JP2002264271A

JP2002264271A - 高分子樹脂積層体

Info

Publication number: JP2002264271A
Application number: JP2001064759A
Authority: JP
Inventors: Tatsuichiro Kin; 辰一郎金; Satoshi Omori; 智大森; Hiromasa Minematsu; 宏昌峯松
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2001-03-08
Filing date: 2001-03-08
Publication date: 2002-09-18

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、耐水性に優れる高分子樹脂／ハー
ドコート積層体を実現することを目的とする。【解決手段】高分子樹脂基板の少なくとも一方の面
に、厚みが２〜２００μｍの活性光線硬化層と、分子内
に１つ以上のアミノ基を有する珪素アルコキシドを加水
分解及び縮合してなる厚みが０．０１〜１μｍのアミノ
シラン層と、真空成膜プロセスを用いて形成された厚み
が１．５〜１０μｍのハードコート層とが、この順に積
層されてなる高分子樹脂積層体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表面の硬度に優れ
た高分子樹脂の成形物の積層体、その中でも特に表面の
硬度に優れたポリカーボネート成形物の積層体に関し、
更にはこの積層体を用いた各種自動車の窓材（風防も含
む）に関するものである。

【０００２】尚、本発明の高分子樹脂積層体は、前記の
用途以外、例えば、各種の建築物における窓材（ここで
窓材とは少なくとも透視が可能であるものを示す）や、
高速道路等の透明遮音板、太陽電池パネルの表面保護
板、液晶表示装置（ＬＣＤ）やプラズマディスプレー
（ＰＤＰ）、エレクトロルミネセンスディスプレー（Ｅ
Ｌ）、ＣＲＴ等の各種の画像／情報表示装置の表面保護
板、もしくは各種の携帯情報端末、タッチパネル入力装
置等で用いられる透明タブレットの透明電極基板等の用
途にも好適に用いる事が可能である。

【０００３】

【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は透明性に優れ、
軽量で耐衝撃性が高いことから、各種の建築物、自動車
等の窓材や構造材等として、広く応用展開されてきた。

【０００４】しかしながら、硬度・耐擦傷性・耐侯性・
耐薬品性の観点でガラスに大幅に劣るという欠点があ
る。そのため、これらの性能をカバーする機能を有する
ハードコート層をポリカーボネート上にコーティングす
る方法（例えば特開昭４８−８１９２８号公報、特開昭
５２−１３８５６５号公報、特開昭５３−１３８４７６
号公報）が提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】これらのハードコート
層としては、珪素アルコキシドの加水分解縮合物もしく
は、それに加えて他種のアルコキシドや各種の超微粒子
等を適当な割合で混合した組成物を熱的に硬化してなる
層や、多官能アクリレートを紫外線や電子線等の活性光
線の照射等によって重合してなる層が多く用いられてい
る。

【０００６】しかしながら前記の自動車や建築物の窓材
等の屋外用途に、高分子樹脂基板にハードコート層を設
けた積層体（高分子樹脂／ハードコート積層体）を用い
ようとする場合には、高度な機械特性（耐磨耗性、硬
度）に加えて、耐候性、すなわち耐光性や耐水性に非常
に優れた性能を示すことが必要になる。

【０００７】ここで耐光性とは屋外紫外線の長期暴露に
よる性能変化を指し、耐水性とは屋外での雨風に曝され
た場合の性能変化を指し、高分子樹脂積層体の色調や外
観の変化、耐磨耗性や硬度、密着性の低下等が観察され
る場合が多い。

【０００８】さて耐光性については、例えば各種の真空
製膜プロセスで作成した無機酸化物、窒化物等によるハ
ードコート層は、紫外線暴露による層自身の化学的、物
理的変化が殆ど無く優れており、かつ高い耐磨耗性や硬
度が得られるので好ましく用いられる。

【０００９】しかしこれらの真空製膜プロセスによるハ
ードコート層は、場合によって耐水性の問題、特にハー
ドコート層の密着性の低下が観られ、問題となってい
た。

【００１０】本発明はこうした事態に鑑み、特に耐水性
に優れる高分子樹脂／ハードコート積層体を実現するこ
とを目的として為されたものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、分子内に１つ以上のアミノ基を有する珪素アルコ
キシドの加水分解縮合層（以下アミノシラン層と記す）
を、ハードコート層と、活性光線硬化層との間に挟持し
て積層形成する事により、高分子樹脂／ハードコート積
層体の耐水性が顕著に改善される事を見出し本発明を完
成するに至った。

【００１２】すなわち、本発明は次の通りである。１．高分子樹脂基板の少なくとも一方の面に、厚みが２
〜２００μｍの活性光線硬化層と、分子内に１つ以上の
アミノ基を有する珪素アルコキシドを加水分解及び縮合
してなる厚みが０．０１〜１μｍのアミノシラン層と、
真空成膜プロセスを用いて形成された厚みが１．５〜１
０μｍのハードコート層とが、この順に積層されてなる
高分子樹脂積層体。２．ハードコート層は、真空蒸着法を用いて形成された
層を少なくとも含むことを特徴とする上記１の高分子樹
脂積層体。３．ハードコート層は、酸化珪素を少なくとも全体の５
０重量％以上含んでいることを特徴とする上記１、２の
高分子樹脂積層体。４．活性光線硬化層は、該層単独での鉛筆硬度がＦ以上
であることを特徴とする上記１〜３の高分子樹脂積層
体。５．活性光線硬化層は、分子内もしくは単位繰り返し構
造内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する１種
もしくは２種以上の（メタ）アクリレート成分を不揮発
成分中の５０重量％以上含んでなる前駆材料に、活性光
線を照射して硬化してなる層であることを特徴とする上
記１〜４の高分子樹脂積層体。６．高分子樹脂基板の厚みが０．２〜２０ｍｍの範囲に
あることを特徴とする上記１〜５の高分子樹脂積層体。７．高分子樹脂基板がポリカーボネートの成形基板であ
ることを特徴とする上記１〜６の高分子樹脂積層体。８．上記１〜７の高分子樹脂積層体からなる自動車用窓
材。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の高分子樹脂積層体は、高
分子樹脂基板の上に、活性光線硬化層とハードコート層
が順次積層され、特定のアミノシラン層が、該活性光線
硬化層とハードコート層との間に接して設置されてなる
ことにより、耐水性が向上する。

【００１４】ここで耐水性の試験方法については、例え
ば後述する沸水試験により簡易的な評価が為されている
が、ハードコート層に接してアミノシラン層を積層した
高分子樹脂／ハードコート積層体では、沸水試験による
ハードコート層の外観や密着性の悪化が非常に少なく、
耐水性が優れている事が判明した。

【００１５】この原因を考察するに、おそらくはアミノ
基の有する強い極性に起因して、アミノシラン層とハー
ドコート層、およびアミノシラン層と活性光線硬化層の
層間に強い引力が働くためではないかと思われる。

【００１６】ここで分子内に１つ以上のアミノ基を有す
る珪素アルコキシドとしては、例えば、Ｎ−β（アミノ
エチル）γ―アミノプロピルトリメ（エ）トキシシラ
ン、およびまたはγ―アミノプロピルトリメ（エ）トキ
シシラン、およびまたはγ―アミノウレタントリメ
（エ）トキシシランが好ましく挙げられる。これらは２
種類以上組み合わせて用いてもよい。

【００１７】尚、アミノシラン層には、必要に応じて他
種の珪素アルコキシドを全体の４０モル％以下で添加し
て作成してもよい。このような珪素アルコキシドとして
は、例えばγ−グリシドキシプロピルトリメ（エ）トキ
シシラン等のエポキシ基を含む珪素アルコキシドや、ア
クリロキシプロピルトリメ（エ）トキシシラン、メタク
リロキシプロピルトリメ（エ）トキシシラン等の（メ
タ）アクリル基を有する珪素アルコキシドや、テトラメ
（エ）トキシシラン、メ（エ）チルトリメ（エ）トキシ
シラン等が挙げられる。

【００１８】上記アミノシラン層は、原料となる珪素ア
ルコキシドを加水分解ならびに部分縮合して作成した塗
液を後述する活性光線硬化層上に湿式コーティングし、
ついで加熱により硬化させて強固な塗膜として形成する
ことができる。

【００１９】上記アミノシラン層の厚さは、０．０１〜
１μｍの範囲である。０．０１μｍ未満であると湿式コ
ーティングにおいて塗膜の欠陥（ピンホール、ヌケ等）
が発生しやすく、また１μｍを越えるとコーティング条
件（環境湿度が高い等）によって塗膜に多少の白化が発
生する場合が多くなる。アミノシラン層の厚さは更に好
ましくは０．０１〜０．３μｍである。

【００２０】さて本発明においてハードコート層の形成
に用いる真空成膜プロセスとしては、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、化学的気相成長（堆積）法（CVD）法等
のプロセスが挙げられるが、この中でも、一般に成膜速
度が早く経済性に優れる特長を有する真空蒸着法を主に
用いる事が好ましい。

【００２１】真空蒸着法とは、一般に装置内の圧力が少
なくとも１０^-1Ｐａ以下となるように真空排気した後
に、装置内において、加熱気化させた材料物質を基板上
に堆積させて層（以下蒸着層と記す）を得る方法であ
る。尚、一般に材料の加熱気化の方法としては、るつぼ
に充填したり、円筒状にあらかじめ成形した材料物質
に、電子ビームもしくはイオンビーム等を当てて加熱す
る方法、もしくは、タングステンボート等の抵抗線に充
填した材料物質を抵抗線に電流を流して加熱する方式等
が用いられる。

【００２２】尚、真空蒸着法としては、蒸着粒子（ガ
ス）が基板に到達する前に適当な方法により粒子をイオ
ン化させ、更にこれを電界加速して基板上に堆積させる
方法（イオン化蒸着法、電界アシスト蒸着等の名称で呼
ばれることが多い）等の、公知の蒸着粒子に対してその
運動エネルギーを高める工程を付与した各種の真空蒸着
法も、必要に応じて用いることができる。

【００２３】こうした真空蒸着法は、例えばスパッタリ
ング法に比べると層の緻密性は一般に低くなるが、層の
堆積速度が速い為、数ミクロンを越える膜厚のハードコ
ート層を形成するに当たって特に経済的観点から適して
いる。

【００２４】このハードコート層は、例えば前記の真空
蒸着法により形成された層（以下蒸着層と記す）と、ス
パッタリング法により形成された層（以下スパッタ層と
記す）とを、高分子樹脂基板側からこの順に積層した二
層から成るハードコート層を用いても良い。このように
蒸着層とスパッタ層を積層したハードコート層は、ハー
ドコート層の耐磨耗性が更に向上する場合があり好まし
く用いられる。

【００２５】スパッタリング法とは、公知のマグネトロ
ンスパッタ法、ＥｌｅｃｔｒｏｎＣｙｃｌｏｔｒｏｎ
Ｒｅｓｏｎａｎｃｅスパッタ法（ＥＣＲスパッタ法）
等の方法を指し、一般に真空装置内の圧力が１０^-1Ｐａ
以下になるように真空排気した後に、装置中に不活性ガ
ス、もしくは若干の反応性ガスを混合した不活性ガスを
導入し、層の材料となる物質のターゲット板とスパッタ
層が堆積される基材に挟まれた空間内に高い電場（交流
および／または直流）と磁場をかけてプラズマ状態を誘
起させ、このプラズマ内で加速したガス（通常主にアル
ゴン等の不活性ガスが用いられる）が材料物質のターゲ
ット板に衝突する衝撃（運動エネルギー）によりターゲ
ット表面から材料物質を気体状に発散（スパッタ）させ
て基材に付着させて層（以下スパッタ層と記す）を得る
方法である。

【００２６】一般にスパッタリング法は、非常に緻密で
（密度の高い）硬度の高い層が得る方法として非常に好
ましく用いられているが、その一方で層の堆積速度が遅
いという欠点がある。一般に高分子樹脂／ハードコート
積層体が実用上充分な硬度と耐磨耗性を有するために
は、ハードコート層の膜厚は通常１．５μｍ以上である
事が好ましいが、スパッタリング法のみによってこうし
た膜厚のハードコート層を形成する事は経済的な観点か
ら困難である。

【００２７】こうした主に経済的な観点から、スパッタ
層の膜厚は０．５μｍ以下、より好ましくは０．２５μ
ｍ以下である事が好ましい。

【００２８】一方スパッタ層の膜厚は、その積層による
特性向上効果を得るためには少なくとも０．０２μｍ以
上必要であり、より好ましくは０．０５μｍ以上、更に
好ましくは０．１μｍ以上である。

【００２９】このように蒸着層とスパッタ層の積層を行
う場合、真空蒸着の工程とスパッタリングの工程は、同
一の真空槽内、もしくは可動式の敷居板を隔てて連続す
る２つ以上の真空槽（真空チャンバー）中を、基板を移
動させながら連続的に行う事も可能であり、表面汚染の
防止効果、真空排気時間の短縮等の利点から好ましく行
われる。

【００３０】このようなハードコート層の材料として
は、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化セリウ
ム、窒化珪素、窒化アルミニウム、炭化珪素等の無機酸
化物、窒化物、炭化物等を挙げる事ができるが、この中
でもハードコート層が高い透明性と優れた機械物性を有
するようにするためには、主成分として酸化珪素を用い
る事が好ましく、酸化珪素が層全体の少なくとも５０重
量％以上、より好ましくは７５重量％を占めていること
が好ましい。

【００３１】尚、より高い透明性を得る目的において
は、酸化珪素の酸化数を示すＳｉＯｎのｎの値はほぼ
２．０である事が好ましい。

【００３２】また、ハードコート層は、前記のように酸
化珪素を主成分として用いることが好ましいが、必要に
応じて適当な割合で他種の無機酸化物を副成分として混
合した材料を用いることも可能である。

【００３３】このような副成分としては、酸化マグネシ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が好ましく例示
され、ハードコート層の硬度上昇や脆性の改善、ならび
にハードコート層と活性光線硬化層との屈折率差に由来
する光干渉縞の低減を目的とした屈折率の調整等の目的
において混合される。

【００３４】さて、高分子樹脂積層体が優れた耐磨耗性
を得るためには、ハードコート層の膜厚は１．５μｍ以
上であることが好ましく、より好ましくは２．５μｍ以
上、更に好ましくは３．５μｍ以上である。ただし膜厚
が１０μｍを越えると、層にクラックを生じたり、密着
性が低下する場合が多くなるので好ましくない。

【００３５】尚、必要に応じて、ハードコート層の積層
の際中に、真空槽内で基材を適度に加熱することが好ま
しい場合がある。基材の加熱方法としては、ハロゲンラ
ンプ等を用いることができる。加熱温度としては、およ
そ５０〜１２０℃程度の範囲が好ましく、蒸着膜の残留
応力の緩和や、蒸着膜の密着性向上、特に積層体の周囲
温度変化に対する蒸着膜の密着性の悪化を防ぐ目的にお
いて好ましい場合がある。

【００３６】活性光線硬化層は、前述のように本発明の
高分子樹脂積層体の耐磨耗性や硬度を更に向上し、また
高分子樹脂基板の耐光性試験による着色現象を抑制する
等の目的で積層形成される。

【００３７】活性光線硬化層は、後述のように電子線や
紫外線等の活性光線の照射により層の硬化が進行する層
を指す。

【００３８】活性光線硬化層の膜厚は、２〜２００μｍ
の範囲にあることが好ましい。ここで膜厚が２μｍ未満
であると、耐磨耗性向上の効果が小さくなるので好まし
くない。

【００３９】また層単独での鉛筆硬度（これは例えばガ
ラス板上に形成して硬化層の表面硬度を測定することで
求められる）はＦ以上である事が好ましく、より好まし
くは２Ｈ以上である。

【００４０】更に活性光線硬化層は、層のガラス転移温
度もしくは軟化温度がおよそ１２０℃以上であることが
好ましい。これらの値は、例えば示差熱分析（ＤＳＣ）
における吸熱ピークや、熱走査による動的粘弾性の分
析、その他の方法によって評価することができる。

【００４１】活性光線硬化層のガラス転移温度もしくは
軟化温度が高いことにより、ハードコート層の真空成膜
時にエネルギーを持った蒸着粒子の堆積やターゲットか
らの放熱によって、層の温度が上昇した場合でもハード
コート層を機械的にしっかりと支えることが可能にな
る。

【００４２】これに対し、活性光線硬化層のガラス転移
温度もしくは軟化温度が低い場合には、ハードコート層
の密着性不良やハードコート層のクラック発生等の問題
を引き起こす場合が多く、また積層体全体の温度上昇に
対する耐性も弱くなる。

【００４３】このような活性光線硬化層としては、例え
ば、分子内もしくは単位繰り返し構造内に２個以上の官
能基を有する（メタ）アクリレートの一種もしくは二種
以上を混合して用い、これらの成分を不揮発成分の５０
重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましく
は８０重量％以上含む前駆材料を、紫外線、電子線等の
活性光線の照射によって硬化してなる層が好ましく用い
られる。

【００４４】このような（メタ）アクリレートとして
は、例えば、ジシクロペンタニルジアクリレート、ジシ
クロペンタニルジメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレ
ンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプ
ロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、イソシアヌール環を含む多官能
（メタ）アクリレート（官能基数３〜１５程度）、イソ
シアネート結合を有する多官能（メタ）アクリレート
（官能基数２〜６程度。これらは一般にウレタンアクリ
レートと呼ばれる事が多い）、いわゆるポリエステルア
クリレート（例えば東亞合成化学製「アロニックスＭ８
０３０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５
６０、Ｍ９０５０」等）等が好ましく例示される。

【００４５】尚、活性光線硬化層には必要に応じて、副
成分として不揮発成分中の５０重量％未満の割合で、分
子内もしくは単位繰り返し構造内に含まれる官能基数が
１である（メタ）アクリレートや、ビニル基やアリル基
を有する化合物、珪素アルコキシドを始めとする各種の
アルコキシド成分、平均粒径（直径）が３〜３０ｎｍの
超微粒子、光重合開始剤等の硬化剤もしくは硬化触媒、
光重合開始助剤（増感剤）、レベリング剤、光吸収剤
（紫外線吸収剤）、光安定剤（酸化防止剤）、消泡剤、
増粘剤等が必要に応じて混合される。

【００４６】尚、副成分の添加量は、より好ましくは３
０重量％未満、更に好ましくは２０重量％未満である。

【００４７】ここで分子内もしくは単位繰り返し構造内
に含まれる官能基数が１である（メタ）アクリレートと
しては、例えばアクリロイルモルフォリン、イソボルニ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリド
ン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン等が挙げられるが、これらの中でも特にγ−（メ
タ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いた
場合には、活性光線硬化層と前記のアミノシラン層との
密着性が向上する傾向があり、好ましく用いられる。

【００４８】また平均粒径が３〜３０ｎｍの超微粒子と
しては例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、塩化アルミ
ニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸
化セリウム、酸化錫等の無機酸化物による超微粒子や、
メチルメタクリレートやジビニルベンゼンを酸やイミド
により架橋した有機架橋微粒子による超微粒子等が好適
である。これらの超微粒子は、その表面をあらかじめ各
種の有機基を含有する成分によって表面処理しておく事
が更に好ましい。特に有機基として（メタ）アクリロイ
ル基を含有していることが好ましいので、表面処理に用
いる成分としては特にγ−（メタ）アクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン等が好ましく例示される。

【００４９】これらの副成分は活性光線硬化層の硬化収
縮率の低減や、基材もしくは真空蒸着法による酸化珪素
層との密着性の向上、耐候性の向上、耐水性の向上、表
面性の改善、および活性光線硬化層の硬度の向上や真空
蒸着法による酸化珪素層との屈折率のマッチング化等の
各種の機能を付与する目的で混合される。

【００５０】尚、本発明の高分子樹脂積層体を優れた耐
光性（耐紫外線劣化性）を必要とする用途（屋外使用用
途等）に用いる場合には特に、活性光線硬化層は、厚み
７μｍの活性光線硬化層に波長２９５〜４５０ｎｍ、照
度１００ｍＷ／ｃｍ²の光を１００時間照射した前後の
層の透過光の日本工業規格Ｚ８７２９号に定めるＬ^*ａ^*
ｂ^*表色系のクロマティクネス指数ｂ^*値の増加、すなわ
ち色差△ ｂ^*の値が２以下である活性光線硬化層である
ことがより好ましい。尚、△ ｂ^*値はより好ましくは１
以下である。これは本発明の高分子樹脂積層体を特に屋
外環境で用いる場合に、長期の紫外線暴露により活性光
線硬化層の変色（着色）が起こると、積層体の外観が著
しく悪化することを考慮したものである。

【００５１】前述のように活性光線硬化層は、前記の材
料を必要に応じて各種の溶剤で希釈した後に高分子樹脂
基板上にコーティングし、電子線、紫外線（可視光を含
んでいても良い）等の活性光線を照射することによって
材料の硬化を進行させ、形成することができる。

【００５２】電子線硬化法は一般に電子の加速電圧と硬
化層の密度とによって浸入深さが決まり、硬化層自身の
光吸収（主に紫外域）の影響を受けない特徴を有してい
る。また紫外線の吸収波長領域を利用しないため、高分
子樹脂積層体の耐候性（例えば紫外線老化性）を向上さ
せる目的で硬化層内に紫外線吸収剤を混合する場合等に
特に有効な硬化方法となる。

【００５３】紫外線硬化を行う場合には、光重合開始剤
を副成分として適量添加することが好ましく、また硬化
反応の効率を向上する目的で各種の増感剤も必要に応じ
て適量添加される。

【００５４】また電子線硬化、紫外線硬化のいずれの方
法においても、酸素による硬化障害を抑制する目的で、
周囲雰囲気の酸素を窒素等の不活性気体で置換すること
も必要に応じて行われる。

【００５５】光重合開始剤としては、例えばジエトキシ
アセトフェノン、２−メチル−１−｛４−（メチルチ
オ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の
アセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンジルジメチ
ルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、
ベンゾイル安息香酸等のベンゾフェノン系化合物；チオ
キサンソン、２、４−ジクロロチオキサンソン等のチオ
キサンソン系化合物等が挙げられる。またこれらの骨格
にアクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、ビニ
ル基を付与した共重合性の光重合開始剤も好ましく用い
られ、例えばα−アリルベンゾイン、α−アリルベンゾ
インアリールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン等が
例示される。

【００５６】光重合開始剤の添加量は、活性光線硬化層
の前駆材料の不揮発成分全体の０．１〜１０重量％であ
ることが好ましい。ここで紫外線照射時に周囲雰囲気の
酸素を置換しない場合には１〜１０重量％、不活性気体
による置換を行う場合には０．１〜３重量％の添加量が
好ましい。

【００５７】さて活性光線硬化層は、層自身が十分な紫
外線吸収性を有することが好ましい。すなわち活性光線
硬化層内に副成分として紫外線吸収剤を添加する方法を
用いる事が好ましい。これは基板に用いる高分子樹脂
が、屋外での長期の紫外線暴露により著しく変色（着
色）する問題への対策として最適な方法である。

【００５８】このように活性光線硬化層に紫外線吸収剤
を副成分として添加する場合、少なくとも３００〜３５
０ｎｍの波長範囲の波長領域に大きな吸収を有する紫外
線吸収剤が好ましく用いられ、その中でも分子内にベン
ゾトリアゾール骨格やトリアジン骨格等を含む化合物が
特に好ましい。

【００５９】これらの例としては、例えば、２−（２Ｈ
−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６
−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノー
ル、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２
Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−
６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２，４−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−６−（５−クロロベンゾトリアゾール
−２−イル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフ
ェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フ
ェノール、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−ト
リアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−
フェノール、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデ
シルオキシプロピル）オキシ］−４，６−ビス（２，４
−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が好
ましく挙げられる。

【００６０】更には紫外線吸収剤として、前記のベンゾ
トリアゾール骨格やトリアジン骨格等を含む化合物とメ
タクリロイル基、アクリロイル基もしくはビニル基を含
有する化合物を共重合してなる化合物（例えば２−
（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる）は活性光
線硬化層を主に形成するアクリレート成分もしくはメタ
クリレート成分と架橋反応を起こすことが可能な反応型
紫外線吸収剤と呼ばれており、活性光線硬化層内に紫外
線吸収剤を安定に固定し、耐久性を高める目的のために
好ましく用いられる。

【００６１】高分子樹脂積層体の耐候性（紫外線老化
性）を充分なものにするためには、活性光線硬化層の３
００〜３５０ｎｍの波長領域のいずれの波長においても
光吸収率が少なくとも９９％以上、より好ましくは９
９．９％以上とすることが好ましい。なお、「活性光線
硬化層の３００〜３５０ｎｍの波長領域における光吸収
率が９９％以上である」とは、「３００〜３５０ｎｍの
波長領域のいずれの波長においても光吸収率が少なくと
も９９％以上」という意味である。

【００６２】この目的のためには、活性光線硬化層の前
駆材料の不揮発成分中の紫外線吸収剤の添加量（重量
％）と活性光線硬化層の膜厚（μｍ）との積が、３０〜
３００重量％・μｍの範囲にあることが好ましく、より
好ましくは５０〜１５０重量％・μｍである。

【００６３】なお、活性光線硬化層の前駆材料に紫外線
吸収剤を混合し、紫外線照射により層の硬化を行う場合
には、硬化（光重合）を誘起する紫外線の波長と紫外線
吸収剤の吸収波長とが幾分相違していることが好まし
い。すなわち前述のように紫外線吸収剤としては３００
〜３５０ｎｍの波長領域に大きな吸収を持つものを用い
ることが好ましいので、光重合を誘起する紫外線の波長
は３５０ｎｍ以上もしくは３００ｎｍ以下の波長とする
ことが好ましい。

【００６４】この目的では、大きな光吸収を有する波長
領域が３５０〜４００ｎｍおよび／または２２０〜３０
０ｎｍであるような光重合開始剤を用いる方法がある。
これらの例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンジルジメチルケタール、ベンゾイル安息香酸、ベンゾ
イル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジ
フェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メト
キシベンゾフェノン、チオキサンソン、２−クロルチオ
キサンソン、２−メチルチオキサンソン、２，４ジメチ
ルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，
４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピル
チオキサンソン、ジベンゾスベロン、メチルフェニルグ
リオキシレート、１−フェニル−１，２−プロパンジオ
ン−２（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等が例示さ
れる。

【００６５】また同様の目的で、２２０〜３００ｎｍお
よび／または３５０〜４００ｎｍに大きな光吸収性を有
する光重合開始助剤（増感剤）を、光重合開始剤と併用
して用いることも好ましく行われる。

【００６６】このような光重合開始助剤としては、例え
ば２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ
−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミル、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４−ジメチルアミノアセトフェノン等が挙げられ
る。

【００６７】こうした光重合開始助剤は、光重合開始剤
の混合量に対して１０〜４０重量％の割合で混合される
ことが好ましい。

【００６８】これら活性光線硬化層の高分子樹脂基板上
へのコーティング方法としては、例えば、（ドクター）
ナイフコート法、マイクログラビヤコート法、ダイレク
トグラビヤコート法、オフセットグラビヤ法、リバース
グラビヤ法、リバースロールコート法、（マイヤー）バ
ーコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ディッ
プコート法等の方法が好ましく適用できる。

【００６９】ここで活性光線硬化層の前駆材料を塗布し
た高分子樹脂基板は、前駆材料液のレベリング性の向上
や、活性光線硬化層と高分子樹脂基板との間の密着性の
向上等の目的で活性光線の照射を行う前に一度５０〜１
３０℃に昇温することが好ましい場合がある。

【００７０】また活性光線硬化層を高分子樹脂基板上に
積層した後に、この積層体を該高分子樹脂基板のガラス
転移温度付近の温度（好ましくはガラス転移温度より２
０℃程度低い温度）で熱処理を行う事が好ましい。こう
した熱処理の実施により、活性光線硬化層を積層した高
分子樹脂基板の残留応力が熱的に緩和されて、層の密着
性の向上が観られると同時に、活性光線硬化層中に含ま
れる揮発性成分（主に光重合開始剤の分解物）が揮発除
去され、真空蒸着時に揮発成分の真空槽への放出量が減
少するといった効果があり、好ましく実施される。

【００７１】また同様に、活性光線硬化層を高分子樹脂
基板上に積層した後、ハードコート層を積層する前に、
この積層体に加熱成形（熱曲げ加工など）を施したり、
積層体を用いて真空成形、インサート成形等を行い、成
形後の活性光線硬化層上にハードコート層を積層しても
よい。

【００７２】活性光線硬化層を積層するにあたって、も
しくはハードコート層を形成するにあたっては、必要に
応じて高分子樹脂基板、活性光線硬化層、上記アミノシ
ラン層に各種の表面処理を施してもよい。このような表
面処理としては、例えば公知のプラズマ処理、コロナ処
理、ＵＶ−オゾン処理等の方法が好ましく用いられ、表
面の汚染物質の除去、表面活性化による層の密着性向
上、前駆材料の塗工性の向上等の効果を得ることができ
る場合がある。

【００７３】尚、主に高分子樹脂基板と活性光線硬化層
の密着性を向上する目的で、適当なプライマー層を両者
の間に挟持する事も可能である。このようなプライマー
層としては、例えばポリメチルメタクリレートやポリメ
チルメタクリレートにアクリレート成分を共重合してな
る層等が好ましく用いられる。

【００７４】本発明で用いる高分子樹脂基板としては、
例えばポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートや各種の
ポリオレフィン樹脂（例えばＪＳＲ社の商品名「アート
ン」、日本ゼオン社の商品名「ゼオネックス」）等によ
る基板が好ましく挙げられる。

【００７５】高分子樹脂基板の厚みは、ハードコート層
積層時の内部応力に起因する高分子樹脂積層体のカーリ
ングを低減する観点から、少なくとも０．２ｍｍ以上で
ある事が好ましく、より好ましくは０．４ｍｍ以上、更
に好ましくは０．８ｍｍ以上である。

【００７６】また一方、厚みがおよそ２０ｍｍ超である
と基板の重量の増加により取り扱い性が悪くなるので、
厚みの上限は２０ｍｍである。

【００７７】尚、高分子樹脂基板には必要に応じて、前
述の紫外線吸収剤や光安定剤（酸化防止剤）、各種の可
視光の吸収剤（顔料、染料等）、赤外光の吸収剤、帯電
防止剤（導電性物質）、難燃剤等が混合されても良い。

【００７８】自動車や建築物の窓材等の用途においては
耐衝撃性、透明性、成形性等の観点からポリカーボネー
トが特に好ましい。ここでポリカーボネートとは、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸結合形成性化合物との重縮
合物を意味する。

【００７９】かかる芳香族ジヒドロキシ化合物として
は、具体的にはビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘ
プタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジク
ロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、４，４−ジヒド
ロキシフェニル−１，１’−ｍ−ジイソプロピルベンゼ
ン、４，４’−ジヒドロキシフェニル−９，９−フルオ
レンなどのビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン
類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペ
ンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサン、１−メチル−１−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−（ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチ
ル−シクロヘキサン、４−［１−〔３−（４−ヒドロキ
シフェニル）−４−メチルシクロヘキシル〕−１−メチ
ルエチル］−フェノール、４，４’−〔１−メチル−４
−（１−メチルエチル）−１，３−シクロヘキサンジイ
ル〕ビスフェノール、２，２，２’，２’−テトラヒド
ロ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−ス
ピロビス−〔１Ｈ−インデン〕−６，６’−ジオールな
どのビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）エーテル、４，
４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエー
テルなどのジヒドロキシアリールエーテル類、４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒ
ドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィドな
どのジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒ
ドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド
などのジヒドロキシジアリールスルスルホキシド類、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’
−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホ
ン、などのジヒドロキシジアリールスルホン類、４，
４’−ジヒドロキシジフェニル−３，３’−イサチンな
どのジヒドロキシジアリールイサチン類、３，６−ジヒ
ドロキシ−９，９−ジメチルキサンテンなどのジヒドロ
キシジアリールキサンテン類、レゾルシン、３−メチル
レゾルシン、３−エチルレゾルシン、３−ブチルレゾル
シン、３−ｔ−ブチルレゾルシン、３−フェニルレゾル
シン、３−クミルレゾルシン、ヒドロキノン、２−メチ
ルヒドロキノン、２−エチルヒドロキノン、２−ブチル
ヒドロキノン、２−ｔ−ブチルヒドロキノン、２−フェ
ニルヒドロキノン、２−クミルヒドロキノンなどのジヒ
ドロキシベンゼン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジヒドロキシジフ
ェニル等ジヒドロキシジフェニル類が挙げられる。

【００８０】中でも２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンが好ましい。

【００８１】炭酸結合形成性化合物としては、具体的に
はホスゲンやトリクロロメチルクロロフォーメート、ビ
ス（トリクロロメチル）カーボネートなどのホスゲン
類、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネートな
どのジアリールカーボネート類、ジメチルカーボネー
ト、ジエチルカーボネートなどのジアルキルカーボネー
ト類、メチルフェニルカーボネート、エチルフェニルカ
ーボネートなどのアルキルアリールカーボネート類など
を挙げることができる。

【００８２】ホスゲン類を用いる場合はポリカーボネー
トは溶液法で製造され、カーボネート結合を有する炭酸
エステル類を用いる場合は溶融法で製造される。

【００８３】炭酸エステル類の中ではジフェニルカーボ
ネートが好ましく用いられる。

【００８４】これらの化合物は単独または組み合わせて
用いることができる。

【００８５】なお、他の成分を共重合またはブレンド成
分として含むものも上記のポリカーボネートの範疇に含
まれる。

【００８６】本発明にもっとも適するものは芳香族ジヒ
ドロキシ化合物として、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパンを使用し、炭酸結合形成性化合物と
して、ホスゲン類やカーボネート結合を有する炭酸エス
テル類を使用するポリカーボネートである。

【００８７】それ以外の成分の共重合率またはブレンド
率が高いとポリカーボネートの特徴が薄れるため、共重
合率またはブレンド率は２０重量％以下が望ましく、１
０重量％以下が更に望ましい。

【００８８】高分子樹脂基板の形状に関しては特に限定
はないが、フィルム状、シート状の形状を有する成形物
は均一な層のコーティングが実現しやすいので特に好ま
しく用いられる。曲面や凹凸等の複雑な形状を有する成
形物も用いることができるが、層のコーティング方法に
制約を生じる（ディップコート法が主に用いられる）場
合もある。

【００８９】なお、これらの高分子樹脂基板は前記の活
性光線硬化層を積層するに当たり、あらかじめ基板の表
面処理を施したり、適当なプライマー層を積層すること
も必要に応じて行われる。このような表面処理として
は、公知のプラズマ処理、コロナ処理、ＵＶ−オゾン処
理等の方法が好ましく用いられ、硬化層の密着性を向上
させたり、前駆材料の塗工性を向上するといった効果を
得ることができる。

【００９０】プライマー層は、同様に硬化層の密着性を
向上させたり、積層体の耐候性（例えば耐紫外線老化
性）を向上させる機能を有するものが好ましく用いられ
る。

【００９１】このようなプライマー層としては、例えば
各種のメタクリル酸エステルやアクリル酸エステルによ
る重合物、もしくはそれらと他種成分との共重合物が好
ましく挙げられる。こうした共重合成分は分子内にアミ
ノ基、エポキシ基を有する成分であることが好ましい。

【００９２】また前記の耐候性向上の目的で、プライマ
ー層には必要に応じて各種の紫外線吸収剤や酸化防止剤
等の成分を適量含有させることも可能である。

【００９３】プライマー層の膜厚は、０．１〜１５μｍ
の範囲で塗布されるのが好ましく、０．３〜１０μｍの
範囲とすることがより好ましい。

【００９４】本発明の高分子樹脂積層体は、積層体の透
視性が高いことが必要である。具体的には積層体のヘー
ズ値が５％以下であることが好ましく、より好ましくは
３％以下、更に好ましくは２％以下である。

【００９５】ただし高分子樹脂積層体の光透過率に関し
ては、一般的には高いことが望まれ、全光透過率は５０
％以上である事が好ましく、より好ましくは７０％以上
である。ただし用途によっては必ずしも高い光透過率が
望まれない場合もあり、例えば、自動車の後部座席用の
窓材においては太陽光線の直射による車内温度の上昇を
抑える目的等において、高分子樹脂基板内に可視光の吸
収剤（顔料、染料等）を混合する等の方法により、意図
的に積層体の光透過率を低下させる場合もある。

【００９６】

【実施例】以下に発明の好適な実施例について説明す
る。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
また、「部」は特に断らない限り「重量部」である。

【００９７】なお、実施例における各種の特性評価は以
下の要領にて行った。

【００９８】（鉛筆硬度の測定）日本工業規格Ｋ５４０
０に記載されている鉛筆硬度測定法に準拠して測定を行
ったが、本実施例においては測定の再現性を高める観点
から、サンプルを厚み２ｍｍのガラス板上にエポキシ系
の接着剤（ニチバン社製商品名「アラルダイトラピッ
ド」）を用いて固定した状態において鉛筆を平面方向に
走査した。

【００９９】これはサンプルをしっかり固定することに
より鉛筆走査時のサンプルの歪みや曲がり等の影響を排
除できるためであり、特にサンプルの厚みが１ｍｍ以下
であるような場合に再現性の向上に効果がある。

【０１００】なお、サンプルの傷付きの有無の判定は、
前記規格に準拠して測定者の肉眼にて行うが、傷つきの
判定が微妙となる場合には、傷（凹部）の深さを市販の
触針式表面粗さ計により測定し、異なる５個所で測定し
た深さの平均値が０．２μｍ以上である場合に「傷が発
生した」と判定することとした。

【０１０１】また活性光線硬化層単独の鉛筆硬度は、活
性光線硬化層を２ｍｍ厚みのガラス板上に７μｍ前後の
膜厚で積層硬化した後、層の表面について測定したもの
である。

【０１０２】尚、これらの測定を行う際、活性光線硬化
層と石英板の密着性を向上する目的で、プライマー層を
活性光線硬化層と石英板との間に挟持して設けることが
好ましく行われる。これらのプライマー層としては、例
えばポリメチルメタクリレートや、メチルメタクリレー
トと２−ヒドロキシエチルメタクリレートとの共重合
物、メチルメタクリレートとγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシランとの共重合物による層等が好まし
く例示される。このプライマー層の厚みは鉛筆硬度の測
定結果への影響を防ぐ観点から１〜２μｍの範囲とする
ことが好ましい。

【０１０３】（テーバー摩耗性の測定）テーバー摩耗試
験機（東洋精機（株）製）を用い、摩耗輪ＣＳ−１０
Ｆ、荷重４．９Ｎ、１０００サイクルの条件で試験片表
面（酸化珪素層の積層されている面）を摩耗し、次式か
ら求められるヘーズ値の摩耗前後の差（ΔＨ）で評価し
た。

【０１０４】ヘーズ（％）＝（拡散透過率／全光線透過率）×１００（ヘーズ値および全光線透過率の測定）日本電色工業社製の測定器（商品名「ＣＯＨ−３００
Ａ」）を用いて測定を行った。

【０１０５】（密着性試験）日本工業規格Ｋ５４００に
記載されている碁盤目テープ試験法に準拠して測定を行
った。

【０１０６】（耐水性試験）高分子樹脂積層体のサンプ
ルを沸騰水中（純水）に１時間浸せきした後に室内で自
然乾燥させ、積層体の外観の悪化の有無について目視観
察し、更に前記方法に従って各層間の密着性の悪化の有
無を調べた。

【０１０７】（層の膜厚）高分子樹脂積層体の断面を走
査型電子顕微鏡により観察して、各層の膜厚を求めた。

【０１０８】［実施例１］高分子樹脂基板として、ビス
フェノールＡとジフェニルカーボネートとより合成され
たポリカーボネート樹脂からなる厚み１ｍｍ、縦横３５
０ｍｍ×２５０ｍｍの成形板（帝人化成製「パンライト
ＰＣ−１１５１」）を用いた。

【０１０９】この基板上に下記の活性光線硬化層形成用
前駆材料をバーコーターを用いてコーティングし、７０
℃で１分間乾燥した後に１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ラン
プにより積算光量１Ｊ／ｃｍ²の紫外線を照射して、厚
み４０μｍの活性光線硬化層を形成した。

【０１１０】なお、活性光線硬化層形成用前駆材料とし
ては、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性
トリアクリレート（東亜合成化学製「アロニックスＭ３
５０」）９０重量部と、光重合開始剤（チバスペシャリ
ティケミカルス製「イルガキュア１８４」）５重量部
と、紫外線吸収剤として大塚化学製反応性紫外線吸収剤
「ＲＵＶＡ９３」２ｐｈｒと、ノルマルプロピルアルコ
ール５０重量部とを混合して用いた。

【０１１１】尚、この活性光線硬化層単独の鉛筆硬度は
５Ｈ以上であった。

【０１１２】次にこの活性光線硬化層上に、分子内に１
つのアミノ基を含有する珪素アルコキシドの加水分解お
よび部分縮合物からなる塗液を用いてアミノシラン層を
積層した。

【０１１３】すなわち、まずγ―アミノプロピルトリエ
トキシシラン（信越化学ＫＢＥ９０３）３０重量部に、
酢酸０．６重量部、蒸留水６重量部、エタノール１００
重量部の混合液を混合し、４５℃で３０分間攪拌し（珪
素アルコキシドの加水分解および部分縮合）、更にノル
マルプロピルアルコール５００重量部、１メトキシ２プ
ロパノール２００重量部を混合した後に室温で１時間攪
拌して塗液を作成し、この塗液をバーコーターを用いて
コーティングし、１３０℃で１５分間加熱硬化させ、膜
厚０．０７μｍのアミノシラン層を形成した。

【０１１４】次にサンプルを１０ｃｍ角の大きさに切り
取り、真空蒸着装置の真空槽内にセットして６時間の真
空排気を行い、圧力１×１０^-3Ｐａの真空度まで到達し
た後、電子線加熱蒸着法（ＥＢ蒸着法）によって、円筒
状に成形した酸化珪素（１００％）の溶融塊を昇華さ
せ、上記アミノシラン層上に膜厚３．２μｍの酸化珪素
層（ハードコート層）を積層した。

【０１１５】この高分子樹脂／ハードコート積層体の全
光線透過率は８９．５％、ヘーズは０．９％、鉛筆硬度
は３Ｈ、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は１．６％、密
着性は１００／１００であった。

【０１１６】そして耐水性試験後のハードコート層の剥
離やクラックの発生は全く観られず、この高分子樹脂／
ハードコート積層体は耐水性に優れていることがわかっ
た。

【０１１７】［実施例２］実施例１において活性光線硬
化層形成用前駆材料として以下の塗液を用いた以外は全
く実施例１と同様にして高分子樹脂／ハードコート積層
体を作成した。

【０１１８】すなわち塗液としては、ポリエステルアク
リレート（東亜合成化学製「アロニックスＭ８０３
０」）９０重量部と、光重合開始剤（チバスペシャリテ
ィケミカルス製「イルガキュア１８４」）５重量部と、
紫外線吸収剤として大塚化学製反応性紫外線吸収剤「Ｒ
ＵＶＡ９３」２ｐｈｒと、ノルマルプロピルアルコール
５０重量部とを混合して用いた。

【０１１９】尚、この活性光線硬化層単独の鉛筆硬度は
７Ｈ以上であった。

【０１２０】この高分子樹脂／ハードコート積層体の全
光線透過率は８９．７％、ヘーズは１．０％、鉛筆硬度
は３Ｈ、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は１．８％、密
着性は１００／１００であった。

【０１２１】そして耐水性試験後のハードコート層の剥
離やクラックの発生は全く観られず、この高分子樹脂／
ハードコート積層体は耐水性に優れていることがわかっ
た。

【０１２２】［比較例１］実施例１においてポリカーボ
ネート板上に活性光線硬化層を積層した後に、アミノシ
ラン層を積層せずに直接真空蒸着による酸化珪素層（ハ
ードコート層）を積層した以外は全く実施例１と同様に
して、高分子樹脂／ハードコート積層体を作成した。

【０１２３】この高分子樹脂／ハードコート積層体の全
光線透過率は８９．３％、ヘーズは０．９％、鉛筆硬度
は３Ｈ、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は１．４％、密
着性は１００／１００であった。

【０１２４】しかしながら耐水性試験後にはハードコー
ト層が基板から完全に剥離してしまい、この高分子樹脂
／ハードコート積層体は耐水性に劣っている事がわかっ
た。

【０１２５】［比較例２］実施例２においてポリカーボ
ネート板上に活性光線硬化層を積層した後に、アミノシ
ラン層を積層せずに直接真空蒸着による酸化珪素層（ハ
ードコート層）を積層した以外は全く実施例２と同様に
して、高分子樹脂／ハードコート積層体を作成した。

【０１２６】この高分子樹脂／ハードコート積層体の全
光線透過率は８９．５％、ヘーズは１．０％、鉛筆硬度
は３Ｈ、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は１．６％、密
着性は１００／１００であった。

【０１２７】しかしながら耐水性試験後にはハードコー
ト層の全体にクラックが観られ、この高分子樹脂／ハー
ドコート積層体は耐水性に劣っている事がわかった。

【０１２８】

【発明の効果】ポリカーボネート等の硬度や耐磨耗性の
低い樹脂成形物に対して、本発明を適用することによ
り、優れた耐磨耗性、表面硬度、耐光性、耐水性を有す
る高分子樹脂積層体を得ることができ、自動車や建材等
の窓材や透視性を必要とする構造材、その他の幅広い用
途に利用することができるようになった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者峯松宏昌山口県岩国市日の出町２番１号帝人株式会社岩国研究センター内Ｆターム(参考） 2K009 AA12 AA15 BB24 CC42 DD02 DD03 EE00 3D023 AA01 AB00 AB01 AC02 AC16 AD06 AD22 4F100 AA20D AH06C AK01A AK01B AK12B AK25B AK25J AK27B AK27J AK45A AK52C AL01B AL01J AL06B AR00D BA04 BA07 BA10A BA10D EH66D EJ54B EJ59D GB07 GB32 GB41 GB90 JB07 JB14B JH10 JK06 JK12 JK12D JK16 JL09 JN08 YY00A YY00B YY00D

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】高分子樹脂基板の少なくとも一方の面
に、厚みが２〜２００μｍの活性光線硬化層と、分子内
に１つ以上のアミノ基を有する珪素アルコキシドを加水
分解及び縮合してなる厚みが０．０１〜１μｍのアミノ
シラン層と、真空成膜プロセスを用いて形成された厚み
が１．５〜１０μｍのハードコート層とが、この順に積
層されてなる高分子樹脂積層体。
【請求項２】ハードコート層は、真空蒸着法を用いて
形成された層を少なくとも含むことを特徴とする請求項
１記載の高分子樹脂積層体。
【請求項３】ハードコート層は、酸化珪素を少なくと
も全体の５０重量％以上含んでいることを特徴とする請
求項１または２のいずれかに記載の高分子樹脂積層体。
【請求項４】活性光線硬化層は、該層単独での鉛筆硬
度がＦ以上であることを特徴とする請求項１〜３のいず
れかに記載の高分子樹脂積層体。
【請求項５】活性光線硬化層は、分子内もしくは単位
繰り返し構造内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を
有する１種もしくは２種以上の（メタ）アクリレート成
分を不揮発成分中の５０重量％以上含んでなる前駆材料
に、活性光線を照射して硬化してなる層であることを特
徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の高分子樹脂積
層体。
【請求項６】高分子樹脂基板の厚みが０．２〜２０ｍ
ｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜５のいずれ
かに記載の高分子樹脂積層体。
【請求項７】高分子樹脂基板がポリカーボネートの成
形基板であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか
に記載の高分子樹脂積層体。
【請求項８】請求項１〜７のいずれかに記載の高分子
樹脂積層体からなる自動車用窓材。