JP2002505993A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 結晶性酸化スズを含んでなる粒子の集合体で、その粒子集合体は約500nm以下の平均粒径を有し、そのナノ粒子の少くとも約95パーセントがその平均粒径の約50パーセントより大きく且つその平均粒径の約150パーセントより小さい直径を有する、粒子の集合体。
【請求項2】 約100nm以下の平均粒径を有する、請求項1に記載の粒子の集合体。
【請求項3】 酸化スズが単結晶相を有する、請求項1に記載の粒子の集合体。
【請求項4】 請求項1に記載の粒子を含む被膜を含んでなるデバイス。
【請求項5】 該デバイスが表示装置を含んでなり、そして該被膜が透明電極として機能する、請求項4に記載のデバイス。
【請求項6】 酸化スズのナノ粒子を製造する方法であって、反応チャンバー中で分子流を熱分解することを含んでなり、その分子流がスズ前駆体、酸化性ガスおよび放射線吸収用ガスを含んでなる方法。
【請求項7】 熱分解がレーザ・ビームから吸収される熱で駆動される、請求項6に記載の方法。
【請求項8】 酸化スズのナノ粒子が約5nmから約100nmの平均粒径を有する、請求項6に記載の方法。
【請求項9】 次の要素を含んでなる装置:
(A)周囲の大気から隔離された反応チャンバー;
(B)分子流の経路を規定する反応物ガスの導入口であって、スズ前駆体源、酸素供給剤源およびレーザ吸収用ガス源に連結されている導入口;
(C)分子流の経路と交差するレーザ・ビーム経路;および
(D)生成物の出口。
【請求項10】 図9に示したようなライン位置を有する回折パターンを与える結晶性酸化スズ粒子の集合体。
【請求項1】 結晶性酸化スズを含んでなる粒子の集合体で、その粒子集合体は約500nm以下の平均粒径を有し、そのナノ粒子の少くとも約95パーセントがその平均粒径の約50パーセントより大きく且つその平均粒径の約150パーセントより小さい直径を有する、粒子の集合体。
【請求項2】 約100nm以下の平均粒径を有する、請求項1に記載の粒子の集合体。
【請求項3】 酸化スズが単結晶相を有する、請求項1に記載の粒子の集合体。
【請求項4】 請求項1に記載の粒子を含む被膜を含んでなるデバイス。
【請求項5】 該デバイスが表示装置を含んでなり、そして該被膜が透明電極として機能する、請求項4に記載のデバイス。
【請求項6】 酸化スズのナノ粒子を製造する方法であって、反応チャンバー中で分子流を熱分解することを含んでなり、その分子流がスズ前駆体、酸化性ガスおよび放射線吸収用ガスを含んでなる方法。
【請求項7】 熱分解がレーザ・ビームから吸収される熱で駆動される、請求項6に記載の方法。
【請求項8】 酸化スズのナノ粒子が約5nmから約100nmの平均粒径を有する、請求項6に記載の方法。
【請求項9】 次の要素を含んでなる装置:
(A)周囲の大気から隔離された反応チャンバー;
(B)分子流の経路を規定する反応物ガスの導入口であって、スズ前駆体源、酸素供給剤源およびレーザ吸収用ガス源に連結されている導入口;
(C)分子流の経路と交差するレーザ・ビーム経路;および
(D)生成物の出口。
【請求項10】 図9に示したようなライン位置を有する回折パターンを与える結晶性酸化スズ粒子の集合体。
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