプロピル−、飽和または不飽和炭素原子数2ないし4の炭素原
    子もしくはそれらの混合物の少なくとも4個であって約80個よりは多くない繰
    り返し単位を含む請求項7記載の硬化性組成物。
  10. 【請求項10】 カチオン反応性変性剤が、鎖延長セグメントを多数含む一
    分子につき平均でエポキシ基を少なくとも二個有する反応性の液体または固体の
    、脂肪族、脂環族または芳香族アルコールあるいは多塩基酸のグリシジルエーテ
    ル化合物の少なくとも一種であって、各鎖延長セグメントは少なくとも約100
    であって2000よりは多くない分子量を有する請求項7記載の硬化性組成物。
  11. 【請求項11】 カチオン反応性変性剤が、脂肪族多価アルコールまたは付
    加物もしくはそれらの多塩基酸のポリグリシジルエーテルであって、エポキシ−
    、プロポキシ−、イソプロポキシ−、オキシテトラメチレン−、飽和または不飽
    和アルキル−、脂環式−、ポリエーテル−、およびポリエステル−架橋またはそ
    れらの組み合わせにより鎖延長されたものである請求項10記載の硬化性組成物
  12. 【請求項12】 反応性変性剤が、次式: 【化1】 を有するポリ(イソプロポキシル化)グリセロールのトリグリシジルエーテルで
    ある請求項11記載の硬化性組成物。
  13. 【請求項13】 反応性変性剤が、一分子につきエポキシ基を少なくとも二
    個有するヒマシ油の二量体酸ジグリシジルエーテルエステルまたはポリグリコー
    ルポリエポキシドまたはポリグリシジルエーテルである請求項11記載の硬化性
    組成物。
  14. 【請求項14】 反応性変性剤が 【化2】 (式中、nは15より大きくて150より少なく、そしてmは4より大きくて5
    0より少ない)で表される請求項13記載の硬化性組成物。
  15. 【請求項15】 nが30より大きくて50より少なく、そしてmが6より
    大きくて15より少ない請求項14記載の硬化性組成物。
  16. 【請求項16】 上記組成物がカチオン反応性変性剤を約1ないし約60重
    量%含む請求項7記載の硬化性組成物。
  17. 【請求項17】 ポリエーテルポリオール成分が次式: 【化3】 [式中、mはポリエーテルポリオールの分子量が4000より大きいか、または 4000に等しくなるようなものであり、Aは、(不)飽和炭素原子数1ないし
    5のアルキル基、エーテル−またはエステル基を有する脂肪族または芳香族置換
    基により置換されたビスフェノールA、ビスフェノールF、p,m,o−ビフェ
    ニル、p−,m−,o−ヒドロキノン;以下の構造: 【化4】 (式中、R2は−O−、‐SO2−、−CO−、−COO−、−OCH2−、−C H2−、(CH32C<、ならびに飽和および/または不飽和アルキル−、アル コキシ−、アリールオキシ−、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オキシ
    テトラメチレン、脂肪族または芳香族エステル、シロキサンおよびカーボネート
    架橋の炭素原子数1ないし4の繰り返し単位1ないし100を有する脂肪族また
    は芳香族鎖延長セグメントの少なくとも一個を表す。)のパラ、メタおよびオル
    ト置換芳香族構造体から選択されたパラ−、メタ−またはオルト−置換された芳
    香族ジオール残基を表し、R1はCH2CH(OH)(CR34n−(式中、n は1より大きいか、または1に等しく、R3およびR4は互いに独立して−H、−
    CH3、−CH2CH3、飽和または不飽和直鎖または分枝鎖状炭素原子数1ない し20のアルキル基、芳香族エーテル、脂環族エーテル、エトキシ、プロポキシ
    、イソプロポキシ、オキシテトラメチレン、脂肪族または芳香族エステル、シロ
    キサンおよびカーボネート架橋を含む脂肪族または脂環族または芳香族セグメン
    トを表す。)を表す。]を有する請求項1記載の硬化性組成物。
  18. 【請求項18】 Aが、飽和または不飽和炭素原子数1ないし20のアルキ
    ル基、エーテル、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オキシテトラメチレ
    ン、エステル、スルホン、スルホキシド、シロキサンおよびカーボネート架橋を
    有する直鎖または分枝鎖脂肪族または置換脂環族ジオールまたは未置換脂環族ジ
    オール残基である請求項17記載の硬化性組成物。
  19. 【請求項19】 Aが、脂肪族または置換脂環族ジオールまたは未置換脂環
    族ジオール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールAおよび水素
    化ビスフェノールFである請求項17記載の硬化性組成物。
  20. 【請求項20】 Aが、芳香族環の間に柔軟なセグメントを有するビスフェ
    ノールA、ビスフェノールF、ヒドロキノン、ビフェノール、芳香族ジオールか
    ら選択された芳香族ジオール残基であり、そしてR1が−CH2CH(OH)CH 2 −である請求項17記載の硬化性組成物。
  21. 【請求項21】 Aが、ビスフェノールAから選択された芳香族ジオール残
    基であり、そしてR1が−CH2CH(OH)CH2−であり、mが15より大き い請求項20記載の硬化性組成物。
  22. 【請求項22】 上記組成物が反応性ポリエーテルポリオール変性剤約1な
    いし約45重量%を含む請求項21記載の硬化性組成物。
  23. 【請求項23】 反応性変性剤の固体または液体ポリエーテル−ポリオール
    成分が、芳香族環またはポリエステル架橋またはポリエーテル架橋を含む液体ま
    たは固体ジオールまたはポリオールあるいは脂肪族、脂環族または芳香族多価ア
    ルコールの誘導体である液体または固体ジオールまたはポリオールの少なくとも
    一種にブレンドされるか、分散されるか、希釈されるか、または溶解される請求
    項17記載の硬化性組成物。
  24. 【請求項24】 Aが脂肪族ポリオールであり、そしてポリエーテルポリオ
    ール成分が固体または液体脂肪族ポリエーテル−ポリオールである請求項17記
    載の硬化性組成物。
  25. 【請求項25】 カチオン硬化性成分が、ポリグリシジル化合物または環式
    脂肪族ポリエポキシドまたは芳香族環含有、エポキシクレゾールノボラック含有
    またはエポキシフェノールノボラック含有ポリグリシジル化合物であって一分子
    あたり平均で少なくとも二個のエポキシ基を有するものの少なくとも一種および
    ビニルエーテルをベースとする樹脂の少なくとも一種からなる混合物である請求
    項1記載の硬化性組成物。
  26. 【請求項26】 上記組成物が更に液体または固体ポリヒドロキシル化合物
    0.5ないし40重量%を含む請求項1記載の硬化性組成物。
  27. 【請求項27】 上記ポリヒドロキシル化合物が、それらの分子中に芳香族
    炭素環を有する物質あるいはヒドロキシル基を少なくとも二個有するフェノール
    化合物またはエチレンオキシド、プロピレンオキシドと、もしくはエチレンオキ
    シドおよびプロピレンオキシドと反応するヒドロキシル基を少なくとも二個有す
    るフェノール化合物、またはヒドロキシル基を少なくとも一個およびエポキシド
    基を少なくとも一個有するヒドロキシル化合物からなる請求項26記載の硬化性
    組成物。
  28. 【請求項28】 上記ポリヒドロキシル化合物が、脂肪族、脂環族または未
    置換の脂環族基を有する請求項26記載の硬化性組成物。
  29. 【請求項29】 上記ポリヒドロキシル化合物が、ポリエステル、ポリエー
    テル、ポリシロキサンおよび/またはポリヒドロカーボン架橋を有する脂肪族ま
    たは脂環族または芳香族多価アルコールの誘導体である請求項26記載の硬化性
    組成物。
  30. 【請求項30】 多官能性(メタ)アクリレートの少なくとも一種が平均で
    2ないし7個の間のアクリレート基を有する請求項1記載の硬化性組成物。
  31. 【請求項31】 請求項1記載の組成物を化学線で処理する、硬化製品の製
    造方法。
  32. 【請求項32】 a)請求項1記載の放射線硬化性組成物を化学線で処理し
    、形成されるべき三次元造形品の所望の横断面積に相当する表面領域の内部で該
    組成物の表面に、少なくとも部分的に硬化された層を形成すること; b)段階(a)で製造された少なくとも部分的に硬化された層を該放射線硬化性
    組成物の新しい層で被覆すること;および c)所望の造形を有する製品が形成されるまで段階(a)および(b)を繰り返
    すこと;および所望により d)得られた製品を後硬化すること;からなる三次元造形品の製造方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004109402A1 (ja) * 2003-06-03 2004-12-16 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 感光性組成物、感光性平版印刷版、及び平版印刷版の作製方法
WO2004113056A1 (ja) * 2003-06-24 2004-12-29 Cmet Inc. 三次元構造体およびその製造方法
WO2005019299A1 (ja) 2003-08-21 2005-03-03 Asahi Kasei Chemicals Corporation 感光性組成物およびその硬化物
JP2007514805A (ja) * 2003-11-06 2007-06-07 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. 硬化性組成物およびそれを用いるラピッドプロトタイピング法
JP4798846B2 (ja) * 1998-04-06 2011-10-19 ハンツマン アドバンスト マテリアルズ (スイッツァランド) ゲーエムベーハー 特に高熱撓み温度を有するステレオリソグラフ法による柔軟な硬化物品を製造するための液体放射線硬化性組成物
JP4796690B2 (ja) * 1998-07-10 2011-10-19 コニンクリーケ デーエスエム ナムローゼ フェンノートシャップ ポリエチレン様物品製造用のソリッドイメージング組成物
JP7435695B2 (ja) 2018-05-31 2024-02-21 味の素株式会社 樹脂組成物、シート状積層材料、プリント配線板及び半導体装置

Families Citing this family (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6287745B1 (en) * 1998-02-18 2001-09-11 Dsm N.V. Photocurable liquid resin composition comprising an epoxy-branched alicyclic compound
US6379866B2 (en) 2000-03-31 2002-04-30 Dsm Desotech Inc Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US6762002B2 (en) 1998-07-10 2004-07-13 Dsm Desotech, Inc. Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US20060154175A9 (en) * 1998-07-10 2006-07-13 Lawton John A Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
JP4350832B2 (ja) * 1999-04-19 2009-10-21 Jsr株式会社 立体造形用光硬化性樹脂組成物およびこれを硬化してなる造形物
KR100808954B1 (ko) * 2000-02-08 2008-03-04 훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드)게엠베하 특히 입체리소그래피에 적합한 액체 방사선―경화성 조성물
US7300619B2 (en) * 2000-03-13 2007-11-27 Objet Geometries Ltd. Compositions and methods for use in three dimensional model printing
US20030207959A1 (en) 2000-03-13 2003-11-06 Eduardo Napadensky Compositions and methods for use in three dimensional model printing
US8481241B2 (en) 2000-03-13 2013-07-09 Stratasys Ltd. Compositions and methods for use in three dimensional model printing
US6569373B2 (en) * 2000-03-13 2003-05-27 Object Geometries Ltd. Compositions and methods for use in three dimensional model printing
US6574523B1 (en) * 2000-05-05 2003-06-03 3D Systems, Inc. Selective control of mechanical properties in stereolithographic build style configuration
US6485306B1 (en) * 2001-07-10 2002-11-26 Aiptek International Inc. Locus-recordable portable handwriting device
GB0103752D0 (en) * 2001-02-15 2001-04-04 Vantico Ltd Three-Dimensional printing
KR100737723B1 (ko) * 2001-07-27 2007-07-10 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
US20030149124A1 (en) * 2001-11-27 2003-08-07 Thommes Glen A. Radiation curable resin composition for making colored three dimensional objects
DE10392286B4 (de) * 2002-02-18 2009-03-05 Kansai Paint Co., Ltd., Amagasaki Beschichtungszusammensetzung und deren Verwendung
US7495034B2 (en) * 2002-02-22 2009-02-24 Henkel Corporation Deformable soft molding compositions
AU2003225176A1 (en) * 2002-04-25 2003-11-10 Ashland Inc. Surface improver for reinforced composite compositions
US20040054025A1 (en) * 2002-06-20 2004-03-18 Lawton John A. Compositions comprising a benzophenone photoinitiator
US6989225B2 (en) * 2002-07-18 2006-01-24 3D Systems, Inc. Stereolithographic resins with high temperature and high impact resistance
US6833231B2 (en) * 2002-07-31 2004-12-21 3D Systems, Inc. Toughened stereolithographic resin compositions
US20040077745A1 (en) * 2002-10-18 2004-04-22 Jigeng Xu Curable compositions and rapid prototyping process using the same
TWI223736B (en) * 2002-12-19 2004-11-11 Ind Tech Res Inst Hybrid photoresist with multi reaction models and process for forming pattern using the same
US20040137368A1 (en) * 2003-01-13 2004-07-15 3D Systems, Inc. Stereolithographic resins containing selected oxetane compounds
US6881533B2 (en) 2003-02-18 2005-04-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Flexographic printing plate with ink-repellent non-image areas
US20040161704A1 (en) * 2003-02-18 2004-08-19 Jianbing Huang Method of making a flexographic printing plate by lithographic transfer of an energy-curable composition
US20040170923A1 (en) * 2003-02-27 2004-09-02 3D Systems, Inc. Colored stereolithographic resins
US6856283B2 (en) * 2003-02-28 2005-02-15 Raytheon Company Method and apparatus for a power system for phased-array radar
US20050040562A1 (en) * 2003-08-19 2005-02-24 3D Systems Inc. Nanoparticle-filled stereolithographic resins
US7120512B2 (en) * 2003-08-25 2006-10-10 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method and a system for solid freeform fabricating using non-reactive powder
US7232850B2 (en) 2003-10-03 2007-06-19 Huntsman Advanced Materials Americas Inc. Photocurable compositions for articles having stable tensile properties
US20050101684A1 (en) * 2003-11-06 2005-05-12 Xiaorong You Curable compositions and rapid prototyping process using the same
KR101138169B1 (ko) * 2003-11-06 2012-04-25 훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드) 게엠베하 고 투명도 및 개선된 기계적 특성을 갖는 경화물을 제조하기 위한 광경화성 조성물
US20050165127A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-28 Dsm Desotech, Inc. Solid imaging compositions for preparing polyethylene-like articles
DE102004012682A1 (de) 2004-03-16 2005-10-06 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Objekten mittels Lasertechnik und Auftragen eines Absorbers per Inkjet-Verfahren
TWI406086B (zh) * 2004-03-22 2013-08-21 3D Systems Inc 可光硬化組合物
DE102004020452A1 (de) * 2004-04-27 2005-12-01 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Objekten mittels elektromagnetischer Strahlung und Auftragen eines Absorbers per Inkjet-Verfahren
DE102004034416A1 (de) * 2004-07-15 2006-02-02 "Stiftung Caesar" (Center Of Advanced European Studies And Research) Flüssige, strahlunghärtende Zusammensetzungen
JP4490798B2 (ja) * 2004-08-30 2010-06-30 Jsr株式会社 光ファイバアップジャケット用液状硬化性樹脂組成物
JP4977347B2 (ja) * 2004-09-15 2012-07-18 東進セミケム株式会社 スピロ環状ケタール基を有するフォトレジスト用モノマー、ポリマーおよびこれを含むフォトレジスト組成物
US7423073B2 (en) * 2004-11-23 2008-09-09 Lexmark International, Inc. Radiation curable compositions having improved flexibility
US20060172230A1 (en) * 2005-02-02 2006-08-03 Dsm Ip Assets B.V. Method and composition for reducing waste in photo-imaging applications
US20070116311A1 (en) * 2005-11-16 2007-05-24 Henkel Corporation High strength curable compositions for the solid freeform fabrication of hearing aids
TWI432904B (zh) * 2006-01-25 2014-04-01 Dow Corning 用於微影技術之環氧樹脂調配物
JP4929784B2 (ja) * 2006-03-27 2012-05-09 富士通株式会社 多層配線基板、半導体装置およびソルダレジスト
JP5167496B2 (ja) * 2006-05-01 2013-03-21 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. 放射線硬化性樹脂組成物およびそれを使用した急速三次元的画像形成方法
US20080103226A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-01 Dsm Ip Assets B.V. Photo-curable resin composition
TWI447939B (zh) * 2007-06-15 2014-08-01 Namics Corp Led用導電性晶粒黏著劑
DE102007063698B4 (de) 2007-09-13 2010-10-28 Carl Zeiss Vision Gmbh Optisches Bauelement mit Oberflächenbeschichtung
JP5881948B2 (ja) * 2007-11-27 2016-03-09 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 高透明性を有する三次元物品を製造するための光硬化型樹脂組成物
EP2098367A1 (en) * 2008-03-05 2009-09-09 Eastman Kodak Company Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates
WO2010043274A1 (en) * 2008-10-17 2010-04-22 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Improvements for rapid prototyping apparatus
US20100190881A1 (en) 2009-01-28 2010-07-29 3D Systems, Incorporated Radiation Curable Compositions Useful in Solid Freeform Fabrication Systems
CN102272227B (zh) 2009-03-13 2014-03-12 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 可辐射固化树脂组合物以及使用这种组合物的快速三维成像方法
EP2436510A1 (en) 2010-10-04 2012-04-04 3D Systems, Inc. System and resin for rapid prototyping
WO2012126695A1 (en) 2011-03-23 2012-09-27 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Stable curable thiol-ene composition
KR20130139134A (ko) * 2012-06-12 2013-12-20 제일모직주식회사 접착제 조성물, 이를 이용한 편광판, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 광학 부재
JP6414411B2 (ja) 2013-08-09 2018-10-31 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.Dsm Ip Assets B.V. 積層造形用の低粘度液状放射線硬化型歯科アライナー成形型用樹脂組成物
CN105482513B (zh) * 2014-10-11 2017-12-26 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 油墨用玻璃粉和颜料的改性分散方法及耐高温油墨
WO2016142947A2 (en) 2015-03-11 2016-09-15 Stratasys Ltd. Support material formulation and additive manufacturing processes employing same
ES2879637T3 (es) * 2015-03-23 2021-11-22 Dow Global Technologies Llc Composiciones fotocurables para impresión tridimensional
CN104914675B (zh) * 2015-04-08 2019-04-23 乐道战略材料有限公司 一种用于三维快速成型的含光敏性硅氧烷和超支化聚醚多元醇的光敏树脂组合物
DE102015014925B4 (de) * 2015-11-17 2017-09-28 Ronald Hüner Reibschichten mit Kanalstruktur
EP3181357B1 (en) 2015-12-15 2018-10-10 Agfa Nv Additive manufacturing method using dynamic light projection for flexographic print masters
US20190077073A1 (en) * 2016-03-14 2019-03-14 Dsm Ip Assets, B.V. Radiation curable compositions for additive fabrication with improved toughness and high temperature resistance
US20190153226A1 (en) 2016-04-08 2019-05-23 Solvay Specialty Polymers Usa, Llc Photocurable polymers, photocurable polymer compositions and lithographic processes including the same
ES2685280B2 (es) * 2017-03-31 2019-06-21 Centro Tecnologico De Nanomateriales Avanzados S L Composición de resina curable por radiación y procedimiento para su obtención
JP7175286B2 (ja) 2017-06-05 2022-11-18 ナノシス・インク. 量子ドット-樹脂濃縮物及びプレミックスの酸安定化
EP3758916A4 (en) * 2018-03-02 2021-10-27 Formlabs, Inc. LATENT CURING RESINS AND RELATED PROCESSES
EP3914043A1 (en) 2020-05-20 2021-11-24 Henkel IP & Holding GmbH Post processing of 3d printed materials via microwave enhanced chemistry
SE545292C2 (en) * 2020-07-08 2023-06-20 Perstorp Ab A radiation curable composition comprising a biobased reactive diluent
US20220411634A1 (en) 2021-06-24 2022-12-29 Henkel Ag & Co. Kgaa Silicone formulation with high temperature stability and clarity

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4318766A (en) * 1975-09-02 1982-03-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process of using photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials
US5434196A (en) * 1988-02-19 1995-07-18 Asahi Denka Kogyo K.K. Resin composition for optical molding
JP2538652B2 (ja) * 1988-09-19 1996-09-25 旭電化工業株式会社 光学的造形用樹脂組成物
WO1992015620A1 (en) * 1991-02-27 1992-09-17 Allied-Signal Inc. Stereolithography using vinyl ether based polymers
US5510226A (en) * 1991-05-01 1996-04-23 Alliedsignal Inc. Stereolithography using vinyl ether-epoxide polymers
DE4138309C2 (de) * 1991-11-21 1995-02-09 Eos Electro Optical Syst Durch Einwirkung elektromagnetischer Strahlung vernetzbares Kunststoffmaterial
CA2092131A1 (en) * 1992-03-27 1993-09-28 Victor Kadziela (Nmi) Low viscosity self-toughening acrylate composition
DE69315003T2 (de) * 1992-07-17 1998-03-12 Ethicon Inc Strahlenhärtbare Urethan-Acrylatprepolymere und vernetzte Polymere
TW269017B (ja) * 1992-12-21 1996-01-21 Ciba Geigy Ag
JPH0760843A (ja) * 1993-08-26 1995-03-07 Olympus Optical Co Ltd 三次元構造体の製造方法
DE59409385D1 (de) * 1993-09-16 2000-07-06 Ciba Sc Holding Ag Vinyletherverbindungen mit zusätzlichen von Vinylethergruppen verschiedenen funktionellen Gruppen und deren Verwendung zur Formulierung härtbarer Zusammensetzungen
US5494618A (en) * 1994-06-27 1996-02-27 Alliedsignal Inc. Increasing the useful range of cationic photoinitiators in stereolithography
US5705116A (en) * 1994-06-27 1998-01-06 Sitzmann; Eugene Valentine Increasing the useful range of cationic photoinitiators in stereolithography
WO1996013538A2 (en) * 1994-10-31 1996-05-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Visible-light curable epoxy system with enhanced depth of cure
US6130025A (en) * 1995-05-12 2000-10-10 Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha Stereolithographic resin composition and stereolithographic method
JP3668310B2 (ja) * 1996-01-22 2005-07-06 三菱レイヨン株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
JPH09217004A (ja) * 1996-02-09 1997-08-19 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 光学的立体造形用光硬化性組成物
JP3626275B2 (ja) * 1996-04-09 2005-03-02 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3849989B2 (ja) * 1996-04-09 2006-11-22 株式会社Adeka 光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形法
ATE191090T1 (de) * 1996-07-29 2000-04-15 Ciba Sc Holding Ag Flüssige, strahlungshärtbare zusammensetzung, insbesondere für die stereolithographie
JP3844824B2 (ja) * 1996-11-26 2006-11-15 株式会社Adeka エネルギー線硬化性エポキシ樹脂組成物、光学的立体造形用樹脂組成物及び光学的立体造形方法
JP2001527590A (ja) * 1997-02-18 2001-12-25 アライド シグナル インコーポレイテッド ステレオリソグラフィのための耐熱性ポリマー
JP4204113B2 (ja) * 1997-12-04 2009-01-07 株式会社Adeka 新規な芳香族スルホニウム化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含む光重合性組成物、光造形用樹脂組成物ならびに光学的立体造形法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4798846B2 (ja) * 1998-04-06 2011-10-19 ハンツマン アドバンスト マテリアルズ (スイッツァランド) ゲーエムベーハー 特に高熱撓み温度を有するステレオリソグラフ法による柔軟な硬化物品を製造するための液体放射線硬化性組成物
JP4796690B2 (ja) * 1998-07-10 2011-10-19 コニンクリーケ デーエスエム ナムローゼ フェンノートシャップ ポリエチレン様物品製造用のソリッドイメージング組成物
WO2004109402A1 (ja) * 2003-06-03 2004-12-16 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 感光性組成物、感光性平版印刷版、及び平版印刷版の作製方法
US7285375B2 (en) 2003-06-03 2007-10-23 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Photosensitive composition, photosensitive lithography plate and method for producing lithography plate
WO2004113056A1 (ja) * 2003-06-24 2004-12-29 Cmet Inc. 三次元構造体およびその製造方法
JPWO2004113056A1 (ja) * 2003-06-24 2006-07-27 シーメット株式会社 三次元構造体およびその製造方法
US7354643B2 (en) 2003-06-24 2008-04-08 Cmet Inc. Three-dimensional object and method of producing the same
JP4516019B2 (ja) * 2003-06-24 2010-08-04 シーメット株式会社 三次元構造体およびその製造方法
WO2005019299A1 (ja) 2003-08-21 2005-03-03 Asahi Kasei Chemicals Corporation 感光性組成物およびその硬化物
US7569260B2 (en) 2003-08-21 2009-08-04 Asahi Kasei Chemicals Corporation Photosensitive composition and cured products thereof
JP2007514805A (ja) * 2003-11-06 2007-06-07 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. 硬化性組成物およびそれを用いるラピッドプロトタイピング法
JP7435695B2 (ja) 2018-05-31 2024-02-21 味の素株式会社 樹脂組成物、シート状積層材料、プリント配線板及び半導体装置

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