JP2002338820A

JP2002338820A - 結晶性高分子組成物

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Publication number: JP2002338820A
Application number: JP2001147896A
Authority: JP
Inventors: Tomoyuki Hatanaka; 知幸畑中; Etsuo Hida; 悦男飛田
Original assignee: Asahi Denka Kogyo KK
Current assignee: Adeka Corp
Priority date: 2001-05-17
Filing date: 2001-05-17
Publication date: 2002-11-27
Anticipated expiration: 2021-05-17
Also published as: JP4674839B2

Abstract

(57)【要約】【課題】少量の添加量で充分な添加効果を発現する結
晶化剤を含有してなる機械的強度に優れた高分子組成物
を提供すること【解決手段】結晶性高分子、下記一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物と下記一般式（II）で表される化合物からな
るリン酸エステル金属塩成分（Ａ）を含有してなる結晶
性高分子組成物であり、更に脂肪族有機酸金属塩成分
（Ｂ）を含有することが好ましい。【化１】（式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ²¹及びＲ²²は、炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｍ¹は、アルカリ金属原子を表し、
ｎは、１又は２を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特定のリン酸エス
テル金属塩成分又は該リン酸エステル金属塩成分と特定
の脂肪族有機酸金属塩成分とを含有してなる結晶性高分
子組成物に関し、詳しくは、該リン酸エステル金属塩又
は該リン酸エステル金属塩成分と該脂肪族有機酸金属塩
とを結晶化剤として含有してなる機械的な強度が改善さ
れた結晶性高分子組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン−１等のポリオレフィン系高分子、ポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステル系高分子、ポリアミド系
高分子等の結晶性高分子は、加熱成形後の結晶化速度が
遅いため、加工時の成形サイクルが長い等の問題があ
り、その上、成形後にも進行する結晶化によって、成形
物が変形してしまうことがあった。又これらの結晶性高
分子化合物材料は、大きな結晶が生成するために、強度
が不充分であり、透明性が劣る欠点があった。

【０００３】これらの欠点は、結晶性高分子化合物の結
晶性に由来するものであり、微細な結晶を急速に生成さ
せることによって解消できることが知られている。現
在、微細な結晶を急速に生成させるために、結晶化温度
を上げるほか、結晶核剤、結晶化促進剤等を添加するな
どの方法が用いられている。

【０００４】前記の結晶核剤或いは結晶化促進剤とし
て、例えば、４−第３ブチル安息香酸アルミニウム塩、
アジピン酸ナトリウム等のカルボン酸金属塩、ナトリウ
ムビス（４−第３ブチルフェニル）ホスフェート、ナト
リウム−２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３ブチ
ルフェニル）ホスフェート等のリン酸エステル金属塩、
ジベンジリデンソルビトール、ビス（メチルベンジリデ
ン）ソルビトールなどの多価アルコール誘導体等が用い
られていた。これらの化合物の中でも、特開昭５８−１
７３６号公報、特開昭５９−１８４２５２号公報、特開
平６−３４０７８６号公報、特開平７−１１０７５号公
報、特開平７−４８４７３号公報などに記載されたアル
キリデンビスフェノール類の環状ホスフェートの金属塩
は特にその効果が大きく、広く用いられていた。

【０００５】しかしながら、これらの化合物は、結晶性
高分子との相溶性及び／又は分散性が不充分であるため
に期待される添加効果が得られないので、考えられる必
要量以上の量を添加しなければならない問題点があっ
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、少量
の添加量で充分な添加効果を発現する結晶化剤を含有し
てなる機械的強度に優れた高分子組成物を提供すること
にある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、検討を重
ねた結果、特定のリン酸エステル金属塩成分を含有して
なる結晶性高分子組成物が、前記問題を解決しうること
を知見し本発明に到達した。

【０００８】本発明の第１は、結晶性高分子、下記一般
式（Ｉ）で表される化合物と下記一般式（II）で表され
る化合物からなるリン酸エステル金属塩成分（Ａ）を含
有してなる結晶性高分子組成物に関するものである。

【化２】（式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ²¹及びＲ²²は、炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｍ¹は、アルカリ金属原子を表し、
ｎは、１又は２を表す。）また、本発明の第２は、前記発明の結晶性高分子組成物
が更に下記一般式（III）で表される化合物の少なくと
も一種類からなる脂肪族有機酸金属塩成分（Ｂ）を含有
してなる結晶性高分子組成物に関するものである。Ｒ³−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｍ² （III）（Ｒ³は炭素数１〜３０のアルキル基、アルケニル基を
表し、Ｍ²は、Ｍ¹と同一でも異なっていてもよいアルカ
リ金属原子を表す。）また、本発明の第３は、リン酸エステル金属塩成分
（Ａ）が質量比で一般式（Ｉ）で表される化合物１００
に対し、一般式（II）で表される化合物１〜５０００か
らなる前記第１又は第２の発明の結晶性高分子組成物に
関するものである。また、本発明の第４は、リン酸エス
テル金属塩成分（Ａ）と脂肪族有機酸金属塩成分（Ｂ）
が質量比で、リン酸エステル金属塩成分（Ａ）１００に
対し、脂肪族有機酸金属塩成分（Ｂ）１〜１００で配合
されてなる前記第２又は第３の発明の結晶性高分子組成
物に関するものである。また、本発明の第５の発明は、
結晶性高分子１００質量部に対するリン酸エステル金属
塩成分（Ａ）単独又は該リン酸エステル金属塩成分
（Ａ）と脂肪族有機酸金属塩成分（Ｂ）との和が０．０
２〜０．３質量部である第１〜第４の発明のいずれかの
結晶性高分子組成物に関するものである。また、本発明
の第６の発明は、結晶性高分子が、ポリオレフィン系高
分子である第１〜第５の発明のいずれかの結晶性高分子
組成物に関するものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
詳細に説明する。

【００１０】本発明の結晶性高分子組成物に用いること
ができる結晶性高分子としては、例えば、低密度ポリエ
チレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリ−３−メチ
ルブテン、ポリ−３−メチルペンテン等のα−オレフィ
ン重合体、エチレン／プロピレンブロック又はランダム
共重合体等のα−オレフィン共重合体などのポリオレフ
ィン系高分子；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリヘキサメチレンテレフタレー
ト等の熱可塑性直鎖ポリエステル系高分子；ポリフェニ
レンスルフィド、ポリカプロラクトン、ポリヘキサメチ
レンアジパミド等の直鎖ポリアミド系高分子；シンジオ
タクチックポリスチレン等の結晶性のポリスチレン系高
分子が挙げられる。

【００１１】中でも本発明に用いる結晶性高分子化合物
としては、ポリオレフィン系高分子が好適であり、ポリ
プロピレン、エチレン／プロピレンブロック又はランダ
ム共重合体、エチレン以外のα−オレフィン／プロピレ
ンブロック又はランダム共重合体及びこれらのプロピレ
ン系重合体と他のα−オレフィン重合体との混合物等の
ポリプロピレン系樹脂が特に好適である。

【００１２】本発明に係るリン酸エステル金属塩成分
（Ａ）を構成する前記一般式（Ｉ）で表される化合物に
おいて、Ｒ¹¹及びＲ²¹で表される炭素数１〜４のアルキ
ル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第２ブチル、第３ブチルが挙
げられ、Ｍ¹で表されるアルカリ金属原子としては、リ
チウム、ナトリウム、カリウムが挙げられる。

【００１３】前記の一般式（Ｉ）で表される化合物の具
体例としては、例えば、下記に挙げる化合物が挙げられ
る。

【００１４】

【化３】

【００１５】本発明に係るリン酸エステル金属塩成分
（Ａ）を構成する前記一般式（II）で表される化合物に
おいて、Ｒ¹²及びＲ²²で表される炭素数１〜４のアルキ
ル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第２ブチル、第３ブチルが挙
げられる。

【００１６】前記の一般式（II）で表される化合物の具
体例としては、例えば、下記に挙げる化合物が挙げられ
る。

【００１７】

【化４】

【００１８】また、本発明に係るリン酸エステル金属塩
成分（Ａ）は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の少
なくとも１種類と前記一般式（II）で表される化合物の
少なくとも１種類からなる成分であり、その組成割合
（質量比）は、特に制限されるものではない。一般式
（Ｉ）で表される化合物１００に対して一般式（II）で
表される化合物が１〜５０００の範囲が、結晶性高分子
組成物から得られる成形体の透明性と強度の両方が優れ
ているので好ましく、１００〜１０００の範囲がより好
ましい。結晶化剤としてリン酸エステル金属塩成分
（Ａ）を単独で用いる場合の使用量は、結晶性高分子１
００に対し質量比で（一般式（Ｉ）と（II）の合計）
０．０５〜５、更には０．１〜１が好ましい。

【００１９】本発明の結晶性高分子組成物は、前記リン
酸エステル金属塩成分（Ａ）に加えて、更に脂肪族有機
酸金属塩成分（Ｂ）を含むことができる。脂肪族有機酸
金属塩成分（Ｂ）を構成する前記一般式（III）で表さ
れる化合物において、Ｒ³で表される炭素数１〜３０の
アルキル基又はアルケニル基は、対応する有機酸塩から
導入されるものである。該有機酸塩としては、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、
２−エチルヘキサン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラ
ウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン
酸、パルチミン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ノナ
デカン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、
セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、トウハク酸、リ
ンデル酸、ツズ酸、パルミトレイン酸、ペトロセリン
酸、オレイン酸、エライジン酸、バクセン酸、リノール
酸、リノエライジン酸、γ−リノレン酸、リノレン酸等
が挙げられ、Ｍ²で表されるアルカリ金属原子として
は、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられる。中
でも、Ｒ³が炭素数７〜１８のもので、Ｍ²がリチウムの
ものが、結晶性高分子に対して優れた添加効果を与える
ので好ましい。

【００２０】また、本発明に係る脂肪族有機酸金属塩成
分（Ｂ）の使用量は、特に制限されるものではない。リ
ン酸エステル金属塩成分（Ａ）１００に対し、質量比で
１〜１００の範囲が、高分子組成物から得られる成形体
の透明が良好なので好ましく、１０〜７５の範囲がより
好ましい。

【００２１】本発明の結晶性高分子組成物においては、
前記のリン酸エステル金属塩成分（Ａ）及び脂肪族有機
酸塩成分（Ｂ）の併用により、これらの結晶化剤の使用
量を低減することができる。

【００２２】従って、本発明の結晶性高分子組成物を直
接成形体の製造に用いる場合、リン酸エステル金属塩成
分（Ａ）及び脂肪族有機酸塩成分（Ｂ）の併用使用量
は、例えば、結晶性高分子がポリオレフィン系高分子の
場合は、結晶性高分子１００質量部に対して、各成分の
和が、０．０２〜０．３質量部で充分である。

【００２３】また、本発明の結晶性高分子組成物をマス
ターバッチに用いる場合やポリオレフィンと前記のリン
酸エステル金属塩成分（Ａ）及び脂肪族有機酸塩成分
（Ｂ）と抗酸化剤等の以下に記載する他の添加剤成分を
顆粒状に成形して、ワンパック添加剤に用いる場合は、
リン酸エステル金属塩成分（Ａ）及び脂肪族有機酸塩成
分（Ｂ）の使用量は、結晶性高分子組成物全量の１〜９
０質量％であるが、最終的に、成形体の製造に用いる組
成物としては、前記の記載のとおりである。

【００２４】本発明の結晶性高分子組成物には、必要に
応じて、ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）、紫
外線吸収剤、フェノール系、硫黄系、リン系の抗酸化剤
等の周知一般に用いられている添加剤を使用することが
できる。

【００２５】前記のＨＡＬＳとしては、以下の一般式
（IV）で表される化合物、塩化シアヌル縮合型、高分子
量型等が挙げられる。

【００２６】

【化５】（式中、ｎは、１〜６の整数を表し、Ａは、水素原子、
炭素数１〜１８のｎ価の炭化水素基、ｎ価のアシル基ま
たはｎ価のカルバモイル基を表し、Ｂは、酸素原子、−
ＮＨ−、炭素数１〜８のアルキル基Ｒ’を有する−Ｎ
Ｒ’−を表し、Ｘは、水素原子、オキシラジカル（・
Ｏ）、炭素数１〜１８のアルコキシ基、炭素数１〜８の
アルキル基、ヒドロキシル基を表し、Ｚは、メチン、又
は炭素数１〜８のアルキル基Ｒ⁴を有する以下の基(Ｖ)
を表す。）

【００２７】

【化６】

【００２８】前記一般式（IV）において、Ａで表される
ｎ価の炭素数１〜１８の炭化水素基としては、メタン、
エタン、プロパン、ブタン、第２ブタン、第３ブタン、
イソブタン、ペンタン、イソペンタン、第３ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、
第３ヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、第３オク
タン、２−エチルヘキサン、ノナン、イソノナン、デカ
ン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカ
ン、ヘキサデカン、ペプタデカン、オクタデカンから誘
導される基（アルキル基、アルカンジ〜ヘキサイル基）
が挙げられる。

【００２９】ｎ価のアシル基とは、カルボン酸、ｎ価カ
ルボン酸及びカルボキシル基がｎ個残存している多価カ
ルボン酸アルキルエステルから誘導される基のことであ
り、該アシル誘導体化合物としては、酢酸、安息香酸、
４−トリフルオロメチル安息香酸、サリチル酸、アクリ
ル酸、メタクリル酸、シュウ酸、マロン酸、スクシン
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、２−メ
チルコハク酸、２−メチルアジピン酸、３−メチルアジ
ピン酸、３−メチルペンタン二酸、２−メチルオクタン
二酸、３，８−ジメチルデカン二酸、３，７−ジメチル
デカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸、フタル酸、
テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリト酸、トリ
メシン酸、プロパン−１，２，３−トリカルボン酸、プ
ロパン−１，２，３−トリカルボン酸モノ〜ジアルキル
エステル、ペンタン−１，３，５−トリカルボン酸、ペ
ンタン−１，３，５−トリカルボン酸モノ〜ジアルキル
エステル、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン
酸、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸モノ〜
トリアルキルエステル、ペンタン−１，２，３，４，５
−ペンタカルボン酸、ペンタン−１，２，３，４，５−
ペンタカルボン酸モノ〜テトラアルキルエステル、ヘキ
サン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボン酸、ヘ
キサン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボン酸モ
ノ〜ペンタアルキルエステル等が挙げられる。

【００３０】また、ｎ価のカルバモイル基は、イソシア
ネート化合物から誘導されるモノアルキルカルバモイル
基またはジアルキルカルバモイルのことであり、モノア
ルキルカルバモイル基を誘導するイソシアネート化合物
としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタ
ン−４，４’−ジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、１，５−
ナフチレンジイソシアネート、３、３’−ジメチルジフ
ェニル−４、４’−ジイソシアネート、ジアニシジンジ
イソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシル
メタン−４，４’−ジイソシアネート、トランス−１，
４−シクロヘキシルジイソシアネート、ノルボルネンジ
イソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、２，２，４（２，２，４）−トリメチルヘキサメ
チレンジイソシアネート、リシンジイソシアネート、ト
リフェニルメタントリイソシアネート、１−メチルベン
ゾール−２，４，６−トリイソシアネート、ジメチルト
リフェニルメタンテトライソシアネート等が挙げられ、
ジアルキルカルバモイルとしては、ジエチルカルバモイ
ル、ジブチルカルバモイル、ジヘキシルカルバモイル、
ジオクチルカルバモイル等が挙げられる。これらのＡで
表される基はハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基等で置換されていてもよ
い。

【００３１】Ｂ中のＲ’で表される炭素数１〜８のアル
キル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、第２ブチル、第３ブチル、イソブチル、
アミル、イソアミル、第３アミル、ヘキシル、シクロヘ
キシル、ヘプチル、イソヘプチル、第３ヘプチル、１−
エチルペンチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第３オ
クチル、２−エチルヘキシルが挙げられ、Ｘで表される
炭素数１〜１８のアルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第２
ブチルオキシ、第３ブチルオキシ、イソブチルオキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘ
プチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオ
キシ、ノニルオキシ、イソノニルオキシ、デシルオキ
シ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシル
オキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ペ
プタデシルオキシ、オクタデシルオキシが挙げられ、炭
素数１〜８のアルキル基としては、Ｒ’と同様の基が挙
げられ、Ｚ中のＲ⁴で表される炭素数１〜８のアルキル
基としては、Ｒ’と同様の基が挙げられる。

【００３２】前記の一般式（IV）で表されるＨＡＬＳの
更なる具体例としては、例えば、２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾ
エート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−
オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）セバケート、１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジルメタクリレート、２，２，６，６−
テトラメチル−ピペリジルメタクリレート、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テト
ラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレ
ート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）・ビス（トリデシル）−１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ビス（トリデシ
ル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第３−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、３，９−ビ
ス〔１，１−ジメチル−２−[トリス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキ
シ）ブチルカルボニルオキシ]エチル〕−２，４，８，
１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，
９−ビス〔１，１−ジメチル−２−[トリス（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカル
ボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ]エチル〕−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン
デカン等が挙げられる。

【００３３】塩化シアヌル縮合型ＨＡＬＳとしては、
１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モ
ルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミ
ノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第３オクチルア
ミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テ
トラキス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ
−トリアジン−６−イル]−１，５，８，１２−テトラ
アザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス[２，４
−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン
−６−イル]−１，５，８，１２−テトラアザドデカ
ン、１，６，１１−トリス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イルアミノ]ウン
デカン、１，６，１１−トリス[２，４−ビス（Ｎ−ブ
チル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イルアミ
ノ]ウンデカン等が挙げられる。

【００３４】また、高分子量型としては、１−（２−ヒ
ドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジノール／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物等が挙げ
られる。

【００３５】紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−
ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキ
シベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒドロ
キシベンゾフェノン類；２−（２−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロ
キシ−５−第３オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３ブチルフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒ
ドロキシ−３−第３ブチル−５−メチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，
２’−メチレンビス（４−第３オクチル−６−ベンゾト
リアゾリルフェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−
第３ブチル−５−カルボキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ールのポリエチレングリコールエステル、２−〔２−ヒ
ドロキシ−３−（２−アクリロイルオキシエチル）−５
−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒ
ドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−
５−第３ブチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−
〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエ
チル）−５−第３オクチルフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイル
オキシエチル）−５−第３ブチルフェニル〕−５−クロ
ロベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−５−
（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾ
トリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第３ブチル
−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕
ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第３
アミル−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェ
ニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３
−第３ブチル−５−（３−メタクリロイルオキシプロピ
ル）フェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
〔２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシメ
チル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒド
ロキシ−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−
〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイルオキシプ
ロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾール等の２−（２−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；

【００３６】２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェ
ニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシロキシフェニ
ル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−Ｃ
１２〜１３混合アルコキシ−２−ヒドロキシプロポキ
シ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェ
ニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキ
シ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニ
ル〕−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシ−３−ア
リルフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェ
ニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス
（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシロキシフェ
ニル）−１，３，５−トリアジン等の２−（２−ヒドロ
キシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，５−ト
リアジン類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモ
ノベンゾエート、２，４−ジ第３ブチルフェニル−３，
５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキ
サデシル−３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾエート、ステアリル（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒ
ドロキシ）ベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチ
ル−２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’
−ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチ
ル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メ
チル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフ
ェニル）アクリレート等のシアノアクリレート類；各種
の金属塩又は金属キレート、特にニッケル又はクロムの
塩又はキレート類等が挙げられる。

【００３７】リン系抗酸化剤としては、例えば、トリフ
ェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ第３ブチルフ
ェニル）ホスファイト、トリス（２，５−ジ第３ブチル
フェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホ
スファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイ
ト、トリス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイ
ト、ジフェニルアシッドホスファイト、２，２'−メチ
レンビス（４，６−ジ第３ブチルフェニル）オクチルホ
スファイト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニ
ルオクチルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、フェニルジイソデシル
ホスファイト、トリブチルホスファイト、トリス（２−
エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホス
ファイト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウ
リルトリチオホスファイト、ビス（ネオペンチルグリコ
ール）・１，４−シクロヘキサンジメチルジホスフィ
ト、ビス（２，４−ジ第３ブチルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト、ビス（２，５−ジ第３ブチ
ルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビ
ス（２，６−ジ第３ブチル−４−メチルフェニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジク
ミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テ
トラ（Ｃ１２−１５混合アルキル）−４，４’−イソプ
ロピリデンジフェニルホスファイト、ビス[２，２’−
メチレンビス(４，６−ジアミルフェニル)]・イソプロ
ピリデンジフェニルホスファイト、テトラトリデシル・
４，４’−ブチリデンビス(２−第３ブチル−５−メチ
ルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
・１，１，３−トリス（２−メチル−５−第３ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）ブタン・トリホスファイト、
テトラキス（２，４−ジ第３ブチルフェニル）ビフェニ
レンジホスホナイト、トリス（２−〔（２，４，７，９
−テトラキス第３ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，
２〕ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチ
ル）アミン、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０
−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２−ブ
チル−２−エチルプロパンジオール・２，４，６−トリ
第３ブチルフェノールモノホスファイト等が挙げられ
る。

【００３８】フェノール系抗酸化剤としては、例えば、
２，６−ジ第３ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフ
ェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステアリル
（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第３ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、トリデシル・
３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオア
セテート、チオジエチレンビス［（３，５−ジ第３ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４，
４’−チオビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）、
２−オクチルチオ−４，６−ジ（３，５−ジ第３ブチル
−４−ヒドロキシフェノキシ）−ｓ−トリアジン、２，
２’−メチレンビス（４−メチル−６−第３ブチルフェ
ノール）、ビス[３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−
第３ブチルフェニル）ブチリックアシッド]グリコール
エステル、４，４’−ブチリデンビス（２，６−ジ第３
ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−
第３ブチル−３−メチルフェノール）、２，２’−エチ
リデンビス（４，６−ジ第３ブチルフェノール）、１，
１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第
３ブチルフェニル）ブタン、ビス[２−第３ブチル−４
−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５
−メチルベンジル）フェニル]テレフタレート、１，
３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−
４−第３ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，
５−トリス（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，
５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，
４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリス
[（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレート、テトラ
キス[メチレン−３−（３’，５’−ジ第３ブチル−
４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート]メタン、
２−第３ブチル−４−メチル−６−（２−アクロイルオ
キシ−３−第３ブチル−５−メチルベンジル）フェノー
ル、３，９−ビス[２−（３−第３ブチル−４−ヒドロ
キシ−５−メチルヒドロシンナモイルオキシ）−１，１
−ジメチルエチル]−２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ［５．５］ウンデカン、トリエチレングリコール
ビス［β−（３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）プロピオネート］等が挙げられる。

【００３９】硫黄系抗酸化剤としては、例えば、チオジ
プロピオン酸のジラウリル、ジミリスチル、ミリスチル
ステアリル、ジステアリルエステル等のジアルキルチオ
ジプロピオネート類及びペンタエリスリトールテトラ
（β−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオ
ールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類
が挙げられる。

【００４０】前記例示の添加剤は、１種類又は２種類以
上混合で用いてもよく、その総配合量は、結晶性高分子
１００質量部に対して、０．００１質量部未満では効果
が得られない場合があり、また１０重量部を超えると添
加効果の向上が得られないばかりかコストが高くなるの
で、０．００１〜１０質量部が好ましい。

【００４１】本発明の結晶性高分子組成物には、必要に
応じて、さらに、カチオン系界面活性剤、アニオン系界
面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等か
らなる帯電防止剤、ハロゲン系化合物、リン系化合物又
は金属酸化物等の難燃剤、炭化水素系、脂肪酸系、脂肪
族アルコール系、脂肪族エステル系、脂肪族アマイド系
又は金属石けん系の滑剤、重金属不活性剤、ｐ−第３ブ
チル安息香酸アルミニウム、ジベンジリデンソルビトー
ル、ハイドロタルサイト、有機カルボン酸、染料、顔料
等の着色剤、加工助剤、充填剤などを使用することがで
きる。

【００４２】また、本発明の結晶性高分子組成物用途と
しては、バンパー、ダッシュボード、インパネ等自動車
用樹脂部品、冷蔵庫、洗濯機、掃除機等家電製品用樹脂
部品、食器、バケツ、入浴用品等の家庭用品、玩具等の
雑貨品、タンク類等の貯蔵、保存用容器等の成形品や、
フィルム、繊維等が挙げられる。

【００４３】

【実施例】以下、評価例、実施例及び比較例をもって本
発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以
下の評価例、実施例及び比較例によって何ら制限を受け
るものではない。

【００４４】（評価例１）メルトフローインデックス８
のポリプロピレン１００質量部及び表１に記載の結晶化
剤をヘンシェルミキサーで５分間混合し、２５０℃、２
５ｒｐｍの条件で押出加工してペレットを製造した。こ
れを２５０℃で射出成形して得た厚さ４ｍｍの試験片に
ついて、曲げ弾性（ＡＳＴＭＤ−７９０）を評価し
た。

【００４５】

【表１】

【００４６】（評価例２）メルトフローインデックス８
のエチレン／プロピレン＝３／９７のブロック共重合体
１００質量部及び表２に記載の結晶化剤をヘンシェルミ
キサーで５分間混合し、２５０℃、２５ｒｐｍの条件で
押出加工してペレットを製造した。これを２５０℃で射
出成形して得た厚さ４ｍｍの試験片について、曲げ弾性
（ＡＳＴＭＤ−７９０）を評価した。

【００４７】

【表２】

【００４８】（評価例３）メルトフローインデックス８
のポリプロピレン１００質量部、フェノール系抗酸化
剤；テトラキス[メチレン−３−（３’，５’−ジ第３
ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート]
メタン０．１質量部、リン系抗酸化剤：トリス（２，４
−ジ第３ブチルフェニル）ホスファイト０．１質量部、
ステアリン酸カルシウム０．１質量部及び表３に記載の
結晶化剤をヘンシェルミキサーで５分間混合し、２５０
℃、２５ｒｐｍの条件で押出加工してペレットを製造し
た。これを２５０℃で射出成形して得た厚さ４ｍｍの試
験片について、曲げ弾性（ＡＳＴＭＤ−７９０）を評
価した。

【００４９】

【表３】

【００５０】

【発明の効果】本発明は、少量の添加量で充分な添加効
果を発現する結晶化核剤を含有してなる機械的強度に優
れた結晶性高分子組成物を提供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4J002 BB021 BB031 BB051 BB121 BB151 BB171 BC031 CF051 CF061 CF071 CF191 CL031 CN011 EG027 EW046 FD040 FD050 FD070 GG01 GK01 GN00 GQ00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】結晶性高分子、下記一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物と下記一般式（II）で表される化合物からな
るリン酸エステル金属塩成分（Ａ）を含有してなる結晶
性高分子組成物。【化１】（式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ²¹及びＲ²²は、炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｍ¹は、アルカリ金属原子を表し、
ｎは、１又は２を表す。）
【請求項２】請求項１に記載の結晶性高分子組成物が
更に下記一般式（III）で表される化合物の少なくとも
一種類からなる脂肪族有機酸金属塩成分（Ｂ）を含有し
てなる結晶性高分子組成物。Ｒ³−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｍ² （III）（Ｒ³は炭素数１〜３０のアルキル基、アルケニル基を
表し、Ｍ²は、Ｍ¹と同一でも異なっていてもよいアルカ
リ金属原子を表す。）
【請求項３】リン酸エステル金属塩成分（Ａ）が質量
比で、一般式（Ｉ）で表される化合物１００に対し、一
般式（II）で表される化合物１〜５０００からなる請求
項１又は２に記載の結晶性高分子組成物。
【請求項４】リン酸エステル金属塩成分（Ａ）と脂肪
族有機酸金属塩成分（Ｂ）が質量比で、リン酸エステル
金属塩成分（Ａ）１００に対し、脂肪族有機酸金属塩成
分（Ｂ）１〜１００で配合されてなる請求項２又は３に
記載の結晶性高分子組成物。
【請求項５】結晶性高分子１００質量部に対するリン
酸エステル金属塩成分（Ａ）単独又は該リン酸エステル
金属塩成分（Ａ）と脂肪族有機酸金属塩成分（Ｂ）との
和が０．０２〜０．３質量部である請求項１〜４のいず
れかに記載の結晶性高分子組成物。
【請求項６】結晶性高分子が、ポリオレフィン系高分
子である請求項１〜５のいずれかに記載の結晶性高分子
組成物。