WO2010082581A1

WO2010082581A1 - 遮熱性物品、遮熱性物品の製造方法、及び建築部材

Info

Publication number: WO2010082581A1
Application number: PCT/JP2010/050268
Authority: WO
Inventors: ホーソクマン木村; 理愛子高橋
Original assignee: コニカミノルタホールディングス株式会社
Priority date: 2009-01-17
Filing date: 2010-01-13
Publication date: 2010-07-22

Abstract

　本発明は、耐光性、耐湿性、耐熱性に優れ、長寿命を有する遮熱性物品とその製造方法を提供し、更には該遮熱性物品を用いた建築部材を提供する。本発明の遮熱性物品は、基材上に少なくとも一層の光硬化性樹脂を主成分とするポリマー層が設けられ、かつ、該基材の少なくとも一方の面に金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる金属層を有する熱線遮断層があり、かつ水蒸気バリア層または紫外線反射層が設置されていることを特徴とする。

Description

遮熱性物品、遮熱性物品の製造方法、及び建築部材

　本発明は高い熱線反射効果を奏する遮熱性物品に関し、更に詳しくは、優れた熱線反射性を有するとともに、人体に有害な紫外線を遮断し、また室外側への可視光の反射防止性を有する、視認性に優れる遮熱性物品である。用途の１つとして窓ガラス、例えば、建物窓ガラスや表示窓ガラスに貼ったとき、高い熱線及び紫外線遮断効果を有するとともに室内灯等の映り込みを防止する遮熱性物品（以下、熱線反射フィルムともいう）に関するものである。

　遮熱性物品（熱線反射フィルム）とはガラスや樹脂基材などに塗布して、太陽光の中の熱線（赤外線）を遮断するものである。熱線反射フィルムは一般の窓ガラスに貼着され熱線を遮断することで利用されている。熱線反射フィルムは熱輻射を低減したり、窓から入射する太陽エネルギーを遮断して冷暖房効果を向上させたり、冷凍冷蔵ケースにおける保冷効果を向上させたりする用途に利用されている。また、これらの熱線反射フィルムが貼り合わせられている場合、万一ガラスが破損した場合でも、熱線反射フィルムが貼られているとガラスの飛散を防止できるメリットもある。

　従来技術として樹脂からなる基材フィルムの表面に金属薄膜を形成することにより形成した熱線反射フィルムが知られている（例えば特許文献１参照）。該熱線反射フィルムは、建物や車両等の窓ガラスに貼着されることにより、太陽光の中の熱線（赤外線）を遮断して、室内の温度上昇を防ぐことができる。しかしながら、上記従来の熱線反射フィルムは、熱線をある程度が反射するものの、未だ熱線の透過率が高く、充分な熱線反射効果を有するとは言えない。

　また、熱線反射フィルムは窓等の透明開口部を断熱する方法として用いられている。従来、フィルムに断熱性を付与する方法としては、樹脂基材のフィルムにアルミニウム、銀等の金属薄膜を設ける方法、あるいはフィルムに金、銀又は銅等の合金からなる金属薄膜を高屈折率誘電体層で挟んで積層する方法が知られている（例えば特許文献２、３参照）。しかしながら、よく知られているように、金属薄膜層材料として好適に用いられる銀は、きわめて原子の凝集を生じやすいという大きな問題がある。銀薄膜層の銀原子が凝集すると、金属薄膜としての熱線遮断性が損なわれる他、銀白色の点（点状欠陥、又は反射性欠陥、白点とも称される。）を生じる。このような熱線遮断性劣化は、当該金属薄膜材料の有する高透明性や低抵抗性を喪失せしめる大きな問題となるとともに、大型の窓用熱線反射フィルムとしての商品価値を大幅に下落させるものである。従来技術では、銀薄膜層の銀原子の凝集の対策として、例えば、塩素イオンや異物（パーティクル）等の存在下において発生しやすいことが知られており、このような異物・塩素の除去を行う試みが報告されているが（例えば特許文献４、５参照）、同時に酸素や水分による劣化の防止はできていない。従って満足な銀原子凝集の抑制効果が得られていない。

　一方、ビル、車、家屋の窓ガラスなどに貼って使用され、太陽光による採光を確保しつつ、人体に有害な紫外線と熱作用の強い赤外線の透過を反射して遮断する技術が開示されている（例えば、特許文献６参照）が、満足する効果を得るため莫大な製造コストがかかり、屋外での環境耐久性に実用的に問題があった。従って大型の窓用熱線反射フィルムとして、人体に有害の紫外線を遮断する効果を併有する遮熱性物品で満足できるものが今まで得られていなかった。

　従って熱線反射フィルムにおいて、水分や酸素などの影響による白濁等を生じ難く可視光透過率が低下しにくく、また長期使用また長期保管等の耐環境性能に優れた熱線反射フィルムの出現が求められている。加えて、窓等に貼り付ける工程でのハンドリング性能に優れた熱線反射フィルム、太陽光輻射に含まれる人体に有害な紫外線と熱作用の強い赤外線の透過を遮断し、健康と省エネに有効で、かつ屋外環境耐久性に優れる熱線反射フィルムが求められている。

特開２００１－１７９８８７号公報特公昭４７－６３１５号公報特開昭５３－１１９９８７号公報特公昭５９－４４９９３号公報特開平９－３３１４８８号公報特開２００７－６５２３２号公報

　本発明の目的は、耐光性、耐湿性、耐熱性に優れ、長寿命を有する遮熱性物品とその製造方法を提供し、更には該遮熱性物品を用いた建築部材を提供することにある。

　本発明の上記目的は、以下１～２３の構成により達成することができる。

　１．基材上に少なくとも一層の光硬化性樹脂を主成分とするポリマー層が設けられ、かつ、金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる金属層を有する熱線遮断層があり、かつ水蒸気バリア層または紫外線反射層が設置されていることを特徴とする遮熱性物品。

　２．前記光硬化性樹脂が、光硬化性樹脂組成物から得られる、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂およびポリエステルアクリレート樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の光硬化性樹脂であることを特徴とする前記１に記載の遮熱性物品。

　３．前記光硬化性樹脂組成物が、反応性希釈剤と混合して使用され、該反応性希釈剤が単官能モノマーと２官能モノマーと３官能性以上の多官能モノマーとの混合物であることを特徴とする前記１または２に記載の遮熱性物品。

　４．前記光硬化性樹脂組成物が、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、アセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類およびメチルフェニルグリオキシエステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種の光重合開始剤を含有することを特徴とする前記１～３のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　５．前記光硬化性樹脂組成物の１００質量部が、前記光重合開始剤を１～２５質量部含有することを特徴とする前記４に記載の遮熱性物品。

　６．前記ポリマー層が、少なくとも一層のシランカップリング剤を含有するポリマー層を含むことを特徴とする前記１～５のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　７．前記シランカップリング剤が、アミノ系から選ばれる少なくとも１種のシランカップリング剤であることを特徴とする前記６に記載の遮熱性物品。

　８．前記水蒸気バリア層が、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒素酸化物、窒化物を主成分とすることを特徴とする前記１～７のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　９．前記水蒸気バリア層が、炭素含有量０．１ａｔ％未満である酸化珪素膜と炭素含有量が１～４０ａｔ％である酸化珪素膜を少なくともそれぞれ１層以上ずつ含むことを特徴とする前記１～８のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　１０．前記紫外線反射層が、屈折率１．４～１．８の厚み５～１０００ｎｍの低屈折率層、及び屈折率１．８～２．４の厚み５～４００ｎｍの高屈折率膜層を交互に、少なくとも３層以上積層され形成されていることを特徴とする前記１～９のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　１１．前記紫外線反射層の低屈折率層は、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物を主成分とする層を少なくとも１層含有し、かつ高屈折率層は、亜鉛、チタン、錫、インジウム、ニオブ、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とする層を少なくとも１層含有することを特徴とする前記１～１０のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　１２．前記熱線遮断層が、金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる厚さ０．１ｎｍ以上、３０ｎｍ未満の少なくとも１層以上の金属層及び、亜鉛、チタン、錫、インジウム、ニオブ、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物または窒化物を主成分とする少なくとも１層の高屈折率セラミック層から構成された積層体であることを特徴とする前記１～１１のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　１３．前記ポリマー層が少なくとも２～６層設けられていることを特徴とする前記１～１２のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　１４．前記ポリマー層の少なくとも１層が紫外線吸収剤を含有することを特徴とする前記１３に記載の遮熱性物品。

　１５．前記ポリマー層の少なくとも１層に光安定剤を含有することを特徴とする前記１２～１４のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　１６．前記紫外線吸収剤を含有するポリマー層が、ヒンダードアミン系から選ばれる少なくとも１種の光安定剤を含有することを特徴とする前記１４または１５に記載の遮熱性物品。

　１７．前記紫外線吸収剤はヒドロキシフェニルトリアジン系から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤であることを特徴とする前記１４～１６のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　１８．前記ポリマー層を最表面層に設けることを特徴とする前記１～１７のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　１９．前記基材が厚さ１０μｍ～２５０μｍのポリエチレンテレフタレート二軸延伸フィルムであることを特徴とする前記１～１８のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　２０．前記基材が、紫外線吸収剤又は光安定剤を含有することを特徴とする前記１～１９のいずれか１項に記載の遮熱性物品。

　２１．前記１～２０のいずれか１項に記載の遮熱性物品の水蒸気バリア層または紫外線反射層が、大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガス及び放電ガスを含有するガスを供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該ガスを励起し、基材を励起したガスに晒すことにより、該基材上に薄膜として形成される工程により製造されることを特徴とする遮熱性物品の製造方法。

　２２．前記放電ガスが窒素ガスであり、放電空間に印加される高周波電界は、第１の高周波電界及び第２の高周波電界を重畳したものであり、該第１の高周波電界の周波数ω１より該第２の高周波電界の周波数ω２が高く、該第１の高周波電界の強さ（Ｖ１）、該第２の高周波電界の強さ（Ｖ２）及び放電開始電界の強さ（ＩＶ）との関係が、Ｖ１≧ＩＶ＞Ｖ２またはＶ１＞ＩＶ≧Ｖ２の関係を満たし、かつ、該第２の高周波電界の出力密度が１Ｗ／ｃｍ^２以上であることを特徴とする前記２１に記載の遮熱性物品の製造方法。

　２３．前記１～２０のいずれか１項に記載の遮熱性物品、又は、前記２１又は２２に記載の遮熱性物品の製造方法により製造された遮熱性物品が接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂基材に貼合されていることを特徴とする建築部材。

　本発明によれば、耐光性、耐湿性、耐熱性に優れて、長寿命を有する遮熱性物品とその製造方法を提供できる。更には該遮熱性物品を用いた建築部材を提供することができる。

ジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示した概略図である。対向電極間で基材を処理する方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。ロール回転電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。角筒型電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。本発明の代表的な遮熱性物品の断面図である。本発明の別の層構成を示す断面図である。本発明のもう一つの層構成を示す断面図である。

　以下、先ず、本発明を実施するための最良の一形態（態様）について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　本発明に係る遮熱性物品は、少なくとも一層の光硬化性の樹脂を主成分とするポリマー層が設けていて、該基材の少なくとも一方の面に金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる金属層を少なくとも１層含む熱線遮断層があり、かつ該熱線遮断層の熱線入射側に水蒸気バリア層が設置されたことを特徴とする。

　〈熱線遮断層〉
　本発明の熱線遮断層は、金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる０．１ｎｍ以上、３０ｎｍ未満の金属層を少なくとも１層以上含む熱線遮断層であることが好ましい。本発明の熱線遮断層のうち、金属層を構成する金属としては、金、銀、銅、アルミニウム等の金属が好ましく挙げられる。これらの中、可視光線の吸収がほとんど無い金属銀が特に好ましい。また、前記金属は必要に応じて２種以上を用いた合金として用いてもよい。本発明の金属層の厚みは、本発明の遮熱性物品の第１の基体において、積層の波長４００～７５０ｎｍにおける積分可視光透過率（この波長領域での可視光線透過率の平均値）が５５％以上、及び波長５～３０μｍの積分赤外線反射率（この波長領域での赤外線反射率の平均値）が７５％以上を満足するように定めるのが好ましい。更に具体的には、金属層の１層での厚みは５～１０００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。この厚みが５ｎｍ未満であると、十分な熱線反射効果が発揮されず、赤外線透過率が高くなり、他方１０００ｎｍを超えると、可視光反射率が増加し、防眩性が悪くなるので好ましくない。

　本発明の金属層の形成方法としては気相成長法が好ましく、更に真空蒸着法、スパッタ法またはプラズマＣＶＤ法が好ましい。

　本発明の熱線遮断層は、少なくとも１層以上の金属層及び少なくとも１層以上の高屈折率セラミック層からなる構成層であってもよい。高屈折率セラミック層は少なくとも亜鉛、チタン、錫、インジウム、ニオブ、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とする少なくとも１層以上からなる構成層である。設計計算による本発明の熱線遮断構成層に用いる金属層及び高屈折率セラミック層を不規則に配置したサンドイッチ状に挟む積層構造をとることにより、可視光が低反射で透明性の改良効果が増すためより好ましい。好ましい層の配置は金属層の両側に高屈折率セラミック層を設けたサンドイッチ構造である。また金属層と高屈折率セラミック層を設けた２層構造の如く複数の金属層と複数の高屈折率セラミック層を交互に積層した３～１０の積層構造をとることが好ましく、好ましい層数は３～７である。

　また、前記熱線遮断層は、第１の酸化物層、第１の金属層、第２の酸化物層、第２の金属層、第３の酸化物層からなるファブリーペロ干渉フィルターであってもよい。ファブリーペロ干渉フィルター中の金属層は主として銀であって、５０％未満の金または銅合金であるかまたはクラッド層であって、化学的及び光耐久性を付与している。酸化物層にはインジウム酸化物が好ましいが、酸化物の屈折率が１．８以上で可視光線吸収レベルが１０％未満の透明誘電層の場合には、酸化亜鉛、酸化錫、酸化チタン、酸化ニオブなどの他の酸化物であってもよい。適当に透明でかつ屈折率が１．８より大きいならば、窒化物や弗化物なども使用できる。ファブリーペロフィルター製造のより詳細な設計、挙動及び手法などは米国特許第４７９９７４５号明細書に記載されている。

　本発明の熱線遮断層のうち、高屈折率セラミック層は、少なくとも亜鉛、チタン、錫、インジウム、ニオブ、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒化酸化物、窒化物を主成分とする少なくとも１層以上からなり、例えば、アルキルチタネート等の加水分解により得られる、有機化合物由来の酸化チタンが加工性に優れるため好ましい。加えて、酸化亜鉛、酸化インジウムや酸化錫も単一層または多層にて適用できる。

　高屈折率セラミック層の屈折率が、１．８以上２．４未満の層である。高屈折率セラミック層の厚みは、熱線遮断層の光学特性を満足するように積層される前述の金属層と併せて設定することが好ましい。高屈折率セラミック層の一層での厚みは２～１０００ｎｍの範囲が好ましい。

　高屈折率セラミック層の形成方法としては気相成長法が好ましく、更に真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、Ｃａｔ－ＣＶＤ法、またはプラズマＣＶＤ法が特に好ましい。また、後述する大気圧プラズマＣＶＤ法を用いて形成してもよい。

　本発明の遮熱性物品（熱線反射フィルム）は、基材の少なくとも一方の面に熱線遮断層を積層してなる構成層を持ち、例えば透明な樹脂フィルムに積層した場合、可視光線反射率が５％以下、赤外線反射率が７５％以上であることが達成される。

　本発明における熱線遮断構成層は、高耐久性を得るために高屈折率層に加えて低屈折率層を有することが好ましい。屈折率を１．８未満にすることで、可視光透過率及び赤外線反射率に殆ど影響を及ぼさずに、耐久性やハンドリング性を向上させるために、低屈折率層の層設計を比較的自由に行うことができる。また、屈折率が１．３未満になると膜が緻密でなくなり、耐久性の向上が望めない。

　〈水蒸気バリア層〉
　本発明の遮熱性物品は、上記熱線遮断層の熱線入射側に水蒸気バリア層が設置されたことを特徴とし、かかる構成により本発明の効果を奏するものである。

　水蒸気バリア層は、少なくとも珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とし、屈折率が１．４以上１．８未満であるセラミック構成層であることが好ましく、特に酸化珪素から構成されることが好ましい。

　本発明の紫外線反射するためのＵＶ反射層に用いる低屈折率層と同一でこれを兼ねてもよい。また、水蒸気バリア層に紫外線を遮断するための光安定剤を含有させてもよい。本発明の水蒸気バリア層を形成する構成素材が均一又は主成分の割合を膜厚方向に傾斜させた状態又は積層体であっても水蒸気バリア効果が発揮できる。

　本発明に係る水蒸気バリア層の形成方法としては気相成長法が好ましく、更に真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、触媒化学気相成長（Ｃａｔ－ＣＶＤ）法、またはプラズマＣＶＤ法が好ましい。特に大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガス及び放電ガスを含有するガスを供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該ガスを励起し、樹脂基材を励起したガスに晒すことにより、該樹脂基材上に薄膜が形成される、所謂大気圧プラズマＣＶＤ法により形成される膜は、低残留応力であり好ましい。また、大気圧プラズマＣＶＤ法において形成される水蒸気バリア層は、炭素含有量０．１ａｔ％未満である酸化珪素膜と炭素含有量が１～４０ａｔ％である酸化珪素膜を少なくともそれぞれ１層以上ずつ含むことが好ましい。これらの炭素含有量の異なる膜を積層し構成したセラミック層は水分またガス透過率低い（ガスバリア性の）比較的柔軟性に富んだ低屈折率の膜となり好ましい。例えばこれらの層を交互に２～５層積層した構成が好ましい。

　本発明に係る水蒸気バリア層の水蒸気透過率としては、ＪＩＳ　Ｋ７１２９：１９９２　Ｂ法に従って測定（ＭＯＣＯＮ製、水蒸気透過率測定装置　ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ３／３３　ＭＧモジュールを使用）した水蒸気透過率が、０．０１ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下（４０℃９０％ＲＨ条件下）であることが好ましく、より好ましくは１×１０^－３ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下であり、より好ましくは１×１０^－５ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下である。水蒸気バリア層の水蒸気透過度は、樹脂脂基材上に少なくとも水蒸気バリア層のみを設け水蒸気透過率を測定すればよい。

　本発明に係る水蒸気バリア層は、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒素酸化物、窒化物を主成分とすることが好ましい。

　酸化珪素膜は、大気圧プラズマＣＶＤ法において、原材料である有機金属化合物、分解ガス、分解温度、投入電力などの条件を選ぶことで、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒化酸化物、窒化物を主成分とする水蒸気バリア層の組成を作り分けることができる。

　例えば、珪素化合物を原料化合物として用い、分解ガスに酸素を用いれば、珪素酸化物が生成する。また、シラザン等を原料化合物として用いれば、酸化窒化珪素が生成する。これはプラズマ空間内では非常に活性な荷電粒子・活性ラジカルが高密度で存在するため、プラズマ空間内では多段階の化学反応が非常に高速に促進され、プラズマ空間内に存在する元素は熱力学的に安定な化合物へと非常な短時間で変換されるためである。

　このような酸化珪素膜の形成原料としては、珪素化合物であれば、常温常圧下で気体、液体、固体いずれの状態であっても構わない。気体の場合にはそのまま放電空間に導入できるが、液体、固体の場合は、加熱、バブリング、減圧、超音波照射等の手段により気化させて使用する。また、溶媒によって希釈して使用してもよく、溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ－ヘキサンなどの有機溶媒及びこれらの混合溶媒が使用できる。なお、これらの希釈溶媒は、プラズマ放電処理中において分子状、原子状に分解されるため、影響は殆ど無視することができる。

　このような珪素化合物としては、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ－プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ－ブトキシシラン、テトラｔ－ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、（３，３，３－トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、Ｎ，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラキスジメチルアミノシラン、テトライソシアナートシラン、テトラメチルジシラザン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、トリエトキシフルオロシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビス（トリメチルシリル）アセチレン、１，４－ビストリメチルシリル－１，３－ブタジイン、ジ－ｔ－ブチルシラン、１，３－ジシラブタン、ビス（トリメチルシリル）メタン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン、プロパルギルトリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシリルアセチレン、１－（トリメチルシリル）－１－プロピン、トリス（トリメチルシリル）メタン、トリス（トリメチルシリル）シラン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、Ｍシリケート５１等が挙げられる。

　アルミニウム化合物としては、アルミニウムエトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムｎ－ブトキシド、アルミニウムｓ－ブトキシド、アルミニウムｔ－ブトキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、トリエチルジアルミニウムトリ－ｓ－ブトキシド等が挙げられる。

　また、これら珪素またアルミニウムを含む原料ガスを分解して酸化珪素、または酸化アルミニウム膜を得るための分解ガスとしては、水素ガス、メタンガス、アセチレンガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス、アンモニアガス、亜酸化窒素ガス、酸化窒素ガス、二酸化窒素ガス、酸素ガス、水蒸気、フッ素ガス、フッ化水素、トリフルオロアルコール、トリフルオロトルエン、硫化水素、二酸化硫黄、二硫化炭素、塩素ガスなどが挙げられる。

　例えば、珪素を含む原料ガスと、分解ガスを適宜選択することで、酸化珪素、また、窒化物、炭化物等を含有する酸化珪素膜を得ることができる。

　プラズマＣＶＤ法においては、これらの反応性ガスに対して主にプラズマ状態になりやすい放電ガスを混合し、プラズマ放電発生装置にガスを送りこむ。このような放電ガスとしては、窒素ガス及び／または周期表の第１８属原子、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等が用いられる。これらの中でも特に、窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられる。

　上記放電ガスと反応性ガスを混合し、薄膜形成（混合）ガスとしてプラズマ放電発生装置（プラズマ発生装置）に供給することで膜形成を行う。放電ガスと反応性ガスの割合は、得ようとする膜の性質によって異なるが、混合ガス全体に対し、放電ガスの割合を５０％以上として反応性ガスを供給する。

　本発明に係る水蒸気バリア層を構成する積層された酸化珪素膜においては、例えば、上記有機珪素化合物に、更に酸素ガスや窒素ガスを所定割合で組み合わせて、酸素原子と窒素原子の少なくともいずれかと、珪素原子とを含む本発明に係る酸化珪素を主体とした酸化珪素膜を得ることができる。

　本発明に係る前記水蒸気バリア層は、前記第１、第２等の酸化珪素膜からなる１組のユニットを、１組以上透明樹脂基材上に形成したものが好ましく、二組、またこれ以上のユニットが形成されていてもよい。例としては、樹脂基材上に、第１の酸化珪素膜、第２の酸化珪素膜といった１組のユニットのみを有する形態があり、また、例えば、樹脂基材上に、第１の、第２の酸化珪素膜、からなる前記ユニットを２、あるいは３つ有する構成でもよい。

　水蒸気バリア層における各酸化珪素層の膜厚は、１～５００ｎｍの範囲とすればよい。水蒸気バリア層全体としては１０ｎｍ～５μｍの範囲が好ましい。

　〈大気圧プラズマＣＶＤ法〉
　本発明に係る水蒸気バリア層、例えば酸化珪素膜、またこれらの積層体の形成には、物理、あるいは化学気相成長法が用いられる。中でも、これらのうち最も好ましい方法である、大気圧プラズマＣＶＤ法について、以下説明する。

　大気圧プラズマＣＶＤ法は、例えば、特開平１０－１５４５９８号公報や特開２００３－４９２７２号公報、ＷＯ０２／０４８４２８号パンフレット等に記載されているが、大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガス及び放電ガスを含有するガスを供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該ガスを励起し、励起したガスに晒すことにより、薄膜を形成する。特に、特開２００４－６８１４３号公報に記載されている薄膜形成方法が、緻密なセラミックからなる水蒸気バリア層を形成するには好ましい。また、ロール状の元巻きからウエブ状の樹脂基材を繰り出して、組成の異なる層を連続的に形成することができる。

　高周波とは、少なくとも０．５ｋＨｚの周波数を有するものをいう。

　本発明に係る水蒸気バリア層の形成に用いられる上記の大気圧プラズマＣＶＤ法は、大気圧もしくはその近傍の圧力下で行われるプラズマＣＶＤ法であり、大気圧もしくはその近傍の圧力とは２０～１１０ｋＰａ程度であり、本発明に記載の良好な効果を得るためには、９３～１０４ｋＰａが好ましい。

　本発明における放電条件としては、高周波電界の周波数が１ｋＨｚ～２５００ＭＨｚで、かつ供給電力が１～５０Ｗ／ｃｍ^２であることが好ましく、周波数が５０ｋＨｚ以上で、かつ供給電力が５Ｗ／ｃｍ^２以上であることがより好ましい。更に、放電空間に異なる周波数の電界を２つ以上印加し、重畳したものがより好ましい。

　上記で異なる周波数のサイン波等の連続波の重畳について説明したが、これに限られるものではなく、両方パルス波であっても、一方が連続波でもう一方がパルス波であってもかまわない。また、更に周波数の異なる第３の電界を有していてもよい。

　本発明の高周波電界を、同一放電空間に印加する具体的な方法としては、例えば、対向電極を構成する第１の電極に周波数ω１の高周波電界を印加する第１電源を接続し、第２電極に周波数ω２の高周波電界を印加する第２電源を接続した大気圧プラズマ放電処理装置を用いる。

　ここで、第１電源の周波数としては、１ｋＨｚ～１ＭＨｚであり、２００ｋＨｚ以下が好ましく用いることができる。またこの電界波形としては、連続波でもパルス波でもよい。

　一方、第２電源の周波数としては、１ＭＨｚ～２５００ＭＨｚが好ましく８００ｋＨｚ以上が好ましく用いられる。この第２電源の周波数が高い程、プラズマ密度が高くなり、緻密で良質な薄膜が得られる。

　また、第１電極、第１電源またはそれらの間のいずれかには第２電源からの高周波電界の電流を通過しにくくする第１フィルターを、また第２電極、第２電源またはそれらの間のいずれかには第２フィルターを接続することが好ましい。

　大気圧プラズマ放電処理装置には、対向電極間に、放電ガスと薄膜形成ガスとを供給するガス供給手段を備える。更に、電極の温度を制御する電極温度制御手段を有することが好ましい。

　本発明に用いられる大気圧プラズマ放電処理装置は、上述のように、対向電極の間で放電させ、前記対向電極間に導入したガスをプラズマ状態とし、前記対向電極間に静置あるいは電極間を移送される基材を該プラズマ状態のガスに晒すことによって、該基材の上に薄膜を形成させるものである。また他の方式として、大気圧プラズマ放電処理装置は、上記同様の対向電極間で放電させ、該対向電極間に導入したガスを励起しまたはプラズマ状態とし、該対向電極外にジェット状に励起またはプラズマ状態のガスを吹き出し、該対向電極の近傍にある基材（静置していても移送されていてもよい）を晒すことによって該基材の上に薄膜を形成させるジェット方式の装置がある。

　図１は、本発明に有用なジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示した概略図である。

　ジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置は、プラズマ放電処理装置、二つの電源を有する電界印加手段の他に、図１では図示してない（後述の図２に図示してある）が、ガス供給手段、電極温度調節手段を有している装置である。

　プラズマ放電処理装置１０は、第１電極１１と第２電極１２から構成されている対向電極を有しており、該対向電極間に、第１電極１１からは第１電源２１からの周波数ω１の高周波電界が印加され、また第２電極１２からは第２電源２２からの周波数ω２の高周波電界が印加されるようになっている。

　第１の高周波電界の周波数ω１より第２の高周波電界の周波数ω２が高く、かつ第１の高周波電界の強さＶ１と、第２の高周波電界の強さＶ２と、放電開始電界の強さＩＶとの関係がＶ１≧ＩＶ＞Ｖ２、または　Ｖ１＞ＩＶ≧Ｖ２　を満たし、第２の高周波電界の出力密度が１Ｗ／ｃｍ^２以上であることが好ましい。高周波とは、少なくとも０．５ｋＨｚの周波数を有するものを指す。

　本発明において、放電開始電界の強さとは、実際の薄膜形成方法に使用される放電空間（電極の構成等）及び反応条件（ガス条件等）において放電を起こすことのできる最低電界強度のことを指す。放電開始電界強度は、放電空間に供給されるガス種や電極の誘電体種または電極間距離等によって多少変動するが、同じ放電空間においては、放電ガスの放電開始電界強度に支配される。

　ここで、本発明でいう印加電界強度と放電開始電界強度は、下記の方法で測定されたものをいう。

　印加電界強度Ｖ１及びＶ２（単位：ｋＶ／ｍｍ）の測定方法：
　各電極部に高周波電圧プローブ（Ｐ６０１５Ａ）を設置し、該高周波電圧プローブの出力信号をオシロスコープ（Ｔｅｋｔｒｏｎｉｘ社製、ＴＤＳ３０１２Ｂ）に接続し、所定の時点の電界強度を測定する。

　放電開始電界強度ＩＶ（単位：ｋＶ／ｍｍ）の測定方法：
　電極間に放電ガスを供給し、この電極間の電界強度を増大させていき、放電が始まる電界強度を放電開始電界強度ＩＶと定義する。測定器は上記印加電界強度測定と同じである。

　第１電極１１と第２電極１２との対向電極間（放電空間）１３に、後述の図２に図示してあるようなガス供給手段から前述した薄膜形成ガスＧを導入し、第１電源２１と第２電源２２により第１電極１１と第２電極１２間に、前述した高周波電界を印加して放電を発生させ、前述した薄膜形成ガスＧをプラズマ状態にしながら対向電極の下側（紙面下側）にジェット状に吹き出させて、対向電極下面と基材Ｆとで作る処理空間をプラズマ状態のガスＧ°で満たし、図示してない基材の元巻き（アンワインダー）から巻きほぐされて搬送して来るか、あるいは前工程から搬送して来る基材Ｆの上に、処理位置１４付近で薄膜を形成させる。薄膜形成中、後述の図３に図示してあるような電極温度調節手段から媒体が配管を通って電極を加熱または冷却する。プラズマ放電処理の際の基材の温度によっては、得られる薄膜の物性や組成等は変化することがあり、これに対して適宜制御することが望ましい。温度調節の媒体としては、蒸留水、油等の絶縁性材料が好ましく用いられる。プラズマ放電処理の際、基材の幅手方向あるいは長手方向での温度ムラができるだけ生じないように電極の内部の温度を均等に調節することが望まれる。

　ジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置を、樹脂基材Ｆの搬送方向と平行に複数台並べ、同時に同じプラズマ状態のガスを放電させることにより、同一位置に複数層の薄膜を形成可能となり、短時間で所望の膜厚を形成可能となる。また樹脂基材Ｆの搬送方向と平行に複数台並べ、各装置に異なる薄膜形成ガスを供給して異なったプラズマ状態のガスをジェット噴射すれば、異なった層の積層薄膜を形成することもできる。

　図２は本発明に有用な対向電極間で基材を処理する方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。

　大気圧プラズマ放電処理装置は、少なくとも、プラズマ放電処理装置３０、二つの電源を有する電界印加手段４０、ガス供給手段５０、電極温度調節手段６０を有している装置である。

　ロール回転電極（第１電極）３５と固定電極群（第２電極）３６との対向電極間３２（以下対向電極間を放電空間３２とも記す）で、樹脂基材Ｆをプラズマ放電処理して薄膜を形成するものである。

　ロール回転電極３５と固定電極群３６との間に形成された放電空間３２に、ロール回転電極３５には第１電源４１から周波数ω１の高周波電界を、また固定電極群３６には第２電源４２から周波数ω２の第２の高周波電界をかけるようになっている。

　なお、本発明においては、ロール回転電極３５を第２電極、また固定電極群３６を第１電極としてもよい。いずれにしろ第１電極には第１電源が、また第２電極には第２電源が接続される。

　ガス供給手段５０のガス発生装置５１で発生させた薄膜形成ガスＧは、不図示のガス流量調整手段により流量を制御して給気口５２よりプラズマ放電処理容器３１内に導入する。

　樹脂基材Ｆを、図示されていない元巻きから巻きほぐして搬送されて来るか、または前工程から矢印方向に搬送されて来て、ガイドロール６４を経てニップロール６５で基材に同伴されて来る空気等を遮断し、ロール回転電極３５に接触したまま巻き回しながら固定電極群３６との間に移送する。

　移送中にロール回転電極３５と固定電極群３６との両方から電界をかけ、対向電極間（放電空間）３２で放電プラズマを発生させる。樹脂基材Ｆはロール回転電極３５に接触したまま巻き回されながらプラズマ状態のガスにより薄膜を形成する。

　なお、固定電極の数は、上記ロール電極の円周より大きな円周上に沿って複数本設置されており、該電極の放電面積はロール回転電極３５に対向している全ての固定電極のロール回転電極３５と対向する面の面積の和で表される。

　樹脂基材Ｆは、ニップロール６６、ガイドロール６７を経て、図示してない巻き取り機で巻き取るか、次工程に移送する。放電処理済みの処理排ガスＧ′は排気口５３より排出する。

　薄膜形成中、ロール回転電極３５及び固定電極群３６を加熱または冷却するために、電極温度調節手段６０で温度を調節した媒体を、送液ポンプＰで配管６１を経て両電極に送り、電極内側から温度を調節する。なお、６８及び６９はプラズマ放電処理容器３１と外界とを仕切る仕切板である。

　図３は、図２に示したロール回転電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。図３において、ロール電極３５ａは導電性の金属質母材３５Ａとその上に誘電体３５Ｂが被覆されたものである。プラズマ放電処理中の電極表面温度を制御し、また、樹脂基材Ｆの表面温度を所定値に保つため、温度調節用の媒体（水もしくはシリコンオイル等）が循環できる構造となっている。

　図４は、電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。該電極の構造は図示しないが、ジャケット構造となっており、放電中の温度調節が行えるようになっている。図４において、固定電極３６ａは、導電性の金属質母材３６Ａに対し、図４同様の誘電体３６Ｂの被覆を有している。図４に示した固定電極３６ａの形状は、特に限定されず、円筒型電極でも角筒型電極でも良い。

　図３及び図４において、ロール電極３５ａ及び電極３６ａは、それぞれ導電性の金属質母材３５Ａ及び３６Ａの上に誘電体３５Ｂ及び３６Ｂとしてのセラミックスを溶射後、無機化合物の封孔材料を用いて封孔処理したものである。セラミックス誘電体は片肉で１ｍｍ程度被覆あればよい。溶射に用いるセラミックス材としては、アルミナ・窒化珪素等が好ましく用いられるが、この中でもアルミナが加工し易いので、特に好ましく用いられる。また、誘電体層が、ライニングにより無機材料を設けたライニング処理誘電体であってもよい。

　導電性の金属質母材３５Ａ及び３６Ａとしては、チタン金属またはチタン合金、銀、白金、ステンレススティール、アルミニウム、鉄等の金属等や、鉄とセラミックスとの複合材料またはアルミニウムとセラミックスとの複合材料を挙げることができる。

　対向する第１電極及び第２の電極の電極間距離は、電極の一方に誘電体を設けた場合、該誘電体表面ともう一方の電極の導電性の金属質母材表面との最短距離のことをいう。双方の電極に誘電体を設けた場合、誘電体表面同士の距離の最短距離のことをいう。電極間距離は、導電性の金属質母材に設けた誘電体の厚さ、印加電界強度の大きさ、プラズマを利用する目的等を考慮して決定されるが、いずれの場合も均一な放電を行う観点から０．１～２０ｍｍが好ましく、特に好ましくは０．５～５ｍｍである。

　プラズマ放電処理容器３１はパイレックス（登録商標）ガラス製の処理容器等が好ましく用いられるが、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能である。例えば、アルミニウムまたは、ステンレススティールのフレームの内面にポリイミド樹脂等を貼り付けてもよく、該金属フレームにセラミックス溶射を行い、絶縁性をとってもよい。図２において、平行した両電極の両側面（基材面近くまで）を上記のような材質のもので覆うことが好ましい。

　本発明の大気圧プラズマ放電処理装置に設置する第１電源（高周波電源）としては、神鋼電機社製ＳＰＧ５－４５００（５ｋＨｚ）、春日電機製ＡＧＩ－０２３（１５ｋＨｚ）、ハイデン研究所製ＰＨＦ－６ｋ（１００ｋＨｚ＊）、パール工業製ＣＦ－２０００－２００ｋ（２００ｋＨｚ）等の市販のものを挙げることができ、何れも使用することができる。

　また、第２電源（高周波電源）としては、パール工業製ＣＦ－２０００－８００ｋ（８００ｋＨｚ）、同ＣＦ－５０００－１３Ｍ（１３．５６ＭＨｚ）、同ＣＦ－２０００－１５０Ｍ（１５０ＭＨｚ）等の市販のものを挙げることができ、何れも好ましく使用できる。

　なお、上記電源のうち、＊印はハイデン研究所インパルス高周波電源（連続モードで１００ｋＨｚ）である。それ以外は連続サイン波のみ印加可能な高周波電源である。

　本発明においては、このような電界を印加して、均一で安定な放電状態を保つことができる電極を大気圧プラズマ放電処理装置に採用することが好ましい。

　本発明において、対向する電極間に印加する電力は、第２電極（第２の高周波電界）に１Ｗ／ｃｍ^２以上の電力（出力密度）を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、エネルギーを薄膜形成ガスに与え、薄膜を形成する。第２電極に供給する電力の上限値としては、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ^２、より好ましくは２０Ｗ／ｃｍ^２である。下限値は、好ましくは１．０Ｗ／ｃｍ^２である。なお、放電面積（ｃｍ^２）は、電極間において放電が起こる範囲の面積のことを指す。

　また、第１電極（第１の高周波電界）にも、１Ｗ／ｃｍ^２以上の電力（出力密度）を供給することにより、更なる膜質を向上させることができる。好ましくは５Ｗ／ｃｍ^２以上である。第１電極に供給する電力の上限値は、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ^２である。

　ここで高周波電界の波形としては、特に限定されない。連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モード等があり、そのどちらを採用してもよいが、少なくとも第２電極側（第２の高周波電界）は連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。

　〈Ｘ線反射率法〉
　本発明に記載の屈折率は、具体的にはＸ線反射率法により求めた値である。

　Ｘ線反射率法の概要は、Ｘ線回折ハンドブック　１５１ページ（理学電機株式会社編　２０００年　国際文献印刷社）や化学工業１９９９年１月Ｎｏ．２２を参照して行うことができる。

　本発明に有用な測定方法の具体例を以下に示す。

　これは、表面が平坦な物質に非常に浅い角度でＸ線を入射させ測定を行う方法で、測定装置としてはマックサイエンス社製ＭＸＰ２１を用いて行う。Ｘ線源のターゲットには銅を用い、４２ｋＶ、５００ｍＡで作動させる。インシデントモノクロメータには多層膜パラボラミラーを用いる。入射スリットは０．０５ｍｍ×５ｍｍ、受光スリットは０．０３ｍｍ×２０ｍｍを用いる。２θ／θスキャン方式で０から５°をステップ幅０．００５°、１ステップ１０秒のＦＴ法にて測定を行う。得られた反射率曲線に対し、マックサイエンス社製Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ　Ａｎａｌｙｓｉｓ　Ｐｒｏｇｒａｍ　Ｖｅｒ．１を用いてカーブフィッティングを行い、実測値とフィッティングカーブの残差平方和が最小になるように各パラメータを求める。各パラメータから積層膜の屈折率、厚さ及び密度を求めることができる。本発明における積層膜の膜厚評価も、上記Ｘ線反射率測定より求めることができる。

　〈炭素含有量の分析〉
　水蒸気バリア層において、酸化珪素膜の密度は、微量成分である炭素含有量と密接に相関があり、例えば、炭素原子濃度が低い（０．１ａｔ％未満）膜は密度が高くガスバリア性が高い膜であるが、炭素原子濃度がこれよりも高い（１～４０ａｔ％）膜は、膜密度もより低くより柔らかい組成物である。

　本発明において水蒸気バリア層の炭素含有量（ａｔ％）は、原子数濃度％（ａｔｏｍｉｃ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）を表す。炭素含有量を示す原子数濃度％（ａｔ％）は公知の分析手段を用いて求めることができるが、本発明においては下記のＸＰＳ法によって算出されるもので、以下に定義される。

　原子数濃度％（ａｔｏｍｉｃ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）＝炭素原子の個数／全原子の個数×１００
　ＸＰＳ表面分析装置は、本発明ではＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ－２００Ｒを用いた。具体的には、Ｘ線アノードにはマグネシウムを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定した。エネルギー分解能は、清浄なＡｇ３ｄ５／２ピークの半値幅で規定したとき、１．５ｅＶ～１．７ｅＶとなるように設定した。

　測定としては、先ず結合エネルギー０ｅＶ～１１００ｅＶの範囲をデータ取り込み間隔１．０ｅＶで測定し、いかなる元素が検出されるかを求めた。

　次に、検出されたエッチングイオン種を除く全ての元素について、データの取り込み間隔を０．２ｅＶとして、その最大強度を与える光電子ピークについてナロースキャンを行い、各元素のスペクトルを測定した。

　得られたスペクトルは、測定装置、あるいはコンピュータの違いによる含有率算出結果の違いを生じせしめなくするために、ＶＡＭＡＳ－ＳＣＡ－ＪＡＰＡＮ製のＣＯＭＭＯＮ　ＤＡＴＡ　ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ　ＳＹＳＴＥＭ　（Ｖｅｒ．２．３以降が好ましい）上に転送した後、同ソフトで処理を行い、各分析ターゲットの元素（炭素、酸素、珪素、チタン等）の含有率の値を原子数濃度（ａｔｏｍｉｃ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ：ａｔ％）として求めた。

　定量処理を行う前に、各元素についてＣｏｕｎｔ　Ｓｃａｌｅのキャリブレーションを行い、５ポイントのスムージング処理を行った。定量処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強度（ｃｐｓ＊ｅＶ）を用いた。バックグラウンド処理には、Ｓｈｉｒｌｅｙによる方法を用いた。また、Ｓｈｉｒｌｅｙ法については、Ｄ．Ａ．Ｓｈｉｒｌｅｙ，Ｐｈｙｓ．Ｒｅｖ．，Ｂ５，４７０９（１９７２）を参考にすることができる。

　〈ポリマー層〉
　本発明に係る、ポリマー層に使用される光硬化性樹脂組成物は、光硬化性樹脂と光重合開始剤とを含む。通常、光硬化性樹脂と光励起しやすい光重合開始剤とは組み合わせて用いられ、紫外線による開始剤の開裂や水素移動でラジカルやカチオンの活性種が生成され、該活性種が樹脂に作用して重合または架橋反応が起こり、樹脂は極短時間のうちに硬化する。本発明のポリマー層が本発明のバリア層上に塗布すると、屈折率の変化によってヘイズが低くなる特徴があり、光透過率が予測より飛躍的に高く改良された。

　本発明で使用される光硬化性樹脂組成物は、電磁波中の紫外領域（２００～６００ｎｍ、好ましくは２００～４００ｎｍ）を利用して硬化可能な樹脂組成物（プレポリマー、オリゴマーを含む。）であり、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する。このような光硬化性樹脂組成物から得られる樹脂のうち、本発明においては、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂などが好ましい。これらの光硬化性樹脂は単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。

　また、本発明では、反応性希釈剤を用いる場合には、上記光硬化性樹脂組成物と反応性希釈剤とを混合して使用することがより好ましい。

　反応性希釈剤は、アクリロイル基またはメタクリロイル基を１分子当たり１個または２個以上有する反応性モノマーであり、高粘度のオリゴマーを低粘度化する希釈剤の役割を果たすものである。

　本発明では、反応性希釈剤として従来公知のものが使用できる。上記アクリロイル基またはメタクリロイル基を１分子当たり１個有する、単官能性反応希釈剤としては、例えば「ＡＣＭＯ」（商品名、興人（株））、「ライトアクリレート　ＭＴＧ－Ａ」（商品名、共栄社化学（株））が挙げられる。上記アクリロイル基またはメタクリロイル基を１分子当たり２個有する、２官能性反応希釈剤としては、例えば「ビスコート　２６０」（商品名、大阪有機化学工業（株））、「ネオマー　ＮＡ－３０５」（商品名、三洋化成工業（株））が挙げられる。上記アクリロイル基またはメタクリロイル基を１分子当たり３個以上有する、多官能性反応希釈剤としては、例えば「ニューフロンティア　ＴＥＩＣＡ」（商品名、第一工業製薬（株））、「アロニックス　Ｍ－４００」（商品名、東亞合成（株））が挙げられる。

　なお、単官能性反応希釈剤、２官能性反応希釈剤、３官能性以上の多官能性反応希釈剤は、それぞれ「単官能モノマー」、「２官能モノマー」、「多官能モノマー」と呼ばれることもある。

　本発明で用いられる反応性希釈剤（Ｒ）は、単官能性反応希釈剤（Ｒ１）、２官能性反応希釈剤（Ｒ２）および多官能性反応希釈剤（Ｒ３）の混合物であることが好ましい。この混合物における（Ｒ１）、（Ｒ２）および（Ｒ３）の質量比は、単官能性反応希釈剤（Ｒ１）１質量部に対して、２官能性反応希釈剤（Ｒ２）が１．５～３．０質量部、多官能性反応希釈剤（Ｒ３）が１．０～２．５質量部の範囲であることが、得られる硬化塗膜の耐汚染性、耐傷性および耐クラック性などの点から好ましい。硬化された塗布膜が丈夫なマトリックス構造を取っているため、耐ＵＶ性、耐熱性および耐候性にも非常に優れている。

　本発明で使用される光重合開始剤としては、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、アセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類、メチルフェニルグリオキシエステル類が挙げられる。後述する実施例で用いられている「イルガキュアー１８４」は、上記アセトフェノン類に属する光重合開始剤である。なお、光重合開始剤は、反応開始剤と呼ばれることもある。

　光硬化性樹脂組成物と光重合開始剤との配合比は、塗布された未硬化塗膜の硬化速度などの点から、光重合性樹脂組成物１００質量部に対して、光重合開始剤が通常は１～２５質量部であり、好ましくは５～２０質量部である。

　本発明の光硬化性樹脂組成物には、上記の成分以外に、体質顔料、消泡剤、レベリング剤、流動調整剤などの各種添加剤等が適宜含まれていてもよい。

　本発明の遮熱性物品において、ポリマー層（ハードコート層ともいう）を少なくとも１層設ける。ポリマー層は層間に設置すると、層と層の密着性を向上することもできる。また、最表面層に設置すると、表面層の耐擦傷性が向上できる。日光（熱線）入射面側の最表面層にポリマー層を設けることが好ましい。構成層中の少なくとも１層のポリマー層に紫外線吸収剤及び光安定剤を含有させることが更に好ましい。

　これらのポリマー層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することができる。塗布後、加熱乾燥し、ＵＶ硬化処理を行う。塗布膜の厚さは１μｍ～２０μｍが好ましい。３μｍ～１０μｍが特に好ましい。

　ポリマー層形成組成物には、溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル（アルキル基の炭素原子数として１～４）またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（アルキル基の炭素原子数として１～４）等を５質量％以上、より好ましくは５～８０質量％以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１～３質量％の範囲で添加することが好ましい。

　ポリマー層は塗布乾燥後に、紫外線を照射するのがよく、必要な活性光線の照射量を得るための照射時間としては、０．１秒～１分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から０．１～１０秒がより好ましい。また、これら活性光線照射部の照度は０．０５～０．２Ｗ／ｍ^２であることが好ましい。

　本発明に係る光硬化性樹脂組成物からなる塗膜の硬化方法は、不活性ガス雰囲気下で行われると好ましい。不活性ガスとしては、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素およびアルゴン等の希ガス、ならびにこれらの混合気体が挙げられるが、特に窒素ガスまたは窒素含有ガスの使用が好ましい。また、本発明において、これらの不活性ガス中には酸素ガスが含まれていてもよい。該不活性ガス中の酸素濃度は、４体積％以下であることが好ましい。本発明に係る塗膜の硬化方法は、基材に塗布された光硬化性塗料組成物を、不活性ガス雰囲気下で無電極ＵＶランプを照射することにより硬化させる方法が特に好ましい。

　本発明の基材（例えばポリエステルフィルム）の片面又は両面に、ポリマー層として紫外線吸収剤及び／またはヒンダードアミン系光安定剤を含有した水酸基導入アクリル樹脂の塗膜を設けてもよい。特に屋外環境（外貼り用建材）で使用する場合、耐候性を高めるため、光安定剤を含有したポリマー層を用いる事が好ましい。更に水酸基を有する紫外線吸収剤を使用し、イソシアネート化合物を添加すると、イソシアネート化合物がポリエステルフィルムとの密着性を向上させると共に、紫外線吸収剤が水酸基導入アクリル樹脂とウレタン結合で結ばれ、紫外線吸収剤がブリードアウトしにくくなるため、更なる耐候性向上を図ることができる。

　〈紫外線吸収剤〉
　紫外線吸収剤としては、ポリメチレン系色素、アミニウム系色素、イミニウム系色素等がある。具体的な紫外線吸収剤の化合物には、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、クマリン系等の紫外線吸収剤がある。本発明にかかる紫外線吸収剤はヒドロキシフェニルトリアジン系の化合物が特に好ましい。

　具体例を以下に示すが、もちろんこれらに限定されるものではない。

　２，４，６－トリス（２′－ヒドロキシ－４′－イソプロピルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン；２，４，６－トリス（２′－ヒドロキシ－４′－ｎ－ヘキシルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン；２，４，６－トリス（２′－ヒドロキシ－４′－ｎ－ヘプチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン；２，４，６－トリス（２′－ヒドロキシ－４′－エトキシカルボニルメトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン。

　本発明の紫外線吸収剤はポリマー層に含有し、バインダーに対して０．１質量％から３０質量％が好ましい。含有量が少ないと効果が低い。また多すぎるとバインダーの層が保持できずぼろぼろになる。更に好ましい含有量は５質量％から１０質量％である。

　低分子量の紫外線吸収剤がポリマー層からブリードアウトすることがあるので、高分子紫外線吸収剤の併用が好ましい。

　〈光安定剤〉
　本発明の基材、ポリマー層にＵＶ吸収剤または酸化防止剤等の光安定剤を含んでいることが好ましい。本発明の光安定剤とは基材及び各層の構成素材等を紫外線照射での劣化から防ぐ効果を有するものであり、例えば紫外線（ＵＶ）吸収剤、ラジカル補足剤、酸化防止剤などが例示され、このような光安定剤としては、ヒンダードアミン系、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、トリアジン系、ベンゾエート系、蓚酸アニリド系などの有機系の光安定剤、あるいはゾルゲルなどの無機系の光安定剤を用いることができる。好適に用いられる光安定剤の具体例を以下に示すが、もちろんこれらに限定されるものではない。

　ヒンダードアミン系：ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、コハク酸ジメチル１－（２－ヒドロキシエチル）－４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン重縮合物、サリチル酸系：ｐ－ｔ－ブチルフェニルサリシレート、ｐ－オクチルフェニルサリシレートベンゾフェノン系：２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン、２，２′－４，４′－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４，４′－ジメトキシベンゾフェノン、ビス（２－メトキシ－４－ヒドロキシ－５－ベンゾイルフェニル）メタンベンゾトリアゾール系：２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－ｔ－オクチルフェノール）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔ－アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２′－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］、２（２′－ヒドロキシ－５′－メタアクリロキシフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－［２′－ヒドロキシ－３′－（３″，４″，５″，６″－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５′－メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５－アクリロイルオキシエチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メタクリロキシエチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔ－ブチル－５′－アクリロイルエチルフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾールシアノアクリレート系：エチル－２－シアノ－３，３′－ジフェニルアクリレート上記以外：ニッケルビス（オクチルフェニル）サルファイド、［２，２′－チオビス（４－ｔ－オクチルフェノラート）］－ｎ－ブチルアミンニッケル、ニッケルコンプレックス－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチルジチオカーバメート、２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－３′，５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ヒドロキシベンゾエート、２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－３′，５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ハイドロキシベンゾエート、２－エトキシ－２′－エチルオキザックアシッドビスアニリド、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール。

　本発明においては、上記具体例のうち、少なくともヒンダードアミン系酸化防止剤、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系紫外線（ＵＶ）吸収剤、ラジカル補足剤のいずれかを用いることが好ましく、更には、これらを併用して用いることがより好ましい。

　本発明において、光安定剤をポリマー層に含有される場合は、層の形成をより容易にするために、塗布層中の光安定剤に対し、適宜他の樹脂成分を混合することも好ましい。すなわち、樹脂成分及び光安定剤をそれぞれ溶解し得る有機溶媒、水、２種以上の有機溶媒の混合液、あるいは有機溶媒／水混合液に樹脂成分と光安定剤を溶解もしくは分散させて塗液状態にして用いることが好ましい態様である。もちろん、樹脂成分と光安定剤を予め別々に有機溶媒、水、有機溶媒混合液、あるいは有機溶媒／水混合液に溶解または分散させたものを任意に混合して使用してもよい。

　また、光安定剤として光安定剤モノマーを含有する化合物、オリゴマー、樹脂等も利用できる。樹脂成分（例えばアクリル樹脂もしくはメタクリル樹脂）として、光安定剤成分を共重合したものを塗布層に使用してもよい。共重合する場合には光安定剤モノマー成分に対して、アクリルモノマー成分あるいはメタクリルモノマー成分と共重合することが好ましい。

　光安定剤モノマー成分としては、例えばベンゾトリアゾール系反応性モノマー、ヒンダードアミン系反応性モノマー、ベンゾフェノン系反応性モノマーなどが好ましく使用できる。これらの光安定剤モノマー成分と共重合されるアクリルモノマー成分あるいはメタクリルモノマー成分、またはそのオリゴマー成分としては、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、及び架橋性官能基を有するモノマー、例えばカルボキシル基、メチロール基、酸無水物基、スルホン酸基、アミド基、メチロール化されたアミド基、アミノ基、アルキロール化されたアミノ基、水酸基、エポキシ基などを有するモノマー、更にはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、ブチルビニルエーテル、マレイン酸、イタコン酸及びそのジアルキルエステル、酢酸ビニル、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニル基を有するアルコキシシラン、不飽和ポリエステルなどとの共重合体としてもよい。

　光安定剤モノマー成分の比率が１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更には３５質量％以上であることが最も好ましく、また塗布性や耐熱性の点から７０質量％以下であることが好ましい。これらの重合体の分子量は特に限定されないが、通常５，０００以上、好ましくは１０，０００以上、更には２０，０００以上であることが最も好ましい。これらの重合体は有機溶媒、水あるいは有機溶媒／水混合液に溶解もしくは分散した状態で使用される。これら以外にも市販のハイブリッド系光安定ポリマー、例えば、「ユーダブル」（日本触媒（株）製）なども使用することができる。

　光安定剤を含有するポリマー層の厚みは、特に限定しないが、０．５～２０μｍが好ましく、より好ましくは１～１０μｍ、更には２～７μｍであることが最も好ましい。厚みがこの範囲内であれば、塗布層の耐久性が十分得られ、優れた特性が発揮される。

　また、同様に基材に前記のＵＶ吸収剤または酸化防止剤を含有させることも好ましい態様である。

　〈基材〉
　本発明に係る遮熱性物品に用いられる基材は、上述した各種の層を保持することができるガラス、樹脂板、樹脂フィルムなどが挙げられる。特に限定されるものではない。

　基材として利用する樹脂として、具体的には、エチレン、ポリプロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体または共重合体等のポリオレフィン（ＰＯ）樹脂、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン樹脂（ＡＰＯ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンナフタレート、ポリエチレン－２，６－ナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド系（ＰＡ）樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂、エチレン－ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド（ＰＩ）樹脂、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）樹脂、ポリサルホン（ＰＳ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリビニルブチラート（ＰＶＢ）樹脂、ポリアリレート（ＰＡＲ）樹脂、エチレン－四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、三フッ化塩化エチレン（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン－パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）、パーフルオロエチレン－パーフルオロプロピレン－パーフルオロビニルエーテル－共重合体（ＥＰＡ）等のフッ素系樹脂等のフィルムを用いることができる。特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。

　また、上記に挙げた樹脂以外にも、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物によりなる樹脂組成物や、上記アクリレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶解せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂及びこれらの混合物等を用いることも可能である。更に、これらの樹脂の１または２種以上をラミネート、コーティング等の手段によって積層させたものを樹脂フィルムとして用いることも可能である。

　これらの素材は単独であるいは適宜混合されて使用することもできる。中でも、ゼオネックスやゼオノア（日本ゼオン（株）製）、非晶質シクロポリオレフィン樹脂フィルムのＡＲＴＯＮ（ジェイエスアール（株）製）、ポリカーボネートフィルムのピュアエース（帝人（株）製）、セルローストリアセテートフィルムのコニカタックＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＸ（コニカミノルタオプト（株）製）などの市販品を好ましく使用することができる。

　また、樹脂フィルムは透明、高耐光性、高耐候性であることが好ましい。また、上記に挙げた樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。

　本発明に係る樹脂フィルムは、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ（縦軸）方向、または基材の流れ方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ２～１０倍が好ましい。

　基材フィルムを構成する樹脂のうち、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン－２，６－ナフタレートに代表される芳香族ポリエステル、ナイロン６やナイロン６６に代表される脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリエチレンやポリプロピレンに代表されるポリオレフィン、ポリカーボネート等が好ましい。これらの中、芳香族ポリエステル、更にはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、及びポリエチレン－２，６－ナフタレート、特にポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。

　また、熱可塑性樹脂フィルムとしては機械強度を高めた二軸延伸フィルム、更には耐熱性及び機械的強度に優れる、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムや二軸延伸ポリエチレン－２，６－ナフタレートフィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。

　前記芳香族ポリエステルには、必要により、適当なフィラーを含有させることができる。このフィラーとしては、従来からポリエステルフィルムの滑り性付与剤として知られているものが挙げられるが、その例を挙げると、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、カーボンブラック、炭化珪素、酸化錫、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が挙げられる。かかる滑り性付与剤の平均粒径は、０．０１～１０μｍ、含有量はフィルムが透明性を保持する量範囲であって、０．０００１～５質量％であることが好ましい。更に芳香族ポリエステルには、着色剤、帯電防止剤、酸化防止剤、有機滑剤、触媒残渣微粒子なども適宜含有させることができる。

　また、本発明の遮熱性物品においては、各層を形成する前に、基材をコロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理などの表面処理を行ってもよい。

　基材は樹脂フィルムの場合は、ロール状に巻き上げられた長尺品が便利である。樹脂フィルムの厚さは、遮熱樹脂基材としての適性から１０～４００μｍ、中でも３０～２００μｍの範囲内とすることが好ましい。

　次に、本発明の別の態様（形態）について説明する。

　本発明の別の態様において、遮熱性物品は、少なくとも一層のポリマー層にシランカップリング剤を含有し、かつ、該基材の少なくとも一方の面に金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる金属層を有する熱線遮断層があり、かつ該熱線遮断層の熱線入射側に紫外線反射層が設置されていることを特徴とする。

　本発明の別の態様に係る遮熱性物品は、窓ガラス、例えば、建物窓ガラスや表示窓ガラスに貼ったとき、高い熱線及び紫外線遮断効果を有するとともに室内灯等の映り込みを防止する熱線反射フィルムとなる。

　〈シランカップリング剤〉
　本発明の別の態様において用いられるシランカップリング剤についてのべる。

　アミノ系シラン化合物を単独もしくは炭化水素系の溶剤で希釈したものをプライマーとして用い、シリコーンゴムと有機系樹脂やゴム等とを接着することは特開平４－９６９４２号公報に開示されているが、アミノ系シラン化合物単体もしくは炭化水素系の溶剤で希釈したものは、多量に塗布すると、室温下ではウレタン樹脂系塗膜とシリコーンゴム製基材を強固に接着するが、８５℃以上の高熱に連続的に晒すと透明なプライマー層が変色して黄色になったり、硬化劣化（プライマー層が硬くなり脆くなる現象）が進んだりして、接着力が落ちることもある。またアルコール類溶剤はシランカップリング剤と反応しゲル体を形成し、接着効果を消失させる。またエステル類溶剤はカバー部材中を浸透し、接点部汚染を引き起こす危険性を有する。

　発明の別の態様においては、シランカップリング剤をプライマー層としてでなく、ポリマー層に含有している。その結果、本発明の遮熱物品は層と層の間の密着性がよく、特に耐久性に優れる。本発明は、層間の密着性を向上するシランカップリング剤を含有するプライマー層を単独では有せず、対擦過性、紫外線耐性機能を有する本発明の光硬化性樹脂のポリマー層（ハードコート層ともいう）に含有させたことを特徴とする。

　アミノ系シランカップリング剤の具体例としては、
　Ｎ－β－（アミノエチル）γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、
　Ｎ－β－（アミノエチル）γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
　Ｎ－β－（アミノエチル）γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、
　γ－アミノプロピルジエトキシシラン、
　γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、
　γ－アミノプロピルトリエトキシシラン
　Ｎ－（ビニルベンジル）－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩などが挙げられる。

　また、本発明に係るアミノ系シランカップリング剤はエポキシシランカップリング剤と混合して使用することができる。エポキシシランカップリング剤の具体例としてはβ－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。

　本発明において、ポリマー層中のシランカップリング剤の添加量は、ポリマー層総量の０．１～１０質量％とされる。これは、シランカップリング剤添加量が０．１質量％未満では接着力に乏しいし、１０質量％を越えると、基材面に均一に塗膜が形成しにくくなるためである。

　〈紫外線吸収剤〉
　本発明の別の態様においても、ポリマー層の少なくとも１層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましく、更に、基材に紫外線吸収剤または酸化防止剤等の光安定剤を含んでいることが好ましい。

　本発明の別の態様において、紫外線吸収剤、または光安定剤としては、前述したものと同様のものを用いることが出来る。ポリメチレン系色素、アミニウム系色素、イミニウム系色素等がある。具体的な紫外線吸収剤の化合物には、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、クマリン系等の紫外線吸収剤がある。本発明にかかる紫外線吸収剤はヒドロキシフェニルトリアジン系の化合物が特に好ましい。

　具体例については、本発明において既に挙げられたものと同様のものが挙げられるが、もちろんこれらに限定されるものではない。

　本発明の別の態様においては、上記具体例のうち、少なくともヒンダードアミン系酸化防止剤、ラジカル捕捉剤のいずれかを用いることが好ましく、更には、これらを併用して用いることがより好ましい。

　本発明の別の態様においても紫外線吸収剤および光安定剤を含有するポリマー層の厚みは、特に限定しないが、０．５～２０μｍが好ましく、より好ましくは１～１０μｍ、更には２～７μｍであることが最も好ましい。厚みがこの範囲内であれば、塗布層の耐久性が十分得られ、優れた特性が発揮される。

　また、同様に基材に前記の紫外線吸収剤および光安定剤または酸化防止剤を含有させることも好ましい態様である。

　〈熱線遮断層〉
　本発明の別の態様における熱線遮断層については、本発明において既に詳細に説明した。金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる０．１ｎｍ以上、３０ｎｍ未満の金属層を少なくとも１層以上含む熱線遮断層であり、その構成等、前述のものと同様である。

　〈紫外線反射層〉
　本発明の別の態様における紫外線反射層は、基材の熱線入射側に複数の異なる屈折率を有する材料から構成される。該紫外線反射層は屈折率の異なる材料から成る層を交互に積層して、紫外線を反射できるように光学設計された積層体が代表的な構成であるが、積層体に限られるものではない。屈折率の異なる材料が均一又は主成分の割合を膜厚方向に傾斜させた場合でも、紫外線反射効果が発揮できる。屈折率の異なる複数の材料の混合割合を膜厚方向で傾斜させて紫外線を反射できるようにしてもよい。また、紫外線反射層は、本発明の水蒸気バリア層と別に設けてもよいが、両者を兼ねることも可能である。

　本発明の別の態様における紫外線反射層は、透明な誘電体材料（屈折率：ｎ）を、地球上に到達する紫外線の波長：２９０ｎｍ～４００ｎｍ範囲内の特定の波長λに対して、例えばλ／２ｎ（ｎｍ）の厚さでコーティングすることにより、波長λの近傍の紫外光に対して、コーティング層の上下の界面からの反射光の位相を揃えることで、反射率を高めたものなどをいう。例えば、高屈折率膜と低屈折率膜の屈折率の異なる誘電体材料の膜を交互に多層コーティングすることで、反射率を上げたり、反射波長域を広げたりすることができる。例えば、一例として、透明フィルム上に高屈折率膜（酸化チタン（ＴｉＯ_２）：ｎ＝２．１０、厚み３５ｎｍ）、低屈折率膜（酸化珪素（ＳｉＯ_２）、ｎ＝１．４６、厚み５５ｎｍ）を順次設けた１５層（合計膜厚：６８５ｎｍ）の紫外線反射膜は、特に樹脂基材に悪影響を及ぼす３００～３６０ｎｍの紫外線の９５％程度を反射する。そのような紫外線反射層を設けることで、基材を透過する紫外線をカットすることができる。

　本発明の別の態様における紫外線反射層の誘電体材料としては、金属酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とする材料を好適に使用できる。屈折率１．８～２．４の高屈折率膜としては、少なくとも亜鉛、チタン、錫、インジウム、ニオブ、珪素、タンタルまたはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とする少なくとも１層以上からなることが好ましい。また、屈折率１．４～１．８の低屈折率膜は、少なくともＳｉまたはＡｌを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とし、特に、酸化珪素から構成されることが好ましい。その誘電体材料の形成方法としては気相成長法が好ましく、さらに真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、触媒化学気相成長（Ｃａｔ－ＣＶＤ）法、またはプラズマＣＶＤ法が好ましい。特に、大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガス及び放電ガスを含有するガスを供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該ガスを励起し、樹脂基材を励起したガスに晒すことにより、該樹脂基材上に薄膜を形成する薄膜形成方法により形成される、所謂大気圧プラズマＣＶＤ法により形成される膜が低残留応力であり好ましい。低屈折率膜には、カルシウム、バリウム、リチウム、マグネシウムのフッ化物を主成分とする材料も用いる事ができる。また、本発明において、屈折率の異なる層のうち、少なくとも１層は主成分の割合を膜厚方向に傾斜させた構成とすることができる。

　本発明の別の態様における紫外線反射層は、基材の十分な紫外線遮蔽性を得るために、屈折率１．４～１．８の厚み５～１０００ｎｍの低屈折率層、及び屈折率１．８～２．４の厚み５～４００ｎｍの高屈折率膜層を交互に、少なくとも３層以上積層されていることが好ましく、更に好ましくは、５層以上、特に好ましくは７層以上である。

　〈水蒸気バリア層〉
　本発明の別の態様の遮熱性物品は、上記熱線遮断層の熱線入射側に水蒸気バリア層が設置されたことが好ましい。

　水蒸気バリア層は、少なくとも珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とし、屈折率が１．４以上１．８未満であるセラミック構成層であり、特に酸化珪素から構成されることが好ましい。

　水蒸気バリア層は、上記紫外線反射するための紫外線反射層に用いる低屈折率層と同一で兼ねてもよい。また、水蒸気バリア層に紫外線を遮断するための光安定剤を含有させてもよい。水蒸気バリア層を形成する構成素材が均一又は主成分の割合を膜厚方向に傾斜させた状態又は積層体であっても水蒸気バリア効果が発揮できる。

　本発明の別の態様において、水蒸気バリア層の形成方法については、本発明において既に述べた方法と同様の方法により形成することが出来る。所謂大気圧プラズマＣＶＤ法により形成される膜が好ましく、また、大気圧プラズマＣＶＤ法において形成される水蒸気バリア層が、炭素含有量０．１ａｔ％未満である酸化珪素膜と炭素含有量が１～４０ａｔ％である酸化珪素膜を少なくともそれぞれ１層以上ずつ含むことが好ましい。これらの炭素含有量の異なる膜を積層し構成したセラミック層は水分またガス透過率低い（ガスバリア性の）比較的柔軟性に富んだ低屈折率の膜となり好ましい。例えばこれらの層を交互に２～５層積層した構成が好ましい。

　水蒸気バリア層の水蒸気透過率としては、ＪＩＳ　Ｋ７１２９：１９９２　Ｂ法に従って測定（ＭＯＣＯＮ製、水蒸気透過率測定装置　ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ３／３３　ＭＧモジュールを使用）した水蒸気透過率が、０．０１ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下（４０℃９０％ＲＨ条件下）が好ましく、より好ましくは１×１０^－３ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下であり、さらに好ましくは１×１０^－５ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下である。水蒸気バリア層の水蒸気透過度は、樹脂脂基材上に少なくとも水蒸気バリア層のみを設け水蒸気透過率を測定すればよい。

　このような珪素またはアルミニウムを含む酸化物等の形成原料として、珪素化合物としては、前記、発明（Ａ）において挙げられた、シラン化合物を同様に用いることが出来る。また、アルミニウム化合物についても前記同様の化合物が挙げられる。

　また、酸化珪素、または酸化アルミニウム膜を得るための分解ガスとしては、水素ガス、メタンガス、アセチレンガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス、アンモニアガス、亜酸化窒素ガス、酸化窒素ガス、二酸化窒素ガス、酸素ガス、水蒸気、フッ素ガス、フッ化水素、トリフルオロアルコール、トリフルオロトルエン、硫化水素、二酸化硫黄、二硫化炭素、塩素ガスなどが同様に挙げられる。

　〈大気圧プラズマＣＶＤ法〉
　水蒸気バリア層、例えば酸化珪素膜、またこれらの積層体の形成には、物理、あるいは化学気相成長法が用いられる。中でも、これらのうち最も好ましいのは大気圧プラズマＣＶＤ法であり、大気圧プラズマＣＶＤ法については、本発明において既に説明した方法と同様の方法により形成することが出来る。

　〈ポリマー層〉
　本発明の別の態様のポリマー層としては光硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。本発明のポリマー層に使用される光硬化性樹脂組成物は、光硬化性樹脂と光重合開始剤とを含む。通常、光硬化性樹脂と光励起しやすい光重合開始剤とは組み合わせて用いられ、本発明において既に説明したものと同様であり、紫外線による開始剤の開裂や水素移動によりラジカルやカチオンの活性種が生成され、該活性種が樹脂に作用して重合または架橋反応が起こり、樹脂は極短時間のうちに硬化するものである。

　ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂などが好ましい。これらの光硬化性樹脂は単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。

　反応性希釈剤についても前述したが、アクリロイル基またはメタクリロイル基を１分子当たり１個または２個以上有する反応性モノマーであり、高粘度のオリゴマーを低粘度化する希釈剤の役割を果たすものである。

　反応性希釈剤としては従来公知の、例えば「ＡＣＭＯ」（商品名、興人（株））、「ライトアクリレート　ＭＴＧ－Ａ」（商品名、共栄社化学（株））、「ビスコート　２６０」（商品名、大阪有機化学工業（株））、「ネオマー　ＮＡ－３０５」（商品名、三洋化成工業（株））等、「ニューフロンティア　ＴＥＩＣＡ」（商品名、第一工業製薬（株））、「アロニックス　Ｍ－４００」（商品名、東亞合成（株））等が挙げられる。

　光重合開始剤についても既に述べたものと同様である。

　発明の別の態様で使用される光硬化性樹脂組成物についても、上記の成分以外に、耐湿顔料、消泡剤、レベリング剤、流動調整剤などの各種添加剤等が適宜含まれていてもよい。

　本発明の遮熱性物品においては、ポリマー層（ハードコート層ともいう）を少なくとも１層設ける。ポリマー層は層間に設置すると、層と層の密着性を向上することもできる。また、最表面層に設置すると、表面層の耐擦傷性が向上できる。日光（熱線）入射面側の最表面層にポリマー層を設けることが好ましい。構成層中の少なくとも１層のポリマー層に紫外線吸収剤及び光安定剤を含有させることが更に好ましい。本発明のポリマー層が本発明のバリア層上に塗布すると、屈折率の変化によってヘイズが低くなる特徴があり、光透過率が予測より飛躍的に高く改良された。

　これらのポリマー層の塗設方法、また塗設するためのポリマー層形成組成物、また、塗布乾燥後の、活性光線の照射についても本発明において既に述べたものと同様である。

　〈基材〉
　本発明の別の態様における遮熱性物品に用いられる基材としては、上述した発明（Ａ）の遮熱性物品に用いられる基材と同様の、ガラス、樹脂板、樹脂フィルムなどが挙げられる。特に限定されるものではない。

　次に、本発明のもう一つの態様（形態）について説明する。

　本発明のもう一つの態様に係る遮熱性物品は、少なくとも一層のポリマー層にシランカップリング剤を含有し、かつ、該基材の少なくとも一方の面に金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる金属層を有する熱線遮断層があり、かつ該熱線遮断層の熱線入射側に水蒸気バリア層が設置されていることを特徴とする。

　本発明の遮熱性物品は、窓ガラス、例えば、建物窓ガラスや表示窓ガラスに貼ったとき、高い熱線及び紫外線遮断効果を有するとともに室内灯等の映り込みを防止する熱線反射フィルムとなる。

　〈シランカップリング剤〉
　本発明のもう一つの態様において、アミノ系シラン化合物を単独もしくは炭化水素系の溶剤で希釈したものをプライマーとして用い、シリコーンゴムと有機系樹脂やゴム等とを接着することは特開平４－９６９４２号公報に開示されているが、アミノ系シラン化合物単体もしくは炭化水素系の溶剤で希釈したものは、多量に塗布すると、室温下ではウレタン樹脂系塗膜とシリコーンゴム製基材を強固に接着するが、８５℃以上の高熱に連続的に晒すと透明なプライマー層が変色して黄色になったり、硬化劣化（プライマー層が硬くなり脆くなる現象）が進んだりして、接着力が落ちることもある。またアルコール類溶剤はシランカップリング剤と反応しゲル体を形成し、接着効果を消失させる。またエステル類溶剤はカバー部材中を浸透し、接点部汚染を引き起こす危険性を有する。

　本発明のもう一つの態様においても、シランカップリング剤をプライマー層でなく、ポリマー層に含有している。その結果、本発明の遮熱物品は層と層の間の密着性がよく、特に耐久性に優れる。

　アミノ系シランカップリング剤の具体例としては、本発明の別の態様において挙げたものと同様のものをもちいることができる。

　本発明のポリマー層中のシランカップリング剤の添加量についても同様である。

　〈紫外線吸収剤〉
　本発明のもう一つの態様において、ポリマー層の少なくとも１層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましいが、更に、基材に紫外線吸収剤または酸化防止剤等の光安定剤を含んでいることが好ましい。

　紫外線吸収剤としては、ポリメチレン系色素、アミニウム系色素、イミニウム系色素等がある。具体的な紫外線吸収剤の化合物には、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、クマリン系等の紫外線吸収剤がある。本発明にかかる紫外線吸収剤はヒドロキシフェニルトリアジン系の化合物が特に好ましい。

　具体例としては、本発明において既に挙げられたものを挙げることが出来る。もちろんそれらに限定されるものではない。

　本発明のもう一つの態様において、紫外線吸収剤はポリマー層に含有されるとき、バインダーに対して０．１質量％から３０質量％が好ましい。含有量が少ないと効果が低い。また多すぎるとバインダーの層が保持できずぼろぼろになる。更に好ましい含有量は５質量％から１０質量％である。

　〈光安定剤〉
　また、本発明のもう一つの態様において、光安定剤は、紫外線照射で紫外線吸収剤からラジカルが生成され、これらの酸化体が劣化のラジカル種を捕捉することにより、ポリマー層の耐紫外線機能が向上させる目的なものである。ヒンダードアミン系（ＨＡＬＳ）光安定剤が特に好ましく、好適に用いられるヒンダードアミン系光安定剤の具体例は、本発明にいて既に挙げられたものと同様である。もちろんそれらに限定されるものではない。

　本発明においては、前記具体例のうち、少なくともヒンダードアミン系酸化防止剤、ラジカル捕捉剤のいずれかを用いることが好ましく、更には、これらを併用して用いることがより好ましい。

　本発明のもう一つの態様における紫外線吸収剤および光安定剤を含有するポリマー層または粘着層の厚みは、前記同様であり、特に限定しないが、０．５～２０μｍが好ましく、より好ましくは１～１０μｍ、更には２～７μｍであることが最も好ましい。厚みがこの範囲内であれば、塗布層の耐久性が十分得られ、優れた特性が発揮される。

　〈熱線遮断層〉
　本発明のもう一つの態様における熱線遮断層についても、本発明に既に記載した熱線遮断層と同様である。金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる０．１ｎｍ以上、３０ｎｍ未満の金属層を少なくとも１層以上含む熱線遮断層である。金属層の厚みは、本発明の遮熱性物品の第１の基体において、積層の波長４００～７５０ｎｍにおける積分可視光透過率（この波長領域での可視光線透過率の平均値）が５５％以上、及び波長５～３０μｍの積分赤外線反射率（この波長領域での赤外線反射率の平均値）が７５％以上を満足するように定めるのが好ましい。

　また、熱線遮断層の構成としても、本発明において既に記載したものと同様である。少なくとも１層以上の金属層及び少なくとも１層以上の高屈折率セラミック層からなる構成層であってよい。

　〈水蒸気バリア層〉
　本発明のもう一つの態様の遮熱性物品は、上記熱線遮断層の熱線入射側に水蒸気バリア層が設置されたことを特徴とし、かかる構成により本発明の効果を奏するものである。

　水蒸気バリア層は、少なくとも珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とし、屈折率が１．４以上１．８未満であるセラミック構成層であり、特に酸化珪素から構成されることが好ましく、本発明において既に記載したものと同様の構成であり、形成方法、形成原料等についても同様である。

　〈紫外線反射層〉
　本発明のもう一つの態様においても、遮熱性物品は紫外線反射層を有することが好ましい。紫外線反射層は、基材の熱線入射側に複数の異なる屈折率を有する材料から構成される。該紫外線反射層は屈折率の異なる材料から成る層を交互に積層して、紫外線を反射できるように光学設計された積層体が代表的な構成であるが、積層体に限られるものではない。屈折率の異なる材料が均一又は主成分の割合を膜厚方向に傾斜させた場合でも、紫外線反射効果が発揮できる。屈折率の異なる複数の材料の混合割合を膜厚方向で傾斜させて紫外線を反射できるようにしてもよい。また、紫外線反射層は、前記水蒸気バリア層と別に設けてもよいが、両者を兼ねることも可能である。

　紫外線反射層は、透明な誘電体材料（屈折率：ｎ）を、地球上に到達する紫外線の波長：２９０ｎｍ～４００ｎｍ範囲内の特定の波長λに対して、例えばλ／２ｎ（ｎｍ）の厚さでコーティングすることにより、波長λの近傍の紫外光に対して、コーティング層の上下の界面からの反射光の位相を揃えることで、反射率を高めたものなどをいう。例えば、高屈折率膜と低屈折率膜の屈折率の異なる誘電体材料の膜を交互に多層コーティングすることで、反射率を上げたり、反射波長域を広げたりすることができる。例えば、一例として、透明フィルム上に高屈折率膜（酸化チタン（ＴｉＯ_２）：ｎ＝２．１０、厚み３５ｎｍ）、低屈折率膜（酸化珪素（ＳｉＯ_２）、ｎ＝１．４６、厚み５５ｎｍ）を順次設けた１５層（合計膜厚：６８５ｎｍ）の紫外線反射膜は、特に樹脂基材に悪影響を及ぼす３００～３６０ｎｍの紫外線の９５％程度を反射する。そのような紫外線反射層を設けることで、基材を透過する紫外線をカットすることができる。

　紫外線反射層の誘電体材料としては、金属酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とする材料を好適に使用できる。屈折率１．８～２．４の高屈折率膜としては、少なくとも亜鉛、チタン、錫、インジウム、ニオブ、珪素、タンタルまたはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とする少なくとも１層以上からなることが好ましい。また、屈折率１．４～１．８の低屈折率膜は、少なくともＳｉまたはＡｌを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とし、特に、酸化珪素から構成されることが好ましい。その誘電体材料の形成方法としては気相成長法が好ましく、さらに真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、触媒化学気相成長（Ｃａｔ－ＣＶＤ）法、またはプラズマＣＶＤ法が好ましい。特に、大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガス及び放電ガスを含有するガスを供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該ガスを励起し、樹脂基材を励起したガスに晒すことにより、該樹脂基材上に薄膜を形成する薄膜形成方法により形成される、所謂大気圧プラズマＣＶＤ法により形成される膜が低残留応力であり好ましい。低屈折率膜には、カルシウム、バリウム、リチウム、マグネシウムのフッ化物を主成分とする材料も用いる事ができる。また、本発明において、屈折率の異なる層のうち、少なくとも１層は主成分の割合を膜厚方向に傾斜させた構成とすることができる。

　紫外線反射層は、基材の十分な紫外線遮蔽性を得るために、屈折率１．４～１．８の厚み５～１０００ｎｍの低屈折率層、及び屈折率１．８～２．４の厚み５～４００ｎｍの高屈折率膜層を交互に、少なくとも３層以上積層されていることが好ましく、更に好ましくは、５層以上、特に好ましくは７層以上である。

　〈大気圧プラズマＣＶＤ法〉
　本発明のもう一つの態様における水蒸気バリア層、例えば酸化珪素膜、またこれらの積層体の形成には、物理、あるいは化学気相成長法が用いられる。中でも、これらのうち最も好ましい方法であり、大気圧プラズマＣＶＤ法については、本発明において既に説明した。

　〈ポリマー層〉
　本発明のもう一つの態様において、ポリマー層は光硬化性樹脂組成物を用いることが好ましく、その構成、また材料（光硬化性樹脂、反応性希釈剤、光重合開始剤）等、形成方法、活性光線の照射方法、照射量等に付いても、本発明において既に説明したものと同様である。

　本発明のもう一つの態様の基材（例えばポリエステルフィルム）の片面又は両面に、ポリマー層として紫外線吸収剤及び／またはヒンダードアミン系光安定剤を含有した水酸基導入アクリル樹脂の塗膜を設けてもよい。特に屋外環境（外貼り用建材）で使用する場合、耐候性を高めるため、光安定剤を含有したポリマー層を用いる事が好ましい。更に水酸基を有する紫外線吸収剤を使用し、イソシアネート化合物を添加すると、イソシアネート化合物がポリエステルフィルムとの密着性を向上させると共に、紫外線吸収剤が水酸基導入アクリル樹脂とウレタン結合で結ばれ、紫外線吸収剤がブリードアウトしにくくなるため、更なる耐候性向上を図ることができる。

　〈基材〉
　本発明のもう一つの態様の遮熱性物品に用いられる基材についても、上述した各種の層を保持することができるガラス、樹脂板、樹脂フィルムなどが挙げられる。特に限定されるものではない。

　基材として利用する樹脂としては、具体的には、本発明において既に挙げられた樹脂が同様に挙げられる。製造方法、添加剤、表面処理等についても同様である。

　〈接着層及び接着剤層〉
　本発明（別の態様、またもう一つの態様含む）の遮熱性物品については、熱線入射面側に、基材の両面にポリマー層や紫外線反射層、水蒸気バリア層等を設置した物品を、接着層を介して積層することが好ましい。

　本発明の遮熱性物品を建物の窓ガラス、自動車、電車などの窓ガラス、冷蔵庫の扉ガラスなどに貼り合わせるため接着剤層を塗設することが好ましい。接着剤層は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、熱線遮断層が窓ガラスと基材との間にあるように設置する。熱線遮断層を窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の遮熱性物品を屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。

　本発明に係る接着層及び接着剤層に用いることの出来る粘着剤又は接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする粘着剤又は接着剤を用いることができる。

　本発明に用いることの出来る粘着剤又は接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系及びエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。

　例えば、骨格としての主モノマーとしては、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、オクリルアクリレート等のアクリル酸エステルを好ましく例示できる。凝集力を向上させるためのコモノマーとしては、酢酸ビニル、アクリルニトリル、スチレン、メチルメタクリレート等を好ましく例示できる。更に架橋を促進して安定した粘着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持するための官能基含有モノマーとしては、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等を好ましく例示できる。

　粘着剤又は接着剤の製造は、公知の方法で行うことができる。例えば、酢酸エチルやトルエン等の有機溶剤の存在下で、反応釜内に所定の出発物質を投入し、ベンゾイルパーオキサイド等のパーオキサイド系やアゾビスイソブチロニトリル等のアゾビス系を触媒として、加熱下で重合させることで製造できる。分子量を上げるためには、例えば反応初期にモノマーを一括投入する方法や、また使用する有機溶剤種では、連鎖移動係数が大きくポリマー成長を抑制するトルエンより酢酸エチルを使用すると良い。ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は４０万以上が好ましく、５０万以上が更に好ましい。分子量が４０万未満では、イソシアネート硬化剤で架橋されても、凝集力が十分なものが得られず、荷重をかけての保持力評価でもすぐに落下し、またはガラス板に貼り合せた後経時後に剥がしたとき、粘着剤又は接着剤がガラス板に残ることがある。

　粘着剤及び接着剤の硬化剤としては、特にアクリル溶剤系では一般的なイソシアネート系硬化剤やエポキシ系硬化剤が使用できるが、均一な塗布膜を得るためには経時による粘着剤及び接着剤の流動性と架橋が必要なため、イソシアネート系硬化剤が好ましい。

　接着層及び接着剤層には、添加剤として、例えば、安定剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤等を含有させることもできる。接着層及び接着剤層の厚みは５～５０μｍが好ましい。

　接着層及び接着剤層の塗布形成方法としては、任意の公知の方法が使用でき、例えば、ダイコーター法、グラビアコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法などが挙げられる。更に接着層及び接着剤層の積層前に、必要に応じて密着性、塗工性向上の目的で、フィルム表面に火炎処理、コロナ放電処理、プラズマ放電処理などの物理的表面処理、易接着性の有機または無機樹脂塗布などの化学的表面処理を行うことが好ましい。

　〈遮熱性物品の応用〉
　本発明（別の態様、またもう一つの態様含む）により作製される遮熱性物品は、幅広い分野に応用することができる。例えば、鉄道車両、自動車、自動販売機等の表面に貼付して用いられるマーキング用フィルムの表面保護、光沢向上、変退色・劣化防止等を目的としたオーバーレイフィルムや、外装看板の表面保護用フィルム、液晶ディスプレイ反射防止用シート、太陽電池用バックシート、電子ペーパー用フィルム、プラズマディスプレイの電磁波遮蔽性フィルム、有機エレクトロルミネッセンス用フィルム、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルムの基材、反射板の基材、集光板の基材、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。特に、紫外線に晒される環境下で使用され、紫外線に晒されることにより、基材の光学性能、例えば、透過率、反射率、ヘイズ、色味等や、機械強度が変化することにより、その機能が大きく損なわれる光学部材に好適である。具体的には液晶ディスプレイ反射防止用シート、太陽電池用バックシート、電子ペーパー用フィルム、プラズマディスプレイの電磁波遮蔽性フィルム、有機エレクトロルミネッセンス用フィルム、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルムの基材、反射板の基材、ビニールハウス用フィルム等の光学部材が挙げられる。特に、本発明に係る遮熱性物品が接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂基材に貼合されている建築部材には好適である。

　以下、先ず、実施例１～８により本発明を説明するが本発明はこれにより限定されるものではない。

　実施例１～８
　〈基材〉
　紫外線吸収剤含有ポリエステルフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製　ＨＢ３、厚み５０μｍ）を基材として、図５に準じた構成で積層体の作成を以下のように行った。

　〈ポリマー層の作製〉
　本発明に用いるポリマー層の組成は下記のようにポリマー層１－Ａ～Ｆを調製して、固形分３５％になるようにＭＥＫで希釈し、実施例１～８塗布液としてポリマー層１及びポリマー層２、ポリマー層３に使用した。

　これらの塗布液を該当する層の上に、硬化後の膜厚が５μｍとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布した。溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて０．２Ｊ／ｃｍ^２の紫外線照射により硬化させポリマー層１、また、ポリマー層２，３それぞれを形成した。

　実施例１～８塗布液に紫外線吸収剤、光安定剤を表３に記載のように添加した。

　紫外線吸収剤として、
　ＵＶ吸収剤１：　ＴＩＮＵＶＩＮ４７９；チバ・ジャパン（株）製
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量％
　ＵＶ吸収剤２：　ＸＬ－５２４；一方社油脂工業（株）製　　１０質量％
　光安定剤として、
　光安定剤１：　ＴＩＮＵＶＩＮ１２３；チバ・ジャパン（株）製
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量％
　光安定剤２：　ＴＩＮＵＶＩＮ１５２；チバ・ジャパン（株）製
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量％

　〈水蒸気バリア層の作製〉
　ポリマー層を有する樹脂基材上に、大気圧プラズマ放電処理装置を用いて、以下の作製条件で水蒸気バリア層１（５０ｎｍ）、水蒸気バリア層２（５０ｎｍ）、水蒸気バリア層３（５００ｎｍ）と以下に記載した条件で順次水蒸気バリア層（低屈折率セラミック層）の形成を行った。屈折率は１．４６であった。

　（水蒸気バリア層１の作製）
　〈水蒸気バリア層１混合ガス組成物〉
　放電ガス：窒素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　９４．８５体積％
　薄膜形成ガス：ヘキサメチルジシロキサン　　　　　　　０．１５体積％
　添加ガス：酸素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０体積％
　（水蒸気バリア層１成膜条件）
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　５Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは１ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　〈水蒸気バリア層２の作製〉
　（水蒸気バリア層２混合ガス組成物）
　放電ガス：窒素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　９４．９９体積％
　薄膜形成ガス：テトラエトキシシラン　　　　　　　　　０．０１体積％
　添加ガス：酸素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０体積％
　（水蒸気バリア層２成膜条件）
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは２ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　〈水蒸気バリア層３の作製〉
　（水蒸気バリア層３混合ガス組成物）
　放電ガス：窒素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　　９４．５体積％
　薄膜形成ガス：ヘキサメチルジシロキサン　　　　　　　　０．５体積％
　添加ガス：酸素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０体積％
　（水蒸気バリア層３成膜条件）
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　５Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは１ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　〈熱線遮断層の作製〉
　本発明の金属の熱線遮断層と高屈折率セラミック構成層がサンドイッチ状態で構成される。

　〈第１高屈折率セラミック構成層の形成〉
　次に、樹脂基材を、水蒸気バリア層の裏面側を形成面として、マグネトロンスパッタ装置にセットし、真空引きをした。そしてチャンバー中にＡｒガスに酸素ガスを２％添加した混合ガスを圧力０．４０Ｐａとなるように導入し、酸化亜鉛ターゲットをセットしたカソードに直流を印加してスパッタリングを引き起こし、酸化亜鉛膜を２５ｎｍ形成した。屈折率は２．１であった。

　〈第１熱線遮断構成層の形成〉
　形成した高屈折率セラミック構成層の上に、真空チャンバー中のガスをＡｒガスに切り替え圧力を０．４５Ｐａとなるようにし、銅を４質量％添加した銀ターゲットをセットしたカソードに直流を印加してスパッタリングを引き起こし、銀膜を１０ｎｍ形成した。

　〈第２高屈折率セラミック構成層の形成〉
　形成した熱線遮断層上に、先に形成した第１高屈折率セラミック構成層と同様な条件で酸化亜鉛を２６ｎｍ形成した。次に、チャンバー中の圧力を０．２５ＰａとなるようにＡｒガスを流し、アルミニウムを１０質量％添加した窒化珪素ターゲットをセットしたカソードに直流を印加して反応性スパッタリングを引き起こし、窒化珪素膜を３４ｎｍ形成した。屈折率は２．０であった。

　〈第２熱線遮断層、第３高屈折率セラミック構成層の形成〉
　更にその上に、同様な条件で銀膜を９ｎｍ形成し、最後に、同様の方法で窒化珪素膜を３０ｎｍ形成した。

　〈比較例１〉
　本発明のポリマー層の代わりに、熱硬化樹脂を使用した。ＭＥＫを８６５ｇ攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製、ＣＡＢ１７１－１５）を９６ｇ、ポリメチルメタクリル酸（ローム＆ハース社製、パラロイドＡ－２１）を４．５ｇ、ベンゾトリアゾールを１．５ｇ、Ｆ系活性剤（旭硝子社製、サーフロンＫＨ４０）を１．０ｇ添加し溶解した。次に、該当する層の上に塗布して、７５℃で加熱乾燥後、厚さ５μｍの比較例１のポリマー層を得た。それ以外は実施例１と同様の構成で、遮熱樹脂基材を作製した。

　〈比較例２〉
　水蒸気バリア層を用いない以外は実施例１と同様の構成で、遮熱樹脂基材を作製した。

　作製した試料を３ｍｍ厚の窓ガラスにシリコーン系接着剤を介して貼り合わせ、更に貼り合わせ端部からの劣化を防止するため、市販コーキング剤を用いて端部接合部を隙間なく封止して遮熱耐久評価用試料とした。

　〔試料の評価〕
　作製した試料について、下記評価を行った。

　（水蒸気透過率）
　水蒸気透過率は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２９Ｂで規定の方法（４０℃、９０％ＲＨ）に準拠して、ＭＯＣＯＮ社製水蒸気透過率測定装置　ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ３／３３ＭＧモジュールにより測定した。

　（耐久性評価１：耐候性）
　紫外線劣化促進試験機アイスーパーＵＶテスターＳＵＶ－Ｗ１３１（岩崎電気（株）製）を用い、下記の条件で強制紫外線照射試験を行い、照射後のサンプルについて各測定を実施した。

　「紫外線照射条件」
　照度：１００ｍＷ／ｃｍ^２
　温度：６０℃
　相対湿度：５０％ＲＨ
　照射時間：１００時間（日射時間１０年相当）
　なお、結果は比較例１を基準１００として、相対値を表す。

　（耐久性評価２：耐湿性）
　高加速寿命試験装置ＨＡＳＴ　ＣＨＡＭＢＥＲ　ＥＨＳ－２１１Ｍ（エスペック（株）製）を用い、下記の条件で強制高湿試験を行い、試験後のサンプルについて各測定を実施した。

　「高湿暴露条件」
　温度：１２０℃
　相対湿度：１００％ＲＨ、（２ａｔｍ）
　暴露時間：４８時間
　なお、結果は比較例１を基準１００として、相対値を表す。

　（ヘイズ）
　ヘイズメーターＴ－２６００ＤＡ（東京電色（株）製）を用いて、試験後のフィルム厚み方向のヘイズ（％）を測定した。

　（光学性能１：紫外線透過率）
　日立製作所製Ｕ－４０００型分光光度計を使用して、ＪＩＳ　Ｒ５７５９に基づいて透過スペクトルを測定して紫外線透過率（％）を算出した。

　（光学性能２：可視光透過率）
　日立製作所製Ｕ－４０００型分光光度計を使用して、ＪＩＳ　Ｒ５７５９に基づいて透過スペクトルを測定して可視光透過率（％）を算出した。

　（光学特性３：遮蔽係数）
　日立製作所製Ｕ－４０００型分光光度計を使用して、ＪＩＳ　Ｒ５７５９に基づいてスペクトルを測定して、日光（熱線）遮蔽係数を算出した。遮蔽係数は日差しを遮る効果を見る指標である。値が低いほど遮蔽効果が高く、冷房負荷の低減に効果がある。

　（黄変度）
　分光式色差計ＳＥ－２０００型（日本電色工業（株）製）を用い、ＪＩＳ－Ｋ－７１０５に従って透過法で上記耐候試験前後の試料のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊を測定し、黄変度としてｂ^＊値の変動を評価した。ｂ^＊値の増加量が小さい程優れている。

　（鉛筆硬度）
　丸菱化学機械製作所製の鉛筆硬度試験機（ＰＳ－３１０）を用い、ＪＩＳ　Ｋ５４００に基づき、塗膜面の鉛筆硬度を評価した。

　得られた結果を表４～６に示す。

　上表から、本発明に係る実施例１～８の試料は、初期性能が高く、耐久性評価１、耐候性評価２においても、ヘイズ、紫外線透過率、可視光透過率、遮蔽係数、黄変度ｂ^＊の変動幅が小さく、熱線反射フィルムとして総合的に優れていることが分かる。

　実施例９
　〈基材〉
　紫外線吸収剤含有ポリエステルフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製　ＨＢ３、厚み５０μｍ）を基材として、以下のように積層体の作製を行った。

　〈ポリマー層の形成〉
　本発明のポリマー層は、下記表７の組成の塗布液（以後塗布液１とする）又は、ＪＳＲ　Ｚ７５３５（ＪＳＲ株式会社製）の光硬化樹脂（以後塗布液２とする）を塗布し、以下の方法でポリマー層を形成した。

　これらの塗布液を該当する位置に、硬化後の膜厚が５μｍとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布した。溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて０．４Ｊ／ｃｍ^２の紫外線照射により硬化させポリマー層１～３を形成した。

　〈遮熱性物品の作製〉
　（遮熱性物品１の作製）
　上述した基材の両面に塗布液１を塗布し上記条件で硬化してポリマー層を形成し、それぞれ、ポリマー層１及びポリマー層２とした。ポリマー層１の上に後述する、熱線遮断層の作製方法により、熱線遮断層を形成し、図６（ａ）の構成の遮熱性物品１を作製した。

　（遮熱性物品２の作製）
　遮熱性物品１の作製において、ポリマー層２の塗布液を塗布液２に変え、該塗布液２にシランカップリング剤１を０．５質量％添加してポリマー層３を形成した以外は遮熱性物品１と同様にして図６（ｂ）の構成の遮熱性物品２を作製した。

　（遮熱性物品３の作製）
　遮熱性物品２の作製において、塗布液２に、シランカップリング剤１の代わりに紫外線吸収剤１（チバ・ジャパン株式会社製）を１質量％添加してポリマー層３を形成した以外は遮熱性物品２と同様にして図６（ｂ）の構成の遮熱性物品３を作製した。

　（遮熱性物品４～９の作製）
　遮熱性物品２の作製において、ポリマー層３を作製し、更に該ポリマー層３の上に、後述する紫外線反射層を形成し、該紫外線反射層の上に表８に記載の組成物が添加された塗布液１によりポリマー層２を形成し、図６（ｃ）の構成の遮熱性物品４～９を得た。

　（遮熱性物品１０及び１１の作製）
　遮熱性物品４～９と同様に、ポリマー層３まで形成し、該ポリマー層３の上に、後述する水蒸気バリア層を形成し、該水蒸気バリア層の上に、後述する紫外線反射層を形成して、その上に、表８に記載の組成物が添加された塗布液１を塗布してポリマー層２を形成し、図６（ｄ）の構成の遮熱性物品１０及び１１を得た。

　用いた化合物は以下の通り、
　シランカップリング剤１：　ＫＢＥ－９０３；信越シリコーン製
　シランカップリング剤２：　ＫＢＥ－６０３；信越シリコーン製
　シランカップリング剤３：　ＫＭＢ－９０３；信越シリコーン製
　高分子紫外線吸収剤２：　ＸＬ－５２４；一方社油脂工業（株）製
　〔遮熱性物品の評価〕
　（水蒸気透過率）
　水蒸気透過率は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２９Ｂで規定の方法（４０℃、９０％ＲＨ）に準拠して、ＭＯＣＯＮ社製水蒸気透過率測定装置　ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ３／３３ＭＧモジュールにより測定した。得られた結果は表８に示す。

　表８から、本発明の遮熱性物品は水蒸気透過率が低いことが判る。

　〈紫外線反射層の作製〉
　水蒸気バリア層の上に、下記条件で高屈折率層（厚み：３５ｎｍ、屈折率：２．１）、低屈折率層（厚み：５２ｎｍ、屈折率１．４６）、を交互に５層設け、５層からなる紫外線反射層を含有する試料を作製した。この試料の紫外線反射層から光を入射して測定したスペクトルの紫外線反射率は７２％であった。

　（高屈折率層の作製）
　〈高屈折率層形成混合ガス組成物〉
　放電ガス：窒素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９７．９体積％
　薄膜形成ガス：テトライソプロポキシチタン　　　　　　　０．１体積％
　添加ガス：水素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０体積％
　〈高屈折率層成膜条件〉
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　５Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは１ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　（低屈折率層の作製）
　〈低屈折率層混合ガス組成物〉
　放電ガス：窒素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９８．９体積％
　薄膜形成ガス：テトラエトキシシラン　　　　　　　　　　０．１体積％
　添加ガス：酸素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０体積％
　〈低屈折率層成膜条件〉
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは２ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　〈熱線遮断層の作製〉
　本発明の金属の熱線遮断層と高屈折率セラミック構成層がサンドイッチ状態で構成される。

　〈第１高屈折率セラミック構成層の形成〉
　次に、樹脂基材を屈折率セラミック構成層の裏面側を形成面として、マグネトロンスパッタ装置にセットし、真空引きをした。そしてチャンバー中にＡｒガスに酸素ガスを２％添加した混合ガスを圧力０．４０Ｐａとなるように導入し、酸化亜鉛ターゲットをセットしたカソードに直流を印加してスパッタリングを引き起こし、酸化亜鉛膜を２５ｎｍ形成した。屈折率は２．１であった。

　〈水蒸気バリア層の作製〉
　ポリマー層を有する樹脂基材上に、大気圧プラズマ放電処理装置を用いて、以下の作製条件で水蒸気バリア層１（５０ｎｍ）、水蒸気バリア層２（５０ｎｍ）、第１水蒸気バリア層３（５００ｎｍ）と以下に記載した条件で順次水蒸気バリア層（低屈折率セラミック層）の形成を行った。屈折率は１．４６であった。

　（水蒸気バリア層１の作製）
　〈水蒸気バリア層１混合ガス組成物〉
　放電ガス：窒素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　９４．８５体積％
　薄膜形成ガス：ヘキサメチルジシロキサン　　　　　　　０．１５体積％
　添加ガス：酸素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０体積％
　（水蒸気バリア層１成膜条件）
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　５Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは１ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　〈水蒸気バリア層２の作製〉
　（水蒸気バリア層２混合ガス組成物）
　放電ガス：窒素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　９４．９９体積％
　薄膜形成ガス：テトラエトキシシラン　　　　　　　　　０．０１体積％
　添加ガス：酸素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０体積％
　（水蒸気バリア層２成膜条件）
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは２ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　〈水蒸気バリア層３の作製〉
　（水蒸気バリア層３混合ガス組成物）
　放電ガス：窒素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　　９４．５体積％
　薄膜形成ガス：ヘキサメチルジシロキサン　　　　　　　　０．５体積％
　添加ガス：酸素ガス　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０体積％
　（水蒸気バリア層３成膜条件）
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　５Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは１ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　作製した遮熱性物品１～１１を３ｍｍ厚の窓ガラスにシリコーン系接着剤を介して貼り合わせ、端部からの劣化を防止するため、市販コーキング剤を用いて端部接合部を隙間なく封止して試料１～１１とした。

　「紫外線照射条件」
　照度：１００ｍＷ／ｃｍ^２
　温度：６０℃
　相対湿度：５０％ＲＨ
　照射時間：１００時間（日射時間１０年相当）
　なお、結果は遮熱性物品１を基準１００として、相対値を表す。

　「高湿暴露条件」
　温度：１２０℃
　相対湿度：１００％ＲＨ、（２ａｔｍ）
　暴露時間：４８時間
　なお、結果は遮熱性物品１を基準１００として、相対値を表す。

　得られた結果を表９～１１に示す。

　（密着性）（クロスカットテープ試験）
　サンプルをＪＩＳ　Ｄ０２０２－１９８８に準拠して碁盤目テープ剥離試験を行った。セロハンテープ（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を用い、指の腹でフィルムに密着させた後剥離する。

　判定は１００マスの内、剥離しないマス目の数で表し、以下の基準で評価し結果を表９～１１に示す。

　◎：１００％剥離しない場合
　○：８０％以上１００％未満剥離しない場合
　△：５０％以上８０％未満剥離しない場合
　×：５０％未満剥離する場合。

　上表から、本発明の試料は、初期性能が高く、耐久性評価１、耐候性評価２においても、ヘイズ、紫外線透過率、可視光透過率、遮蔽係数、黄変度ｂ^＊の変動幅が小さく、熱線反射フィルムとして総合的に優れていることが分かる。

　なお、本発明の熱線遮断層、水蒸気バリア層、紫外線反射層をそれぞれ別々の基材上に形成し、得られたそれぞれ３つの基材に粘着剤層を形成し、積層し、ラミネートして遮熱性物品とすることもできる。また、該粘着剤層に紫外線吸収剤および光安定剤を添加することでさらに高性能な遮熱性物品を得ることができる。

　実施例１０
　〈基材〉
　紫外線吸収剤含有ポリエステルフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製　ＨＢ３、厚み５０μｍ）を基材として、以下のように積層体の作製を行った。

　〈ポリマー層の形成〉
　本発明のポリマー層は、下記表１２の組成の塗布液（以後塗布液１とする）又は、ＪＳＲ　Ｚ７５３５（ＪＳＲ株式会社製）の光硬化樹脂（以後塗布液２とする）を塗布し、以下の方法でポリマー層を形成した。

　〈遮熱性物品の作製〉
　（遮熱性物品１０１の作製）
　上述した基材の両面に塗布液１を塗布し上記条件で硬化してポリマー層１及びポリマー層２を形成した。ポリマー層１の上に後述する、熱線遮断層の作製方法により、熱線遮断層を形成し、図７（ａ）の構成の遮熱性物品１０１を作製した。

　（遮熱性物品１０２の作製）
　遮熱性物品１０１の作製において、ポリマー層２の塗布液を塗布液２に代え、該塗布液２にシランカップリング剤１を０．５質量％添加してポリマー層３を形成した以外は遮熱性物品１０１と同様にして図７（ｂ）の構成の遮熱性物品１０２を作製した。

　（遮熱性物品１０３の作製）
　遮熱性物品１０２の作製において、塗布液２に、シランカップリング剤１の代わりに紫外線吸収剤１（チバ・ジャパン株式会社製）を１質量％添加してポリマー層３を形成した以外は遮熱性物品１０２と同様にして図７（ｂ）の構成の遮熱性物品１０３を作製した。

　（遮熱性物品１０４～１０９の作製）
　遮熱性物品１０２の作製において、それぞれ、ポリマー層３作製の際、表１３に記載の組成物が添加された塗布液２によりポリマー層３を作製し、更に該ポリマー層３の上に、後述する水蒸気バリア層を形成し、該水蒸気バリア層の上に表１３に記載の組成物が添加された塗布液１によりポリマー層２を形成し、図７（ｃ）の構成の遮熱性物品１０４～１０９を得た。

　（遮熱性物品１１０及び１１１の作製）
　遮熱性物品１０４～１０９と同様に、水蒸気バリア層まで形成した。但しポリマー層３はそれぞれ表１３に記載の組成物が添加された塗布液２を用い、ポリマー層３とした。該水蒸気バリア層の上に、後述する紫外線反射層を形成して、その上に、表１３に記載の組成物が添加された塗布液１を塗布してポリマー層２を形成し、図７（ｄ）の構成の遮熱性物品１１０及び１１１を得た。

　用いた化合物は以下の通り、
　シランカップリング剤１：　ＫＢＥ－９０３；信越シリコーン製
　シランカップリング剤２：　ＫＢＥ－６０３；信越シリコーン製
　シランカップリング剤３：　ＫＭＢ－９０３；信越シリコーン製
　高分子紫外線吸収剤２：　ＸＬ－５２４；一方社油脂工業（株）製
　〔遮熱性物品の評価〕
　（水蒸気透過率）
　水蒸気透過率は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２９Ｂで規定の方法（４０℃、９０％ＲＨ）に準拠して、ＭＯＣＯＮ社製水蒸気透過率測定装置　ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ３／３３ＭＧモジュールにより測定した。得られた結果は表１３に示す。

　〈水蒸気バリア層の形成〉
　ポリマー層を有する樹脂基材上に、大気圧プラズマ放電処理装置を用いて、以下の作製条件で水蒸気バリア層１（５０ｎｍ）、水蒸気バリア層２（５０ｎｍ）、第１水蒸気バリア層３（５００ｎｍ）と以下に記載した条件で順次水蒸気バリア層（低屈折率セラミック層）の形成を行った。屈折率は１．４６であった。

　〈紫外線反射層の作製〉
　上記水蒸気バリア層上に、下記条件で高屈折率層（厚み：３５ｎｍ、屈折率：２．１）、低屈折率層（厚み：５２ｎｍ、屈折率１．４６）、を交互に５層設け、５層からなる紫外線反射層を含有する試料を作製した。この試料の紫外線反射層から光を入射して測定したスペクトルの紫外線反射率は７２％であった。

　（高屈折率層の作製）
　〈高屈折率層形成混合ガス組成物〉
　放電ガス：窒素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９７．９体積％
　薄膜形成ガス：テトライソプロポキシチタン　　　　　　　０．１体積％
　添加ガス：水素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０体積％
　〈高屈折率層成膜条件〉
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　５Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは１ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　（低屈折率層の作製）
　〈低屈折率層混合ガス組成物〉
　放電ガス：窒素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９８．９体積％
　薄膜形成ガス：テトラエトキシシラン　　　　　　　　　　０．１体積％
　添加ガス：酸素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０体積％
　〈低屈折率層成膜条件〉
　第１電極側
　電源種類　ハイデン研究所　１００ｋＨｚ（連続モード）　ＰＨＦ－６ｋ
　周波数　１００ｋＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは７ｋＶであった）
　電極温度　１２０℃
　第２電極側
　電源種類　パール工業　１３．５６ＭＨｚ　ＣＦ－５０００－１３Ｍ
　周波数　１３．５６ＭＨｚ
　出力密度　１０Ｗ／ｃｍ^２（この時の電圧Ｖｐは２ｋＶであった）
　電極温度　９０℃
　作製した遮熱性物品１０１～１１１を３ｍｍ厚の窓ガラスにシリコーン系接着剤を介して貼り合わせ、端部からの劣化を防止するため、市販コーキング剤を用いて端部接合部を隙間なく封止して試料１０１～１１１とした。

　「紫外線照射条件」
　照度：１００ｍＷ／ｃｍ^２
　温度：６０℃
　相対湿度：５０％ＲＨ
　照射時間：１００時間（日射時間１０年相当）
　なお、結果は遮熱性物品１０１を基準１００として、相対値を表す。

　「高湿暴露条件」
　温度：１２０℃
　相対湿度：１００％ＲＨ、（２ａｔｍ）
　暴露時間：４８時間
　なお、結果は遮熱性物品１０１を基準１００として、相対値を表す。

　得られた結果を表１４～１６に示す。

　判定は１００マスの内、剥離しないマス目の数で表し、以下の基準で評価し結果を表１４～１６に示す。

　１０　プラズマ放電処理装置
　１１　第１電極
　１２　第２電極
　２１　第１電源
　２２　第２電源
　２４　第２フィルター
　３０　プラズマ放電処理装置
　３２　放電空間
　３５　ロール回転電極
　３５ａ　ロール電極
　３５Ａ　金属質母材
　３５Ｂ　誘電体
　３６　角筒型固定電極群
　４０　電界印加手段
　４１　第１電源
　４２　第２電源
　４３　第１フィルター
　４４　第２フィルター
　５０　ガス供給手段
　５１　ガス発生装置
　５２　給気口
　５３　排気口
　６０　電極温度調節手段
　Ｇ　薄膜形成ガス
　Ｇ°　プラズマ状態のガス
　Ｇ’　処理排ガス
　Ｆ　基材

Claims

　基材上に少なくとも一層の光硬化性樹脂を主成分とするポリマー層が設けられ、かつ、金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる金属層を有する熱線遮断層があり、かつ水蒸気バリア層または紫外線反射層が設置されていることを特徴とする遮熱性物品。
　前記光硬化性樹脂が、光硬化性樹脂組成物から得られる、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂およびポリエステルアクリレート樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の光硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の遮熱性物品。
　前記光硬化性樹脂組成物が、反応性希釈剤と混合して使用され、該反応性希釈剤が単官能モノマーと２官能モノマーと３官能性以上の多官能モノマーとの混合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の遮熱性物品。
　前記光硬化性樹脂組成物が、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、アセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類およびメチルフェニルグリオキシエステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種の光重合開始剤を含有することを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記光硬化性樹脂組成物の１００質量部が、前記光重合開始剤を１～２５質量部含有することを特徴とする請求項４に記載の遮熱性物品。
　前記ポリマー層が、少なくとも一層のシランカップリング剤を含有するポリマー層を含むことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記シランカップリング剤が、アミノ系から選ばれる少なくとも１種のシランカップリング剤であることを特徴とする請求項６に記載の遮熱性物品。
　前記水蒸気バリア層が、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒素酸化物、窒化物を主成分とすることを特徴とする請求項１～７のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記水蒸気バリア層が、炭素含有量０．１ａｔ％未満である酸化珪素膜と炭素含有量が１～４０ａｔ％である酸化珪素膜を少なくともそれぞれ１層以上ずつ含むことを特徴とする請求項１～８のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記紫外線反射層が、屈折率１．４～１．８の厚み５～１０００ｎｍの低屈折率層、及び屈折率１．８～２．４の厚み５～４００ｎｍの高屈折率膜層を交互に、少なくとも３層以上積層され形成されていることを特徴とする請求項１～９のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記紫外線反射層の低屈折率層は、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物を主成分とする層を少なくとも１層含有し、かつ高屈折率層は、亜鉛、チタン、錫、インジウム、ニオブ、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物、窒化物を主成分とする層を少なくとも１層含有することを特徴とする請求項１～１０のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記熱線遮断層が、金、銀、銅、アルミニウムの単体もしくはこれらの合金からなる厚さ０．１ｎｍ以上、３０ｎｍ未満の少なくとも１層以上の金属層及び、亜鉛、チタン、錫、インジウム、ニオブ、珪素またはアルミニウムを含む酸化物、窒酸化物または窒化物を主成分とする少なくとも１層の高屈折率セラミック層から構成された積層体であることを特徴とする請求項１～１１のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記ポリマー層が少なくとも２～６層設けられていることを特徴とする請求項１～１２のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記ポリマー層の少なくとも１層が紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１３に記載の遮熱性物品。
　前記ポリマー層の少なくとも１層に光安定剤を含有することを特徴とする請求項１２～１４のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記紫外線吸収剤を含有するポリマー層が、ヒンダードアミン系から選ばれる少なくとも１種の光安定剤を含有することを特徴とする請求項１４または１５に記載の遮熱性物品。
　前記紫外線吸収剤はヒドロキシフェニルトリアジン系から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項１４～１６のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記ポリマー層を最表面層に設けることを特徴とする請求項１～１７のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記基材が厚さ１０μｍ～２５０μｍのポリエチレンテレフタレート二軸延伸フィルムであることを特徴とする請求項１～１８のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　前記基材が、紫外線吸収剤又は光安定剤を含有することを特徴とする請求項１～１９のいずれか１項に記載の遮熱性物品。
　請求項１～２０のいずれか１項に記載の遮熱性物品の水蒸気バリア層または紫外線反射層が、大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガス及び放電ガスを含有するガスを供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該ガスを励起し、基材を励起したガスに晒すことにより、該基材上に薄膜として形成される工程により製造されることを特徴とする遮熱性物品の製造方法。
　前記放電ガスが窒素ガスであり、放電空間に印加される高周波電界は、第１の高周波電界及び第２の高周波電界を重畳したものであり、該第１の高周波電界の周波数ω１より該第２の高周波電界の周波数ω２が高く、該第１の高周波電界の強さ（Ｖ１）、該第２の高周波電界の強さ（Ｖ２）及び放電開始電界の強さ（ＩＶ）との関係が、Ｖ１≧ＩＶ＞Ｖ２またはＶ１＞ＩＶ≧Ｖ２の関係を満たし、かつ、該第２の高周波電界の出力密度が１Ｗ／ｃｍ^２以上であることを特徴とする請求項２１に記載の遮熱性物品の製造方法。
　請求項１～２０のいずれか１項に記載の遮熱性物品、又は、請求項２１又は２２に記載の遮熱性物品の製造方法により製造された遮熱性物品が接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂基材に貼合されていることを特徴とする建築部材。