JP2002296521A - 光変調装置及びその光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置 - Google Patents
光変調装置及びその光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置Info
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- JP2002296521A JP2002296521A JP2001102478A JP2001102478A JP2002296521A JP 2002296521 A JP2002296521 A JP 2002296521A JP 2001102478 A JP2001102478 A JP 2001102478A JP 2001102478 A JP2001102478 A JP 2001102478A JP 2002296521 A JP2002296521 A JP 2002296521A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造
が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限され
ることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高
く、製造工程が少なく低コストの光変調装置及びその光
変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画
像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示
装置を提供する。 【解決手段】 入射光を正反射する反射手段１と、反射
手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が
固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁２と、薄膜
両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基
板電極３と、基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形
成される空隙４と、空隙の底部に基板電極を形成した基
板５と、基板が保持して固定する薄膜両端固定梁の固定
部を分割した分割固定部６とからなる。
が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限され
ることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高
く、製造工程が少なく低コストの光変調装置及びその光
変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画
像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示
装置を提供する。 【解決手段】 入射光を正反射する反射手段１と、反射
手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が
固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁２と、薄膜
両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基
板電極３と、基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形
成される空隙４と、空隙の底部に基板電極を形成した基
板５と、基板が保持して固定する薄膜両端固定梁の固定
部を分割した分割固定部６とからなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光変調装置及びそ
の光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備す
る画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影
表示装置に関し、詳しくは、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う光変調装置及びその光変調装置の製造方法
並びにその光変調装置を具備する電子写真プロセスで光
書き込みを行なって画像を形成する画像形成装置及びそ
の光変調装置を具備する画像を投影して表示する画像投
影表示装置に関する。
の光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備す
る画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影
表示装置に関し、詳しくは、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う光変調装置及びその光変調装置の製造方法
並びにその光変調装置を具備する電子写真プロセスで光
書き込みを行なって画像を形成する画像形成装置及びそ
の光変調装置を具備する画像を投影して表示する画像投
影表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】静電力を利用した光スイッチデバイスの
入射光の反射方向を変えて光変調を行う光変調装置は、
電子写真プロセスで光書き込みを行なって画像を形成す
る画像形成装置、画像を投影して表示する画像投影表示
装置等に使用されている。静電力を利用した光スイッチ
デバイスの入射光の反射方向を変えて光変調を行う光変
調装置では、片持ち梁を静電力で撓ませて、入射光の反
射方向を変えてスイッチするデバイス、及び、それを用
いた光変調システムは、既に公知である。片持ち梁は、
静電力が解放されて梁の撓みが回復するときに振動す
る。これは、梁の一端のみが固定されていることによ
る、梁の自由振動が発生するためである。又、梁を薄膜
で形成する場合には、残留応力が発生する。片持ち梁の
場合、残留応力により梁が変形する。しかも、残留応力
は時間を経て緩和されるために、片持ち梁の変形状態が
経時変化する。以上の理由で片持ち梁は安定性が悪い。
又、片持ち梁の場合は、自由振動に起因して、信号応答
性が悪くなる。従って、片持ち梁の安定性の確保が難し
く、片持ち梁の固有振動数が低い為に、応答速度を速く
することが出来なかった。
入射光の反射方向を変えて光変調を行う光変調装置は、
電子写真プロセスで光書き込みを行なって画像を形成す
る画像形成装置、画像を投影して表示する画像投影表示
装置等に使用されている。静電力を利用した光スイッチ
デバイスの入射光の反射方向を変えて光変調を行う光変
調装置では、片持ち梁を静電力で撓ませて、入射光の反
射方向を変えてスイッチするデバイス、及び、それを用
いた光変調システムは、既に公知である。片持ち梁は、
静電力が解放されて梁の撓みが回復するときに振動す
る。これは、梁の一端のみが固定されていることによ
る、梁の自由振動が発生するためである。又、梁を薄膜
で形成する場合には、残留応力が発生する。片持ち梁の
場合、残留応力により梁が変形する。しかも、残留応力
は時間を経て緩和されるために、片持ち梁の変形状態が
経時変化する。以上の理由で片持ち梁は安定性が悪い。
又、片持ち梁の場合は、自由振動に起因して、信号応答
性が悪くなる。従って、片持ち梁の安定性の確保が難し
く、片持ち梁の固有振動数が低い為に、応答速度を速く
することが出来なかった。
【０００３】ミラーを細いねじり棒で保持し、静電力に
よりミラーの向きを変え、光の反射方向を変えてスイッ
チするデバイスも既に公知であるが、その構造が複雑に
なり、歩留まりを高くすることが困難であるだけでな
く、ミラーの保持が細いねじり棒による為に、その寿命
を長くすることが出来なかった。回折格子を静電力で駆
動して、光スイッチするデバイスも公知である（特許第
２９４１９５２号、特許第３０１６８７１号、特表平１
０−５１０３７４号等の公報を参照）。然し、このよう
な、回折格子を静電力で駆動して、光スイッチするデバ
イスは、使用する入射光の波長が制限されると言う欠点
があった。静電力により梁を湾曲させ、反射光の焦点を
合わせて、スリットを通過させることで光スイッチする
デバイスも公知である（特開２０００−２８４２の公報
を参照）。然し、このような、静電力により梁を湾曲さ
せ、反射光の焦点を合わせて、スリットを通過させるこ
とで光スイッチするデバイスは、梁を湾曲する駆動電圧
が高く、梁の湾曲の度合いが不安定になり易く信頼性が
低くなっていた。従って、従来の入射光の反射方向を変
えて光変調を行う光変調装置及びその光変調装置を具備
する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投
影表示装置は、入射光の反射方向を変えて光変調を行う
構造が複雑で応答も遅く、使用する入射光の波長が制限
され、駆動電圧が高く作動が不安定で信頼性も低いと言
う不具合が生じていた。
よりミラーの向きを変え、光の反射方向を変えてスイッ
チするデバイスも既に公知であるが、その構造が複雑に
なり、歩留まりを高くすることが困難であるだけでな
く、ミラーの保持が細いねじり棒による為に、その寿命
を長くすることが出来なかった。回折格子を静電力で駆
動して、光スイッチするデバイスも公知である（特許第
２９４１９５２号、特許第３０１６８７１号、特表平１
０−５１０３７４号等の公報を参照）。然し、このよう
な、回折格子を静電力で駆動して、光スイッチするデバ
イスは、使用する入射光の波長が制限されると言う欠点
があった。静電力により梁を湾曲させ、反射光の焦点を
合わせて、スリットを通過させることで光スイッチする
デバイスも公知である（特開２０００−２８４２の公報
を参照）。然し、このような、静電力により梁を湾曲さ
せ、反射光の焦点を合わせて、スリットを通過させるこ
とで光スイッチするデバイスは、梁を湾曲する駆動電圧
が高く、梁の湾曲の度合いが不安定になり易く信頼性が
低くなっていた。従って、従来の入射光の反射方向を変
えて光変調を行う光変調装置及びその光変調装置を具備
する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投
影表示装置は、入射光の反射方向を変えて光変調を行う
構造が複雑で応答も遅く、使用する入射光の波長が制限
され、駆動電圧が高く作動が不安定で信頼性も低いと言
う不具合が生じていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の入射光束の反射
方向を変えて光変調を行う光変調装置及びその光変調装
置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備す
る画像投影表示装置は、入射光束の反射方向を変えて光
変調を行う構造が複雑で応答も遅く、使用する入射光の
波長が制限され、駆動電圧が高く作動が不安定で信頼性
も低くいと言う問題が発生していた。そこで本発明の課
題は、このような問題点を解決するものである。即ち、
入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応
答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工
程が少なく低コストの光変調装置及びその光変調装置の
製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置
及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置を提供
することを目的とする。
方向を変えて光変調を行う光変調装置及びその光変調装
置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備す
る画像投影表示装置は、入射光束の反射方向を変えて光
変調を行う構造が複雑で応答も遅く、使用する入射光の
波長が制限され、駆動電圧が高く作動が不安定で信頼性
も低くいと言う問題が発生していた。そこで本発明の課
題は、このような問題点を解決するものである。即ち、
入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応
答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工
程が少なく低コストの光変調装置及びその光変調装置の
製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置
及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置を提供
することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の本発明は、入射光の反射方向を変えて光
変調を行う光変調装置において、入射光を正反射する反
射手段と、上記反射手段を側面に組み合わせ構成する薄
膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両
端固定梁と、上記薄膜両端固定梁の他方側面に対向して
駆動電圧を印加する基板電極と、上記基板電極と上記薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙と、上記空隙
の底部に上記基板電極を形成した基板と、上記基板が保
持して固定する上記薄膜両端固定梁の固定部を分割した
分割固定部とからなる光変調装置であることを最も主要
な特徴とする。請求項２の本発明は、請求項１に記載の
光変調装置において、反射手段は、金属薄膜からなる光
変調装置であることを主要な特徴とする。請求項３の本
発明は、請求項１又は２に記載の光変調装置において、
薄膜両端固定梁は、単結晶シリコン薄膜からなる光変調
装置であることを主要な特徴とする。請求項４の本発明
は、請求項１又は２に記載の光変調装置において、薄膜
両端固定梁は、多結晶シリコン薄膜からなる光変調装置
であることを主要な特徴とする。請求項５の本発明は、
請求項１又は２に記載の光変調装置において、薄膜両端
固定梁は、アモルファスシリコン薄膜からなる光変調装
置であることを主要な特徴とする。請求項６の本発明
は、請求項１又は２に記載の光変調装置において、薄膜
両端固定梁は、窒化シリコン薄膜からなる光変調装置で
あることを主要な特徴とする。請求項７の本発明は、請
求項１、２、３、４、５又は６に記載の光変調装置にお
いて、分割固定部は、薄膜両端固定梁のコーナ部に形成
した光変調装置であることを主要な特徴とする。請求項
８の本発明は、請求項１、２、３、４、５、６又は７に
記載の光変調装置において、分割固定部は、薄膜両端固
定梁と滑らか形状部で接続する光変調装置であることを
主要な特徴とする。
に、請求項１の本発明は、入射光の反射方向を変えて光
変調を行う光変調装置において、入射光を正反射する反
射手段と、上記反射手段を側面に組み合わせ構成する薄
膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両
端固定梁と、上記薄膜両端固定梁の他方側面に対向して
駆動電圧を印加する基板電極と、上記基板電極と上記薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙と、上記空隙
の底部に上記基板電極を形成した基板と、上記基板が保
持して固定する上記薄膜両端固定梁の固定部を分割した
分割固定部とからなる光変調装置であることを最も主要
な特徴とする。請求項２の本発明は、請求項１に記載の
光変調装置において、反射手段は、金属薄膜からなる光
変調装置であることを主要な特徴とする。請求項３の本
発明は、請求項１又は２に記載の光変調装置において、
薄膜両端固定梁は、単結晶シリコン薄膜からなる光変調
装置であることを主要な特徴とする。請求項４の本発明
は、請求項１又は２に記載の光変調装置において、薄膜
両端固定梁は、多結晶シリコン薄膜からなる光変調装置
であることを主要な特徴とする。請求項５の本発明は、
請求項１又は２に記載の光変調装置において、薄膜両端
固定梁は、アモルファスシリコン薄膜からなる光変調装
置であることを主要な特徴とする。請求項６の本発明
は、請求項１又は２に記載の光変調装置において、薄膜
両端固定梁は、窒化シリコン薄膜からなる光変調装置で
あることを主要な特徴とする。請求項７の本発明は、請
求項１、２、３、４、５又は６に記載の光変調装置にお
いて、分割固定部は、薄膜両端固定梁のコーナ部に形成
した光変調装置であることを主要な特徴とする。請求項
８の本発明は、請求項１、２、３、４、５、６又は７に
記載の光変調装置において、分割固定部は、薄膜両端固
定梁と滑らか形状部で接続する光変調装置であることを
主要な特徴とする。
【０００６】請求項９の本発明は、請求項８に記載の光
変調装置において、滑らか形状部は、円弧の一部形状又
は長円弧の一部形状からなる光変調装置であることを主
要な特徴とする。請求項１０の本発明は、請求項１、
２、３、４、５、６、７、８又は９に記載の光変調装置
において、薄膜両端固定梁と基板電極とが対応して形成
される空隙は非平行である光変調装置であることを主要
な特徴とする。請求項１１の本発明は、請求項１、２、
３、４、５、６、７、８、９又は１０に記載の光変調装
置において、薄膜両端固定梁は、基板電極の駆動電圧の
印加による静電力での変形時に、一部又は全部が基板上
に形成された空隙の底部に当接する光変調装置であるこ
とを主要な特徴とする。請求項１２の本発明は、請求項
１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０又は１１に
記載の光変調装置において、薄膜両端固定梁は、基板上
の接触面の両方又はそれらの少なくとも一方は表面が疎
水性である光変調装置であることを主要な特徴とする。
請求項１３の本発明は、請求項１、２、３、４、５、
６、７、８、９、１０、１１又は１２に記載の光変調装
置において、薄膜両端固定梁と基板電極とが対応して形
成される空隙は、上記薄膜両端固定梁の中央部において
最大の空隙部を有する光変調装置であることを主要な特
徴とする。請求項１４の本発明は、請求項１３に記載の
光変調装置において、薄膜両端固定梁の中央部において
最大の空隙部を有する空隙は、薄膜両端固定梁の両端の
分割固定部から中央部に向かって対称的な形状である光
変調装置であることを主要な特徴とする。請求項１５の
本発明は、請求項１、２、３、４、５、６、７、８、
９、１０、１１、１２、１３又は１４に記載の光変調装
置において、薄膜両端固定梁の両端の分割固定部から中
央部に向かって順次増大する空隙の底部を形成する基板
は、直線形状部からなる光変調装置であることを主要な
特徴とする。請求項１６の本発明は、請求項１、２、
３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３
又は１４に記載の光変調装置において、薄膜両端固定梁
の両端の分割固定部から中央部に向かって順次増大する
空隙の底部を形成する基板の一部又は全部は、凸形状部
からなる光変調装置であることを主要な特徴とする。
変調装置において、滑らか形状部は、円弧の一部形状又
は長円弧の一部形状からなる光変調装置であることを主
要な特徴とする。請求項１０の本発明は、請求項１、
２、３、４、５、６、７、８又は９に記載の光変調装置
において、薄膜両端固定梁と基板電極とが対応して形成
される空隙は非平行である光変調装置であることを主要
な特徴とする。請求項１１の本発明は、請求項１、２、
３、４、５、６、７、８、９又は１０に記載の光変調装
置において、薄膜両端固定梁は、基板電極の駆動電圧の
印加による静電力での変形時に、一部又は全部が基板上
に形成された空隙の底部に当接する光変調装置であるこ
とを主要な特徴とする。請求項１２の本発明は、請求項
１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０又は１１に
記載の光変調装置において、薄膜両端固定梁は、基板上
の接触面の両方又はそれらの少なくとも一方は表面が疎
水性である光変調装置であることを主要な特徴とする。
請求項１３の本発明は、請求項１、２、３、４、５、
６、７、８、９、１０、１１又は１２に記載の光変調装
置において、薄膜両端固定梁と基板電極とが対応して形
成される空隙は、上記薄膜両端固定梁の中央部において
最大の空隙部を有する光変調装置であることを主要な特
徴とする。請求項１４の本発明は、請求項１３に記載の
光変調装置において、薄膜両端固定梁の中央部において
最大の空隙部を有する空隙は、薄膜両端固定梁の両端の
分割固定部から中央部に向かって対称的な形状である光
変調装置であることを主要な特徴とする。請求項１５の
本発明は、請求項１、２、３、４、５、６、７、８、
９、１０、１１、１２、１３又は１４に記載の光変調装
置において、薄膜両端固定梁の両端の分割固定部から中
央部に向かって順次増大する空隙の底部を形成する基板
は、直線形状部からなる光変調装置であることを主要な
特徴とする。請求項１６の本発明は、請求項１、２、
３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３
又は１４に記載の光変調装置において、薄膜両端固定梁
の両端の分割固定部から中央部に向かって順次増大する
空隙の底部を形成する基板の一部又は全部は、凸形状部
からなる光変調装置であることを主要な特徴とする。
【０００７】請求項１７の本発明は、請求項１乃至１６
の何れか一項に記載の光変調装置において、基板は、単
結晶シリコンからなる光変調装置であることを主要な特
徴とする。請求項１８の本発明は、請求項１乃至１６の
何れか一項に記載の光変調装置において、基板は、光学
ガラスからなる光変調装置であることを主要な特徴とす
る。請求項１９の本発明は、請求項１８に記載の光変調
装置において、基板電極は、透明導電膜からなる光変調
装置であることを主要な特徴とする。請求項２０の本発
明は、請求項１乃至１９の何れか一項に記載の光変調装
置において、複数の光変調装置を１次元アレー形状に配
列した光変調装置であることを主要な特徴とする。請求
項２１の本発明は、請求項２０に記載の光変調装置にお
いて、１次元アレー形状は、両端に基板電極と外部の信
号とのコンタクト部分となる開口部からなる光変調装置
であることを主要な特徴とする。請求項２２の本発明
は、請求項１乃至１９の何れか一項に記載の光変調装置
において、複数の光変調装置を２次元アレー形状に配列
した光変調装置であることを主要な特徴とする。請求項
２３の本発明は、請求項２２に記載の光変調装置におい
て、２次元アレー形状は、基板電極３は、基板の層間絶
縁膜を貫通して基板シリコンウエハー内で駆動信号ライ
ンと接続した光変調装置であることを主要な特徴とす
る。請求項２４の本発明は、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う請求項１乃至２３の何れか一項に記載の光
変調装置の製造方法において、基板上に薄膜両端固定梁
と基板電極が対応して形成される空隙を形成した後に、
犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して上記基板上を平
坦化して、上記薄膜両端固定梁と分割固定部を形成後
に、上記犠牲材料層を除去して光変調装置を製造する光
変調装置の製造方法であることを最も主要な特徴とす
る。請求項２５の本発明は、請求項２４に記載の光変調
装置の製造方法において、基板上に薄膜形成方法又は微
細加工方法により薄膜両端固定梁と基板電極とが対向し
て形成される空隙を形成する空隙形成工程と、上記基板
上の空隙の底部に基板電極の全部又は一部を形成する基
板電極形成工程と、上記基板上の上記空隙に犠牲材料か
らなる犠牲材料層を形成した後に研磨して平坦化する犠
牲材料層形成工程と、上記犠牲材料層上に薄膜両端固定
梁と分割固定部を形成する薄膜両端固定梁と分割固定部
の成膜形成工程と、上記空隙内の上記犠牲材料層を除去
する犠牲材料層除去工程と、上記基板電極の外部接続用
の開口部を形成する開口部形成工程とからなる光変調装
置の製造方法であることを主要な特徴とする。
の何れか一項に記載の光変調装置において、基板は、単
結晶シリコンからなる光変調装置であることを主要な特
徴とする。請求項１８の本発明は、請求項１乃至１６の
何れか一項に記載の光変調装置において、基板は、光学
ガラスからなる光変調装置であることを主要な特徴とす
る。請求項１９の本発明は、請求項１８に記載の光変調
装置において、基板電極は、透明導電膜からなる光変調
装置であることを主要な特徴とする。請求項２０の本発
明は、請求項１乃至１９の何れか一項に記載の光変調装
置において、複数の光変調装置を１次元アレー形状に配
列した光変調装置であることを主要な特徴とする。請求
項２１の本発明は、請求項２０に記載の光変調装置にお
いて、１次元アレー形状は、両端に基板電極と外部の信
号とのコンタクト部分となる開口部からなる光変調装置
であることを主要な特徴とする。請求項２２の本発明
は、請求項１乃至１９の何れか一項に記載の光変調装置
において、複数の光変調装置を２次元アレー形状に配列
した光変調装置であることを主要な特徴とする。請求項
２３の本発明は、請求項２２に記載の光変調装置におい
て、２次元アレー形状は、基板電極３は、基板の層間絶
縁膜を貫通して基板シリコンウエハー内で駆動信号ライ
ンと接続した光変調装置であることを主要な特徴とす
る。請求項２４の本発明は、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う請求項１乃至２３の何れか一項に記載の光
変調装置の製造方法において、基板上に薄膜両端固定梁
と基板電極が対応して形成される空隙を形成した後に、
犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して上記基板上を平
坦化して、上記薄膜両端固定梁と分割固定部を形成後
に、上記犠牲材料層を除去して光変調装置を製造する光
変調装置の製造方法であることを最も主要な特徴とす
る。請求項２５の本発明は、請求項２４に記載の光変調
装置の製造方法において、基板上に薄膜形成方法又は微
細加工方法により薄膜両端固定梁と基板電極とが対向し
て形成される空隙を形成する空隙形成工程と、上記基板
上の空隙の底部に基板電極の全部又は一部を形成する基
板電極形成工程と、上記基板上の上記空隙に犠牲材料か
らなる犠牲材料層を形成した後に研磨して平坦化する犠
牲材料層形成工程と、上記犠牲材料層上に薄膜両端固定
梁と分割固定部を形成する薄膜両端固定梁と分割固定部
の成膜形成工程と、上記空隙内の上記犠牲材料層を除去
する犠牲材料層除去工程と、上記基板電極の外部接続用
の開口部を形成する開口部形成工程とからなる光変調装
置の製造方法であることを主要な特徴とする。
【０００８】請求項２６の本発明は、電子写真プロセス
で光書き込みを行なって画像を形成する画像形成装置に
おいて、回動可能に保持されて形成画像を担持する画像
担持体と、上記画像担持体上に光書き込みを行なって潜
像を形成する請求項１乃至２３の何れか一項に記載の光
変調装置からなる潜像形成手段と、上記潜像形成手段の
上記光変調装置によって形成された潜像を顕像化してト
ナー画像を形成する現像手段と、上記現像手段で形成さ
れたトナー画像を被転写体に転写する転写手段とからな
る画像形成装置であることを最も主要な特徴とする。請
求項２７の本発明は、画像を投影して表示する画像投影
表示装置において、画像投影データの入射光の反射方向
を変えて光変調を行なって画像を投影して表示する請求
項１乃至２３の何れか一項に記載の光変調装置からなる
光スイッチ手段と、上記光スイッチ手段の上記光変調装
置が投影する画像を表示する投影スクリーンとからなる
画像投影表示装置であることを最も主要な特徴とする。
で光書き込みを行なって画像を形成する画像形成装置に
おいて、回動可能に保持されて形成画像を担持する画像
担持体と、上記画像担持体上に光書き込みを行なって潜
像を形成する請求項１乃至２３の何れか一項に記載の光
変調装置からなる潜像形成手段と、上記潜像形成手段の
上記光変調装置によって形成された潜像を顕像化してト
ナー画像を形成する現像手段と、上記現像手段で形成さ
れたトナー画像を被転写体に転写する転写手段とからな
る画像形成装置であることを最も主要な特徴とする。請
求項２７の本発明は、画像を投影して表示する画像投影
表示装置において、画像投影データの入射光の反射方向
を変えて光変調を行なって画像を投影して表示する請求
項１乃至２３の何れか一項に記載の光変調装置からなる
光スイッチ手段と、上記光スイッチ手段の上記光変調装
置が投影する画像を表示する投影スクリーンとからなる
画像投影表示装置であることを最も主要な特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。図１と図２において、入射
光の反射方向を変えて光変調を行う光変調装置０は、入
射光を正反射する反射手段１と、上記反射手段１を側面
（図面では上面）に組み合わせ構成する薄膜で形成され
両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁２
と、上記薄膜両端固定梁２の他方側面に対向して駆動電
圧を印加する基板電極３と、上記基板電極３と上記薄膜
両端固定梁２とが対応して形成される空隙４と、上記空
隙４の底部に上記基板電極３を形成した基板５と、上記
基板５が保持して固定する上記薄膜両端固定梁２の固定
部を分割した分割固定部６とからなり、入射光の反射方
向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用
する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低
く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コス
トである。上記薄膜両端固定梁２に作用する静電力は、
上記空隙４を介して上記薄膜両端固定梁２に対向して形
成された上記基板電極３を用い、上記薄膜両端固定梁２
に形成した電極として兼用する金属薄膜からなる上記反
射手段１間に駆動電圧を印加することにより、上記薄膜
両端固定梁２を撓ませて発生させる。上記薄膜両端固定
梁２は、単結晶シリコン薄膜、多結晶シリコン薄膜、ア
モルファスシリコン薄膜、又は、窒化シリコン薄膜で形
成されている。単結晶シリコン薄膜で形成した上記薄膜
両端固定梁２は、欠陥が少なく、寿命が長い。又、多結
晶シリコン薄膜、又は、アモルファスシリコン薄膜で形
成した上記薄膜両端固定梁２は、製造方法にＣＶＤ等の
手法を用いることが出来るので低コストである。又、窒
化シリコン薄膜で形成した上記薄膜両端固定梁２は、窒
化シリコン薄膜の引っ張り応力の作用により、スイッチ
ングの応答速度を速めることが出来る。
を参照して詳細に説明する。図１と図２において、入射
光の反射方向を変えて光変調を行う光変調装置０は、入
射光を正反射する反射手段１と、上記反射手段１を側面
（図面では上面）に組み合わせ構成する薄膜で形成され
両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁２
と、上記薄膜両端固定梁２の他方側面に対向して駆動電
圧を印加する基板電極３と、上記基板電極３と上記薄膜
両端固定梁２とが対応して形成される空隙４と、上記空
隙４の底部に上記基板電極３を形成した基板５と、上記
基板５が保持して固定する上記薄膜両端固定梁２の固定
部を分割した分割固定部６とからなり、入射光の反射方
向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用
する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低
く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コス
トである。上記薄膜両端固定梁２に作用する静電力は、
上記空隙４を介して上記薄膜両端固定梁２に対向して形
成された上記基板電極３を用い、上記薄膜両端固定梁２
に形成した電極として兼用する金属薄膜からなる上記反
射手段１間に駆動電圧を印加することにより、上記薄膜
両端固定梁２を撓ませて発生させる。上記薄膜両端固定
梁２は、単結晶シリコン薄膜、多結晶シリコン薄膜、ア
モルファスシリコン薄膜、又は、窒化シリコン薄膜で形
成されている。単結晶シリコン薄膜で形成した上記薄膜
両端固定梁２は、欠陥が少なく、寿命が長い。又、多結
晶シリコン薄膜、又は、アモルファスシリコン薄膜で形
成した上記薄膜両端固定梁２は、製造方法にＣＶＤ等の
手法を用いることが出来るので低コストである。又、窒
化シリコン薄膜で形成した上記薄膜両端固定梁２は、窒
化シリコン薄膜の引っ張り応力の作用により、スイッチ
ングの応答速度を速めることが出来る。
【００１０】上記薄膜両端固定梁２の表面に形成した入
射光束を反射させる上記反射手段１としては、金属薄膜
が一般的であるが、誘電体材料の多層膜により反射膜を
形成してもよい。上記薄膜両端固定梁２には、静電力を
発生させるもう一方の電極は、独立に形成しても良い
が、入射光束を反射させる上記反射手段１が金属薄膜の
場合には、上記反射手段１の金属薄膜を電極として兼用
できる。上記薄膜両端固定梁２が単結晶、及び、多結晶
シリコンで形成されている場合には、この単結晶シリコ
ン、又は、多結晶シリコンを不純物により低抵抗化し、
電極として作用させることも可能である。上記薄膜両端
固定梁２は、両端の固定端がコーナで２つに分割された
上記分割固定部６で上記基板５で保持され固定されてい
る。上記基板５は、静電力を発生させる上記空隙４の全
部もしくは一部が形成されて、光学ガラス、セラミック
ス、単結晶シリコン、金属など種々の材料を用いること
が出来る。上記基板５を光学ガラスで形成すると、上記
基板５の裏側から上記薄膜両端固定梁２の様子の観察が
可能となり、上記光変調装置０の検査に有利である。上
記基板５を単結晶シリコンで形成すると、上記基板５中
に拡散方式で駆動電極を形成することが可能である。
又、拡散方式を組み合わせて、配線マトリックスが形成
でき、複雑多数な配線形成に有利である。更に、シリコ
ン上記基板５中に上記薄膜両端固定梁２に電圧を印加す
る駆動回路の一部又は全部を形成する事も可能である。
上記薄膜両端固定梁２を駆動する上記電極３は、Ａｌ、
Ｃｒ、Ｔｉ、ＴｉＮ等の金属、又は、金属化合部の薄膜
を用い、上記基板５上に形成された上記空隙４内に上記
基板電極３の全部、又は、一部が形成される。上記基板
５を、光学ガラスで形成する場合、上記基板電極３に透
明導電膜（ＩＴＯ）を用いると上記薄膜両端固定梁２の
様子が上記基板５の裏側からの観察が可能になり検査の
時に有利である。又、上記基板５が単結晶シリコンの場
合には、上記基板５のシリコン中に異なる導電型の不純
物を拡散する方法により上記基板電極３を形成できる。
上記基板５が金属など導電性材料の場合には、絶縁材料
を介して上記基板電極３を形成する。
射光束を反射させる上記反射手段１としては、金属薄膜
が一般的であるが、誘電体材料の多層膜により反射膜を
形成してもよい。上記薄膜両端固定梁２には、静電力を
発生させるもう一方の電極は、独立に形成しても良い
が、入射光束を反射させる上記反射手段１が金属薄膜の
場合には、上記反射手段１の金属薄膜を電極として兼用
できる。上記薄膜両端固定梁２が単結晶、及び、多結晶
シリコンで形成されている場合には、この単結晶シリコ
ン、又は、多結晶シリコンを不純物により低抵抗化し、
電極として作用させることも可能である。上記薄膜両端
固定梁２は、両端の固定端がコーナで２つに分割された
上記分割固定部６で上記基板５で保持され固定されてい
る。上記基板５は、静電力を発生させる上記空隙４の全
部もしくは一部が形成されて、光学ガラス、セラミック
ス、単結晶シリコン、金属など種々の材料を用いること
が出来る。上記基板５を光学ガラスで形成すると、上記
基板５の裏側から上記薄膜両端固定梁２の様子の観察が
可能となり、上記光変調装置０の検査に有利である。上
記基板５を単結晶シリコンで形成すると、上記基板５中
に拡散方式で駆動電極を形成することが可能である。
又、拡散方式を組み合わせて、配線マトリックスが形成
でき、複雑多数な配線形成に有利である。更に、シリコ
ン上記基板５中に上記薄膜両端固定梁２に電圧を印加す
る駆動回路の一部又は全部を形成する事も可能である。
上記薄膜両端固定梁２を駆動する上記電極３は、Ａｌ、
Ｃｒ、Ｔｉ、ＴｉＮ等の金属、又は、金属化合部の薄膜
を用い、上記基板５上に形成された上記空隙４内に上記
基板電極３の全部、又は、一部が形成される。上記基板
５を、光学ガラスで形成する場合、上記基板電極３に透
明導電膜（ＩＴＯ）を用いると上記薄膜両端固定梁２の
様子が上記基板５の裏側からの観察が可能になり検査の
時に有利である。又、上記基板５が単結晶シリコンの場
合には、上記基板５のシリコン中に異なる導電型の不純
物を拡散する方法により上記基板電極３を形成できる。
上記基板５が金属など導電性材料の場合には、絶縁材料
を介して上記基板電極３を形成する。
【００１１】上記薄膜両端固定梁２と上記基板電極３が
接触し短絡することを、保護膜３ａが、防ぐ作用をす
る。上記保護膜３ａとしては、絶縁性材料が、中でも真
空成膜法による酸化膜を用いるのが一般的である。上記
保護膜３ａには、上記基板電極３と外部信号とを接続す
る部分として一部に開口部９を形成することもある。上
記保護膜３ａの表面には、疎水性材料を形成する事によ
り上記基板５上の上記保護膜３ａの表面、又は、上記薄
膜両端固定梁２の表面に吸着した水分子の架橋力によ
り、上記薄膜両端固定梁２が上記保護膜３ａ等と固着し
てしまうことが防止され、疎水性材料としてはフッ素を
含有する材料を用いることにより、信頼性の高い上記光
変調装置０を提供することが出来るようになった。上記
光変調装置０は、上記薄膜両端固定梁２の両端の固定部
を分割した上記分割固定部６により、光をスイッチする
上記薄膜両端固定梁２の両端を上記基板５が保持固定す
る、両端固定梁の上記薄膜両端固定梁２になっている。
上記光変調装置０の上記薄膜両端固定梁２は、片持ち梁
に比べて、１．安定性と、２．応答速度の２点で優れて
いる。まず、安定性は、片持ち梁は静電力が解放され
て、片持ち梁の撓みが回復するときに振動する。これ
は、片持ち梁の一端のみが固定されていることによる、
片持ち梁の自由振動が発生するためである。又、片持ち
梁を薄膜で形成する場合には、残留応力が発生する。片
持ち梁の場合、残留応力により片持ち梁が変形する。し
かも、残留応力は時間を経て緩和されるために、片持ち
梁の変形状態が経時変化する。以上の理由で片持ち梁は
安定性が悪い。これに対して、両端固定梁の上記薄膜両
端固定梁２の場合には、上記薄膜両端固定梁２の両端の
上記分割固定部６を、上記基板５に保持固定されて、拘
束されているので、自由振動が発生し難い。又、残留応
力があっても、上記薄膜両端固定梁２の位置は、両端の
上記分割固定部６の拘束点で決められているので、上記
薄膜両端固定梁２が変形する事も無く、また経時変化が
少ない。次に、応答速度について、片持ち梁の場合は自
由振動に起因して、信号応答性が悪くなる。両端固定梁
の上記薄膜両端固定梁２の場合には、自由振動の問題が
無いので応答速度も速くなる。更に、上記光変調装置０
における両端固定梁の上記薄膜両端固定梁２は、両端の
上記分割固定部６の固定端が複数に分割されている。こ
れにより変形に要する電圧を低くすることができる。
接触し短絡することを、保護膜３ａが、防ぐ作用をす
る。上記保護膜３ａとしては、絶縁性材料が、中でも真
空成膜法による酸化膜を用いるのが一般的である。上記
保護膜３ａには、上記基板電極３と外部信号とを接続す
る部分として一部に開口部９を形成することもある。上
記保護膜３ａの表面には、疎水性材料を形成する事によ
り上記基板５上の上記保護膜３ａの表面、又は、上記薄
膜両端固定梁２の表面に吸着した水分子の架橋力によ
り、上記薄膜両端固定梁２が上記保護膜３ａ等と固着し
てしまうことが防止され、疎水性材料としてはフッ素を
含有する材料を用いることにより、信頼性の高い上記光
変調装置０を提供することが出来るようになった。上記
光変調装置０は、上記薄膜両端固定梁２の両端の固定部
を分割した上記分割固定部６により、光をスイッチする
上記薄膜両端固定梁２の両端を上記基板５が保持固定す
る、両端固定梁の上記薄膜両端固定梁２になっている。
上記光変調装置０の上記薄膜両端固定梁２は、片持ち梁
に比べて、１．安定性と、２．応答速度の２点で優れて
いる。まず、安定性は、片持ち梁は静電力が解放され
て、片持ち梁の撓みが回復するときに振動する。これ
は、片持ち梁の一端のみが固定されていることによる、
片持ち梁の自由振動が発生するためである。又、片持ち
梁を薄膜で形成する場合には、残留応力が発生する。片
持ち梁の場合、残留応力により片持ち梁が変形する。し
かも、残留応力は時間を経て緩和されるために、片持ち
梁の変形状態が経時変化する。以上の理由で片持ち梁は
安定性が悪い。これに対して、両端固定梁の上記薄膜両
端固定梁２の場合には、上記薄膜両端固定梁２の両端の
上記分割固定部６を、上記基板５に保持固定されて、拘
束されているので、自由振動が発生し難い。又、残留応
力があっても、上記薄膜両端固定梁２の位置は、両端の
上記分割固定部６の拘束点で決められているので、上記
薄膜両端固定梁２が変形する事も無く、また経時変化が
少ない。次に、応答速度について、片持ち梁の場合は自
由振動に起因して、信号応答性が悪くなる。両端固定梁
の上記薄膜両端固定梁２の場合には、自由振動の問題が
無いので応答速度も速くなる。更に、上記光変調装置０
における両端固定梁の上記薄膜両端固定梁２は、両端の
上記分割固定部６の固定端が複数に分割されている。こ
れにより変形に要する電圧を低くすることができる。
【００１２】等分布加重Ｐを受けた正方形で板厚ｈの両
端固定梁の最大たわみ量ω1は、 ω1＝０．０２５＊Ｐａ4／Ｅｈ3 で表わされる。一方、固定条件を除いた同様な梁の最大
たわみ量ω2は、 ω2＝０．０４５＊Ｐａ4／Ｅｈ3 となり、約２倍の撓み量になる。上記光変調装置０にお
ける両端固定梁の上記薄膜両端固定梁２の両端の上記分
割固定部６の固定端が複数に分割されている撓み量は、
上記ω1とω2との合成量になり、撓み量は増加するの
で、静電力が小さくて済み、結果として撓みに要する電
圧は低くなる。上記分割固定部６の分割の方法は、種々
可能であり、図示では２つに分割しているが、さらに多
くの分割数に分割することも可能である。分割する場合
には、上記薄膜両端固定梁２の両端のコーナー部を固定
することにより、上記光変調装置０の動作を安定させる
ことが可能である。上記薄膜両端固定梁２のコーナー部
が上記分割固定部６でない場合には、静電力により上記
薄膜両端固定梁２が変形するときに、上記薄膜両端固定
梁２のコーナー部が多く変形するために斜めに変形し
て、入射光の反射方向が安定しない原因になる。然し、
上記光変調装置０は、両端固定梁の上記薄膜両端固定梁
２の両端の固定部を複数に分割する上記分割固定部６
は、上記薄膜両端固定梁２のコーナー部を固定すること
で、入射光の反射方向を安定化させる。又、上記光変調
装置０では、上記薄膜両端固定梁２の上記分割固定部６
を複数に分割する場合に、上記分割固定部６と上記薄膜
両端固定梁２との接続部が滑らか形状部７の滑らか外形
で接続されている。これは接続部におい静電力による曲
げ応力の集中を防ぐためである。応力を受ける上記薄膜
両端固定梁２の外形が急激に変化する場合にその変化の
一番大きな部分に応力が集中する。応力の集中により、
作用している応力が破壊応力より小さい場合でも上記薄
膜両端固定梁２が破壊する可能性が高くなる。上記光変
調装置０は、分割した上記分割固定部６と上記薄膜両端
固定梁２との接続部が上記滑らか形状部７により滑らか
形状にすることにより、応力の集中を防ぎ、信頼性も向
上している。上記滑らか形状部７の形状としては、図１
１に図示したような円弧の一部形状７ａ、又は、図１２
に図示したような長円弧の一部形状７ｂが望ましく、上
記薄膜両端固定梁２と上記分割固定部６の接続部におけ
る応力の集中と破壊を確実に防ぎ信頼性も向上した上記
光変調装置０を提供することが出来るようになった。
端固定梁の最大たわみ量ω1は、 ω1＝０．０２５＊Ｐａ4／Ｅｈ3 で表わされる。一方、固定条件を除いた同様な梁の最大
たわみ量ω2は、 ω2＝０．０４５＊Ｐａ4／Ｅｈ3 となり、約２倍の撓み量になる。上記光変調装置０にお
ける両端固定梁の上記薄膜両端固定梁２の両端の上記分
割固定部６の固定端が複数に分割されている撓み量は、
上記ω1とω2との合成量になり、撓み量は増加するの
で、静電力が小さくて済み、結果として撓みに要する電
圧は低くなる。上記分割固定部６の分割の方法は、種々
可能であり、図示では２つに分割しているが、さらに多
くの分割数に分割することも可能である。分割する場合
には、上記薄膜両端固定梁２の両端のコーナー部を固定
することにより、上記光変調装置０の動作を安定させる
ことが可能である。上記薄膜両端固定梁２のコーナー部
が上記分割固定部６でない場合には、静電力により上記
薄膜両端固定梁２が変形するときに、上記薄膜両端固定
梁２のコーナー部が多く変形するために斜めに変形し
て、入射光の反射方向が安定しない原因になる。然し、
上記光変調装置０は、両端固定梁の上記薄膜両端固定梁
２の両端の固定部を複数に分割する上記分割固定部６
は、上記薄膜両端固定梁２のコーナー部を固定すること
で、入射光の反射方向を安定化させる。又、上記光変調
装置０では、上記薄膜両端固定梁２の上記分割固定部６
を複数に分割する場合に、上記分割固定部６と上記薄膜
両端固定梁２との接続部が滑らか形状部７の滑らか外形
で接続されている。これは接続部におい静電力による曲
げ応力の集中を防ぐためである。応力を受ける上記薄膜
両端固定梁２の外形が急激に変化する場合にその変化の
一番大きな部分に応力が集中する。応力の集中により、
作用している応力が破壊応力より小さい場合でも上記薄
膜両端固定梁２が破壊する可能性が高くなる。上記光変
調装置０は、分割した上記分割固定部６と上記薄膜両端
固定梁２との接続部が上記滑らか形状部７により滑らか
形状にすることにより、応力の集中を防ぎ、信頼性も向
上している。上記滑らか形状部７の形状としては、図１
１に図示したような円弧の一部形状７ａ、又は、図１２
に図示したような長円弧の一部形状７ｂが望ましく、上
記薄膜両端固定梁２と上記分割固定部６の接続部におけ
る応力の集中と破壊を確実に防ぎ信頼性も向上した上記
光変調装置０を提供することが出来るようになった。
【００１３】図３と図４において、上記薄膜両端固定梁
２に静電力が作用していない時に、上記薄膜両端固定梁
２は、両端の上記分割固定部６により上記基板５に保持
固定されている。その時の、入射光束（Ｒ）は上記薄膜
両端固定梁２の側面に組み合わせ構成された上記反射手
段１の表面で正反射し、矢印で示されるように光束
（Ｒ）は進行する(図３を参照)。この状態での入射光束
（Ｒ）が反射した方向から眺めると、上記薄膜両端固定
梁２の側面に組み合わせ構成された上記反射手段１の表
面で正反射により明るく、ＯＮ状態となる。上記薄膜両
端固定梁２と上記基板電極３間に駆動電圧を印加し、上
記薄膜両端固定梁２に静電力を作用させると、上記薄膜
両端固定梁２は上記基板電極３側に引きつけられるよう
に撓み、上記薄膜両端固定梁２の側面に組み合わせ構成
された上記反射手段１の表面が撓むために、入射光束
（Ｒ）は上記薄膜両端固定梁２の撓みの影響を受け、反
射光の方向が乱れる（図４を参照）。この状態は、入射
光束（Ｒ）の反射方向が乱れるために暗く、ＯＦＦ状態
となり、よって上記光変調装置０により光変調が行なわ
れる。
２に静電力が作用していない時に、上記薄膜両端固定梁
２は、両端の上記分割固定部６により上記基板５に保持
固定されている。その時の、入射光束（Ｒ）は上記薄膜
両端固定梁２の側面に組み合わせ構成された上記反射手
段１の表面で正反射し、矢印で示されるように光束
（Ｒ）は進行する(図３を参照)。この状態での入射光束
（Ｒ）が反射した方向から眺めると、上記薄膜両端固定
梁２の側面に組み合わせ構成された上記反射手段１の表
面で正反射により明るく、ＯＮ状態となる。上記薄膜両
端固定梁２と上記基板電極３間に駆動電圧を印加し、上
記薄膜両端固定梁２に静電力を作用させると、上記薄膜
両端固定梁２は上記基板電極３側に引きつけられるよう
に撓み、上記薄膜両端固定梁２の側面に組み合わせ構成
された上記反射手段１の表面が撓むために、入射光束
（Ｒ）は上記薄膜両端固定梁２の撓みの影響を受け、反
射光の方向が乱れる（図４を参照）。この状態は、入射
光束（Ｒ）の反射方向が乱れるために暗く、ＯＦＦ状態
となり、よって上記光変調装置０により光変調が行なわ
れる。
【００１４】図５と図６において、上記薄膜両端固定梁
２の下に形成されている上記空隙４が上記薄膜両端固定
梁２に対して非平行に形成されている（図５を参照）。
上記空隙４の上記薄膜両端固定梁２に対して非平行な形
状は、上記薄膜両端固定梁２の変形に有する電圧を小さ
くするために有効である。上記薄膜両端固定梁２に作用
する静電力は、上記薄膜両端固定梁２と上記基板電極３
の間の距離の２乗に反比例する。即ち、上記薄膜両端固
定梁２と上記基板電極３間の距離が短いほど作用する静
電力が大きい。そのため、駆動電圧を印加すると、上記
薄膜両端固定梁２は上記空隙４の狭い部分より変形を始
める。又、上記薄膜両端固定梁２の変形により順次、上
記空隙４が狭くなり、平行な場合よりも低い電圧で、上
記薄膜両端固定梁２の変形が進行して、変形した上記薄
膜両端固定梁２は上記空隙４の底部と接している（図６
を参照）。このような変形状態にすることにより、変形
した上記薄膜両端固定梁２の形状は、上記空隙４の形状
により常に一定形状に定まり、入射光束（Ｒ）の反射方
向も一定になる。
２の下に形成されている上記空隙４が上記薄膜両端固定
梁２に対して非平行に形成されている（図５を参照）。
上記空隙４の上記薄膜両端固定梁２に対して非平行な形
状は、上記薄膜両端固定梁２の変形に有する電圧を小さ
くするために有効である。上記薄膜両端固定梁２に作用
する静電力は、上記薄膜両端固定梁２と上記基板電極３
の間の距離の２乗に反比例する。即ち、上記薄膜両端固
定梁２と上記基板電極３間の距離が短いほど作用する静
電力が大きい。そのため、駆動電圧を印加すると、上記
薄膜両端固定梁２は上記空隙４の狭い部分より変形を始
める。又、上記薄膜両端固定梁２の変形により順次、上
記空隙４が狭くなり、平行な場合よりも低い電圧で、上
記薄膜両端固定梁２の変形が進行して、変形した上記薄
膜両端固定梁２は上記空隙４の底部と接している（図６
を参照）。このような変形状態にすることにより、変形
した上記薄膜両端固定梁２の形状は、上記空隙４の形状
により常に一定形状に定まり、入射光束（Ｒ）の反射方
向も一定になる。
【００１５】図７と図８において、上記薄膜両端固定梁
２の下に形成されている上記空隙４が、上記薄膜両端固
定梁２の中央部が最大空隙部４ａになっていて、上記空
隙４を形成する上記基板５の上記空隙４部分の形状は、
両端の各上記固定部６から、上記薄膜両端固定梁２の中
央部に向かって概ね直線の各直線形状部５ａで、各上記
固定部６端からの形状が対称に形成されている。上記薄
膜両端固定梁２の中央部に相当する部分が上記最大空隙
４ａになっている上記空隙４の形状では、同じ深さの上
記空隙４の中では、入射光束に対する反射方向を一番大
きく取れる形状である。この形状にすることで光の偏向
角を大きくすることができ、反射光の広がりが押さえら
れ、クロストークの向上に有利な形状である。又、上記
空隙４の形状が対称形状に形成されているので、入射光
束の２つの反射光束も対称になるのでシステム設計が容
易である。
２の下に形成されている上記空隙４が、上記薄膜両端固
定梁２の中央部が最大空隙部４ａになっていて、上記空
隙４を形成する上記基板５の上記空隙４部分の形状は、
両端の各上記固定部６から、上記薄膜両端固定梁２の中
央部に向かって概ね直線の各直線形状部５ａで、各上記
固定部６端からの形状が対称に形成されている。上記薄
膜両端固定梁２の中央部に相当する部分が上記最大空隙
４ａになっている上記空隙４の形状では、同じ深さの上
記空隙４の中では、入射光束に対する反射方向を一番大
きく取れる形状である。この形状にすることで光の偏向
角を大きくすることができ、反射光の広がりが押さえら
れ、クロストークの向上に有利な形状である。又、上記
空隙４の形状が対称形状に形成されているので、入射光
束の２つの反射光束も対称になるのでシステム設計が容
易である。
【００１６】図９と図１０において、上記薄膜両端固定
梁２の下に形成されている上記空隙４が、上記薄膜両端
固定梁２の中央部が上記最大空隙４ａになっていて、上
記空隙４を形成する上記基板５の上記空隙４部分の形状
は、両端の各上記固定部６から、上記薄膜両端固定梁２
の中央部に向かって概ね上記薄膜両端固定梁２側に凸形
状の凸形状部５ｂで、各上記固定部６端からの形状が対
象に形成されている。従って、上記薄膜両端固定梁２
が、静電力により変形を開始するときに、上記空隙４が
上記凸形状部５ｂにより上記薄膜両端固定梁２側に凸形
状であるので、直線形状より上記基板電極３間距離が小
さくなり、変形しやすくなる。よって、更に、上記薄膜
両端固定梁２の駆動電圧の低電圧化が可能の上記変調装
置０を提供することが出来るようになった。
梁２の下に形成されている上記空隙４が、上記薄膜両端
固定梁２の中央部が上記最大空隙４ａになっていて、上
記空隙４を形成する上記基板５の上記空隙４部分の形状
は、両端の各上記固定部６から、上記薄膜両端固定梁２
の中央部に向かって概ね上記薄膜両端固定梁２側に凸形
状の凸形状部５ｂで、各上記固定部６端からの形状が対
象に形成されている。従って、上記薄膜両端固定梁２
が、静電力により変形を開始するときに、上記空隙４が
上記凸形状部５ｂにより上記薄膜両端固定梁２側に凸形
状であるので、直線形状より上記基板電極３間距離が小
さくなり、変形しやすくなる。よって、更に、上記薄膜
両端固定梁２の駆動電圧の低電圧化が可能の上記変調装
置０を提供することが出来るようになった。
【００１７】図１３において、上記光変調装置０は、１
次元アレー形状０ａに配列して、上記薄膜両端固定梁２
を駆動する上記基板電極３と外部の図示しない駆動信号
ラインとのコンタクト部分となる上記開口部９を、上記
１次元アレー形状０ａの両端に配置されているので、ラ
イン状の光変調が可能でコンパクトな上記１次元アレー
形状０ａの上記光変調装置０を提供することが出来るよ
うになった。図１４と図１５において、上記光変調装置
０は、２次元アレー形状０ｂに配列して、上記基板電極
３と上記空隙４は、上記基板５のシリコンウエハー５ｃ
に形成した層間絶縁膜５ｄ中に形成されている。各々の
上記薄膜両端固定梁２を駆動する上記基板電極３は、上
記空隙４内に形成され、上記層間絶縁膜５ｄを貫通して
上記基板シリコンウエハー５ｃ内で図示しない駆動信号
ラインと接続されようになっているので、平面状の光変
調が可能となり、コンパクトな上記２次元アレー形状０
ｂの上記光変調装置０を提供することが出来るようにな
った。
次元アレー形状０ａに配列して、上記薄膜両端固定梁２
を駆動する上記基板電極３と外部の図示しない駆動信号
ラインとのコンタクト部分となる上記開口部９を、上記
１次元アレー形状０ａの両端に配置されているので、ラ
イン状の光変調が可能でコンパクトな上記１次元アレー
形状０ａの上記光変調装置０を提供することが出来るよ
うになった。図１４と図１５において、上記光変調装置
０は、２次元アレー形状０ｂに配列して、上記基板電極
３と上記空隙４は、上記基板５のシリコンウエハー５ｃ
に形成した層間絶縁膜５ｄ中に形成されている。各々の
上記薄膜両端固定梁２を駆動する上記基板電極３は、上
記空隙４内に形成され、上記層間絶縁膜５ｄを貫通して
上記基板シリコンウエハー５ｃ内で図示しない駆動信号
ラインと接続されようになっているので、平面状の光変
調が可能となり、コンパクトな上記２次元アレー形状０
ｂの上記光変調装置０を提供することが出来るようにな
った。
【００１８】図１６乃至２７において、上記光変調装置
０は、上記基板５上に上記薄膜両端固定梁２と上記基板
電極３が対応して形成される上記空隙４を形成した後
に、犠牲材料からなる犠牲材料層８を形成して上記基板
５上を平坦化して、上記薄膜両端固定梁２と分割固定部
６を形成後に、上記犠牲材料層８を除去するように、上
記基板５上に薄膜形成方法又は微細加工方法により上記
薄膜両端固定梁２と上記基板電極３とが対向して形成さ
れる上記空隙４を形成する空隙形成工程（ａ）と、上記
基板５上の上記空隙４の底部に上記基板電極３の全部、
又は、一部を形成する基板電極形成工程（ｂ）と、上記
基板５上の上記空隙４に犠牲材料からなる上記犠牲材料
層８を形成した後に研磨して平坦化する犠牲材料層形成
工程（ｃ）と、上記犠牲材料層８上に薄膜両端固定梁２
と上記分割固定部６を形成する薄膜両端固定梁と分割固
定部の成膜形成工程（ｄ）と、上記空隙４内の上記犠牲
材料層８を除去する犠牲材料層除去工程ｅと、上記基板
電極３の外部接続用の開口部９を形成する開口部形成工
程（ｆ）とで製造される。空隙形成工程（ａ）におい
て、上記基板５は、酸化膜を形成したシリコン基板であ
る。上記基板５にフォトリソグラフィー、及び、ドライ
エッチングの手法により上記空隙４を形成する。面積階
調のパターンを形成したフォトマスク、あるいは、レジ
スト材料の熱変形手法などを用いれば非平行な上記空隙
４を形成する事が出来る。上記空隙４は、幅２０μｍ、
深さ２．４μｍに形成した（図１６と図１７を参照）。
基板電極形成工程（ｂ）において、上記空隙４中に上記
基板電極３をＴｉＮの薄膜で形成する。ＴｉＮ薄膜は、
Ｔｉをターゲットとしたスパッタ法により厚さ０．０１
μｍに成膜した。ＴｉＮ薄膜をフォトリソグラフィー、
及び、ドライエッチングの手法に上記基板電極３として
幅２０μｍに形成した。上記基板電極３の一部は外部と
接続するために上記空隙４から上記基板５の表面にせり
出ている（図１８と図１９を参照）。犠牲材料層形成工
程（ｃ）において、上記保護膜３ａとしてプラズマＣＶ
Ｄの手法で形成した酸化膜を上記基板電極３を覆うよう
に上記基板５上に上記空隙４が埋まるまで成膜した。上
記保護膜３ａを研磨、あるいはドライエッチングのエッ
チバックの手法により平坦化した（図２０と図２１を参
照）。
０は、上記基板５上に上記薄膜両端固定梁２と上記基板
電極３が対応して形成される上記空隙４を形成した後
に、犠牲材料からなる犠牲材料層８を形成して上記基板
５上を平坦化して、上記薄膜両端固定梁２と分割固定部
６を形成後に、上記犠牲材料層８を除去するように、上
記基板５上に薄膜形成方法又は微細加工方法により上記
薄膜両端固定梁２と上記基板電極３とが対向して形成さ
れる上記空隙４を形成する空隙形成工程（ａ）と、上記
基板５上の上記空隙４の底部に上記基板電極３の全部、
又は、一部を形成する基板電極形成工程（ｂ）と、上記
基板５上の上記空隙４に犠牲材料からなる上記犠牲材料
層８を形成した後に研磨して平坦化する犠牲材料層形成
工程（ｃ）と、上記犠牲材料層８上に薄膜両端固定梁２
と上記分割固定部６を形成する薄膜両端固定梁と分割固
定部の成膜形成工程（ｄ）と、上記空隙４内の上記犠牲
材料層８を除去する犠牲材料層除去工程ｅと、上記基板
電極３の外部接続用の開口部９を形成する開口部形成工
程（ｆ）とで製造される。空隙形成工程（ａ）におい
て、上記基板５は、酸化膜を形成したシリコン基板であ
る。上記基板５にフォトリソグラフィー、及び、ドライ
エッチングの手法により上記空隙４を形成する。面積階
調のパターンを形成したフォトマスク、あるいは、レジ
スト材料の熱変形手法などを用いれば非平行な上記空隙
４を形成する事が出来る。上記空隙４は、幅２０μｍ、
深さ２．４μｍに形成した（図１６と図１７を参照）。
基板電極形成工程（ｂ）において、上記空隙４中に上記
基板電極３をＴｉＮの薄膜で形成する。ＴｉＮ薄膜は、
Ｔｉをターゲットとしたスパッタ法により厚さ０．０１
μｍに成膜した。ＴｉＮ薄膜をフォトリソグラフィー、
及び、ドライエッチングの手法に上記基板電極３として
幅２０μｍに形成した。上記基板電極３の一部は外部と
接続するために上記空隙４から上記基板５の表面にせり
出ている（図１８と図１９を参照）。犠牲材料層形成工
程（ｃ）において、上記保護膜３ａとしてプラズマＣＶ
Ｄの手法で形成した酸化膜を上記基板電極３を覆うよう
に上記基板５上に上記空隙４が埋まるまで成膜した。上
記保護膜３ａを研磨、あるいはドライエッチングのエッ
チバックの手法により平坦化した（図２０と図２１を参
照）。
【００１９】薄膜両端固定梁と分割固定部の成膜形成工
程（ｄ）において、平坦化した上記保護膜３ａの上に上
記薄膜両端固定梁２の材料となる窒化シリコン膜を熱Ｃ
ＶＤの手法により厚さ０．０４μｍで全面成膜した。次
いで、入射光束の反射面となる上記反射手段１のＡｌ薄
膜を０．１５μｍの厚さで窒化シリコン膜上にスパッタ
法により形成した。フォトリソグラフィー、及び、ドラ
イエッチングの手法により上記反射手段１の反射膜層も
含んで窒化シリコンの膜を上記分割固定部６の２箇所に
分割された接続部で固定された上記薄膜両端固定梁２の
形状に形成する。上記薄膜両端固定梁２の寸法は、幅２
０μｍ、長さ２７μｍである。上記分割固定部６の分割
された接続部は各々上記薄膜両端固定梁２のコーナー部
に位置し、その寸法は幅５μｍである（図２２と図２３
を参照）。犠牲材料層除去工程（ｅ）において、上記薄
膜両端固定梁２を形成後に上記空隙４を平坦化していた
上記保護膜３ａをエッチングにより除去すると、上記薄
膜両端固定梁２は両端の上記分割固定部６の２箇所に分
割された接続部で上記基板５に固定されて上記空隙４を
介して保持固定される（図２４と図２５を参照）。開口
部形成工程（ｆ）において、最後に上記保護膜３ａに上
記基板電極３の外部接続用の上記開口部９を形成して、
上記光変調装置０が完成する（図２６と図２７を参
照）。従って、入射光の反射方向を変えて光変調を行う
構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も
高く、製造工程が少なく低コストの上記光変調装置０を
製造する光変調装置の製造方法を提供することが出来る
ようになった。
程（ｄ）において、平坦化した上記保護膜３ａの上に上
記薄膜両端固定梁２の材料となる窒化シリコン膜を熱Ｃ
ＶＤの手法により厚さ０．０４μｍで全面成膜した。次
いで、入射光束の反射面となる上記反射手段１のＡｌ薄
膜を０．１５μｍの厚さで窒化シリコン膜上にスパッタ
法により形成した。フォトリソグラフィー、及び、ドラ
イエッチングの手法により上記反射手段１の反射膜層も
含んで窒化シリコンの膜を上記分割固定部６の２箇所に
分割された接続部で固定された上記薄膜両端固定梁２の
形状に形成する。上記薄膜両端固定梁２の寸法は、幅２
０μｍ、長さ２７μｍである。上記分割固定部６の分割
された接続部は各々上記薄膜両端固定梁２のコーナー部
に位置し、その寸法は幅５μｍである（図２２と図２３
を参照）。犠牲材料層除去工程（ｅ）において、上記薄
膜両端固定梁２を形成後に上記空隙４を平坦化していた
上記保護膜３ａをエッチングにより除去すると、上記薄
膜両端固定梁２は両端の上記分割固定部６の２箇所に分
割された接続部で上記基板５に固定されて上記空隙４を
介して保持固定される（図２４と図２５を参照）。開口
部形成工程（ｆ）において、最後に上記保護膜３ａに上
記基板電極３の外部接続用の上記開口部９を形成して、
上記光変調装置０が完成する（図２６と図２７を参
照）。従って、入射光の反射方向を変えて光変調を行う
構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も
高く、製造工程が少なく低コストの上記光変調装置０を
製造する光変調装置の製造方法を提供することが出来る
ようになった。
【００２０】図２８において、電子写真プロセスで光書
き込みを行なって画像を形成する画像形成装置１００
は、図示の矢印Ａ方向に回動可能に保持されて形成画像
を担持する画像担持体１０１のドラム形状の感光体と、
帯電手段１０５で均一に帯電された上記画像担持体１０
１のドラム形状の感光体上を上記光変調装置０からなる
潜像形成手段１０２で光書き込みを行なって潜像を形成
し、上記潜像形成手段１０２の上記光変調装置０によっ
て形成された潜像を現像手段１０３で顕像化してトナー
画像を形成し、上記現像手段１０３で形成されたトナー
画像を転写手段１０４で被転写体（Ｐ）の転写用紙に転
写して、被転写体（Ｐ）の転写用紙に転写されたトナー
画像を定着手段１０６で定着した後に、被転写体（Ｐ）
の転写用紙を排紙トレイ１０７に排紙して収納される。
他方、トナー画像を上記転写手段１０４で被転写体
（Ｐ）の転写用紙に転写した後の上記画像担持体１０１
のドラム形状の感光体は、クリーニング手段１０８でク
リーニングされて次工程の画像形成に備えるようになっ
ている。上記潜像形成手段１０２は、光源１０２ａから
の入射光束（Ｒ）を、第１のレンズシステム１０２ｂを
介して上記１次元アレー形状０ａに複数個配置された上
記光変調装置０に照射し、各々上記光変調装置０は画像
情報に応じて、上記反射手段１を通じて入射光束（Ｒ）
を第２のレンズシステム１０２ｃを通じて上記画像担持
体１０１のドラム形状の感光体上の表面に結像させるよ
うになっている。従って、入射光の反射方向を変えて光
変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の
波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が安定
で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの上記光変
調装置０を具備する上記画像形成装置１００を提供する
ことが出来るようになった。
き込みを行なって画像を形成する画像形成装置１００
は、図示の矢印Ａ方向に回動可能に保持されて形成画像
を担持する画像担持体１０１のドラム形状の感光体と、
帯電手段１０５で均一に帯電された上記画像担持体１０
１のドラム形状の感光体上を上記光変調装置０からなる
潜像形成手段１０２で光書き込みを行なって潜像を形成
し、上記潜像形成手段１０２の上記光変調装置０によっ
て形成された潜像を現像手段１０３で顕像化してトナー
画像を形成し、上記現像手段１０３で形成されたトナー
画像を転写手段１０４で被転写体（Ｐ）の転写用紙に転
写して、被転写体（Ｐ）の転写用紙に転写されたトナー
画像を定着手段１０６で定着した後に、被転写体（Ｐ）
の転写用紙を排紙トレイ１０７に排紙して収納される。
他方、トナー画像を上記転写手段１０４で被転写体
（Ｐ）の転写用紙に転写した後の上記画像担持体１０１
のドラム形状の感光体は、クリーニング手段１０８でク
リーニングされて次工程の画像形成に備えるようになっ
ている。上記潜像形成手段１０２は、光源１０２ａから
の入射光束（Ｒ）を、第１のレンズシステム１０２ｂを
介して上記１次元アレー形状０ａに複数個配置された上
記光変調装置０に照射し、各々上記光変調装置０は画像
情報に応じて、上記反射手段１を通じて入射光束（Ｒ）
を第２のレンズシステム１０２ｃを通じて上記画像担持
体１０１のドラム形状の感光体上の表面に結像させるよ
うになっている。従って、入射光の反射方向を変えて光
変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の
波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が安定
で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの上記光変
調装置０を具備する上記画像形成装置１００を提供する
ことが出来るようになった。
【００２１】図２９において、画像を投影して表示する
画像投影表示装置２００は、投影画像データの入射光束
（Ｒ）の反射方向を変えて光変調を行なって画像を投影
する上記２次元アレー形状０ｂに複数個配置された上記
光変調装置０からなる光スイッチ手段２０１の上記光変
調装置０が画像を投影スクリューン２０２に投影して表
示するようになっている。上記光スイッチ手段２０１
は、光源２０１ａからの入射光束（Ｒ）を上記２次元ア
レー形状０ｂに複数個配置された上記光変調装置０に照
射され、上記光変調装置０の上記反射手段１のミラーに
より反射し、投影レンズ２０１ｂ、及び、絞り２０１ｃ
を介して上記投影スクリューン２０２に投影する。カラ
ー表示を行うためには、上記光源２０１ａの前に回転カ
ラーホール２０１ｄを設けたり、又、性能向上のために
マイクロレンズアレー２０１ｅを用いることも出来る。
従って、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が
簡単で応答も速く、使用する入射光（Ｒ）の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も
高く、製造工程が少なく低コストの上記光変調装置０を
具備する上記画像投影表示装置２００を提供することが
出来るようになった。
画像投影表示装置２００は、投影画像データの入射光束
（Ｒ）の反射方向を変えて光変調を行なって画像を投影
する上記２次元アレー形状０ｂに複数個配置された上記
光変調装置０からなる光スイッチ手段２０１の上記光変
調装置０が画像を投影スクリューン２０２に投影して表
示するようになっている。上記光スイッチ手段２０１
は、光源２０１ａからの入射光束（Ｒ）を上記２次元ア
レー形状０ｂに複数個配置された上記光変調装置０に照
射され、上記光変調装置０の上記反射手段１のミラーに
より反射し、投影レンズ２０１ｂ、及び、絞り２０１ｃ
を介して上記投影スクリューン２０２に投影する。カラ
ー表示を行うためには、上記光源２０１ａの前に回転カ
ラーホール２０１ｄを設けたり、又、性能向上のために
マイクロレンズアレー２０１ｅを用いることも出来る。
従って、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が
簡単で応答も速く、使用する入射光（Ｒ）の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も
高く、製造工程が少なく低コストの上記光変調装置０を
具備する上記画像投影表示装置２００を提供することが
出来るようになった。
【００２２】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、請求項１の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の
他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜
両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板電
極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した
分割固定部を保持して固定するようにしたので、入射光
の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動
電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストの光変調装置を提供することが出来るように
なった。請求項２の発明によれば、入射光を正反射する
金属薄膜からなる反射手段を側面に組み合わせ構成する
薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜
両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基
板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の
底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定
部を分割した分割固定部を保持して固定するようにした
ので、反射手段が電極と兼用され、入射光の反射方向を
変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作
動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく更に低コス
トの光変調装置を提供することが出来るようになった。
請求項３の発明によれば、入射光を正反射する反射手段
を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定
されて静電力で変形する単結晶シリコン薄膜からなる薄
膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する
基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙
の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固
定部を分割した分割固定部を保持して固定するようにし
たので、薄膜両端固定梁は欠陥が少なく寿命も長くな
り、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造
工程が少なく低コストの光変調装置を提供することが出
来るようになった。
ているので、請求項１の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の
他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜
両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板電
極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した
分割固定部を保持して固定するようにしたので、入射光
の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動
電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストの光変調装置を提供することが出来るように
なった。請求項２の発明によれば、入射光を正反射する
金属薄膜からなる反射手段を側面に組み合わせ構成する
薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜
両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基
板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の
底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定
部を分割した分割固定部を保持して固定するようにした
ので、反射手段が電極と兼用され、入射光の反射方向を
変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作
動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく更に低コス
トの光変調装置を提供することが出来るようになった。
請求項３の発明によれば、入射光を正反射する反射手段
を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定
されて静電力で変形する単結晶シリコン薄膜からなる薄
膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する
基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙
の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固
定部を分割した分割固定部を保持して固定するようにし
たので、薄膜両端固定梁は欠陥が少なく寿命も長くな
り、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造
工程が少なく低コストの光変調装置を提供することが出
来るようになった。
【００２３】請求項４の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する多結晶シリコン薄
膜からなる薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電
圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形
成される空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両
端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保持して固定
するようにしたので、薄膜両端固定梁は製造方法にＣＶ
Ｄ等の手法を用いることが出来るので低コストとなり、
入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応
答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工
程が少なく更に低コストの光変調装置を提供することが
出来るようになった。請求項５の発明によれば、入射光
を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜
で形成され両端が固定されて静電力で変形するアモルフ
ァスシリコン薄膜からなる薄膜両端固定梁の他方側面に
対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁
とが対応して形成される空隙の底部に基板電極を形成し
た基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定部
を保持して固定するようにしたので、薄膜両端固定梁は
製造方法にＣＶＤ等の手法を用いることが出来るので低
コストとなり、入射光の反射方向を変えて光変調を行う
構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も
高く、製造工程が少なく更に低コストの光変調装置を提
供することが出来るようになった。請求項６の発明によ
れば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ
構成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形
する窒化シリコン薄膜からなる薄膜両端固定梁の他方側
面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固
定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板電極を形
成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固
定部を保持して固定するようにしたので、薄膜両端固定
梁は窒化シリコン薄膜の引っ張り応力の作用によりスイ
ッチングの応答速度が速くなり、入射光の反射方向を変
えて光変調を行う構造が簡単で応答も更に速く、使用す
る入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く
作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく更に低コ
ストの光変調装置を提供することが出来るようになっ
た。
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する多結晶シリコン薄
膜からなる薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電
圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形
成される空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両
端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保持して固定
するようにしたので、薄膜両端固定梁は製造方法にＣＶ
Ｄ等の手法を用いることが出来るので低コストとなり、
入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応
答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工
程が少なく更に低コストの光変調装置を提供することが
出来るようになった。請求項５の発明によれば、入射光
を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜
で形成され両端が固定されて静電力で変形するアモルフ
ァスシリコン薄膜からなる薄膜両端固定梁の他方側面に
対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁
とが対応して形成される空隙の底部に基板電極を形成し
た基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定部
を保持して固定するようにしたので、薄膜両端固定梁は
製造方法にＣＶＤ等の手法を用いることが出来るので低
コストとなり、入射光の反射方向を変えて光変調を行う
構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も
高く、製造工程が少なく更に低コストの光変調装置を提
供することが出来るようになった。請求項６の発明によ
れば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ
構成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形
する窒化シリコン薄膜からなる薄膜両端固定梁の他方側
面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固
定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板電極を形
成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固
定部を保持して固定するようにしたので、薄膜両端固定
梁は窒化シリコン薄膜の引っ張り応力の作用によりスイ
ッチングの応答速度が速くなり、入射光の反射方向を変
えて光変調を行う構造が簡単で応答も更に速く、使用す
る入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く
作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく更に低コ
ストの光変調装置を提供することが出来るようになっ
た。
【００２４】請求項７の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の
他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜
両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板電
極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した
分割固定部を保持して固定すると共に分割固定部は薄膜
両端固定梁のコーナ部に形成するようにしたので、入射
光の反射方向が安定化して、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光
の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が更
に安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの光
変調装置を提供することが出来るようになった。請求項
８の発明によれば、入射光を正反射する反射手段を側面
に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて
静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に対向して
駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応
して形成される空隙の底部に基板電極を形成した基板が
薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保持し
て固定すると共に分割固定部は薄膜両端固定梁と滑らか
形状部で接続するようにしたので、分割固定部と薄膜両
端固定梁の接続部における応力の集中と破壊を防ぎ信頼
性も向上し、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構
造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限さ
れることなく、駆動電圧が低く作動が安定で更に信頼性
も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供
することが出来るようになった。請求項９の発明によれ
ば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構
成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形す
る薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加
する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される
空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁
の固定部を分割した分割固定部を保持して固定すると共
に分割固定部は薄膜両端固定梁と滑らか形状部の円弧の
一部形状又は長円弧の一部形状で接続するようにしたの
で、薄膜両端固定梁と分割固定部の接続部における応力
の集中と破壊を確実に防ぎ信頼性も向上し、入射光の反
射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、
使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧
が低く作動が安定で更に信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストの光変調装置を提供することが出来るように
なった。
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の
他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜
両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板電
極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した
分割固定部を保持して固定すると共に分割固定部は薄膜
両端固定梁のコーナ部に形成するようにしたので、入射
光の反射方向が安定化して、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光
の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が更
に安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの光
変調装置を提供することが出来るようになった。請求項
８の発明によれば、入射光を正反射する反射手段を側面
に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて
静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に対向して
駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応
して形成される空隙の底部に基板電極を形成した基板が
薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保持し
て固定すると共に分割固定部は薄膜両端固定梁と滑らか
形状部で接続するようにしたので、分割固定部と薄膜両
端固定梁の接続部における応力の集中と破壊を防ぎ信頼
性も向上し、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構
造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限さ
れることなく、駆動電圧が低く作動が安定で更に信頼性
も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供
することが出来るようになった。請求項９の発明によれ
ば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構
成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形す
る薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加
する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される
空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁
の固定部を分割した分割固定部を保持して固定すると共
に分割固定部は薄膜両端固定梁と滑らか形状部の円弧の
一部形状又は長円弧の一部形状で接続するようにしたの
で、薄膜両端固定梁と分割固定部の接続部における応力
の集中と破壊を確実に防ぎ信頼性も向上し、入射光の反
射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、
使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧
が低く作動が安定で更に信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストの光変調装置を提供することが出来るように
なった。
【００２５】請求項１０の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定すると共に薄膜両端固定梁
と基板電極とが対応して形成される空隙は非平行である
ようにしたので、薄膜両端固定梁の変形に有する電圧を
小さくなり、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構
造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限さ
れることなく、駆動電圧が更に低く作動が安定で信頼性
も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供
することが出来るようになった。請求項１１の発明によ
れば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ
構成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形
する薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印
加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成され
る空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定
梁の固定部を分割した分割固定部を保持して固定すると
共に薄膜両端固定梁は基板電極の駆動電圧の印加による
静電力での変形時に一部又は全部が基板上に形成された
空隙の底部に当接するようにしたので、変形した薄膜両
端固定梁の形状は空隙の形状により常に一定形状に定ま
り入射光束の反射方向も一定になり、入射光の反射方向
を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用す
る入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く
作動が更に安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コ
ストの光変調装置を提供することが出来るようになっ
た。
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定すると共に薄膜両端固定梁
と基板電極とが対応して形成される空隙は非平行である
ようにしたので、薄膜両端固定梁の変形に有する電圧を
小さくなり、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構
造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限さ
れることなく、駆動電圧が更に低く作動が安定で信頼性
も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供
することが出来るようになった。請求項１１の発明によ
れば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ
構成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形
する薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印
加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成され
る空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定
梁の固定部を分割した分割固定部を保持して固定すると
共に薄膜両端固定梁は基板電極の駆動電圧の印加による
静電力での変形時に一部又は全部が基板上に形成された
空隙の底部に当接するようにしたので、変形した薄膜両
端固定梁の形状は空隙の形状により常に一定形状に定ま
り入射光束の反射方向も一定になり、入射光の反射方向
を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用す
る入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く
作動が更に安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コ
ストの光変調装置を提供することが出来るようになっ
た。
【００２６】請求項１２の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定すると共に薄膜両端固定梁
は基板上の接触面の両方又はそれらの少なくとも一方は
表面が疎水性であるようにしたので、薄膜両端固定梁が
保護膜等との固着が防止され、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が
安定で信頼性も更に高く、製造工程が少なく低コストの
光変調装置を提供することが出来るようになった。請求
項１３の発明によれば、入射光を正反射する反射手段を
側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定さ
れて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に対向
して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが
対応して形成される空隙の底部に基板電極を形成した基
板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保
持して固定すると共に薄膜両端固定梁と基板電極とが対
応して形成される空隙は薄膜両端固定梁の中央部におい
て最大の空隙部を有するようにしたので、光の偏向角を
大きくすることができクロストークの向上が有利とな
り、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造
工程が少なく低コストの光変調装置を提供することが出
来るようになった。請求項１４の発明によれば、入射光
を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜
で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端
固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電
極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部
に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を
分割した分割固定部を保持して固定すると共に薄膜両端
固定梁と基板電極とが対応して形成される空隙は薄膜両
端固定梁の中央部において最大の空隙部を有して薄膜両
端固定梁の両端の分割固定部から中央部に向かって対称
的な形状にするようにしたので、光の偏向角を大きくす
ることができクロストークの向上が有利で入射光束の２
つの反射光束も対称になるのでシステム設計が容易とな
り、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造
工程が少なく低コストの光変調装置を提供することが出
来るようになった。
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定すると共に薄膜両端固定梁
は基板上の接触面の両方又はそれらの少なくとも一方は
表面が疎水性であるようにしたので、薄膜両端固定梁が
保護膜等との固着が防止され、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が
安定で信頼性も更に高く、製造工程が少なく低コストの
光変調装置を提供することが出来るようになった。請求
項１３の発明によれば、入射光を正反射する反射手段を
側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定さ
れて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に対向
して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが
対応して形成される空隙の底部に基板電極を形成した基
板が薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保
持して固定すると共に薄膜両端固定梁と基板電極とが対
応して形成される空隙は薄膜両端固定梁の中央部におい
て最大の空隙部を有するようにしたので、光の偏向角を
大きくすることができクロストークの向上が有利とな
り、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造
工程が少なく低コストの光変調装置を提供することが出
来るようになった。請求項１４の発明によれば、入射光
を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜
で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端
固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電
極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部
に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を
分割した分割固定部を保持して固定すると共に薄膜両端
固定梁と基板電極とが対応して形成される空隙は薄膜両
端固定梁の中央部において最大の空隙部を有して薄膜両
端固定梁の両端の分割固定部から中央部に向かって対称
的な形状にするようにしたので、光の偏向角を大きくす
ることができクロストークの向上が有利で入射光束の２
つの反射光束も対称になるのでシステム設計が容易とな
り、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造
工程が少なく低コストの光変調装置を提供することが出
来るようになった。
【００２７】請求項１５の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定すると共に薄膜両端固定梁
の両端の分割固定部から中央部に向かって順次増大する
空隙の底部を形成する基板は直線形状部からなるように
したので、反射光の広がりが押さえられクロストークの
向上に有利となり、入射光の反射方向を変えて光変調を
行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が
制限されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼
性も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提
供することが出来るようになった。請求項１６の発明に
よれば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わ
せ構成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変
形する薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を
印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成さ
れる空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固
定梁の固定部を分割した分割固定部を保持して固定する
と共に薄膜両端固定梁の両端の分割固定部から中央部に
向かって順次増大する空隙の底部を形成する基板の一部
又は全部は凸形状部からなるようにしたので、薄膜両端
固定梁の駆動電圧の低電圧化が可能になり、入射光の反
射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、
使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧
が更に低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストの光変調装置を提供することが出来るように
なった。
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定すると共に薄膜両端固定梁
の両端の分割固定部から中央部に向かって順次増大する
空隙の底部を形成する基板は直線形状部からなるように
したので、反射光の広がりが押さえられクロストークの
向上に有利となり、入射光の反射方向を変えて光変調を
行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が
制限されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼
性も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提
供することが出来るようになった。請求項１６の発明に
よれば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わ
せ構成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変
形する薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を
印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成さ
れる空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固
定梁の固定部を分割した分割固定部を保持して固定する
と共に薄膜両端固定梁の両端の分割固定部から中央部に
向かって順次増大する空隙の底部を形成する基板の一部
又は全部は凸形状部からなるようにしたので、薄膜両端
固定梁の駆動電圧の低電圧化が可能になり、入射光の反
射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、
使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧
が更に低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストの光変調装置を提供することが出来るように
なった。
【００２８】請求項１７の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定すると共に基板は単結晶シ
リコンからなるようにしたので、配線マトリックスが形
成でき複雑多数な配線形成に有利となり、入射光の反射
方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使
用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が
低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく更に
低コストの光変調装置を提供することが出来るようにな
った。請求項１８の発明によれば、入射光を正反射する
反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両
端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方
側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端
固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板電極を
形成した光学ガラスからなる基板が薄膜両端固定梁の固
定部を分割した分割固定部を保持して固定するようにし
たので、基板の裏側から薄膜両端固定梁の様子の観察が
可能となり検査の時に有利となり、入射光の反射方向を
変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作
動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく更に低コス
トの光変調装置を提供することが出来るようになった。
請求項１９の発明によれば、入射光を正反射する反射手
段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固
定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に
対向して駆動電圧を印加する透明導電膜からなる基板電
極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部
に基板電極を形成した光学ガラスからなる基板が薄膜両
端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保持して固定
するようにしたので、基板の裏側から薄膜両端固定梁の
様子の観察が可能となり検査の時に更に有利となり、入
射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答
も速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、
駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が
少なく更に低コストの光変調装置を提供することが出来
るようになった。請求項２０の発明によれば、入射光を
正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で
形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固
定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極
と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に
基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分
割した分割固定部を保持して固定する複数の光変調装置
を１次元アレー形状に配列するようにしたので、入射光
の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動
電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストのライン状の光変調が出来る光変調装置を提
供することが出来るようになった。
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定すると共に基板は単結晶シ
リコンからなるようにしたので、配線マトリックスが形
成でき複雑多数な配線形成に有利となり、入射光の反射
方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使
用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が
低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく更に
低コストの光変調装置を提供することが出来るようにな
った。請求項１８の発明によれば、入射光を正反射する
反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両
端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方
側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端
固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板電極を
形成した光学ガラスからなる基板が薄膜両端固定梁の固
定部を分割した分割固定部を保持して固定するようにし
たので、基板の裏側から薄膜両端固定梁の様子の観察が
可能となり検査の時に有利となり、入射光の反射方向を
変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作
動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく更に低コス
トの光変調装置を提供することが出来るようになった。
請求項１９の発明によれば、入射光を正反射する反射手
段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固
定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に
対向して駆動電圧を印加する透明導電膜からなる基板電
極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部
に基板電極を形成した光学ガラスからなる基板が薄膜両
端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保持して固定
するようにしたので、基板の裏側から薄膜両端固定梁の
様子の観察が可能となり検査の時に更に有利となり、入
射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答
も速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、
駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が
少なく更に低コストの光変調装置を提供することが出来
るようになった。請求項２０の発明によれば、入射光を
正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で
形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固
定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極
と薄膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に
基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分
割した分割固定部を保持して固定する複数の光変調装置
を１次元アレー形状に配列するようにしたので、入射光
の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動
電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストのライン状の光変調が出来る光変調装置を提
供することが出来るようになった。
【００２９】請求項２１の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定する複数の光変調装置を１
次元アレー形状に配列すると共に１次元アレー形状は両
端に基板電極と外部の信号とのコンタクト部分となる開
口部からなるようにしたので、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が
安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストのライ
ン状の光変調が出来るコンパクトな光変調装置を提供す
ることが出来るようになった。請求項２２の発明によれ
ば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構
成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形す
る薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加
する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される
空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁
の固定部を分割した分割固定部を保持して固定する複数
の光変調装置を２次元アレー形状に配列するようにした
ので、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡
単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されるこ
となく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製
造工程が少なく低コストの平面状の光変調が出来る光変
調装置を提供することが出来るようになった。請求項２
３の発明によれば、入射光を正反射する反射手段を側面
に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて
静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に対向して
駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応
して形成される空隙の底部に基板電極を形成した基板が
薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保持し
て固定する複数の光変調装置を２次元アレー形状に配列
すると共に２次元アレー形状の基板電極は基板の層間絶
縁膜を貫通して基板シリコンウエハー内で駆動信号ライ
ンと接続するようにしたので、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が
安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの平面
状の光変調が出来るコンパクトな光変調装置を提供する
ことが出来るようになった。
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に対向して駆動電圧を印加する基板電極と薄
膜両端固定梁とが対応して形成される空隙の底部に基板
電極を形成した基板が薄膜両端固定梁の固定部を分割し
た分割固定部を保持して固定する複数の光変調装置を１
次元アレー形状に配列すると共に１次元アレー形状は両
端に基板電極と外部の信号とのコンタクト部分となる開
口部からなるようにしたので、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が
安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストのライ
ン状の光変調が出来るコンパクトな光変調装置を提供す
ることが出来るようになった。請求項２２の発明によれ
ば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構
成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形す
る薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧を印加
する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応して形成される
空隙の底部に基板電極を形成した基板が薄膜両端固定梁
の固定部を分割した分割固定部を保持して固定する複数
の光変調装置を２次元アレー形状に配列するようにした
ので、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡
単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されるこ
となく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製
造工程が少なく低コストの平面状の光変調が出来る光変
調装置を提供することが出来るようになった。請求項２
３の発明によれば、入射光を正反射する反射手段を側面
に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて
静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に対向して
駆動電圧を印加する基板電極と薄膜両端固定梁とが対応
して形成される空隙の底部に基板電極を形成した基板が
薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定部を保持し
て固定する複数の光変調装置を２次元アレー形状に配列
すると共に２次元アレー形状の基板電極は基板の層間絶
縁膜を貫通して基板シリコンウエハー内で駆動信号ライ
ンと接続するようにしたので、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が
安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの平面
状の光変調が出来るコンパクトな光変調装置を提供する
ことが出来るようになった。
【００３０】請求項２４の発明によれば、基板上に薄膜
両端固定梁と基板電極が対応して形成される空隙を形成
した後に、犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して基板
上を平坦化して、薄膜両端固定梁と分割固定部を形成後
に、犠牲材料層を除去して光変調装置を製造するように
したので、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造
が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限され
ることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高
く、製造工程が少なく低コストの光変調装置の製造方法
を提供することが出来るようになった。請求項２５の発
明によれば、基板上に薄膜両端固定梁と基板電極が対応
して形成される空隙を形成した後に、犠牲材料からなる
犠牲材料層を形成して基板上を平坦化して、薄膜両端固
定梁と分割固定部を形成後に、犠牲材料層を除去するた
めに、基板上に薄膜形成方法又は微細加工方法により薄
膜両端固定梁と基板電極とが対向して形成される空隙を
形成する空隙形成工程と、基板上の空隙の底部に基板電
極の全部又は一部を形成する基板電極形成工程と、基板
上の空隙に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成した後に
研磨して平坦化する犠牲材料層形成工程と、犠牲材料層
上に薄膜両端固定梁と分割固定部を形成する薄膜両端固
定梁と分割固定部の成膜形成工程と、空隙内の犠牲材料
層を除去する犠牲材料層除去工程と、基板電極の外部接
続用の開口部を形成する開口部形成工程とからなる光変
調装置を製造するようにしたので、入射光の反射方向を
変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作
動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの
光変調装置の製造方法を提供することが出来るようにな
った。
両端固定梁と基板電極が対応して形成される空隙を形成
した後に、犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して基板
上を平坦化して、薄膜両端固定梁と分割固定部を形成後
に、犠牲材料層を除去して光変調装置を製造するように
したので、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造
が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限され
ることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高
く、製造工程が少なく低コストの光変調装置の製造方法
を提供することが出来るようになった。請求項２５の発
明によれば、基板上に薄膜両端固定梁と基板電極が対応
して形成される空隙を形成した後に、犠牲材料からなる
犠牲材料層を形成して基板上を平坦化して、薄膜両端固
定梁と分割固定部を形成後に、犠牲材料層を除去するた
めに、基板上に薄膜形成方法又は微細加工方法により薄
膜両端固定梁と基板電極とが対向して形成される空隙を
形成する空隙形成工程と、基板上の空隙の底部に基板電
極の全部又は一部を形成する基板電極形成工程と、基板
上の空隙に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成した後に
研磨して平坦化する犠牲材料層形成工程と、犠牲材料層
上に薄膜両端固定梁と分割固定部を形成する薄膜両端固
定梁と分割固定部の成膜形成工程と、空隙内の犠牲材料
層を除去する犠牲材料層除去工程と、基板電極の外部接
続用の開口部を形成する開口部形成工程とからなる光変
調装置を製造するようにしたので、入射光の反射方向を
変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作
動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの
光変調装置の製造方法を提供することが出来るようにな
った。
【００３１】請求項２６の発明によれば、回動可能に保
持されて形成画像を担持する画像担持体上を光書き込み
を行なって潜像を形成する請求項１乃至２３の何れか一
項に記載の光変調装置からなる潜像形成手段の光変調装
置によって形成された潜像を顕像化してトナー画像を形
成する現像手段で形成されたトナー画像を転写手段で被
転写体に転写して画像を形成するようにしたので、入射
光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆
動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少
なく低コストの光変調装置を具備する画像形成装置を提
供することが出来るようになった。請求項２７の発明に
よれば、画像投影データの入射光の反射方向を変えて光
変調を行なって画像を投影して表示する上記請求項１乃
至２３の何れか一項に記載の光変調装置からなる光スイ
ッチ手段の光変調装置が投影する画像を投影スクリーン
に表示するようにしたので、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光
の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が安
定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの光変調
装置を具備する画像投影表示装置を提供することが出来
るようになった。
持されて形成画像を担持する画像担持体上を光書き込み
を行なって潜像を形成する請求項１乃至２３の何れか一
項に記載の光変調装置からなる潜像形成手段の光変調装
置によって形成された潜像を顕像化してトナー画像を形
成する現像手段で形成されたトナー画像を転写手段で被
転写体に転写して画像を形成するようにしたので、入射
光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆
動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少
なく低コストの光変調装置を具備する画像形成装置を提
供することが出来るようになった。請求項２７の発明に
よれば、画像投影データの入射光の反射方向を変えて光
変調を行なって画像を投影して表示する上記請求項１乃
至２３の何れか一項に記載の光変調装置からなる光スイ
ッチ手段の光変調装置が投影する画像を投影スクリーン
に表示するようにしたので、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光
の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が安
定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの光変調
装置を具備する画像投影表示装置を提供することが出来
るようになった。
【図１】本発明の実施の形態例を示す光変調装置を説明
する説明図である。
する説明図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】本発明の実施の形態例を示す光変調装置の主要
部の状態を説明する説明図である。
部の状態を説明する説明図である。
【図４】本発明の実施の形態例を示す光変調装置の主要
部のたの状態を説明する説明図である。
部のたの状態を説明する説明図である。
【図５】本発明の他の実施の形態例を示す光変調装置の
主要部の状態を説明する説明図である。
主要部の状態を説明する説明図である。
【図６】本発明の他の実施の形態例を示す光変調装置の
主要部の他の状態を説明する説明図である。
主要部の他の状態を説明する説明図である。
【図７】本発明の他の実施の形態例を示す光変調装置の
主要部を説明する説明図である。
主要部を説明する説明図である。
【図８】図７の平面図である。
【図９】本発明の他の実施の形態例を示す光変調装置を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図１０】図９の平面図である。
【図１１】本発明の他の実施の形態例を示す光変調装置
の主要部を説明する拡大説明図である。
の主要部を説明する拡大説明図である。
【図１２】本発明の他の実施の形態例を示す光変調装置
の主要部を説明する拡大説明図である。
の主要部を説明する拡大説明図である。
【図１３】本発明の他の実施の形態例を示す光変調装置
を説明する説明図である。
を説明する説明図である。
【図１４】本発明の他の実施の形態例を示す光変調装置
を説明する説明図である。
を説明する説明図である。
【図１５】図１４の平面図である。
【図１６】本発明の実施の形態例を示す光変調装置の製
造方法の主要部の工程を説明する説明図である。
造方法の主要部の工程を説明する説明図である。
【図１７】図１６の平面図である。
【図１８】本発明の実施の形態例を示す光変調装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図１９】図１８の平面図である。
【図２０】本発明の実施の形態例を示す光変調装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図２１】図２０の平面図である。
【図２２】本発明の実施の形態例を示す光変調装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図２３】図２２の平面図である。
【図２４】本発明の実施の形態例を示す光変調装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図２５】図２４の平面図である。
【図２６】本発明の実施の形態例を示す光変調装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図２７】図２６の平面図である。
【図２８】本発明の実施の形態例を示す光変調装置を具
備する画像形成装置を説明する説明図である。
備する画像形成装置を説明する説明図である。
【図２９】本発明の実施の形態例を示す光変調装置を具
備する画像投影表示装置を説明する説明図である。
備する画像投影表示装置を説明する説明図である。
０ 光変調装置、０ａ １次元アレー形状、０ｂ １次
元アレー形状 １ 反射手段 ２ 薄膜両端固定梁 ３ 基板電極、３ａ 保護膜 ４ 空隙、４ａ 最大空隙部 ５ 基板、５ａ 直線形状部、５ｂ 凸形状部、５ｃ
シリコンウエハー、５ｄ 層間絶縁膜 ６ 分割固定部 ７ 滑らか形状部、７ａ 円弧の一部形状、７ｂ 長円
弧の一部形状 ８ 犠牲材料層 ９ 開口部 １００ 画像形成装置 １０１ 画像担持体 １０２ 潜像形成手段、１０２ａ 光源、１０２ｂ 第
１のレンズシステム、１０２ｃ 第２のレンズシステム １０３ 現像手段 １０４ 転写手段 １０５ 帯電手段 １０６ 定着手段 １０７ 排紙トレイ １０８ クリーニング手段 ２００ 画像投影表示装置 ２０１ 光スイッチ手段、２０１ａ 光源、２０１ｂ
投影レンズ、２０１ｃ 絞り、２０１ｄ 回転カラーホ
ール、２０１ｅ マイクロレンズアレー ２０２ 投影スクリーン （ａ） 空隙形成工程 （ｂ） 基板電極形成工程 （ｃ） 犠牲材料層形成工程 （ｄ） 薄膜両端固定梁と分割固定部の成膜形成工程 （ｅ） 犠牲材料層除去工程 （ｆ） 開口部形成工程
元アレー形状 １ 反射手段 ２ 薄膜両端固定梁 ３ 基板電極、３ａ 保護膜 ４ 空隙、４ａ 最大空隙部 ５ 基板、５ａ 直線形状部、５ｂ 凸形状部、５ｃ
シリコンウエハー、５ｄ 層間絶縁膜 ６ 分割固定部 ７ 滑らか形状部、７ａ 円弧の一部形状、７ｂ 長円
弧の一部形状 ８ 犠牲材料層 ９ 開口部 １００ 画像形成装置 １０１ 画像担持体 １０２ 潜像形成手段、１０２ａ 光源、１０２ｂ 第
１のレンズシステム、１０２ｃ 第２のレンズシステム １０３ 現像手段 １０４ 転写手段 １０５ 帯電手段 １０６ 定着手段 １０７ 排紙トレイ １０８ クリーニング手段 ２００ 画像投影表示装置 ２０１ 光スイッチ手段、２０１ａ 光源、２０１ｂ
投影レンズ、２０１ｃ 絞り、２０１ｄ 回転カラーホ
ール、２０１ｅ マイクロレンズアレー ２０２ 投影スクリーン （ａ） 空隙形成工程 （ｂ） 基板電極形成工程 （ｃ） 犠牲材料層形成工程 （ｄ） 薄膜両端固定梁と分割固定部の成膜形成工程 （ｅ） 犠牲材料層除去工程 （ｆ） 開口部形成工程
Claims (27)
- 【請求項１】 入射光の反射方向を変えて光変調を行う
光変調装置において、入射光を正反射する反射手段と、
上記反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
と、上記薄膜両端固定梁の他方側面に対向して駆動電圧
を印加する基板電極と、上記基板電極と上記薄膜両端固
定梁とが対応して形成される空隙と、上記空隙の底部に
上記基板電極を形成した基板と、上記基板が保持して固
定する上記薄膜両端固定梁の固定部を分割した分割固定
部とからなることを特徴とする光変調装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光変調装置において、
反射手段は、金属薄膜からなることを特徴とする光変調
装置。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の光変調装置にお
いて、薄膜両端固定梁は、単結晶シリコン薄膜からなる
ことを特徴とする光変調装置。 - 【請求項４】 請求項１又は２に記載の光変調装置にお
いて、薄膜両端固定梁は、多結晶シリコン薄膜からなる
ことを特徴とする光変調装置。 - 【請求項５】 請求項１又は２に記載の光変調装置にお
いて、薄膜両端固定梁は、アモルファスシリコン薄膜か
らなることを特徴とする光変調装置。 - 【請求項６】 請求項１又は２に記載の光変調装置にお
いて、薄膜両端固定梁は、窒化シリコン薄膜からなるこ
とを特徴とする光変調装置。 - 【請求項７】 請求項１、２、３、４、５又は６に記載
の光変調装置において、分割固定部は、薄膜両端固定梁
のコーナ部に形成したことを特徴とする光変調装置。 - 【請求項８】 請求項１、２、３、４、５、６又は７に
記載の光変調装置において、分割固定部は、薄膜両端固
定梁と滑らか形状部で接続することを特徴とする光変調
装置。 - 【請求項９】 請求項８に記載の光変調装置において、
滑らか形状部は、円弧の一部形状又は長円弧の一部形状
からなることを特徴とする光変調装置。 - 【請求項１０】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
８又は９に記載の光変調装置において、薄膜両端固定梁
と基板電極とが対応して形成される空隙は非平行である
ことを特徴とする光変調装置。 - 【請求項１１】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９又は１０に記載の光変調装置において、薄膜両端
固定梁は、基板電極の駆動電圧の印加による静電力での
変形時に、一部又は全部が基板上に形成された空隙の底
部に当接することを特徴とする光変調装置。 - 【請求項１２】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９、１０又は１１に記載の光変調装置において、薄
膜両端固定梁は、基板上の接触面の両方又はそれらの少
なくとも一方は表面が疎水性であることを特徴とする光
変調装置。 - 【請求項１３】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９、１０、１１又は１２に記載の光変調装置におい
て、薄膜両端固定梁と基板電極とが対応して形成される
空隙は、上記薄膜両端固定梁の中央部において最大の空
隙部を有することを特徴とする光変調装置。 - 【請求項１４】 請求項１３に記載の光変調装置におい
て、薄膜両端固定梁の中央部において最大の空隙部を有
する空隙は、薄膜両端固定梁の両端の分割固定部から中
央部に向かって対称的な形状であることを特徴とする光
変調装置。 - 【請求項１５】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９、１０、１１、１２、１３又は１４に記載の光変
調装置において、薄膜両端固定梁の両端の分割固定部か
ら中央部に向かって順次増大する空隙の底部を形成する
基板は、直線形状部からなることを特徴とする光変調装
置。 - 【請求項１６】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９、１０、１１、１２、１３又は１４に記載の光変
調装置において、薄膜両端固定梁の両端の分割固定部か
ら中央部に向かって順次増大する空隙の底部を形成する
基板の一部又は全部は、凸形状部からなることを特徴と
する光変調装置。 - 【請求項１７】 請求項１乃至１６の何れか一項に記載
の光変調装置において、基板は、単結晶シリコンからな
ることを特徴とする光変調装置。 - 【請求項１８】 請求項１乃至１６の何れか一項に記載
の光変調装置において、基板は、光学ガラスからなるこ
とを特徴とする光変調装置。 - 【請求項１９】 請求項１８に記載の光変調装置におい
て、基板電極は、透明導電膜からなることを特徴とする
光変調装置。 - 【請求項２０】 請求項１乃至１９の何れか一項に記載
の光変調装置において、複数の光変調装置を１次元アレ
ー形状に配列したことを特徴とする光変調装置。 - 【請求項２１】 請求項２０に記載の光変調装置におい
て、１次元アレー形状（０ａ）は、両端に基板電極と外
部の信号とのコンタクト部分となる開口部からなること
を特徴とする光変調装置。 - 【請求項２２】 請求項１乃至１９の何れか一項に記載
の光変調装置において、複数の光変調装置を２次元アレ
ー形状に配列したことを特徴とする光変調装置。 - 【請求項２３】 請求項２２に記載の光変調装置におい
て、２次元アレー形状は、基板電極は、基板の層間絶縁
膜を貫通して基板シリコンウエハー内で駆動信号ライン
と接続したことを特徴とする光変調装置。 - 【請求項２４】 入射光の反射方向を変えて光変調を行
う請求項１乃至２３の何れか一項に記載の光変調装置の
製造方法において、基板上に薄膜両端固定梁と基板電極
が対応して形成される空隙を形成した後に、犠牲材料か
らなる犠牲材料層を形成して上記基板上を平坦化して、
上記薄膜両端固定梁と分割固定部を形成後に、上記犠牲
材料層を除去して光変調装置を製造することを特徴とす
る光変調装置の製造方法。 - 【請求項２５】 請求項２４に記載の光変調装置の製造
方法において、基板上に薄膜形成方法又は微細加工方法
により薄膜両端固定梁と基板電極とが対向して形成され
る空隙を形成する空隙形成工程と、上記基板上の空隙の
底部に基板電極の全部又は一部を形成する基板電極形成
工程と、上記基板上の上記空隙に犠牲材料からなる犠牲
材料層を形成した後に研磨して平坦化する犠牲材料層形
成工程と、上記犠牲材料層上に薄膜両端固定梁と分割固
定部を形成する薄膜両端固定梁と分割固定部の成膜形成
工程と、上記空隙内の上記犠牲材料層を除去する犠牲材
料層除去工程と、上記基板電極の外部接続用の開口部を
形成する開口部形成工程とからなることを特徴とする光
変調装置の製造方法。 - 【請求項２６】 電子写真プロセスで光書き込みを行な
って画像を形成する画像形成装置において、回動可能に
保持されて形成画像を担持する画像担持体と、上記画像
担持体上に光書き込みを行なって潜像を形成する請求項
１乃至２３の何れか一項に記載の光変調装置からなる潜
像形成手段と、上記潜像形成手段の上記光変調装置によ
って形成された潜像を顕像化してトナー画像を形成する
現像手段と、上記現像手段で形成されたトナー画像を被
転写体に転写する転写手段とからなることを特徴とする
画像形成装置。 - 【請求項２７】 画像を投影して表示する画像投影表示
装置において、画像投影データの入射光の反射方向を変
えて光変調を行なって画像を投影して表示する請求項１
乃至２３の何れか一項に記載の光変調装置からなる光ス
イッチ手段と、上記光スイッチ手段の上記光変調装置が
投影する画像を表示する投影スクリーンとからなること
を特徴とする画像投影表示装置。
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|---|---|---|---|
| JP2001102478A JP4684448B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 光変調装置及びその光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置 |
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|---|---|---|---|
| JP2001102478A JP4684448B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 光変調装置及びその光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002296521A true JP2002296521A (ja) | 2002-10-09 |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005078068A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-03-24 | Prime View Internatl Co Ltd | 干渉変調画素とその製造方法 |
| US7652814B2 (en) | 2006-01-27 | 2010-01-26 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device with integrated optical element |
| US7660058B2 (en) | 2005-08-19 | 2010-02-09 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods for etching layers within a MEMS device to achieve a tapered edge |
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