JP2002255879A - ビスフェノールaの製造方法 - Google Patents

ビスフェノールaの製造方法

Info

Publication number
JP2002255879A
JP2002255879A JP2001054034A JP2001054034A JP2002255879A JP 2002255879 A JP2002255879 A JP 2002255879A JP 2001054034 A JP2001054034 A JP 2001054034A JP 2001054034 A JP2001054034 A JP 2001054034A JP 2002255879 A JP2002255879 A JP 2002255879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phenol
bisphenol
reaction
exchange resin
cation exchange
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001054034A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4689059B2 (ja
Inventor
Kazuyuki Hirano
和幸 平野
Takeshi Fujimoto
健 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority to JP2001054034A priority Critical patent/JP4689059B2/ja
Publication of JP2002255879A publication Critical patent/JP2002255879A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4689059B2 publication Critical patent/JP4689059B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 陽イオン交換樹脂触媒を用いたビスフェノー
ルAの製造において、反応停止中に使用途中の触媒を活
性低下させることなく長期間保存でき、かつ反応再開時
に製品ビスフェノールAの品質悪化をもたらすことがな
い方法を提供すること。 【解決手段】 反応を一旦停止し、3日間以上経過後再
開するに当たり、使用途中の陽イオン交換樹脂をフェノ
ールで洗浄したのち、フェノール液中で保存し、反応を
再開させる際に、上記フェノール液中で保存した陽イオ
ン交換樹脂をフェノールで洗浄後、触媒として使用す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、陽イオン交換樹脂
触媒を用いたビスフェノールA〔2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン〕の製造方法に関し、さら
に詳しくは、反応停止中に使用途中の触媒を活性低下さ
せることなく、長期間保存することができ、かつ反応再
開時にフェノール中へのスルホン酸の溶出が抑えられ、
製品ビスフェノールAの品質悪化をもたらすことがない
ビスフェノールAの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ビスフェノールAはポリカーボネート樹
脂やポリアリレート樹脂などのエンジニアリングプラス
チック、あるいはエポキシ樹脂などの原料として重要な
化合物であることが知られており、近年その需要はます
ます増大する傾向にある。このビスフェノールAは、上
記ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂などの原
料として用いる場合、着色のない高純度のビスフェノー
ルAが必要であるが、特に近年光学用途の需要が増大し
ているポリカーボネート樹脂の原料としては、従来以上
に無色で高純度のビスフェノールAが要求されている。
【0003】このビスフェノールAは、酸性触媒及び場
合により用いられる硫黄化合物などの助触媒の存在下
に、過剰のフェノールとアセトンとを縮合させることに
より製造される。この反応において用いられる酸触媒と
しては、従来、硫酸や塩化水素などの無機鉱酸が用いら
れていたが、近年、陽イオン交換樹脂が注目され(英国
特許第842209号明細書、同第849565号明細
書、同第883391号明細書)、工業的に用いられる
ようになった。一方、助触媒として用いられる硫黄化合
物としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタ
ン、チオグリコール酸などの置換基を有する若しくは有
しないアルキルメルカプタン類が有効であることが知ら
れている(米国特許第2359242号明細書、同第2
775620号明細書)。このメルカプタン類は、反応
速度を上げるとともに、選択率を向上させる作用を有し
ている。
【0004】ところで、従来のビスフェノールAの製造
方法においては、触媒として用いられる前記陽イオン交
換樹脂は、装置の定修毎に交換されており、長期間保存
する必要がなく、したがって、該陽イオン交換樹脂を使
用途中で長期間保存する方法は、これまで知られていな
いのが実状である。しかしながら、装置を不定期的に長
期間停止させる必要が生じた場合、使用中の触媒を一時
的に長期間にわたり、その触媒性能を保持したまま保管
しなければならず、反応器中の原料フェノールと共に、
そのまま保管することも考えられるが、この場合、陽イ
オン交換樹脂を長期間フェノール中に漬けておくと、該
陽イオン交換樹脂からスルホン酸が流出し、運転開始後
の製品ビスフェノールAの品質を悪化させるという問題
が生じる。
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、このよう
な状況下で、陽イオン交換樹脂触媒を用いたビスフェノ
ールAの製造において、反応停止中に使用途中の触媒を
活性低下させることなく、長期間保存することができ、
かつ反応再開時にフェノール中へのスルホン酸の溶出が
抑えられ、製品ビスフェノールAの品質悪化をもたらす
ことがないビスフェノールAの製造方法を提供すること
を目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために鋭意研究を重ねた結果、使用途中の陽イオ
ン交換樹脂をフェノールで洗浄したのち、フェノール液
中で長期間保存し、反応を再開させる際に、上記フェノ
ール液中で保存した陽イオン交換樹脂をフェノールで洗
浄後、触媒として使用することにより、その目的を達成
し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づい
て完成したものである。すなわち、本発明は、陽イオン
交換樹脂の存在下、フェノールとアセトンを縮合させて
ビスフェノールAを製造する方法において、反応を一旦
停止し、3日間以上経過後再開するに当たり、使用途中
の陽イオン交換樹脂をフェノールで洗浄したのち、フェ
ノール液中で保存し、反応を再開させる際に、上記フェ
ノール液中で保存した陽イオン交換樹脂をフェノールで
洗浄後、触媒として使用することを特徴とするビスフェ
ノールAの製造方法を提供するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明のビスフェノールAの製造
方法においては、陽イオン交換樹脂の存在下、フェノー
ルとアセトンを縮合させてビスフェノールAを製造する
方法であって、上記陽イオン交換樹脂としては、強酸性
のスルホン酸型陽イオン交換樹脂が好適である。該スル
ホン酸型陽イオン交換樹脂については、スルホン酸基を
有する強酸性陽イオン交換樹脂であればよく特に制限さ
れず、例えばスルホン化スチレン−ジビニルベンゼンコ
ポリマー、スルホン化架橋スチレンポリマー、フェノー
ルホルムアルデヒド−スルホン酸樹脂、ベンゼンホルム
アルデヒド−スルホン酸樹脂などが挙げられる。これら
はそれぞれ単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせ
て用いてもよい。本発明の方法においては、上記陽イオ
ン交換樹脂と共に、通常助触媒としてメルカプタン類が
併用される。
【0007】このメルカプタン類は、分子内にSH基を
遊離の形で有する化合物を指し、このようなものとして
は、アルキルメルカプタンや、カルボキシル基、アミノ
基、ヒドロキシル基などの置換基一種以上を有するアル
キルメルカプタン類、例えばメルカプトカルボン酸、ア
ミノアルカンチオール、メルカプトアルコールなどを用
いることができる。このようなメルカプタン類の例とし
ては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、n−
ブチルメルカプタン、n−オクチルメルカプタンなどの
アルキルメルカプタン,チオグリコール酸、β−メルカ
プトプロピオン酸などのチオカルボン酸、2−アミノエ
タンチオール、2,2−ジメチルチアゾリジンなどのア
ミノアルカンチオール、メルカプトエタノールなどのメ
ルカプトアルコールなどが挙げられるが、これらの中
で、アルキルメルカプタンが助触媒としての効果の点
で、特に好ましい。また、これらのメルカプタン類は、
単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いても
よい。これらのメルカプタン類は、前記陽イオン交換樹
脂上に固定化させ、助触媒として機能させることもでき
る。
【0008】前記メルカプタン類の使用量は、一般に原
料のアセトンに対して、0.1〜20モル%、好ましく
は、1〜10モル%の範囲で選定される。また、フェノ
ールとアセトンとの使用割合については特に制限はない
が、生成するビスフェノールAの精製の容易さや経済性
などの点から、未反応のアセトンの量はできるだけ少な
いことが望ましく、したがって、フェノールを化学量論
的量よりも過剰に用いるのが有利である。通常、アセト
ン1モル当たり、3〜30モル、好ましくは5〜15モ
ルのフェノールが用いられる。また、このビスフェノー
ルAの製造においては、反応溶媒は、反応液の粘度が高
すぎたり、凝固して運転が困難になるような低温で反応
させる以外は、一般に必要ではない。本発明におけるフ
ェノールとアセトンとの縮合反応は、触媒の陽イオン交
換樹脂を充填した反応塔に、フェノールとアセトンと前
記メルカプタン類を連続的に供給して反応させる固定床
連続反応方式を用いることができる。この際、反応塔は
1基でもよく、また2基以上を直列又は並列に配置して
もよいが、工業的には、陽イオン交換樹脂を充填した反
応塔を2基以上直列に連結し、固定床多段連続反応方式
を採用するのが、特に有利である。
【0009】固定床多段連続反応方式を採用する場合、
供給するアセトンは各段に分割して供給することが好ま
しい。このアセトンの各段への供給割合は、触媒の活性
によって左右されるが、水分によって反応が抑制される
ため、水分が少ない上流段ほど反応負荷が高くなるよう
にするのが望ましい。例えば反応塔3基を直列に連結し
た場合、各反応塔におけるビスフェノールA生成負荷
を、上流側から10:7:4程度にすると安定した品質
のビスフェノールAを得ることができる。また、反応に
使用するフェノールについては不純物の少ないものが好
ましく、特にヒドロキシアセトン濃度が1重量ppm以
下のものを使用することが触媒寿命の低下を防止する上
からも好ましい。
【0010】この固定床連続反応方式における反応条件
について説明する。まず、アセトン/フェノールモル比
は、通常1/30〜1/3、好ましくは1/15〜1/
5の範囲で選ばれる。このモル比が1/30より小さい
場合、反応速度が遅くなりすぎるおそれがあり、1/3
より大きいと不純物の生成が多くなり、ビスフェノール
Aの選択率が低下する傾向がある。一方、メルカプタン
類が陽イオン交換樹脂に固定化されない場合、メルカプ
タン類/アセトンモル比は、通常0.1/100〜20
/100、好ましくは1/100〜10/100の範囲
で選ばれる。このモル比が0.1/100より小さい場
合、反応速度やビスフェノールAの選択率の向上効果が
十分に発揮されないおそれがあり、20/100より大
きいとその量の割りには効果の向上はあまり認められな
い。また、反応温度は、通常40〜150℃、好ましく
は60〜110℃の範囲で選ばれる。該温度が40℃未
満では反応速度が遅い上、反応液の粘度が極めて高く、
場合により、固化するおそれがあり、150℃を超える
と反応制御が困難となり、かつビスフェノールA(p,
p’一体)の選択率が低下する上、触媒の陽イオン交換
樹脂が分解又は劣化することがある。さらに、原料混合
物のLHSV(液空間速度)は、通常0.2〜30h
-1、好ましくは0.5〜10hr-1の範囲で選ばれる。
【0011】本発明の方法においては、反応塔から出て
きた反応混合物は、公知の方法により後処理が施され、
ビスフェノールAが取り出される。次に、この後処理の
一例について説明すると、まず晶析に先立って低沸点物
除去後、濃縮を行う。濃縮条件については特に制限はな
いが、通常温度130〜170℃、圧力13〜53kP
aの条件で濃縮が行われる。温度が130℃未満では高
真空が必要となり、170℃を超えると不純物が増加し
たり、着色の原因となる。また、濃縮残液のビスフェノ
ールAの濃度は25〜40重量%の範囲にあるのが有利
である。この濃度が25重量%未満ではビスフェノール
Aの回収率が低く、40重量%を超えると晶析後のスラ
リーの移送が困難となる。
【0012】濃縮残液からのビスフェノールAとフェノ
ールの付加物の晶析は、通常減圧下で水の蒸発潜熱を利
用して冷却する真空冷却晶析法によって行われる。この
真空冷却晶析法においては、該濃縮残液に、水を3〜2
0重量%程度添加し、通常温度40〜70℃、圧力3〜
13kPaの条件で晶析処理が行われる。上記水の添加
量が3重量%未満では除熱能力が十分ではなく、20重
量%を超えるとビスフェノールAの溶解ロスが大きくな
り、好ましくない。また晶析温度が40℃未満では晶析
液の粘度の増大や固化をもたらすおそれがあり、70℃
を超えるとビスフェノールAの溶解ロスが大きくなり好
ましくない。次に、このようにして晶析されたビスフェ
ノールAとフェノールの付加物は、公知の方法により分
離したのち、通常、フェノールにより洗浄処理が施され
る。次いで、洗浄処理された付加物をビスフェノールA
とフェノールとに分離処理(脱フェノール)するが、こ
の場合、温度は通常130〜200℃、好ましくは15
0〜180℃の範囲で選ばれ、一方圧力は通常3〜20
kPaの範囲で選ばれる。この分離処理により得られた
ビスフェノールAは、その中の残留フェノールをスチー
ムストリッピングなどの方法により、実質上完全に除去
することによって、高品質のビスフェノールAが得られ
る。
【0013】本発明のビスフェノールAの製造方法にお
いては、反応を一旦停止し、3日間以上経過後再開する
に当たり、まず、使用途中の陽イオン交換樹脂をフェノ
ールで洗浄したのち、フェノール液中に保存する。上記
フェノールでの洗浄においては、洗浄液中のアセトン濃
度が500重量ppm以下になるまで洗浄を行うことが
好ましい。例えば、触媒1容量に対して、70℃程度の
温度を有するフェノールを7〜8容量程度用いて洗浄す
ることにより、洗浄液中のアセトン濃度を300重量p
pm以下とすることができる。また、上記洗浄後の陽イ
オン交換樹脂のフェノール液中での保存は、45〜80
℃の温度で行うのが好ましい。この温度が45℃未満で
はフェノールが固化する場合があり、また80℃を超え
ると陽イオン交換樹脂からのスルホン酸の溶出量が増大
するため、好ましくない。なお、本発明では反応を一旦
停止する期間は、3日間以上であるが、1年以上の長期
間であっても適用することが可能であるが、経済性を考
慮すれば通常は 1年未満である。
【0014】運転停止期間が3日間以上と長期にわたる
場合、陽イオン交換樹脂を保存したフェノール液中には
スルホン酸が多量に含まれているために、反応を再開さ
せる際に、上記陽イオン交換樹脂をフェノールで洗浄し
たのち、触媒として使用する。この洗浄に用いられるフ
ェノールの量は、陽イオン交換樹脂周りのスルホン酸を
多量に含むフェノールを置換し得る量であればよく、通
常触媒1容量に対して3容量程度のフェノールを用いて
洗浄すればよい。そして、この洗浄液は、陽イオン交換
樹脂を保存していたフェノール液と共に蒸留処理し、フ
ェノールを回収すると共に、高濃度のスルホン酸を含む
残渣を系外へ排出するのがよい。該スルホン酸はビスフ
ェノールAを分解する作用を有するため、特に脱フェノ
ール工程に混入するとフェノールとイソプロペニルフェ
ノールが増加し、製品ビスフェノールAの品質を悪化さ
せるので、好ましくない。
【0015】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、この例によってなんら限定され
るものではない。 実施例1 内径20mm、高さ1500mmの充填層式の反応器に
スルホン酸型イオン交換樹脂〔三菱化学(株)製、「ダ
イヤイオン−104H」〕を充填した。反応温度を80
℃に保ち、反応器入口より、フェノール(ヒドロキシア
セトン濃度は検出下限である1重量ppm以下であ
る。)、アセトン及びエチルメルカプタンを、フェノー
ル/アセトンモル比=20、LHSV=1hr-1の条件
で連続的に供給し、反応を行ったのち、アセトン及びエ
チルメルカプタンの供給を停止し、触媒量の8倍容量の
フェノールをLHSV=1hr-1で通液して、イオン交
換樹脂を洗浄した。この際の反応器出口におけるアセト
ン濃度は300重量ppmであった。この状態でフェノ
ールの通液を停止し、60℃の温度で20日間保持し
た。
【0016】20日間保持後、該反応器中のフェノール
を置換するために、フェノールをLHSV=1hr-1
条件で触媒量の3倍容量通液した。反応器から流出した
フェノールを減圧蒸留して、精製フェノール及びスルホ
ン酸を含む残渣を得た。このスルホン酸を含む残渣を系
外へ排出したのち、反応停止前と同条件で反応を開始し
た。アセトン転化率が75%に落着いたところで、反応
液を減圧蒸留し、未反応アセトンやフェノールの一部を
留去した。さらに減圧蒸留してフェノールを留去し、ビ
スフェノールAを40重量%濃度に濃縮した。この濃縮
液を43℃に冷却して、ビスフェノールAとフェノール
との付加物を晶析し、次いで固液分離した。次に、ビス
フェノールAとフェノールとの付加物の脱フェノール
を、圧力4kPa、温度170℃の条件で行い、フェノ
ールを留去させ、ビスフェノールAを得た。得られたビ
スフェノールA中のフェノール含有量は10重量ppm
であった。また、空気雰囲気下で220℃にて30分間
加熱したのち、APHA標準液を用い、目視により色相
評価を行った結果、APHA10で良好であった。
【0017】比較例1 実施例1において、20日間保持後の反応器中のフェノ
ール置換を実施せずに、反応を開始してビスフェノール
Aを製造したところ、ビスフェノールA中フェノール含
有量は150重量ppmであり、色相はAPHA40で
あった。 比較例2 実施例1において、反応停止後フェノールによる触媒の
洗浄を実施しなかったところ、フェノール中のアセトン
濃度は3重量%であった。この状態で実施例1と同様に
20日間保持したのち、フェノール置換を実施しようと
したが、反応器の圧力損失が大きく、運転を再開するこ
とは不可能であった。
【0018】
【発明の効果】本発明によれば、陽イオン交換樹脂触媒
を用いたビスフェノールAの製造において、反応停止中
に使用途中の触媒を活性低下させることなく、長期間保
存することができ、かつ反応再開時にフェノール中への
スルホン酸の溶出が抑えられ、製品ビスフェノールAの
品質悪化をもたらすことがない。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 陽イオン交換樹脂の存在下、フェノール
    とアセトンを縮合させてビスフェノールAを製造する方
    法において、反応を一旦停止し、3日間以上経過後再開
    するに当たり、使用途中の陽イオン交換樹脂をフェノー
    ルで洗浄したのち、フェノール液中で保存し、反応を再
    開させる際に、上記フェノール液中で保存した陽イオン
    交換樹脂をフェノールで洗浄後、触媒として使用するこ
    とを特徴とするビスフェノールAの製造方法。
  2. 【請求項2】 使用途中の陽イオン交換樹脂のフェノー
    ルによる洗浄を、洗浄液中のアセトン濃度が500重量
    ppm以下になるまで行う請求項1記載のビスフェノー
    ルAの製造方法。
  3. 【請求項3】 洗浄後の陽イオン交換樹脂のフェノール
    液中での保存を、45〜80℃の温度で行う請求項1又
    は2記載のビスフェノールAの製造方法。
  4. 【請求項4】 フェノール液中で保存した陽イオン交換
    樹脂をフェノールで洗浄する際に得られる洗浄液を、該
    陽イオン交換樹脂を保存していたフェノール液と共に蒸
    留処理してフェノールを回収し、かつ残渣を系外へ排出
    する請求項1,2又は3記載のビスフェノールAの製造
    方法。
JP2001054034A 2001-02-28 2001-02-28 ビスフェノールaの製造方法 Expired - Lifetime JP4689059B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001054034A JP4689059B2 (ja) 2001-02-28 2001-02-28 ビスフェノールaの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001054034A JP4689059B2 (ja) 2001-02-28 2001-02-28 ビスフェノールaの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002255879A true JP2002255879A (ja) 2002-09-11
JP4689059B2 JP4689059B2 (ja) 2011-05-25

Family

ID=18914426

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001054034A Expired - Lifetime JP4689059B2 (ja) 2001-02-28 2001-02-28 ビスフェノールaの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4689059B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004050593A1 (ja) * 2002-12-05 2004-06-17 Idemitsu Kosan Co., Ltd. ビスフェノールaの製造方法
JP2004315387A (ja) * 2003-04-14 2004-11-11 Idemitsu Petrochem Co Ltd ビスフェノールaの製造におけるフェノールの回収方法
JP2005247781A (ja) * 2004-03-05 2005-09-15 Mitsubishi Chemicals Corp ビスフェノールaの製造方法
WO2007069561A1 (ja) * 2005-12-12 2007-06-21 Mitsubishi Chemical Corporation ビスフェノールaの製造方法
JP2007186501A (ja) * 2005-12-12 2007-07-26 Mitsubishi Chemicals Corp ビスフェノールaの製造方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01119344A (ja) * 1987-11-02 1989-05-11 Tokyo Organ Chem Ind Ltd 強酸性陽イオン交換樹脂の溶出物の低減方法
JPH01231945A (ja) * 1987-12-28 1989-09-18 General Electric Co <Ge> ビスフェーノルaの製造に使用するイオン交換樹脂の精製方法
JPH0910598A (ja) * 1995-06-30 1997-01-14 Chiyoda Corp 反応器に対するビスフェノールa製造用触媒の充填方法及び高品位ビスフェノールaの製造方法
JPH09176069A (ja) * 1995-12-26 1997-07-08 Nippon Steel Chem Co Ltd ビスフェノール類の製造方法
JPH10174880A (ja) * 1996-12-18 1998-06-30 Chiyoda Corp ビスフェノールa製造用触媒の再生方法
JP2000140645A (ja) * 1998-11-16 2000-05-23 Mitsui Chemicals Inc ビスフェノールa製造用触媒の再生方法
JP2000143565A (ja) * 1998-11-12 2000-05-23 Idemitsu Petrochem Co Ltd ビスフェノールa製造用触媒の前処理方法及び色相が安定なビスフェノールaの製造方法
WO2000061532A1 (en) * 1999-04-13 2000-10-19 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Process for the preparation of bisphenol a
JP2001199919A (ja) * 2000-01-18 2001-07-24 Idemitsu Petrochem Co Ltd ビスフェノールaの製造方法
JP2002177797A (ja) * 2000-12-07 2002-06-25 Mitsubishi Chemicals Corp アミノチオール変性スルホン酸型陽イオン交換樹脂の保存方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01119344A (ja) * 1987-11-02 1989-05-11 Tokyo Organ Chem Ind Ltd 強酸性陽イオン交換樹脂の溶出物の低減方法
JPH01231945A (ja) * 1987-12-28 1989-09-18 General Electric Co <Ge> ビスフェーノルaの製造に使用するイオン交換樹脂の精製方法
JPH0910598A (ja) * 1995-06-30 1997-01-14 Chiyoda Corp 反応器に対するビスフェノールa製造用触媒の充填方法及び高品位ビスフェノールaの製造方法
JPH09176069A (ja) * 1995-12-26 1997-07-08 Nippon Steel Chem Co Ltd ビスフェノール類の製造方法
JPH10174880A (ja) * 1996-12-18 1998-06-30 Chiyoda Corp ビスフェノールa製造用触媒の再生方法
JP2000143565A (ja) * 1998-11-12 2000-05-23 Idemitsu Petrochem Co Ltd ビスフェノールa製造用触媒の前処理方法及び色相が安定なビスフェノールaの製造方法
JP2000140645A (ja) * 1998-11-16 2000-05-23 Mitsui Chemicals Inc ビスフェノールa製造用触媒の再生方法
WO2000061532A1 (en) * 1999-04-13 2000-10-19 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Process for the preparation of bisphenol a
JP2001199919A (ja) * 2000-01-18 2001-07-24 Idemitsu Petrochem Co Ltd ビスフェノールaの製造方法
JP2002177797A (ja) * 2000-12-07 2002-06-25 Mitsubishi Chemicals Corp アミノチオール変性スルホン酸型陽イオン交換樹脂の保存方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004050593A1 (ja) * 2002-12-05 2004-06-17 Idemitsu Kosan Co., Ltd. ビスフェノールaの製造方法
JP2004315387A (ja) * 2003-04-14 2004-11-11 Idemitsu Petrochem Co Ltd ビスフェノールaの製造におけるフェノールの回収方法
JP4615831B2 (ja) * 2003-04-14 2011-01-19 出光興産株式会社 ビスフェノールaの製造におけるフェノールの回収方法
JP2005247781A (ja) * 2004-03-05 2005-09-15 Mitsubishi Chemicals Corp ビスフェノールaの製造方法
JP4506210B2 (ja) * 2004-03-05 2010-07-21 三菱化学株式会社 ビスフェノールaの製造方法
WO2007069561A1 (ja) * 2005-12-12 2007-06-21 Mitsubishi Chemical Corporation ビスフェノールaの製造方法
JP2007186501A (ja) * 2005-12-12 2007-07-26 Mitsubishi Chemicals Corp ビスフェノールaの製造方法
KR101090194B1 (ko) * 2005-12-12 2011-12-06 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 비스페놀 a의 제조방법
CN101326147B (zh) * 2005-12-12 2012-12-26 三菱化学株式会社 制备双酚a的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4689059B2 (ja) 2011-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4723105B2 (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2002205966A (ja) ビスフェノールaの製造方法
WO2000061532A1 (en) Process for the preparation of bisphenol a
WO2001053238A1 (fr) Procede de preparation de bisphenol a
JP4689059B2 (ja) ビスフェノールaの製造方法
WO2002072515A1 (fr) Procede de production de bisphenol a
JP3475960B2 (ja) 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンの製造方法
US6608234B2 (en) Process for producing bisphenol A
JP2002255881A (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP4995372B2 (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2004010566A (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2000143565A (ja) ビスフェノールa製造用触媒の前処理方法及び色相が安定なビスフェノールaの製造方法
JP3425772B2 (ja) イオン交換樹脂の洗浄方法
JP3748574B2 (ja) 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンの製造方法
JP2002316962A (ja) ビスフェノールaの製造方法
WO2004020377A1 (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2002265403A (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP4338966B2 (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2003160524A (ja) ビスフェノールaの製造方法及びその装置
JPH11269114A (ja) ビスフェノール類の製造方法
JP2003160523A (ja) ビスフェノールaの製造方法及びその装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20041216

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070906

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100712

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100720

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100921

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101026

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110201

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110216

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4689059

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225

Year of fee payment: 3

EXPY Cancellation because of completion of term