DE4138309C2 - Durch Einwirkung elektromagnetischer Strahlung vernetzbares Kunststoffmaterial - Google Patents
Durch Einwirkung elektromagnetischer Strahlung vernetzbares KunststoffmaterialInfo
- Publication number
- DE4138309C2 DE4138309C2 DE19914138309 DE4138309A DE4138309C2 DE 4138309 C2 DE4138309 C2 DE 4138309C2 DE 19914138309 DE19914138309 DE 19914138309 DE 4138309 A DE4138309 A DE 4138309A DE 4138309 C2 DE4138309 C2 DE 4138309C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plastic material
- mass
- photoinitiator
- material according
- urethane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0037—Production of three-dimensional images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein durch Einwirkung elektromagnetischer
Strahlung vernetzbares bzw. härtbares Kunststoffmaterial
zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mittels
Stereographie
sowie die Herstellung dieses Kunststoffmaterials.
Bei dem unter der Bezeichnung "Stereographie" oder "Stereo
lithographie" bekannten Verfahren wird ein dreidimensionales
Objekt schichtweise durch Aufbringen und anschließendes
Verfestigen aufeinanderfolgender Schichten eines zunächst
flüssigen Materials hergestellt. Die Verfestigung erfolgt da
bei vorzugsweise durch einen gebündelten Lichtstrahl in Form
eines Lasers oder dgl., der an die dem Objekt entsprechenden
Stellen der Schicht gerichtet wird und dort die Verfestigung
des Materials bewirkt. Das Material muß also durch Lichtein
wirkung bzw. allgemein durch Einwirkung elektromagnetischer
Strahlung verfestigbar sein.
Üblicherweise wird für das Material ein bei Normalbedingungen
flüssiger, monomerer oder oligomerer Kunststoff verwendet,
dessen Verfestigung bei Lichteinwirkung durch Polymerisation
erfolgt. Derartige Stoffgemische sind handelsüblich.
Andere Materialien
sind in der EP 03 78 144 A2 beschrieben.
Aus der DE 29 17 483 A1 ist ein photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial
zur Verwendung in der Drucktechnik bekannt, das
sowohl ein difunktionelles Monomeres, ein funktionelles
aliphatisches Urethan als auch einen Photoinitiator enthält.
Ferner ist aus der DE 26 11 577 A1 ein derartiges Aufzeichnungsmaterial
mit einem Karbonat als Monomeres bekannt.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Kunststoff
material der obengenannten Art zu schaffen, das die Anforde
rungen, die das Stereografie-Verfahren an ein solches Mate
rial stellt, bei günstigen Kosten erfüllt. Insbesondere sol
len günstige Eigenschaften für die mechanische Weiterver
arbeitung der Modelle nach der Aushärtung erreicht werden.
Folgende Anforderungen sind an das Material zu stellen:
- 1. die Viskosität muß in einem bestimmten Bereich liegen; ist sie zu hoch, kann die flüssige Schicht nicht schnell und gleichmäßig genug aufgetragen werden; ist sie zu niedrig, ist die Volumenänderung bei der Verfestigung und damit die Verformung des Objekts zu groß; generell sollte die Viskosität unter 6 Pa·s liegen;
- 2. Die Verformung des Objekts aufgrund der Dichteänderung bei der Polymerisation muß möglichst gering sein; die Schrumpfung der Kunststoffmaterials bei der Polymerisa tion sollte unter etwa 6% liegen;
- 3. Die Sensitivität gegenüber der Bestrahlung sollte mög lichst hoch sein, damit eine möglichst schnelle weitge hende Polymerisation bei relativ geringer Strahlungs energie - und damit eine hohe Arbeitsgeschwindigkeit - erreicht wird und ferner die Gefahr weiterer Verformun gen vor und bei der meistens erforderlichen Nachhärtung des Objekts mittels UV-Bestrahlung möglichst gering ist;
- 4. Gute mechanische Eigenschaften nach der Polymerisation (hohe Bruch- bzw. Reißdehnung, geringe Stoßempfindlich keit bzw. Sprödigkeit, elastische Eigenschaften), so daß auch eine spanabhebende Weiterverarbeitung möglich ist.
Die Lösung der genannten Aufgabe besteht erfindungsgemäß in
einem Kunststoffmaterial mit den in Anspruch 1 genannten Be
standteilen.
Dabei ergeben sich die Eigenschaften des polymerisierten Ma
terials aus den Eigenschaften der polymerisierten Bestand
teile. Das Polykarbonat verbindet die guten Eigenschaften von
Leichtmetall, Glas und Kunststoff wie geringe Stoßempfindlichkeit,
Lichtdurchlässigkeit, Biegefestigkeit, Dimensions
stabilität und Temperaturfestigkeit. Das Polyurethan bewirkt
eine gute Flexibilität, Reaktionsfähigkeit, Härte, Adhäsions
eigenschaft und chemische Stabilität.
Vorzugsweise wird ein Karbonat nach der Formel (I)
und ein oligomeres Urethan nach der Formel (II)
verwendet, wobei R, R1und R2 jeweils Alkylgruppen darstel
len. Beispielsweise wird für R1 und R2 jeweils eine Gruppe
mit der Formel
verwendet, wobei R ein Alkoyl-Radikal oder Wasserstoffatom
darstellt.
Ein Karbonat mit der Formel (I)
besitzt eine sehr
geringe Viskosität von 0,2 Pa·s bei 25°C. Ein aliphatisches
Urethan mit der Formel (II) ist
bei 25°C
pastenförmig.
Damit die Viskosität im gewünschten Bereich liegt, sollte der
Massenanteil des Karbonats mindestens 50% betragen; in diesem
Fall liegt die Viskosität unter 6 Pa·s bei Temperaturen von
20°C und darüber; vorzugsweise ist dieser Anteil nicht größer
als 70%, da sonst die Verformung des Objekts zu groß wird.
Besonders bevorzugt ist ein Karbonatanteil von etwa 60%.
Der Massenanteil des Urethans liegt vorzugsweise zwischen 20%
und 50%, besonders bevorzugt bei etwa 40%; damit ergibt sich
gegenüber dem handelsüblichen Material ein wesentlich verringerter
E-Modul bzw. Young-Modulus und somit eine stark verbesserte
Bruch- bzw. Reißdehnung.
Als Photoinitiator sind alle Stoffe geeignet, die unter Ein
fluß der zur Polymerisation verwendeten Strahlung freie Radi
kale bilden. Vorzugsweise wird ein Acetophenon, besonders be
vorzugt Dimethoxyphenylacetophenon (DMPA) verwendet. Bei
Verwendung eines Helium-Cadmium-Lasers wird vorzugsweise ein
Initiator verwendet, der eine Mischung aus gleichen Mas
senanteilen von 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketon und
Benzophenon darstellt. Bei Verwendung eines Argonlasers wird
vorzugsweise 2,2-Dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one
oder 2-2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon
verwendet.
Es wurde festgestellt, daß die optimale Konzentration des
Photoinitiators, d. h. die Konzentration, bei der in möglichst
kurzer Bestrahlungszeit eine möglichst weitgehende
Polymerisation bzw. eine möglichst hohe Produktfestigkeit und
Eindringtiefe der Polymerisation erreicht wird, von der Wel
lenlänge der Strahlungsquelle abhängt. Der bevorzugte Konzen
trationsbereich wurde allgemein mit 1 bis 5 Massen-% DMPA
bzw. des Photoinitiators ermittelt. Im Sinne der Erfindung
optimal wurde für einen Argonlaser als Strahlungsquelle eine
Konzentration von 1,5 bis 2,5 Massen-%, besonders bevorzugt
etwa 2 Massen-%, und für einen Helium-Cadmium-Laser als
Strahlungsquelle eine Konzentration von 2,5 bis 3,5 Massen-%,
besonders bevorzugt etwa 3 Massen-% ermittelt. Je nach ge
wünschter Polymerisationstiefe kann dabei ein etwas höherer
oder niedrigerer Wert gewählt werden.
Zur Beeinflussung der Eigenschaften des fertigen Objekts kön
nen erfindungsgemäß zwei weitere Stoffe zugesetzt werden.
Hierbei handelt es sich zum einen um Acrylate,
beispielsweise Diacrylat 101,
und um Silanverbindungen nach der Formel (IV)
SiR₁R₂R₃R₄ oder Si₂R₁R₂R₃R₄R₅R₆ (IV)
beispielsweise Ebceryl,
wobei die mit R1 bis R6 gekennzeichneten Gruppen jeweils Was serstoffatome (H), Chloratome (Cl), Hydroxygruppen (OH) oder Vinylgruppen (-CH=CH2) darstellen können. Ein geeignetes Diacrylat ist beispielsweise a di-ethoxyliertes Bisphenol A-Dimethacrylate nach der Formel
wobei die mit R1 bis R6 gekennzeichneten Gruppen jeweils Was serstoffatome (H), Chloratome (Cl), Hydroxygruppen (OH) oder Vinylgruppen (-CH=CH2) darstellen können. Ein geeignetes Diacrylat ist beispielsweise a di-ethoxyliertes Bisphenol A-Dimethacrylate nach der Formel
Die Acrylate bewirken eine Verbesserung der optischen Eigen
schaften und der Alterungsbeständigkeit. Insbesondere führen
sie jedoch auch zu einer größeren Härte und geringeren Bruch- bzw.
Reißdehnung des Objekts. Beispielsweise führt ein Mas
senanteil von 10% eines Diacrylates mit der Bezeichnung
Bisphenol A zu einer auf die Hälfte reduzierten Bruchdehnung.
Ein Zusatz des Acrylats ist also dann günstig, wenn eine grö
ßere Härte und Sprödigkeit erreicht werden soll.
Die Silanverbindungen stellen eine große Gruppe von chemi
schen Verbindungen dar, deren Moleküle durch Siliziumatome
gebildet sind, auf denen abwechselnd mit Sauerstoffatomen
Kohlenstoffradikale implantiert sind. Diese Fluide haben
eine sehr geringe Oberflächenspannung (ungefähr 20 dyn/cm),
die für ihre schaumverhindernden und benetzenden Eigenschaf
ten verantwortlich ist. Diese Eigenschaften können erfindungs
gemäß vorteilhaft genutzt werden.
Wird nämlich eine Schicht flüssigen Kunststoffs dadurch auf
getragen, daß das Objekt in einem Bad aus dem flüssigen
Kunststoff abgesenkt wird, dann besteht die Gefahr des Ein
schlusses von Luftblasen. Bereits ein Zusatz von 1 bis 3
Massen-% einer Silanverbindung nach der Formel (IV) zu dem
flüssigen Kunststoff kann diese Gefahr aufgrund der damit
verringerten Oberflächenspannung erheblich reduzieren. Ferner
fließt das flüssige Kunststoffmaterial leichter über die ab
gesenkte Oberfläche, so daß die Arbeitsgeschwindigkeit erhöht
wird.
Für die Massenanteile der obengenannten Stoffe wurden folgende
günstige Bereiche ermittelt:
Karbonat: mindestens 50%
Urethan: zwischen 20% und 50%;
Diacrylat: zwischen 0% und 30%
Silan: zwischen 0% und 3%.
Urethan: zwischen 20% und 50%;
Diacrylat: zwischen 0% und 30%
Silan: zwischen 0% und 3%.
Besonders bevorzugt ist ein Kunststoffmaterial bestehend aus
60 Teilen Karbonat, 40 Teilen Urethan, 1
bis 3 Teilen Ebceryl je nach Arbeitstemperatur und
entweder 2 Teilen DMPA (Photoinitiator) bei Verwendung eines
Argonlasers oder 3 Teilen DMPA bei Verwendung eines
Helium-Cadmium-Lasers. Ein derartiges Kunststoffmaterial be
sitzt mechanische Eigenschaften, die in ihrer Summe für die
Weiterverarbeitung des Objekts nach der Laserhärtung
optimiert sind.
Alle Produkte sind unter den angegebenen Bezeichnungen auf
dem Markt erhältlich. Andere Stabilisatoren als diejenigen,
die sich bereits in diesen Produkten befinden (z. B.
Hydroquinon), sind nicht erforderlich.
Die erfindungsgemäße Kunststoffverbindung wird hergestellt,
indem zunächst das Urethan (Formel II) bis maximal 60°C, vor
zugsweise etwa auf 50°C, erwärmt wird und dann das Karbonat
(Formel I) unter gleichzeitigem Rühren hinzugefügt wird. An
schließend werden gegebenenfalls die Zusätze, Acrylat
und/oder Silikon, und schließlich der Photoinitiator hinzu
gegeben. Stellt man das o.a. besonders bevorzugte Material auf
diese Weise her, so ergeben sich folgende Eigenschaften:
Dichte des Monomers/Polymers: | |
1,23/1,30 kg/dm³ | |
Volumetrische Schrumpfung: | 6% |
Viskosität: | 5 Pa · s |
Young-Modul nach vollst. Polymerisation: | 450-900 |
Bruchdehnung nach vollst. Polymerisation: | 20% |
Ein Stereographie-Verfahren, bei dem das beschriebene Kunst
stoffmaterial erfindungsgemäß eingesetzt werden soll, ist
beispielsweise in Kodama, Rev. Sci. Instr. 52 (11), Seiten
1170 bis 1173 (1981) beschrieben.
Claims (13)
1. Durch Einwirkung elektromagnetischer Strahlung
vernetzbares Kunststoffmaterial zur Herstellung eines
dreidimensionalen Objekts mittels Stereographie, enthaltend:
- a) mindestens 50 Massen-% eines monomeren oder oligomeren difunktionellen Karbonats;
- b) ein monomeres oder oligomeres, mono-, di- oder polyfunktionelles aliphatisches Urethan; und
- c) einen Photoinitiator.
2. Kunststoffmaterial nach Anspruch 1,
gekennzeichnet durch ein Karbonat nach der Formel
und ein Urethan nach der Formel
wobei R, R1 und R2 jeweils Alkylgruppen darstellen.
3. Kunststoffmaterial nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß als Photoinitiator
Dimethoxyphenylacetophenon (DMPA) verwendet wird.
4. Kunststoffmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß es einen Photoinitiator mit einem Massenanteil von
zwischen 1% und 5% enthält.
5. Kunststoffmaterial nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß der Massenanteil des
Karbonats zwischen 50% und 70% und der Massenanteil des
Urethans zwischen 30% und 50% liegt.
6. Kunststoffmaterial nach Anspruch 5,
gekennzeichnet durch 60 Massen-% Karbonat und
40 Massen-% Urethan.
7. Kunststoffmaterial nach einem der Ansprüche 4 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß der Massenanteil des
Photoinitiators zwischen 2% und 3% liegt.
8. Kunststoffmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
gekennzeichnet durch einen Zusatz von maximal 50
Massen-% Acrylat
und/oder einen Zusatz von maximal 3 Massen-% einer
Silanverbindung nach der Formel
SiR₁R₂R₃R₄oderSi₂R₁R₂R₃R₄R₅R₆wobei die R1 . . . R6 aus Wasserstoffatomen (H), Chloratomen
(Cl), Hydroxy-Gruppen (OH) oder Vinylgruppen (-CH=CH2)
gebildet sind.
9. Kunststoffmaterial nach Anspruch 8,
gekennzeichnet durch folgende Zusammensetzung:
60 Massenteile Karbonat;
40 Massenteile Urethan;
1-3 Massenteile der Silanverbindung; und
2 bis 3 Massenteile Photoinitiator.
60 Massenteile Karbonat;
40 Massenteile Urethan;
1-3 Massenteile der Silanverbindung; und
2 bis 3 Massenteile Photoinitiator.
10. Herstellung eines Kunststoffmaterials nach einem der An
sprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß die ausgewählte Menge
Urethan auf 40-60°C, vorzugsweise 50°C erwärmt und da
nach unter Rühren die ausgewählte Menge Karbonat und schließlich der Photoinitiator hinzu
gefügt wird.
11. Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Ob
jekts mittels Stereographie,
bei dem das Objekt in einem Bad aus flüssigem Kunst
stoffmaterial schichtweise durch Einwirkung
elektromagnetischer Strahlung vernetzt wird,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Kunststoffmaterial nach
einem der Ansprüche 1 bis 9 verwendet wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß das Kunststoffmaterial etwa
2 Massen-% des Photoinitiators enthält und die
Vernetzung durch Bestrahlung einer Schicht des Kunst
stoffmaterials mit einem Argonlaser durchgeführt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß das Kunststoffmaterial etwa
3 Massen-% des Photoinitiators enthält und die
Vernetzung durch Bestrahlung einer Schicht des Kunst
stoffmaterials mit einem Helium-Cadmium-Laser durchge
führt wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914138309 DE4138309C2 (de) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | Durch Einwirkung elektromagnetischer Strahlung vernetzbares Kunststoffmaterial |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914138309 DE4138309C2 (de) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | Durch Einwirkung elektromagnetischer Strahlung vernetzbares Kunststoffmaterial |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4138309A1 DE4138309A1 (de) | 1993-05-27 |
DE4138309C2 true DE4138309C2 (de) | 1995-02-09 |
Family
ID=6445294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19914138309 Expired - Fee Related DE4138309C2 (de) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | Durch Einwirkung elektromagnetischer Strahlung vernetzbares Kunststoffmaterial |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4138309C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6136497A (en) | 1998-03-30 | 2000-10-24 | Vantico, Inc. | Liquid, radiation-curable composition, especially for producing flexible cured articles by stereolithography |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2611577C3 (de) * | 1976-03-19 | 1978-09-14 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 4000 Duesseldorf | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial |
SE444991B (sv) * | 1978-05-01 | 1986-05-20 | Minnesota Mining & Mfg | Fotopolymeriserbar komposition och substrat belagd med kompositionen |
DE3131766A1 (de) * | 1981-08-11 | 1983-02-24 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefformen mittels dieses aufzeichnungsmaterials |
DE69017477T2 (de) * | 1989-01-10 | 1995-07-20 | Ciba Geigy Ag | Photohärtbare Zusammensetzungen. |
-
1991
- 1991-11-21 DE DE19914138309 patent/DE4138309C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4138309A1 (de) | 1993-05-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE68906440T2 (de) | Polymerbeschichtungen für Wellenleiter aus optischen Fasern. | |
DE69501363T2 (de) | Strahlungshärtbare Zusammensetzungen | |
DE69600087T2 (de) | Polymerisierbare Zusammensetzungen auf Basis von Thio(meth)acrylatmonomere, Polymere mit niedrigem Gelbindex hergestellt aus diesen Zusammensetzungen und daraus hergestellte ophthalmische Linsen | |
DE69525236T2 (de) | Aktinische strahlungshärtbare zusammensetzung und blattförmige linse | |
DE69300984T3 (de) | Strahlungshärtbare Zusammensetzungen | |
DE69629686T2 (de) | Fotohärtbare epoxyzusammensetzung | |
EP0073413B1 (de) | Acylphosphinoxidverbindungen und ihre Verwendung | |
DE69405652T2 (de) | Beschichtungsverfahren unter Verwendung von strahlungshärtbaren Zusammensetzungen | |
DE68917233T2 (de) | Flüssigkristallvorrichtung. | |
DE69108086T2 (de) | Giesszusammensetzung. | |
DE60313867T2 (de) | Transparente verbundzusammensetzung | |
DE69624131T2 (de) | Neue organische photochrome materialien | |
DE2413768A1 (de) | Haertbare materialien | |
EP0155051A1 (de) | Optische Glasfaser mit einer Kunststoffbedeckung und Verfahren zur Herstellung derselben | |
EP0167199B1 (de) | Optische Glasfaser mit einer Kunststoffbedeckung und Verfahren zum Herstellen derselben | |
DE3729017A1 (de) | Zusammensetzung fuer beschichtungen oder dgl. | |
DE2748577A1 (de) | Photographisches material sowie verfahren zur abriebfesten und kratzfesten ausruestung desselben | |
DE3044804A1 (de) | Beschichteter polycarbonat-gegenstand mit verbesserter abrieb- und loesungsmittelbestaendigkeit und verbesserter haftung der beschichtung auf dem polycarbonat | |
DE69228543T2 (de) | Durch uv-vernetzbare harte beschichtungszusammensetzung und verfahren | |
DE60023562T2 (de) | Lichtbeständiges mikrolinsenarray und harzzusammensetzung zur verwendung darin | |
DE69738250T2 (de) | Durch Photostereographie hergestelltes, dreidimensionales Objekt und die Harzzusammensetzung zu seiner Herstellung | |
EP0038300A1 (de) | Polymerisierbare Zusammensetzung und (Meth)acrylsäureester | |
DE69619823T2 (de) | Organische photochrome materialien | |
DE2715043A1 (de) | Strahlungshaertbare, druckempfindliche klebstoffzusammensetzung | |
DE10297376T5 (de) | Strahlungshärtbare Zusammensetzungen und damit zusammenhängende Verfahren zum Zusammenbau und zur Reparatur von optischen Komponenten und daraus hergestellte Produkte |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |