JP2003121768A - 光偏向装置及びその光偏向装置の製造方法並びにその光偏向装置を具備する光情報処理装置及びその光偏向装置を具備する画像形成装置及びその光偏向装置を具備する画像投影表示装置 - Google Patents

光偏向装置及びその光偏向装置の製造方法並びにその光偏向装置を具備する光情報処理装置及びその光偏向装置を具備する画像形成装置及びその光偏向装置を具備する画像投影表示装置

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JP2003121768A
JP2003121768A JP2001317271A JP2001317271A JP2003121768A JP 2003121768 A JP2003121768 A JP 2003121768A JP 2001317271 A JP2001317271 A JP 2001317271A JP 2001317271 A JP2001317271 A JP 2001317271A JP 2003121768 A JP2003121768 A JP 2003121768A
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optical
substrate
fixed beam
deflecting device
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JP2001317271A
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Koichi Otaka
剛一 大高
Takeshi Nanjo
健 南條
Seiichi Kato
静一 加藤
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光偏向を行う構造が簡単で応答も速く、入射
光の波長が制限されることなく、作動が安定で信頼性も
高く、駆動電圧が低い光偏向装置、製造工程が少なく低
コストのその光偏向装置の製造方法、その光偏向装置を
具備する光情報処理装置、画像形成装置、画像投影表示
装置を提供する。 【解決手段】 反射手段1を表面に組み合わせ構成する
薄膜で形成され両端部が固定されて静電力で変形する薄
膜両端部固定梁2の裏面に対向して駆動電圧を印加する
基板電極3と、基板電極3を凹形状部に形成して薄膜両
端部固定梁2を保持する基板4と、基板4の基板表面に
薄膜両端部固定梁2の両端部の被保持部2aを固定して
保持する固定保持部4aと、固定保持部4a側の方向に
沿って薄膜両端部固定梁2の裏面と対向する基板電極3
の非平行な対向面が形成する間隔(G)が変化する空隙
5とからなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光偏向装置、及
び、その光偏向装置の製造方法、並びに、その光偏向装
置を具備する光情報処理装置、及び、その光偏向装置を
具備する画像形成装置、及び、その光偏向装置を具備す
る画像投影表示装置に関し、詳しくは、入射光の反射方
向を変えて光偏向を行う光偏向装置、及び、その光偏向
装置の製造方法、並びに、その光偏向装置を具備する光
情報の処理を行なう光情報処理装置、及び、その光偏向
装置を具備する電子写真プロセスで光書き込みを行なっ
て画像を形成する画像形成装置、及び、その光偏向装置
を具備する画像を投影して表示する画像投影表示装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】静電力を利用した光スイッチデバイスの
入射光の反射方向を変えて光偏向を行う光偏向装置で
は、片持ち梁を静電力で撓ませて、入射光の反射方向を
変えてスイッチするデバイス、及び、それを用いた光偏
向システムは、既に公知である。片持ち梁は、静電力が
解放されて、片持ち梁の撓みが回復するときに振動す
る。これは、片持ち梁の一端のみが固定されていること
による、片持ち梁の自由振動が発生するためである。
又、片持ち梁を薄膜で形成する場合には、残留応力が発
生する。片持ち梁の場合、残留応力により片持ち梁自体
が変形する。しかも、残留応力は時間を経て緩和される
ために、片持ち梁の変形状態が経時変化する。以上の理
由で片持ち梁は安定性が悪い。又、片持ち梁の場合は、
自由振動に起因して、信号応答性が悪くなる。従って、
片持ち梁の安定性の確保が難しく、片持ち梁の固有振動
数が低い為に、応答速度を速くすることが出来なかっ
た。ミラーを細いねじり棒で保持し、静電力によりミラ
ーの向きを変え、光の反射方向を変えてスイッチするデ
バイスも既に公知であるが、その構造が複雑になり、歩
留まりを高くすることが困難であるだけでなく、ミラー
の保持が細いねじり棒による為に、その寿命を長くする
ことが出来なかった。回折格子を静電力で駆動して、光
スイッチするデバイスも公知である(特許第29419
52号、特許第3016871号、特表平10−510
374号等の公報を参照)。然し、このような、回折格
子を静電力で駆動して、光スイッチするデバイスは、使
用する入射光の波長が制限されると言う欠点があった。
静電力により梁を湾曲させ、反射光の焦点を合わせて、
スリットを通過させることで光スイッチするデバイスも
公知である(特開2000−2842号の公報を参
照)。然し、このような、静電力により梁を湾曲させ、
反射光の焦点を合わせて、スリットを通過させることで
光スイッチするデバイスは、梁の湾曲の度合いが不安定
になり易く、信頼性も低下する不具合があった。
【0003】そこで、同一出願人の発明者から、梁の安
定性が向上し、信号応答性も改善された、梁の両端部を
固定して使用する方法が提案されている。然し、この方
法では、光の反射方向を大きくするために梁の変形を大
きく取ろうとすると、両端部が固定されているために、
変形による梁の応力が発生し、変形に大きなエネルギー
が必要になり、そのため両端部固定梁の構造ではその適
用範囲が制限されていた。従って、従来の入射光の反射
方向を変えて光偏向を行う光偏向装置、及び、その光偏
向装置を具備する光情報処理装置、及び、その光偏向装
置を具備する画像形成装置、及び、その光偏向装置を具
備する画像投影表示装置は、入射光の反射方向を変えて
光偏向を行う構造が複雑で応答も遅く、使用する入射光
の波長が制限され、作動が不安定で信頼性も低下し、梁
の変形に大きなエネルギーが必要になると言う不具合が
生じていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、このような問題点を解決するものである。即ち、入
射光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答
も速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、
作動が安定で信頼性も高く、梁の変形に必要なエネルギ
ーが少なく駆動電圧が低い光偏向装置、及び、製造工程
が少なく低コストのその光偏向装置の製造方法、並び
に、その光偏向装置を具備する構造が簡単で使用する波
長の制限が無く駆動電圧が低い光情報処理装置、その光
偏向装置を具備する構造が簡単で使用する波長の制限が
無く駆動電圧が低い画像形成装置、及び、その光偏向装
置を具備する構造が簡単で使用する波長の制限が無く駆
動電圧が低い画像投影表示装置を提供することを目的と
する。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の本発明は、入射光の反射方向を変えて光
偏向を行う光偏向装置において、入射光を正反射する反
射手段と、上記反射手段を表面に組み合わせ構成する薄
膜で形成され両端部が固定されて静電力で変形する薄膜
両端部固定梁と、上記薄膜両端部固定梁の裏面に対向し
て駆動電圧を印加する基板電極と、上記基板電極を凹形
状部に形成して上記薄膜両端部固定梁を保持する基板
と、上記基板の基板表面に上記薄膜両端部固定梁の両端
部の被保持部を固定して保持する固定保持部と、上記固
定保持部側の方向に沿って上記薄膜両端部固定梁の裏面
と対向する上記基板電極の非平行な対向面が形成する間
隔が変化する空隙とからなる光偏向装置であることを最
も主要な特徴とする。請求項2の本発明は、請求項1に
記載の光偏向装置において、反射手段は、金属薄膜で形
成されている光偏向装置であることを主要な特徴とす
る。請求項3の本発明は、請求項1又は2に記載の光偏
向装置において、薄膜両端部固定梁は、引っ張り応力を
有する部材からなる光偏向装置であることを主要な特徴
とする。請求項4の本発明は、請求項1、2又は3に記
載の光偏向装置において、薄膜両端部固定梁は、引っ張
り応力を有する部材の窒化シリコン薄膜からなる光偏向
装置であることを主要な特徴とする。請求項5の本発明
は、請求項1、2、3又は4に記載の光偏向装置におい
て、薄膜両端部固定梁は、低抵抗材で形成されている光
偏向装置であることを主要な特徴とする。請求項6の本
発明は、請求項5に記載の光偏向装置において、薄膜両
端部固定梁の低抵抗材は、シリコンを不純物により低抵
抗化して形成されている光偏向装置であることを主要な
特徴とする。請求項7の本発明は、請求項項1、2、
3、5又は6に記載の光偏向装置において、薄膜両端部
固定梁は、単結晶シリコン薄膜で形成されている光偏向
装置であることを主要な特徴とする。請求項8の本発明
は、請求項項1、2、3、5又は6に記載の光偏向装置
において、薄膜両端部固定梁は、多結晶シリコン薄膜で
形成されている光偏向装置であることを主要な特徴とす
る。請求項9の本発明は、請求項1、2、3、4、5、
6、7又は8に記載の光偏向装置において、薄膜両端部
固定梁は、被保持部の内側に折り畳み構造部からなる光
偏向装置であることを主要な特徴とする。
【0006】請求項10の本発明は、請求項1、2、
3、4、5、6、7、8又は9に記載の光偏向装置にお
いて、薄膜両端部固定梁の被保持部が、複数に分割分離
された分離保持部からなる光偏向装置であることを主要
な特徴とする。請求項11の本発明は、請求項10に記
載の光偏向装置において、分離保持部の長さは、空隙の
間隙量の増加によって増加する光偏向装置であることを
主要な特徴とする。請求項12の本発明は、請求項10
又は11に記載の光偏向装置において、分離保持部は、
被保持部と接続する円弧形状の円弧形状接続部からなる
光偏向装置であることを主要な特徴とする。請求項13
の本発明は、請求項項1乃至12の何れか一項に記載の
光偏向装置において、基板電極は、透明導電膜で形成さ
れている光偏向装置であることを主要な特徴とする。請
求項14の本発明は、請求項項1乃至13の何れか一項
に記載の光偏向装置において、基板は、光学ガラスで形
成されている光偏向装置であることを主要な特徴とす
る。請求項15の本発明は、請求項項1乃至13の何れ
か一項に記載の光偏向装置において、基板は、シリコン
で形成されている光偏向装置であることを主要な特徴と
する。請求項16の本発明は、請求項1乃至15の何れ
か一項に記載の光偏向装置において、空隙の間隙の大き
さは、薄膜両端部固定梁の相対する基板の固定保持部の
間では等しく、上記基板の固定保持部の一方端から他方
端に向かって順次増加し、上記他方端で最大の大きさと
なる光偏向装置であることを主要な特徴とする。請求項
17の本発明は、請求項1乃至16の何れか一項に記載
の光偏向装置において、空隙の間隙の大きさは、薄膜両
端部固定梁の相対する基板の固定保持部から中央部に向
かって順次増加する光偏向装置であることを主要な特徴
とする。
【0007】請求項18の本発明は、入射光の反射方向
を変えて光偏向を行う請求項1乃至17の何れか一項に
記載の光偏向装置の製造方法において、基板上に薄膜両
端部固定梁と基板電極が対向して形成される固定保持部
側の方向に沿って上記薄膜両端部固定梁の裏面と対向す
る上記基板電極の非平行な対向面が形成する間隔が変化
する空隙と凹形状部の該当部を形成した後に、上記空隙
と凹形状部の該当部に犠牲材料からなる犠牲材料層を形
成して上記基板上を平坦化して、上記薄膜両端部固定梁
を形成した後に、上記犠牲材料層を除去する光偏向装置
の製造方法であることを最も主要な特徴とする。請求項
19の本発明は、入射光の反射方向を変えて光偏向を行
う請求項1乃至17の何れか一項に記載の光偏向装置の
製造方法において、基板上に薄膜両端部固定梁と基板電
極が対向して形成される固定保持部側の方向に沿って上
記薄膜両端部固定梁の裏面と対向する上記基板電極の非
平行な対向面が形成する間隔が変化する空隙と凹形状部
の該当部を形成した後に、空隙と凹形状部の該当部に犠
牲材料からなる犠牲材料層を一定厚さを形成して、上記
薄膜両端部固定梁を形成した後に、上記犠牲材料層を除
去する光偏向装置の製造方法であることを最も主要な特
徴とする。請求項20の本発明は、請求項18又は19
に記載の光偏向装置の製造方法において、上記犠牲材料
層は、薄膜両端部固定梁の被保持部以外の部分を介して
除去する光偏向装置の製造方法であることを主要な特徴
とする。請求項21の本発明は、入射光の反射方向を変
えて光偏向を行う光偏向装置を使用して光情報の処理を
行なう光情報処理装置において、複数の上記請求項1乃
至17の何れか一項に記載の光偏向装置と、複数の上記
光偏向装置を各々独立に駆動する独立駆動手段とからな
る光情報処理装置であることを最も主要な特徴とする。
請求項22の本発明は、電子写真プロセスで光書き込み
を行なって画像を形成する画像形成装置において、回動
可能に保持されて形成画像を担持する画像担持体と、上
記画像担持体上に光書き込みを行なって潜像を形成する
上記請求項1乃至17の何れか一項に記載の光偏向装置
からなる潜像形成手段と、上記潜像形成手段の上記光偏
向装置によって形成された潜像を顕像化してトナー画像
を形成する現像手段と、上記現像手段で形成されたトナ
ー画像を被転写体に転写する転写手段とからなる画像形
成装置であることを最も主要な特徴とする。請求項23
の本発明は、画像を投影して表示する画像投影表示装置
において、画像投影データの入射光の反射方向を変えて
光偏向を行なって画像を投影して表示する請求項1乃至
17の何れか一項に記載の光偏向装置からなる光スイッ
チ手段と、上記光スイッチ手段が投影する画像を表示す
る投影スクリーンとからなる画像投影表示装置であるこ
とを最も主要な特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。図1及び図2は本発明の一
実施形態に係る光偏向装置の正面図及びX−X縦断面図
であり、入射光の反射方向を変えて光偏向を行う光偏向
装置0は、入射光を正反射する反射手段1と、上記反射
手段1を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端
部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固定梁2
と、上記薄膜両端部固定梁2の裏面に対向して駆動電圧
を印加して静電力で上記薄膜両端部固定梁2を駆動して
撓ませて変形する基板電極3と、保護膜3aで保護され
た上記基板電極3を凹形状部に形成して上記薄膜両端部
固定梁2を保持する基板4と、上記基板4の基板表面に
上記薄膜両端部固定梁2の相対する一組の辺の両端部の
被保持部2aを固定して保持する固定保持部4aと、上
記固定保持部4aの一方端4aから他方端4a側の
方向に沿って上記薄膜両端部固定梁2の裏面と対向する
上記基板電極3の非平行な対向面が形成する間隔(G)
が、上記固定保持部4aの上記一方端4aから上記他
方端4a側の方向に沿って順次増加して変化する空隙
5とからなり、入射光の反射方向を変えて光偏向を行う
構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、作動が安定で信頼性も高く、上記薄膜
両端部固定梁2の変形に必要なエネルギーが少なく駆動
電圧も低い。上記薄膜両端部固定梁2に作用する静電力
は、上記固定保持部4aの上記一方端4aから上記他
方端4a側の方向に沿って上記薄膜両端部固定梁2の
裏面と対向する上記基板電極3の非平行な対向面が形成
する間隔(G)が変化する上記空隙5を介して、上記薄
膜両端部固定梁2に対向して形成された上記基板電極3
を用い、上記薄膜両端部固定梁2に形成した電極間に電
圧を印加することにより発生して、上記薄膜両端部固定
梁2を撓ませる。ここでは、上記反射手段1が、上記薄
膜両端部固定梁2に形成した電極として作用する構成に
なっている。上記薄膜両端部固定梁2は、単結晶シリコ
ン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン薄膜、又
は、窒化シリコンの薄膜で形成されている。上記薄膜両
端部固定梁2は、単結晶シリコンで形成すれば、欠陥が
少なく、寿命も長い。
【0009】又、上記薄膜両端部固定梁2は、多結晶シ
リコン、又は、アモルファスシリコン薄膜で形成すれ
ば、製造方法にCVD等の手法を用いることが出来るの
で、コストが低く出来る。又、上記薄膜両端部固定梁2
は、窒化シリコンの薄膜で形成すれば、窒化シリコン薄
膜の引っ張り応力の作用により、スイッチングの応答速
度を更に確実に速めることが出来る。上記薄膜両端部固
定梁2表面に形成した入射光束を反射させる上記反射手
段1の部材としては、金属薄膜が一般的であるが、誘電
体材料の多層膜により反射膜を形成してもよい。又、上
記薄膜両端部固定梁2には、静電力を発生させるもう一
方の電極が形成されている。この電極は独立に形成して
も良いが、前述の入射光束を反射させる上記反射手段1
の部材が金属薄膜の場合には、この金属薄膜を電極とし
て使用できる。又、上記薄膜両端部固定梁2が、単結晶
シリコン、又は、多結晶シリコンで形成されている場合
には、この単結晶シリコン、又は、多結晶シリコンを不
純物により簡単に低抵抗化し、電極として作用させるこ
とも可能で、構造が更に簡単で低コストの光偏向装置を
提供することが出来るようになった。上記基板4には、
静電力を発生させる、上記固定保持部4aの上記一方端
4a から上記他方端4a側の方向に沿って順次増加
して変化する上記薄膜両端部固定梁2の裏面と対向する
上記基板電極3の非平行な対向面が形成する間隔(G)
が変化する上記空隙5の全部もしくは一部が形成されて
いる。上記基板4としては、光学ガラス、セラミックス
材料、あるいは単結晶シリコン、金属など種々の材料を
用いることが出来る。上記基板4は、光学ガラスで形成
すると、上記基板4の裏側から上記薄膜両端部固定梁2
の様子を見ることができ、製品の検査に有利である。上
記基板4は、単結晶シリコンで形成すると、上記基板4
中に拡散方式で駆動電極を形成することが出来る。
【0010】又、拡散方式を組み合わせて、配線マトリ
ックスが形成でき、複雑多数な配線形成に有利である。
更に、上記基板4のシリコン中に、上記薄膜両端部固定
梁2に電圧を印加する駆動回路の一部、又は、全部を形
成する事も可能である。非平行な上記空隙5は、上記固
定保持部4aの上記一方端4aから上記他方端4a
側の方向に沿って上記薄膜両端部固定梁2の裏面と対向
する上記基板電極3の非平行な対向面が形成する間隔
(G)が順次増加するように変化して形成されている。
上記薄膜両端部固定梁2を駆動する上記基板電極3は、
Al、Cr、Ti、TiN等の金属、又は、金属化合部
の薄膜を用い、上記基板4上に形成された凹形状部内
に、その全部、又は、一部が形成される。上記基板4を
光学ガラスで形成する場合には、上記基板電極3に透明
導電膜(ITO)を用いると、上記薄膜両端部固定梁2
の様子が、上記基板4の裏側から観察でき検査の時に有
利である。又、上記基板4が、単結晶シリコンの場合に
は、上記基板4のシリコン中に上記基板4のシリコンと
異なる、導電型の不純物を拡散する方法により上記基板
電極3を形成することが出来る。上記基板4が金属など
導電性材料の場合には、絶縁材料を介して、上記基板電
極3を形成する。上記保護膜3aとしては、絶縁性材料
が、中でも真空成膜法による酸化膜を用いるのが一般的
である。上記保護膜3aは、上記基板電極3が上記薄膜
両端部固定梁2と接触し、短絡することを防ぐ作用をす
る。上記保護膜3aには、上記基板電極3と外部信号と
を接続する部分として、一部を開口した開口部3bを形
成することもある。
【0011】図3と図4において、上記薄膜両端部固定
梁2は、両端部の各上記被保持部2aにより、上記基板
4の各上記固定保持部4a上に固定されている。上記薄
膜両端部固定梁2に静電力が作用していない時には、上
記薄膜両端部固定梁2は両端部の各上記被保持部2a
が、上記基板4の各上記固定保持部4a上に支持固定さ
れているので、その時の、入射光束は上記薄膜両端部固
定梁2の表面に組み合わせ構成された上記反射手段1で
正反射し、図示の矢印(A)方向で示されるように光束
は進行する(図3を参照)。図示しない上記薄膜両端部
固定梁2の電極と上記基板電極3間に電圧を印加し、上
記薄膜両端部固定梁2に静電力を作用させると、上記薄
膜両端部固定梁2は、上記基板電極3側に引きつけら
れ、上記基板電極3上の上記保護膜3aに接触し、非平
行形状な上記空隙5に沿った形状に撓む。上記薄膜両端
部固定梁2が撓むために、入射光束は上記薄膜両端部固
定梁2の撓みの影響を受け、反射光の方向が、図示の矢
印(B)方向で示されるように、光束の進行する方向が
変わる(図4を参照)。図3の状態での入射光束が反射
した方向から眺めると、上記薄膜両端部固定梁2での正
反射により明るく、(ON)状態である。又、図4の状
態は、入射光束の反射方向が変わるために暗くなり、
(OFF)状態である。よって、上記光偏向装置0によ
り光偏向がなされる。本発明の上記光偏向装置0では、
上記薄膜両端部固定梁2と上記基板電極3との上記空隙
5が非平行形状になっている。上記空隙5は、上記薄膜
両端部固定梁2の変形に有する電圧を小さくするために
有効である。上記薄膜両端部固定梁2に作用する静電力
は、上記基板電極3と上記薄膜両端部固定梁2の間の距
離の2乗に反比例する。即ち、距離が小さいほど作用す
る静電力が大きい。そのため、電圧を印加すると、上記
薄膜両端部固定梁2は上記空隙5の狭い間隙(G)部分
より変形を始める。又、上記薄膜両端部固定梁2の変形
により順次、上記空隙5が狭くなり、平行な上記空隙5
の場合より、低い電圧で上記薄膜両端部固定梁2の変形
が進行して、変形した上記薄膜両端部固定梁2は、上記
空隙5の底部と接している(図4を参照)。このような
変形状態とすることにより、変形した上記薄膜両端部固
定梁2の形状は、上記空隙5の形状により常に一定形状
に定まり、入射光束の反射方向も一定になる。
【0012】図5と図6において、非平行な上記空隙5
の形状としては、図5に図示したような形状の他に、図
6に図示するような、上記薄膜両端部固定梁2の中央に
おける上記空隙5の最大間隙(G)部は、上記薄膜両端
部固定梁2の上記各被保持部2aを支持固定する上記基
板4の各上記固定保持部4aから中央部4aに向かっ
て、順次、間隙(G)が、増加して変化するようにする
ことも可能である。このような、上記薄膜両端部固定梁
2の上記中央部4aにおける最大間隙(G)部形状の
場合、駆動電圧を低下させるための非平行の上記空隙5
の効果は、上記薄膜両端部固定梁2の上記各被保持部2
aの方向にも作用するので、上記薄膜両端部固定梁2の
変形に必要なエネルギーが少なくなり、駆動電圧が一層
低電圧化出来る。
【0013】図7と図8において、上記薄膜両端部固定
梁2は、各上記被保持部2aの内側に、折り畳み構造部
2bが形成されて、上記薄膜両端部固定梁2の撓み量
を、更に、大きくするようになっている。上記薄膜両端
部固定梁2に形成された上記折りたたみ構造2bは、実
質的に上記薄膜両端部固定梁2の固定部間の距離を大き
く出来るので、同一駆動電圧では、撓み量が大きく得ら
れる。図示してないが、上記薄膜両端部固定梁2の上記
折りたたみ構造2bの長さは、上記空隙5の間隙(G)
の大きさに合わせて設定できる。即ち、上記空隙5の間
隙(G)が大きい部分では、上記薄膜両端部固定梁2の
上記折りたたみ構造2b部を長く作ることにより、よ
り、撓み易い上記薄膜両端部固定梁2を形成することが
出来る。
【0014】図9と図10において、上記薄膜両端部固
定梁2は、各上記被保持部2aが複数に分割分離された
分離保持部2aからなり、更に、変形に要する必要な
エネルギーが更に少なく駆動電圧が一層低電圧化出来
る。等分布加重Pを受けた、1辺の長さがaの正方形
で、板厚h、縦弾性係数(ヤング率)Eの上記薄膜両端
部固定梁2の最大撓み量ωは、ω=0.025×P
/Eh、式で表される。一方、固定条件を除い
た、同様な上記薄膜両端部固定梁2の最大撓み量ω
は、ω=0.045×Pa/Eh、となり、約
2倍の撓み量になる。上記光偏向装置0の如く、上記薄
膜両端部固定梁2の各上記被保持部2aが複数に分割分
離された、例えば、上記分離保持部2aを3つに分割
分離した分離保持部2a11、分離保持部2a12、分
離保持部2a13からなる場合には、その撓み量は上記
ωとωとの合成量になり、撓み量は増加するので、
静電力が小さくて済み、結果として撓みに要する電圧は
低くなる。図示するように、上記薄膜両端部固定梁2の
各上記被保持部2aの上記分離保持部2aを3つに分
割分離した例示をしたが、上記分離保持部2aの分割
分離の方法は種々可能である。
【0015】図11と図12において、上記薄膜両端部
固定梁2の各上記被保持部2aの上記分離保持部2a
の各上記分離保持部2a11〜nの長さは、上記空隙5
の間隙(G)量の増加によって増加するようになってい
る。上記空隙5の間隙(G)量が大きい部分における上
記薄膜両端部固定梁2の各上記被保持部2aの上記分離
保持部2aの長さを、上記空隙5の間隙(G)量が小
さい部分における上記薄膜両端部固定梁2の各上記被保
持部2aの上記分離保持部2aの長さより大きくする
ことにより、上記薄膜両端部固定梁2が撓み易くなり、
駆動電圧を低くする効果がある。又、上記薄膜両端部固
定梁2が上記被保持部2aで複数に分割する場合には、
上記被保持部2aと上記分離保持部2aは、なめらか
の外形の円弧形状の円弧形状接続部2aで接続されて
いる。従って、上記被保持部2aと上記分離保持部2a
は、なめらかの外形の円弧形状の上記円弧形状接続部
2aで接続されているから、接続部におい静電力によ
る曲げ応力の集中を防止して、上記光偏向装置0の信頼
性を向上している。応力を受ける上記薄膜両端部固定梁
2の外形が急激に変化する場合には、その変化の一番大
きな部分に応力が集中する。この応力集中により、作用
している応力が破壊応力より小さい場合でも、上記薄膜
両端部固定梁2が破壊する可能性が高くなる。がなめら
かの外形の円弧形状の上記円弧形状接続部2aの形状
としては、円弧の一部形状、若しくは、長円弧の一部形
状が望ましい。
【0016】図13乃至図24において、上記光偏向装
置0は、次のように、上記基板4上に上記薄膜両端部固
定梁2と上記基板電極3が対向して形成される上記固定
保持部4aの上記一方端4aから上記他方端4a
の方向に沿って上記薄膜両端部固定梁2の裏面と対向す
る上記基板電極3の非平行な対向面が形成する間隔
(G)が順次増加し変化する上記空隙5と凹形状部の該
当部を形成した後に、上記空隙5と凹形状部の該当部に
犠牲材料からなる犠牲材料層6を形成して上記基板4上
を平坦化して、上記薄膜両端部固定梁2を形成した後
に、上記犠牲材料層6を上記薄膜両端部固定梁2の上記
被保持部2a以外の部分を介して除去するから、入射光
の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、作動
が安定で信頼性も高く、上記薄膜両端部固定梁2の変形
に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が低く製造工程が
少なく低コストの歩留まりの高い上記光偏向装置0の製
造方法を提供することが出来るようになった。基板上空
隙形成工程(a)において、上記基板4は、酸化膜を形
成したシリコン基板である。上記基板4に、フォトリソ
グラフィー、及び、ドライエッチングの手法により、非
平行な上記空隙5と凹形状部の該当部を形成する。非平
行な上記空隙5と凹形状部の該当部を形成するには、面
積階調のパターンを形成したフォトマスク、あるいは、
レジスト材料の熱変形手法などを用いることができる。
上記空隙5は、幅20μm、深さ1.0μmに形成した
(図13と図14を参照)。
【0017】基板電極形成工程(b)において、上記基
板4上の凹形状部に上記基板電極3をTiNの薄膜で形
成する。TiNの薄膜は、Tiをターゲットとしたスパ
ッタ法により、厚さ0.1μmに成膜した。TiNの薄
膜をフォトリソグラフィー、及び、ドライエッチングの
手法により、上記基板電極3として、幅20μmに形成
した。上記基板電極3の一部は、外部と接続するために
上記空隙5から、上記基板4の表面にせり出ている。更
に、その上に、上記基板電極3の上記保護膜3aとして
プラズマ窒化膜を0.05μm形成した(図15と図1
6を参照)。犠牲材料層形成平坦化工程(c)におい
て、上記犠牲材料層6の膜としては、プラズマCVDの
手法で形成した酸化膜を上記基板電極3を覆うように、
上記基板4上に上記空隙5が埋まるまで成膜した。成膜
後、酸化膜を研磨、あるいは、ドライエッチングのエッ
チバックの手法により平坦化して、図示しない上記薄膜
両端部固定梁2を形成する上記犠牲材料層6とした(図
17と図18を参照)。 薄膜両端部固定梁形成工程(d)において、:平坦化し
た上記犠牲材料層6の上に上記薄膜両端部固定梁2の材
料となる窒化シリコン膜を、熱CVDの手法により、厚
さ0.04μmで全面成膜した。次いで、入射光束の反
射面となる上記反射手段1のAl薄膜を、0.05μm
の厚さで、窒化シリコン膜上に、スパッタ法により形成
した。
【0018】フォトリソグラフィー、及び、ドライエッ
チングの手法により、上記反射手段1の反射膜層も含ん
で窒化シリコンの膜を、各上記被保持部2aの上記分離
保持部2aの上記分離保持部2a11、上記分離保持
部2a12の2箇所に分割されて、上記円弧形状接続部
2aで固定された上記薄膜両端部固定梁2を形成す
る。上記薄膜両端部固定梁2の寸法は、幅20μm、長
さ20μmである。分割分離された上記分離保持部2a
の各上記分離保持部2a11、上記分離保持部2a
12は、各々上記薄膜両端部固定梁2のコーナー部に位
置し、その寸法は幅5μmである(図19と図20を参
照)。犠牲材料層除去工程(e)において、上記薄膜両
端部固定梁2を形成後に上記空隙5を平坦化していた上
記犠牲材料層6をエッチングにより、各上記被保持部2
a以外の部分を介して除去すると、上記薄膜両端部固定
梁2は両端を上記基板4に固定されて、上記空隙5を介
して保持される(図21と図22を参照)。開口部形成
工程(f)において、最後に、上記保護膜3aに上記基
板電極3の外部接続用の上記開口部3bを形成して、上
記光偏向装置0が完成する(図23と図24を参照)。
【0019】図25乃至図36において、上記光偏向装
置0は、次のように、上記基板4上に上記薄膜両端部固
定梁2と上記基板電極3が対向して形成される上記固定
保持部4aの上記一方端4aから上記他方端4a
の方向に沿って上記薄膜両端部固定梁2の裏面と対向す
る上記基板電極3の非平行な対向面が形成する間隔
(G)が順次増加し変化する上記空隙5と凹形状部の該
当部を形成した後に、上記空隙5と凹形状部の該当部に
犠牲材料からなる上記犠牲材料層6を一定厚さを形成し
て、上記薄膜両端部固定梁2を形成した後に、上記犠牲
材料層6を上記薄膜両端部固定梁2の上記被保持部2a
以外の部分を介して除去するから、入射光の反射方向を
変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、作動が安定で信頼
性も高く、上記薄膜両端部固定梁2の変形に必要なエネ
ルギーが少なく駆動電圧が低く製造工程が更に少なく更
に低コストの歩留まりの高い上記光偏向装置0の他の製
造方法を提供することが出来るようになった。基板上空
隙形成工程(g)において、上記基板4は、酸化膜を形
成したシリコン基板である。上記基板4にフォトリソグ
ラフィー、及び、ドライエッチングの手法により非平行
な上記空隙5と凹形状部の該当部を形成する。非平行な
上記空隙5と凹形状部の該当部を形成するには、面積階
調のパターンを形成したフォトマスク、あるいは、レジ
スト材料の熱変形手法などを用いることができる。上記
空隙5は、幅20μm、深さ1.0μmに形成した(図
25と図26を参照)。基板電極形成工程(h)におい
て、上記基板4上の凹形状部に上記基板電極3をTiN
の薄膜で形成する。TiNの薄膜は、Tiをターゲット
としたスパッタ法により、厚さ0.1μmに成膜した。
TiNの薄膜をフォトリソグラフィー、及び、ドライエ
ッチングの手法により、上記基板電極3として、幅20
μmに形成した。上記基板電極3の一部は、外部と接続
するために上記空隙5から、上記基板4の表面にせり出
ている。更に、その上に、上記基板電極3の上記保護膜
3aとしてプラズマ窒化膜を0.05μm形成した(図
27と図28を参照)。犠牲材料層形成工程(i)にお
いて、上記犠牲材料層6は、膜として、プラズマCVD
の手法で形成した酸化膜を、上記基板電極3を覆うよう
に上記基板4上に一定の厚さ0.3μmに成膜して、図
示しない上記薄膜両端部固定梁2を形成する上記犠牲材
料層6とした(図29と図30を参照)。薄膜両端部固
定梁形成工程(j)において、一定の厚さ0.3μmに
成膜した上記犠牲材料層6の上に、上記薄膜両端部固定
梁2の材料となる窒化シリコン膜を、熱CVDの手法に
より、厚さ0.04μmで全面成膜した。次いで、入射
光束の反射面となる上記反射手段1のCr薄膜を、0.
05μmの厚さで、窒化シリコン膜上に、スパッタ法に
より形成した。
【0020】フォトリソグラフィー、及び、ドライエッ
チングの手法により、上記反射手段1の反射膜層も含ん
で窒化シリコンの膜を、各上記被保持部2aの上記分離
保持部2aの上記分離保持部2a11、上記分離保持
部2a12の2箇所に分割されて、上記円弧形状接続部
2aで固定された上記薄膜両端部固定梁2を形成す
る。上記薄膜両端部固定梁2の寸法は、幅20μm、長
さ20μmである。分割分離された上記分離保持部2a
の各上記分離保持部2a11、上記分離保持部2a
12は、各々上記薄膜両端部固定梁2のコーナー部に位
置し、その寸法は幅5μmである(図31と図32を参
照)。犠牲材料層除去工程(k)において、上記薄膜両
端部固定梁2を形成後に上記空隙5を平坦化していた上
記犠牲材料層6をエッチングにより、各上記被保持部2
a以外の部分を介して除去すると、上記薄膜両端部固定
梁2は両端を上記基板4に固定されて、上記空隙5を介
して保持される(図33と図34を参照)。開口部形成
工程(l)において、最後に、上記保護膜3aに上記基
板電極3の外部接続用の上記開口部3bを形成して、上
記光偏向装置0が完成する(図35と図36を参照)。
【0021】図37と図38において、上記光偏向装置
0は、複数個を1次元アレー形状に配列した1次元光偏
向アレー10として、図示しない画像形成装置における
潜像形成手段等に使用することが出来る(図37を参
照)。更に、上記1次元光偏向アレー10を複数組み合
わせて、2次元アレー形状に配列した2次元光偏向アレ
ー20として、図示しない画像投影表示装置における光
スイッチ手段等に使用することが出来る(図38を参
照)。図39において、電子写真プロセスで光書き込み
を行なって画像を形成する画像形成装置200は、図示
の矢印C方向に回動可能に保持されて形成画像を担持す
る画像担持体201のドラム形状の感光体と、帯電手段
205で均一に帯電された上記画像担持体201のドラ
ム形状の感光体上を、上記1次元光偏向アレー10の複
数個の各上記光偏向装置0を各々独立に駆動する独立駆
動手段101とからなる光情報処理装置100からなる
潜像形成手段202で光書き込みを行なって潜像を形成
し、上記潜像形成手段202の上記1次元光偏向アレー
10の各上記光偏向装置0によって形成された潜像を現
像手段203で顕像化してトナー画像を形成し、上記現
像手段203で形成されたトナー画像を転写手段204
で被転写体(P)の転写紙に転写して、被転写体(P)
の転写紙に転写されたトナー画像を定着手段206で定
着した後に、被転写体(P)の転写紙を排紙トレイ20
7に排紙して収納される。他方、トナー画像を上記転写
手段204で被転写体(P)の転写紙に転写した後の上
記画像担持体201のドラム形状の感光体は、クリーニ
ング手段208でクリーニングされて次工程の画像形成
に備えるようになっている。上記光情報処理装置100
は、光源102からの入射光束(R)は第1のレンズシ
ステム103を介して、上記1次元光偏向アレー10の
複数個の各上記光偏向装置0に照射され、上記1次元光
偏向アレー10の複数個の各上記光変調装置0は、上記
独立駆動手段101により画像情報に応じて独立して個
々の上記薄膜両端部固定梁2と上記基板電極3との間に
駆動電圧を印加して上記薄膜両端部固定梁2を制御し、
上記反射手段1を通じて入射光束(R)を第2のレンズ
システム104を通じて上記画像担持体201のドラム
形状の感光体上の表面に結像させるようになっているか
ら、構造が簡単で使用する波長の制限が無く駆動電圧が
低い。上記1次元光偏向アレー10は、シリコンウエハ
ーを基板として、上述の製造方法と同様の方法で形成し
た。上記薄膜両端部固定梁2の寸法は、支持部間の寸法
が100μm、長さが15μmで、ピッチ20μmで配
置されている。上記薄膜両端部固定梁2は、窒化膜で形
成した厚さ0.08μmで、表面に光反射層として厚さ
0.01μmのAl薄膜の上記反射手段1が形成されて
いる。非平行な上記空隙5の形状はその最大深さの間隙
(G)が上記空隙5の端部にあり、もう一つの端部から
最大深さ部の間隙(G)に向かってなだらかに上記空隙
5の深さが変化するように形成されている。最大深さの
間隙(G)は、深さ5.0μmに形成した。このときの
駆動電圧は37Vであった。従って、入射光の反射方向
を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も速く、使用す
る入射光の波長が制限されることなく、作動が安定で信
頼性も高く、上記薄膜両端部固梁2の変形に必要なエネ
ルギーが少なく駆動電圧が低い1次元アレー形状に配置
された上記1次元光偏向アレー10の複数個の上記光変
調装置0を具備する構造が簡単で使用する波長の制限が
無く駆動電圧が低いので消費電力が小さい低コストの上
記画像形成装置200を提供することが出来るようにな
った。
【0022】図40において、画像を投影して表示する
画像投影表示装置300は、投影画像データの入射光束
(R)の反射方向を変えて光偏向を行なって画像を投影
する、上記2次元光偏向アレー20の複数個の各上記光
偏向装置0を各々独立に駆動する上記独立駆動手段10
1とからなる上記光情報処理装置100からなる光スイ
ッチ手段301の各上記光変調装置0が画像を投影スク
リーン302に投影して表示するようになっている。上
記光スイッチ手段301の上記光情報処理装置100
は、上記光源102からの入射光束(R)を上記2次元
偏向アレー20に配列された複数個の各上記光偏向装置
0に照射され、上記独立駆動手段101により所望の画
像のデータを各々の上記薄膜両端部固定梁2の上記反射
手段1の反射面のミラーにより反射し、投影レンズ10
5、及び、絞り106を介して上記投影スクリーン30
2に投影するから、構造が簡単で使用する波長の制限が
無く駆動電圧が低い。カラー表示を行うためには、上記
光源102の前に回転カラーホール107を設けたり、
又、性能向上のためにマイクロレンズアレー108を用
いることも出来る。従って、入射光の反射方向を変えて
光偏向を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光
の波長が制限されることなく、作動が安定で信頼性も高
く、上記薄膜両端部固梁2の変形に必要なエネルギーが
少なく駆動電圧が低い2次元アレー形状に配置された上
記2次元光偏向アレー20の複数個の上記光変調装置0
を具備する構造が簡単で使用する波長の制限が無く駆動
電圧が低いので消費電力が小さい低コストの上記画像投
影表示装置300を提供することが出来るようになっ
た。
【0023】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、請求項1の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固定
梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形
状部に形成して薄膜両端部固定梁を保持する基板の基板
表面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固定して
保持する固定保持部側の方向に沿って、薄膜両端部固定
梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が形成す
る空隙の間隔が変化するようにしたので、入射光の反射
方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も速く、使
用する入射光の波長が制限されることなく、作動が安定
で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の変形に必要なエネ
ルギーが少なく駆動電圧が低い光偏向装置を提供するこ
とが出来るようになった。請求項2の発明によれば、入
射光を正反射する金属薄膜で形成されている反射手段を
表面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端部が固定
されて静電力で変形する薄膜両端部固定梁の裏面に対向
して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して
薄膜両端部固定梁を保持する基板の基板表面に薄膜両端
部固定梁の両端部の被保持部を固定して保持する固定保
持部側の方向に沿って、薄膜両端部固定梁の裏面と対向
する基板電極の非平行な対向面が形成する空隙の間隔が
変化するようにしたので、反射手段が電極として使用す
ることが出来、入射光の反射方向を変えて光偏向を行う
構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、作動が安定で信頼性も高く、薄膜両端
部固定梁の変形に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が
低い低コストの光偏向装置を提供することが出来るよう
になった。請求項3の発明によれば、入射光を正反射す
る反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成され
両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固定梁
の裏面に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状
部に形成して薄膜両端部固定梁を保持する基板の基板表
面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固定して保
持する固定保持部側の方向に沿って、薄膜両端部固定梁
の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が形成する
空隙の間隔が変化すると共に薄膜両端部固定梁は引っ張
り応力を有する部材からなるようにしたので、スイッチ
ングの応答速度を速めることが出来るようになり、入射
光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も
更に速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、作動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の変
形に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が低い光偏向装
置を提供することが出来るようになった。
【0024】請求項4の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固定
梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形
状部に形成して薄膜両端部固定梁を保持する基板の基板
表面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固定して
保持する固定保持部側の方向に沿って、薄膜両端部固定
梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が形成す
る空隙の間隔が変化すると共に薄膜両端部固定梁は引っ
張り応力を有する部材の窒化シリコン薄膜からなるよう
にしたので、スイッチングの応答速度を確実に速めるこ
とが出来るようになり、入射光の反射方向を変えて光偏
向を行う構造が簡単で応答も更に確実に速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、作動が安定で信頼
性も高く、薄膜両端部固定梁の変形に必要なエネルギー
が少なく駆動電圧が低い光偏向装置を提供することが出
来るようになった。請求項5の発明によれば、入射光を
正反射する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で
形成され両端部が固定されて静電力で変形する低抵抗材
で形成されている薄膜両端部固定梁の裏面に対向して駆
動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両
端部固定梁を保持する基板の基板表面に薄膜両端部固定
梁の両端部の被保持部を固定して保持する固定保持部側
の方向に沿って、薄膜両端部固定梁の裏面と対向する基
板電極の非平行な対向面が形成する空隙の間隔が変化す
るようにしたので、薄膜両端部固定梁を電極として作用
させることも可能となり、入射光の反射方向を変えて光
偏向を行う構造が更に簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、作動が安定で信頼性も
高く、薄膜両端部固定梁の変形に必要なエネルギーが少
なく駆動電圧が低い低コストの光偏向装置を提供するこ
とが出来るようになった。
【0025】請求項6の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端部が固定されて静電力で変形する低抵抗材のによ
り低抵抗化して形成されているで形成されている薄膜両
端部固定梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する基板電
極を凹形状部に形成して薄膜両端部固定梁を保持する基
板の基板表面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を
固定して保持する固定保持部側の方向に沿って、薄膜両
端部固定梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面
が形成する空隙の間隔が変化するようにしたので、薄膜
両端部固定梁を電極として作用させることも簡単に可能
となり、入射光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が
更に簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限さ
れることなく、作動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部
固定梁の変形に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が低
い低コストの光偏向装置を提供することが出来るように
なった。請求項7の発明によれば、入射光を正反射する
反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両
端部が固定されて静電力で変形する単結晶シリコン薄膜
で形成されている薄膜両端部固定梁の裏面に対向して駆
動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両
端部固定梁を保持する基板の基板表面に薄膜両端部固定
梁の両端部の被保持部を固定して保持する固定保持部側
の方向に沿って、薄膜両端部固定梁の裏面と対向する基
板電極の非平行な対向面が形成する空隙の間隔が変化す
るようにしたので、欠陥が少なく寿命も長く、入射光の
反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、作動
が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の変形に必要
なエネルギーが少なく駆動電圧が低い光偏向装置を提供
することが出来るようになった。
【0026】請求項8の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端部が固定されて静電力で変形する多結晶シリコン
薄膜で形成されている薄膜両端部固定梁の裏面に対向し
て駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄
膜両端部固定梁を保持する基板の基板表面に薄膜両端部
固定梁の両端部の被保持部を固定して保持する固定保持
部側の方向に沿って、薄膜両端部固定梁の裏面と対向す
る基板電極の非平行な対向面が形成する空隙の間隔が変
化するようにしたので、製造方法にCVD等の手法を用
いることが出来るので、入射光の反射方向を変えて光偏
向を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波
長が制限されることなく、作動が安定で信頼性も高く、
薄膜両端部固定梁の変形に必要なエネルギーが少なく駆
動電圧が低い低コストの光偏向装置を提供することが出
来るようになった。請求項9の発明によれば、入射光を
正反射する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で
形成され両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端
部固定梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する基板電極
を凹形状部に形成して薄膜両端部固定梁を保持する基板
の基板表面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固
定して保持する固定保持部側の方向に沿って、薄膜両端
部固定梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が
形成する空隙の間隔が変化すると共に薄膜両端部固定梁
は被保持部の内側に折り畳み構造部からなるようにした
ので、実質的に薄膜両端部固定梁の固定部間の距離を大
きく出来るので同一駆動電圧では撓み量が大きく得ら
れ、入射光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、作動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の
変形に必要なエネルギーが更に少なく駆動電圧が更に低
い光偏向装置を提供することが出来るようになった。請
求項10の発明によれば、入射光を正反射する反射手段
を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端部が固
定されて静電力で変形する薄膜両端部固定梁の裏面に対
向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成し
て薄膜両端部固定梁を保持する基板の基板表面に薄膜両
端部固定梁の両端部の被保持部を固定して保持する固定
保持部側の方向に沿って、薄膜両端部固定梁の裏面と対
向する基板電極の非平行な対向面が形成する空隙の間隔
が変化すると共に薄膜両端部固定梁の被保持部が複数に
分割分離された分離保持部からなるようにしたので、入
射光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答
も速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、
作動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の変形に
必要なエネルギーが更に少なく駆動電圧が更に低い光偏
向装置を提供することが出来るようになった。
【0027】請求項11の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固
定梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹
形状部に形成して薄膜両端部固定梁を保持する基板の基
板表面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固定し
て保持する固定保持部側の方向に沿って、薄膜両端部固
定梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が形成
する空隙の間隔が変化すると共に薄膜両端部固定梁の被
保持部が複数に分割分離された分離保持部の長さは空隙
の間隙量の増加によって増加するようにしたので、入射
光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、作
動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁が撓み易く
なり、薄膜両端部固定梁の変形に必要なエネルギーが更
に少なく駆動電圧が更に低い光偏向装置を提供すること
が出来るようになった。請求項12の発明によれば、入
射光を正反射する反射手段を表面に組み合わせ構成する
薄膜で形成され両端部が固定されて静電力で変形する薄
膜両端部固定梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する基
板電極を凹形状部に形成して薄膜両端部固定梁を保持す
る基板の基板表面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持
部を固定して保持する固定保持部側の方向に沿って、薄
膜両端部固定梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対
向面が形成する空隙の間隔が変化すると共に薄膜両端部
固定梁の被保持部が複数に分割分離された分離保持部が
被保持部と接続する円弧形状の円弧形状接続部からなる
ようにしたので、分離保持部が被保持部と接続する接続
部におい静電力による曲げ応力の集中を防止して、入射
光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、作
動が安定で信頼性も更に高く、薄膜両端部固定梁の変形
に必要なエネルギーが更に少なく駆動電圧が更に低い光
偏向装置を提供することが出来るようになった。
【0028】請求項13の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固
定梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する透明導電膜で
形成されている基板電極を凹形状部に形成して薄膜両端
部固定梁を保持する基板の基板表面に薄膜両端部固定梁
の両端部の被保持部を固定して保持する固定保持部側の
方向に沿って、薄膜両端部固定梁の裏面と対向する基板
電極の非平行な対向面が形成する空隙の間隔が変化する
ようにしたので、基板を光学ガラスで形成する場合には
記基板電極に透明導電膜を用いると薄膜両端部固定梁の
様子が基板の裏側から観察でき検査の時に有利であり、
入射光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応
答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、作動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の変
形に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が低い光偏向装
置を提供することが出来るようになった。請求項14の
発明によれば、入射光を正反射する反射手段を表面に組
み合わせ構成する薄膜で形成され両端部が固定されて静
電力で変形する薄膜両端部固定梁の裏面に対向して駆動
電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両端
部固定梁を保持する光学ガラスで形成されている基板の
基板表面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固定
して保持する固定保持部側の方向に沿って、薄膜両端部
固定梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が形
成する空隙の間隔が変化するようにしたので、基板の裏
側から薄膜両端部固定梁の様子を見ることができ製品の
検査に有利であり、入射光の反射方向を変えて光偏向を
行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が
制限されることなく、作動が安定で信頼性も高く、薄膜
両端部固定梁の変形に必要なエネルギーが少なく駆動電
圧が低い光偏向装置を提供することが出来るようになっ
た。
【0029】請求項15の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固
定梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹
形状部に形成して薄膜両端部固定梁を保持するシリコン
で形成されている基板の基板表面に薄膜両端部固定梁の
両端部の被保持部を固定して保持する固定保持部側の方
向に沿って、薄膜両端部固定梁の裏面と対向する基板電
極の非平行な対向面が形成する空隙の間隔が変化するよ
うにしたので、基板内に拡散方式で駆動電極や複雑多数
な配線形成に有利であり、入射光の反射方向を変えて光
偏向を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の
波長が制限されることなく、作動が安定で信頼性も高
く、薄膜両端部固定梁の変形に必要なエネルギーが少な
く駆動電圧が低い光偏向装置を提供することが出来るよ
うになった。請求項16の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固
定梁の裏面に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹
形状部に形成して薄膜両端部固定梁を保持する基板の基
板表面に薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固定し
て保持する固定保持部側の方向に沿って、薄膜両端部固
定梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が形成
する空隙の間隔が変化すると共に空隙の間隙の大きさは
薄膜両端部固定梁の相対する基板の固定保持部の間では
等しく基板の固定保持部の一方端から他方端に向かって
順次増加し他方端で最大の大きさとなるようにしたの
で、薄膜両端部固定梁の変形は基板の固定保持部の一方
端から順次始まり、入射光の反射方向を変えて光偏向を
行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が
制限されることなく、作動が安定で信頼性も高く、薄膜
両端部固定梁の変形に必要なエネルギーが少なく駆動電
圧が低い光偏向装置を提供することが出来るようになっ
た。請求項17の発明によれば、入射光を正反射する反
射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端
部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固定梁の裏
面に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に
形成して薄膜両端部固定梁を保持する基板の基板表面に
薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固定して保持す
る固定保持部側の方向に沿って、薄膜両端部固定梁の裏
面と対向する基板電極の非平行な対向面が形成する空隙
の間隔が変化すると共に空隙の間隙の大きさは薄膜両端
部固定梁の相対する基板の固定保持部から中央部に向か
って順次増加するようにしたので、薄膜両端部固定梁の
変形は基板の固定保持部の一方端から順次始まり、入射
光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、作
動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の変形に必
要なエネルギーが更に少なく駆動電圧が更に低い光偏向
装置を提供することが出来るようになった。
【0030】請求項18の発明によれば、基板上に薄膜
両端部固定梁と基板電極が対向して形成される固定保持
部側の方向に沿って薄膜両端部固定梁の裏面と対向する
基板電極の非平行な対向面が形成する間隔が変化する空
隙と凹形状部の該当部を形成した後に空隙と凹形状部の
該当部に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して基板上
を平坦化して薄膜両端部固定梁を形成した後に犠牲材料
層を除去するようにしたので、入射光の反射方向を変え
て光偏向を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、作動が安定で信頼性も
高く、梁の変形に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が
低く製造工程が少なく低コストの光偏向装置の製造方法
を提供することが出来るようになった。請求項19の発
明によれば、基板上に薄膜両端部固定梁と基板電極が対
向して形成される固定保持部側の方向に沿って薄膜両端
部固定梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が
形成する間隔が変化する空隙と凹形状部の該当部を形成
した後に、空隙と凹形状部の該当部に犠牲材料からなる
犠牲材料層を一定厚さを形成して、薄膜両端部固定梁を
形成した後に、犠牲材料層を除去するようにしたので、
入射光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単で応
答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、作動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の変
形に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が低く製造工程
が更に少なく更に低コストの上記光偏向装置0の他の製
造方法を提供することが出来るようになった。
【0031】請求項20の発明によれば、基板上に薄膜
両端部固定梁と基板電極が対向して形成される固定保持
部側の方向に沿って薄膜両端部固定梁の裏面と対向する
基板電極の非平行な対向面が形成する間隔が変化する空
隙と凹形状部の該当部を形成した後に空隙と凹形状部の
該当部に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して基板上
を平坦化して、又は、犠牲材料からなる犠牲材料層を一
定厚さを形成して、薄膜両端部固定梁を形成した後に犠
牲材料層を薄膜両端部固定梁の被保持部以外の部分を介
して除去するようにしたので、入射光の反射方向を変え
て光偏向を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、作動が安定で信頼性も
高く、梁の変形に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が
低く製造工程が少なく低コストの歩留まりの高い光偏向
装置の製造方法を提供することが出来るようになった。
請求項21の発明によれば、入射光を正反射する反射手
段と、反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固
定梁と、薄膜両端部固定梁の裏面に対向して駆動電圧を
印加する基板電極と、基板電極を凹形状部に形成して薄
膜両端部固定梁を保持する基板と、基板の基板表面に薄
膜両端部固定梁の両端部の被保持部を固定して保持する
固定保持部と、固定保持部側の方向に沿って薄膜両端部
固定梁の裏面と対向する基板電極の非平行な対向面が形
成する間隔が変化する空隙からなる複数の光偏向装置を
独立駆動手段で各々独立に駆動するするようにしたの
で、入射光の反射方向を変えて光偏向を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、作動が安定で信頼性も高く、薄膜両端部固定梁の
変形に必要なエネルギーが少なく駆動電圧が低い光偏向
装置を具備する構造が簡単で使用する波長の制限が無く
駆動電圧が低い光情報処理装置を提供することが出来る
ようになった。
【0032】請求項22の発明によれば、回動可能に保
持されて形成画像を担持する画像担持体上に光書き込み
を行なって潜像を形成する請求項1乃至17の何れか一
項に記載の光偏向装置からなる潜像形成手段の光偏向装
置によって形成された潜像を顕像化してトナー画像を形
成する現像手段で形成されたトナー画像を転写手段で被
転写体に転写するようにしたので、入射光の反射方向を
変えて光偏向を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、作動が安定で信頼
性も高く、薄膜両端部固定梁の変形に必要なエネルギー
が少なく駆動電圧が低い光偏向装置を具備する構造が簡
単で使用する波長の制限が無く駆動電圧が低い画像形成
装置を提供することが出来るようになった。請求項23
の発明によれば、画像投影データの入射光の反射方向を
変えて光偏向を行なって画像を投影して表示する請求項
1乃至17の何れか一項に記載の光偏向装置からなる光
スイッチ手段が投影スクリーンに投影する画像を表示す
るようにしたので、入射光の反射方向を変えて光偏向を
行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が
制限されることなく、作動が安定で信頼性も高く、薄膜
両端部固定梁の変形に必要なエネルギーが少なく駆動電
圧が低い光偏向装置を具備する構造が簡単で使用する波
長の制限が無く駆動電圧が低い画像投影表示装置を提供
することが出来るようになった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置を説明
する説明図である。
【図2】図1のX−X線断面図である。
【図3】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の主要
部の動作を説明する斜視図である。
【図4】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の主要
部の他の状態を説明する斜視図である。
【図5】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の他の
主要部を説明する斜視図である。
【図6】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置の
主要部を説明する斜視図である。
【図7】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置の
主要部を説明する説明図である。
【図8】図7の平面図である。
【図9】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置の
主要部を説明する説明図である。
【図10】図9の平面図である。
【図11】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置
の主要部を説明する説明図である。
【図12】図11の平面図である。
【図13】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の製
造方法の主要部の工程を説明する説明図である。
【図14】図13のX−X線断面図である。
【図15】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図16】図15のX−X線断面図である。
【図17】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図18】図17のX−X線断面図である。
【図19】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図20】図19のX−X線断面図である。
【図21】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図22】図21のX−X線断面図である。
【図23】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置の製
造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図24】図23のX−X線断面図である。
【図25】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置
の製造方法の主要部の工程を説明する説明図である。
【図26】図25のZ−Z線断面図である。
【図27】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置
の製造方法の他の主要部の工程を説明する説明図であ
る。
【図28】図27のZ−Z線断面図である。
【図29】発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置の
製造方法の他の主要部の工程を説明する説明図である。
【図30】図29のZ−Z線断面図である。
【図31】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置
の製造方法の他の主要部の工程を説明する説明図であ
る。
【図32】図31のZ−Z線断面図である。
【図33】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置
の製造方法の他の主要部の工程を説明する説明図であ
る。
【図34】図33のZ−Z線断面図である。
【図35】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置
の製造方法の他の主要部の工程を説明する説明図であ
る。
【図36】図35のZ−Z線断面図である。
【図37】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置
を説明する説明図である。
【図38】本発明の他の実施の形態例を示す光偏向装置
を説明する説明図である。
【図39】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置を具
備する画像形成装置を説明する説明図である。
【図40】本発明の実施の形態例を示す光偏向装置を具
備する画像投影表示装置を説明する説明図である。
【符号の説明】
0 光偏向装置 1 反射手段 2 薄膜両端部固定梁、2a 被保持部、2a 分離
保持部、2a11 分離保持部、2a12 分離保持
部、2a13 分離保持部、2a 円弧形状接続部、
2b 折り畳み構造部 3 基板電極、3a 保護膜、 3b 開口部 4 基板、4a 固定保持部、4a 一方端、4a
他方端、4a 中央部 5 空隙 6 犠牲材料層 10 1次元光偏向アレー 20 2次元光偏向アレー 100 光情報処理装置 101 独立駆動手段 102 光源 103 第1のレンズシステム 104 第2のレンズシステム 105 投影レンズ 106 絞り 107 回転カラーホール 108 マイクロレンズアレー 200 画像形成装置 201 画像担持体 202 潜像形成手段 203 現像手段 204 転写手段 205 帯電手段 206 定着手段 207 排紙トレイ 208 クリーニング手段 300 画像投影表示装置 301 光スイッチ手段 302 投影スクリーン (a) 基板上空隙形成工程 (b) 基板電極形成工程 (c) 犠牲材料層形成平坦化工程 (d) 薄膜両端部固定梁形成工程 (e) 犠牲材料層除去工程 (f) 開口部形成工程 (g) 基板上空隙形成工程 (h) 基板電極形成工程 (i) 犠牲材料層形成工程 (j) 薄膜両端部固定梁形成工程 (k) 犠牲材料層除去工程 (l) 開口部形成工程
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03B 21/14 G03G 15/04 111 G03G 15/04 111 H04N 5/74 B H04N 5/74 B41J 3/00 D Fターム(参考) 2C362 BA17 2H041 AA12 AB14 AC06 AZ02 AZ05 AZ08 2H043 AE02 AE23 2H076 AB47 AB54 5C058 AB06 BA26 EA02 EA13 EA54

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入射光の反射方向を変えて光偏向を行う
    光偏向装置において、入射光を正反射する反射手段と、
    上記反射手段を表面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
    れ両端部が固定されて静電力で変形する薄膜両端部固定
    梁と、上記薄膜両端部固定梁の裏面に対向して駆動電圧
    を印加する基板電極と、上記基板電極を凹形状部に形成
    して上記薄膜両端部固定梁を保持する基板と、上記基板
    の基板表面に上記薄膜両端部固定梁の両端部の被保持部
    を固定して保持する固定保持部と、上記固定保持部側の
    方向に沿って上記薄膜両端部固定梁の裏面と対向する上
    記基板電極の非平行な対向面が形成する間隔が変化する
    空隙とからなることを特徴とする光偏向装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光偏向装置において、
    反射手段は、金属薄膜で形成されていることを特徴とす
    る光偏向装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の光偏向装置にお
    いて、薄膜両端部固定梁は、引っ張り応力を有する部材
    からなることを特徴とする光偏向装置。
  4. 【請求項4】 請求項1、2又は3に記載の光偏向装置
    において、薄膜両端部固定梁は、引っ張り応力を有する
    部材の窒化シリコン薄膜からなることを特徴とする光偏
    向装置。
  5. 【請求項5】 請求項1、2、3又は4に記載の光偏向
    装置において、薄膜両端部固定梁は、低抵抗材で形成さ
    れていることを特徴とする光偏向装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の光偏向装置において、
    薄膜両端部固定梁の低抵抗材は、シリコンを不純物によ
    り低抵抗化して形成されていることを特徴とする光偏向
    装置。
  7. 【請求項7】 請求項項1、2、3、5又は6に記載の
    光偏向装置において、薄膜両端部固定梁は、単結晶シリ
    コン薄膜で形成されていることを特徴とする光偏向装
    置。
  8. 【請求項8】 請求項項1、2、3、5又は6に記載の
    光偏向装置において、薄膜両端部固定梁は、多結晶シリ
    コン薄膜で形成されていることを特徴とする光偏向装
    置。
  9. 【請求項9】 請求項1、2、3、4、5、6、7又は
    8に記載の光偏向装置において、薄膜両端部固定梁は、
    被保持部の内側に折り畳み構造部からなることを特徴と
    する光偏向装置。
  10. 【請求項10】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
    8又は9に記載の光偏向装置において、薄膜両端部固定
    梁の被保持部が、複数に分割分離された分離保持部から
    なることを特徴とする光偏向装置。
  11. 【請求項11】 請求項10に記載の光偏向装置におい
    て、分離保持部の長さは、空隙の間隙量の増加によって
    増加することを特徴とする光偏向装置。
  12. 【請求項12】 請求項10又は11に記載の光偏向装
    置において、分離保持部は、被保持部と接続する円弧形
    状の円弧形状接続部からなることを特徴とする光偏向装
    置。
  13. 【請求項13】 請求項項1乃至12の何れか一項に記
    載の光偏向装置において、基板電極は、透明導電膜で形
    成されていることを特徴とする光偏向装置。
  14. 【請求項14】 請求項項1乃至13の何れか一項に記
    載の光偏向装置において、基板は、光学ガラスで形成さ
    れていることを特徴とする光偏向装置。
  15. 【請求項15】 請求項項1乃至13の何れか一項に記
    載の光偏向装置において、基板は、シリコンで形成され
    ていることを特徴とする光偏向装置。
  16. 【請求項16】 請求項1乃至15の何れか一項に記載
    の光偏向装置において、空隙の間隙の大きさは、薄膜両
    端部固定梁の相対する基板の固定保持部の間では等し
    く、上記基板の固定保持部の一方端から他方端に向かっ
    て順次増加し、上記他方端で最大の大きさとなることを
    特徴とする光偏向装置。
  17. 【請求項17】 請求項1乃至16の何れか一項に記載
    の光偏向装置において、空隙の間隙の大きさは、薄膜両
    端部固定梁の相対する基板の固定保持部から中央部に向
    かって順次増加することを特徴とする光偏向装置。
  18. 【請求項18】 入射光の反射方向を変えて光偏向を行
    う請求項1乃至17の何れか一項に記載の光偏向装置の
    製造方法において、基板上に薄膜両端部固定梁と基板電
    極が対向して形成される固定保持部側の方向に沿って上
    記薄膜両端部固定梁の裏面と対向する上記基板電極の非
    平行な対向面が形成する間隔が変化する空隙と凹形状部
    の該当部を形成した後に、上記空隙と凹形状部の該当部
    に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して上記基板上を
    平坦化して、上記薄膜両端部固定梁を形成した後に、上
    記犠牲材料層を除去することを特徴とする光偏向装置の
    製造方法。
  19. 【請求項19】 入射光の反射方向を変えて光偏向を行
    う請求項1乃至17の何れか一項に記載の光偏向装置の
    製造方法において、基板上に薄膜両端部固定梁と基板電
    極が対向して形成される固定保持部側の方向に沿って上
    記薄膜両端部固定梁の裏面と対向する上記基板電極の非
    平行な対向面が形成する間隔が変化する空隙と凹形状部
    の該当部を形成した後に、空隙と凹形状部の該当部に犠
    牲材料からなる犠牲材料層を一定厚さを形成して、上記
    薄膜両端部固定梁を形成した後に、上記犠牲材料層を除
    去することを特徴とする光偏向装置の製造方法。
  20. 【請求項20】 請求項18又は19に記載の光偏向装
    置の製造方法において、上記犠牲材料層は、薄膜両端部
    固定梁の被保持部以外の部分を介して除去することを特
    徴とする光偏向装置の製造方法。
  21. 【請求項21】 入射光の反射方向を変えて光偏向を行
    う光偏向装置を使用して光情報の処理を行なう光情報処
    理装置において、複数の上記請求項1乃至17の何れか
    一項に記載の光偏向装置と、複数の上記光偏向装置を各
    々独立に駆動する独立駆動手段とからなることを特徴と
    する光情報処理装置。
  22. 【請求項22】 電子写真プロセスで光書き込みを行な
    って画像を形成する画像形成装置において、回動可能に
    保持されて形成画像を担持する画像担持体と、上記画像
    担持体上に光書き込みを行なって潜像を形成する上記請
    求項1乃至17の何れか一項に記載の光偏向装置からな
    る潜像形成手段と、上記潜像形成手段の上記光偏向装置
    によって形成された潜像を顕像化してトナー画像を形成
    する現像手段と、上記現像手段で形成されたトナー画像
    を被転写体に転写する転写手段とからなることを特徴と
    する画像形成装置。
  23. 【請求項23】 画像を投影して表示する画像投影表示
    装置において、画像投影データの入射光の反射方向を変
    えて光偏向を行なって画像を投影して表示する請求項1
    乃至17の何れか一項に記載の光偏向装置からなる光ス
    イッチ手段と、上記光スイッチ手段が投影する画像を表
    示する投影スクリーンとからなることを特徴とする画像
    投影表示装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN100368862C (zh) * 2004-01-16 2008-02-13 侯继东 一种可调反射式装置
CN118011621A (zh) * 2024-04-10 2024-05-10 西安知微传感技术有限公司 一种两倍像素倍增装置

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CN100368862C (zh) * 2004-01-16 2008-02-13 侯继东 一种可调反射式装置
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