JP2002249335A - 光ファイバの製造方法、光ファイバ、光通信システム - Google Patents

光ファイバの製造方法、光ファイバ、光通信システム

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 軸方向に延びる空孔を有する光ファイバにお
いて伝送損失を低減することができる光ファイバの製造
方法および光ファイバを提供する。 【解決手段】 軸方向に延びる空孔を有する光ファイバ
を製造する場合、まずプリフォーム５にプリフォーム軸
方向に延びる複数本の貫通穴部９を形成する。続いて、
プリフォーム５の貫通穴部９内に乾燥気体を流しなが
ら、炉内の加熱部２４によりプリフォーム５を、望まし
くは８００℃以上で３０分以上の時間にわたって加熱す
る。これにより、貫通穴部９におけるプリフォーム５の
内壁５ａ表面に存在するＯＨ基が、プリフォーム５の外
部に排出される。続いて、プリフォーム５を加熱部２４
により加熱し、プリフォーム５を光ファイバに線引す
る。以上により、伝送損失の低い光ファイバを得ること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、軸方向に延びる空
孔を有する光ファイバを製造する光ファイバの製造方
法、および軸方向に延びる空孔を有する光ファイバに関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】軸方向に延びる空孔を有する光ファイバ
として、ホーリーファイバ（微細構造光ファイバ、フォ
トニッククリスタルファイバとも言う）と称されるファ
イバがある。このホーリーファイバは、シリカガラス等
の主媒質と気体等の副媒質とで構成された光ファイバで
あり、主媒質と副媒質との間の大きな屈折率差を利用し
て、コアとクラッドとの実効的な屈折率差を大きくする
ことにより、絶対値の大きな波長分散や、小さなモード
フィールド径を実現できる。前者は分散補償の応用に好
適であり、後者は非線形光学効果の利用に適している。
従って、ホーリーファイバは、光通信システムへの応用
が期待される。このようなホーリーファイバについて
は、例えば、D.J.Richardson,et al.,Proc.ECOC 2000,v
ol.4,pp37-40,(Sep.2000)に記載されている。
【０００３】また、USP 5,802,236には、ホーリーファ
イバの製造方法が開示されている。この製造方法は、一
端が封止された複数本のシリカ製の毛管を束ね、管束バ
ンドルを形成する。その際、中心の毛管をシリカロッド
で置換する。次いで、シリカ製のオーバークラッド管を
管束バンドル上に置き、管束バンドルへコラプスする。
ここで得られたプリフォームを線引炉の高温領域に入れ
て、毛管の非封止端を加熱し、ファイバに線引する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ホーリーファイバでは、伝送損失が高いという不具合が
ある。例えば、P.J.Bennett,et al.,Opt. Lett.,vol.2
4,pp.1203-1205,(1999)では、波長１５５０ｎｍにおけ
る伝送損失は０．２４ｄＢ／ｍである。これは、光通信
システムにおいて実用に供されている光ファイバの伝送
損失の典型値である０．２〜０．３ｄＢ／ｋｍに比べる
と非常に高い。
【０００５】光ファイバの伝送損失が高いと、光ファイ
バを光伝送路に用いた場合に伝送距離が制限される。ま
た、光ファイバを分散補償器として用いた場合には、フ
ァイバ長が制限されることによって補償分散量が制限さ
れる。さらに、分散補償器としての挿入損失が高いこと
により、所定のＳＮ比を実現するのに必要な入力光信号
パワーが増大するため、ＳＰＭ、ＸＰＭ、ＦＷＭなどの
非線形光学効果による伝送品質劣化が生じ、光スペクト
ル利用効率が制限される。
【０００６】本発明の目的は、軸方向に延びる空孔を有
する光ファイバにおいて伝送損失を低減することができ
る光ファイバの製造方法および光ファイバを提供するこ
とである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】軸方向に延びる空孔を有
する光ファイバの伝送損失には、空孔におけるファイバ
の内壁表面部に存在する不純物による吸収損失が大きく
寄与する。具体的には、波長１４００ｎｍ〜１６００ｎ
ｍにおけるシリカガラスの低損失波長帯は光通信システ
ムの応用に好適であるが、この波長帯においてはＯＨ基
による吸収が伝送損失に最も大きく寄与する。従って、
光通信システムへの応用のためには、空孔におけるファ
イバ内壁表面部に存在するＯＨ基の濃度を低減すること
が重要である。本発明は、そのような知見に基づいてな
されたものである。
【０００８】すなわち、本発明は、軸方向に延びる空孔
を有する光ファイバを製造する光ファイバの製造方法で
あって、空孔となる貫通穴部を有するプリフォームを形
成する第１の工程と、乾燥性を有する気体を貫通穴部内
に流しながら、プリフォームを加熱する第２の工程と、
プリフォームを光ファイバに線引きする第３の工程とを
含むことを特徴とするものである。
【０００９】このように貫通穴部を有するプリフォーム
を形成した後に、乾燥性を有する気体を貫通穴部に流し
ながらプリフォームを加熱することにより、貫通穴部に
おけるプリフォームの内壁表面に存在するＯＨ基がＨ2
Ｏ分子として貫通穴部内の空間へと拡散する。そして、
そのＨ2Ｏ分子は、乾燥性を有する気体の流れによって
プリフォームの外部に排出される。これにより、プリフ
ォームの内壁表面におけるＯＨ濃度が低下し、ＯＨ基に
起因する光ファイバの伝送損失が低減される。また、乾
燥性を有する気体を流すことで、内壁表面へのＯＨ基の
再付着が抑制されるため、ＯＨ濃度の低下が早められ
る。従って、製造コストの削減を図ることもできる。
【００１０】また、本発明は、軸方向に延びる空孔を有
する光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であっ
て、空孔となる凹状穴部を有するプリフォームを形成す
る第１の工程と、乾燥性を有する気体を凹状穴部内に満
たして、プリフォームを加熱する第２の工程と、プリフ
ォームを光ファイバに線引きする第３の工程とを含むこ
とを特徴とするものである。
【００１１】このように凹状穴部を有するプリフォーム
を形成した後に、乾燥性を有する気体を凹状穴部に満た
し、プリフォームを加熱することにより、凹状穴部にお
けるプリフォームの内壁表面に存在するＯＨ基がＨ2Ｏ
分子として凹状穴部内の空間へと拡散する。そして、そ
のＨ2Ｏ分子は、拡散または対流によってプリフォーム
の外部に排出される。これにより、プリフォームの内壁
表面のＯＨ濃度が低下し、ＯＨ基に起因する光ファイバ
の伝送損失が低減される。また、乾燥性を有する気体の
使用により、内壁表面へのＯＨ基の再付着が抑制される
ため、ＯＨ濃度の低下が早められる。従って、製造コス
トの削減を図ることもできる。
【００１２】このとき、第２の工程において、乾燥性を
有する気体を凹状穴部内に注入する工程と、凹状穴部内
から乾燥性を有する気体を排出する工程とを繰り返すこ
とが好ましい。これにより、凹状穴部内の空間に拡散し
たＨ2Ｏ分子が効果的にプリフォームの外部に排出され
る。また、内壁表面へのＯＨ基の再付着が効果的に抑制
される。従って、光ファイバの伝送損失をより低減する
ことができる。
【００１３】さらに、本発明は、軸方向に延びる空孔を
有する光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であ
って、空孔となる凹状穴部を有するプリフォームを形成
する第１の工程と、凹状穴部内を減圧排気すると共に、
プリフォームを加熱する第２の工程と、プリフォームを
光ファイバに線引きする第３の工程とを含むことを特徴
とするものである。
【００１４】このように凹状穴部を有するプリフォーム
を形成した後に、凹状穴内を減圧排気すると共に、プリ
フォームを加熱することにより、凹状穴部におけるプリ
フォームの内壁表面に存在するＯＨ基がＨ2Ｏ分子とし
て凹状穴部内の空間へと拡散する。そして、そのＨ2Ｏ
分子は、凹状穴内の減圧排気によってプリフォームの外
部に排出される。これにより、プリフォームの内壁表面
のＯＨ濃度が低下し、ＯＨ基に起因するファイバの伝送
損失が低減される。
【００１５】上述した各光ファイバの製造方法におい
て、好ましくは、第２の工程において、プリフォームを
８００℃以上の温度で加熱する。これにより、ＯＨ基が
Ｈ2Ｏ分子となる反応が促進されるため、プリフォーム
の内壁表面に存在するＯＨ基がＨ2Ｏ分子として穴部内
の空間へと早く拡散するようになる。さらに、長時間、
例えば３０分以上にわたって加熱することにより、ＯＨ
濃度をより低下させることができる。
【００１６】また、好ましくは、乾燥性を有する気体と
して、露点が−５０℃以下の気体を使用する。これによ
り、Ｈ2Ｏ濃度の十分に低い気体がプリフォームの穴部
内に供給されることになるため、プリフォームの内壁表
面へのＯＨ基の再付着がより抑制され、その結果光ファ
イバの伝送損失をより低減することができる。
【００１７】このとき、好ましくは、乾燥性を有する気
体として、不活性気体を８５％以上のモル濃度で含む気
体を使用する。これにより、シリカガラスからなるプリ
フォームを加熱したときに、乾燥性を有する気体がガラ
スと反応しにくくなる。従って、気体とガラスとの化学
反応による光吸収や光散乱の発生を回避し、光ファイバ
の伝送損失の増大を抑制することができる。
【００１８】このとき、不活性気体として、Ｎ2、Ｈ
ｅ、Ａｒの１つ又は２つ以上の混合である気体を使用す
るのが好ましい。これらの気体は特に活性度が低いた
め、ガラスとの化学反応の抑制に効果的である。
【００１９】また、乾燥性を有する気体として、脱水作
用を有する活性気体を含む気体を使用してもよい。この
場合には、プリフォームの内壁表面におけるＯＨ濃度の
低下速度が速くなるため、プリフォームの内壁表面部に
存在するＯＨ基を除去する第２の工程に要する時間が短
縮され、より製造コストを削減できる。また、活性気体
の濃度を高く、例えばモル濃度で３０％以上とすること
により、ＯＨ濃度の低下をより速めることができる。
【００２０】このとき、脱水作用を有する活性気体とし
て、ＨＦ、Ｆ2、Ｃｌ2、ＣＯの少なくとも１つを含む気
体を使用するのが好ましい。これらの気体は特に脱水作
用に優れているため、第２の工程に要する時間の短縮に
効果的である。
【００２１】また、好ましくは、第２の工程の前に、穴
部におけるプリフォームの内壁表面を平滑化する。これ
により、プリフォームの内壁表面の表面積が小さくなる
ため、プリフォームの内壁表面部に存在するＯＨ基の総
量が減少する。従って、第２の工程においてＯＨ基の除
去に要する時間を短くし、より製造コストを削減でき
る。
【００２２】また、好ましくは、第２の工程の前に、穴
部におけるプリフォームの内壁表面をドライエッチング
する。これにより、プリフォームの内壁表面の平滑化の
効果が得られると共に、ＯＨ基が含まれるプリフォーム
の内壁表面部のガラス層が直接的に除去される。このた
め、プリフォームの内壁表面部に存在するＯＨ基の総量
が減少する。従って、第２の工程においてＯＨ基の除去
に要する時間を短くし、より製造コストを削減できる。
【００２３】さらに、好ましくは、第３の工程におい
て、穴部内の圧力を調整する。軸方向に延びる穴部を有
するプリフォームをファイバに線引きする際、穴部を形
成するプリフォームの内壁表面における表面張力によっ
て、光ファイバにおける空孔占有率は減少しようとす
る。この空孔占有率は、プリフォームの穴部内とプリフ
ォームの内壁との間に生じる圧力差にも依存する。そこ
で、プリフォームの穴部内の圧力を制御することによっ
て、所望の空孔占有率を有する光ファイバを製造するこ
とができる。ここで、空孔占有率とは、ファイバ断面に
おける所定の領域、例えば断面全体の断面積に対する空
孔断面積の比である。また、第２の工程において乾燥性
を有する気体を供給する手段にプリフォームを接続する
手段と、第３の工程において圧力を調整する手段にプリ
フォームを接続する手段とは、一部または全部を共通と
することができる。これにより、工程間での接続変更に
伴う汚染物質の侵入を防ぐことができる。
【００２４】また、好ましくは、第１の工程において、
穿孔具を用いて円柱状のプリフォームを切削することに
より、プリフォームに穴部を形成する。これにより、プ
リフォームに穴部を形成する作業が容易に行えるように
なり、高い歩留まりを実現できる。また、この場合に
は、プリフォームにおける穴部間に微細な隙間が生じな
いため、その隙間に存在する不純物を取り除く必要がな
く、これにより第２の工程においてＯＨ基の除去に要す
る時間を短くし、より製造コストを削減できる。さら
に、線引き時にプリフォームの穴部内の圧力を調整する
ことによって、プリフォームの穴部と内壁との圧力差を
容易に形成できるため、線引き時に光ファイバの空孔の
収縮が生じにくくなる。
【００２５】また、第１の工程において、複数の筒状部
材を束ねてバンドルを形成し、このバンドルをジャケッ
ト管内に挿入することにより、穴部を有するプリフォー
ムを形成してもよい。この場合には、穴径の小さな穴部
を有するプリフォームを容易に形成できるため、短い波
長の光を導波させるのに適した光ファイバを容易に製造
することが可能となる。
【００２６】また、本発明は、コアと、このコアを囲む
クラッドとを有し、コア及びクラッドの少なくとも一方
には軸方向に延びる空孔が設けられ、全反射またはブラ
ッグ反射によって光をコアに閉じ込めて軸方向に導波さ
せる光ファイバであって、波長１３８０ｎｍにおける伝
送損失が２００ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする
ものである。
【００２７】上述した光ファイバの製造方法により得ら
れた光ファイバは、ＯＨ基の吸収による損失が低くなる
ことで、約１１００〜１７００ｎｍの波長帯域において
伝送損失が低くなる。そこで、ＯＨ基の吸収ピーク波長
である１３８０ｎｍにおける伝送損失を２００ｄＢ／ｋ
ｍ以下とすることにより、波長１５５０ｎｍ付近の波長
帯域において１０ｄＢ／ｋｍ以下の低い伝送損失が実現
可能となる。これにより、光ファイバを分散補償器とし
て使用する場合に、長尺の光ファイバを用いることがで
きるため、補償できる分散量が大きくなる。その結果、
分散補償対象の伝送路長を長くして、伝送距離を増大さ
せることができる。
【００２８】好ましくは、空孔の内部における水の密度
が１ｍｇ／リットル以下である。これにより、空孔の内
部空間に含まれる水が、空孔を形成するファイバ内壁表
面に付着することが抑えられるため、波長１３８０ｎｍ
における伝送損失を確実に２００ｄＢ／ｋｍ以下とする
ことができる。
【００２９】また、好ましくは、波長１３８０ｎｍにお
ける伝送損失が３０ｄＢ／ｋｍ以下である。これによ
り、波長１５５０ｎｍ付近の波長帯域において１ｄＢ／
ｋｍ以下の極めて低い伝送損失が実現可能となる。従っ
て、光ファイバを分散補償器として使用する場合に、補
償分散量を更に大きくして、伝送距離をより増大させる
ことができる。また、数十ｋｍオーダーでの光伝送が可
能となるため、分散補償器としてのみならず、光伝送路
としても好適に応用できる。また、波長１４００ｎｍ付
近の励起光を入射させることにより、波長１５５０ｎｍ
帯の光信号をラマン増幅することができる。
【００３０】さらに、本発明は、コアと、このコアを囲
むクラッドとを有し、コア及びクラッドの少なくとも一
方には軸方向に延びる空孔が設けられ、全反射またはブ
ラッグ反射によって光をコアに閉じ込めて軸方向に導波
させる光ファイバであって、波長１５５０ｎｍにおける
伝送損失が１０ｄＢ／ｋｍ以下である。これにより、光
ファイバを分散補償器として使用する場合に、長尺の光
ファイバを用いることができるため、補償できる分散量
が大きくなる。その結果、分散補償対象の伝送路長を長
くして、伝送距離を増大させることができる。
【００３１】好ましくは、波長１５５０ｎｍにおける伝
送損失が３ｄＢ／ｋｍ以下である。この場合には、光フ
ァイバを分散補償器として使用するときに、補償分散量
を更に大きくして、伝送距離をより増大させることがで
きる。また、所定のＳＮ比を実現するための分散補償器
の入力光信号パワーを低減できるため、ＳＰＭ、ＸＰ
Ｍ、ＦＷＭなどの非線形光学効果による伝送品質劣化を
抑制し、スペクトル利用効率つまり周波数帯域当たりの
伝送容量を増大させることができる。
【００３２】より好ましくは、波長１５５０ｎｍにおけ
る伝送損失が１ｄＢ／ｋｍ以下である。この場合には、
光ファイバを分散補償器として使用するときに、補償分
散量を更に大きくして、伝送距離をより増大させること
ができる。また、分散補償器の入力光信号パワーを更に
低減できるため、スペクトル利用効率を更に増大させる
ことができる。さらに、数十ｋｍオーダーでの伝送が可
能となるため、分散補償器としてのみならず、光伝送路
としても好適に応用できる。
【００３３】また、本発明の光通信システムは、上述し
た光ファイバを含むことを特徴とするものである。上述
した光ファイバは、光伝送路や分散補償器として含むこ
とができるほか、光増幅器の一部として含むことができ
る。これにより、伝送距離や伝送容量の面で特性が向上
した光通信システムを構築することができる。
【００３４】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係わる光ファイバ
の製造方法、光ファイバ、光通信システムの好適な実施
形態について図面を参照して説明する。
【００３５】図１は、本発明に係わる光ファイバの一実
施形態を示す断面図である。同図において、光ファイバ
１は、ＧｅＯ2が添加されたシリカガラスからなるコア
２と、このコア２を囲み純粋シリカガラスからなるクラ
ッド３とから構成されている。クラッド３におけるコア
２の周囲には、ファイバ軸方向に延びる複数本の空孔４
が形成されている。このような光ファイバ１において
は、全反射によって所定の波長の光がコア２に閉じ込め
られてファイバ軸方向に沿って導波される。
【００３６】なお、コア２を純粋シリカガラスで形成す
ると共にクラッド３をＦが添加されたシリカガラスで形
成したり、Ｔｉ、Ｂ、Ｐ等の添加物をコア２及びクラッ
ド３の一方または両方に添加することによって、コア２
の屈折率をクラッド３の屈折率よりも高くする構成をと
っても良い。
【００３７】次に、上記の光ファイバ１を製造する方法
について説明する。最初に、光ファイバ１の母材である
プリフォームを形成する。このプリフォームを作成する
方法の一例を図２に示す。
【００３８】同図において、まず一体構造の円柱状のプ
リフォーム５を用意する。このプリフォーム５は、Ｇｅ
Ｏ2が添加されたシリカガラスからなるコア領域６と、
このコア領域６を囲み純粋シリカガラスからなるクラッ
ド領域７とで構成されている。コア領域６には、コア領
域６とクラッド領域７との比屈折率差が所望の値（例え
ば０．３％）となるようにＧｅＯ2が添加されている。
このような一体構造のプリフォーム５は、ＶＡＤ法、Ｍ
ＣＶＤ法、ＯＶＤ法などの方法により作成できる。
【００３９】そして、クラッド領域７におけるコア領域
６の周囲を、ダイヤモンドの刃先を有する穿孔具８を用
いて切削することにより、プリフォーム５にプリフォー
ム軸方向に延びる複数本の貫通穴部９を形成する。この
貫通穴部９は、後述する線引後の光ファイバ１における
空孔４を形成するものである。貫通穴部９の径（直径）
は例えば３ｍｍであり、貫通穴部９の長さ（プリフォー
ム５の高さ）は例えば３００ｍｍである。このように穿
孔具８を用いてプリフォーム５に貫通穴部９を形成する
ことにより、貫通穴部９の形成作業が容易に行えるよう
になり、高い歩留まりを実現できる。
【００４０】穿孔具としては、ダイヤモンドの刃先を有
する工具の代わりに、ガラスを軟化させるための加熱手
段とガラス軟化点以上の融点を有する器具とを使用する
こともできる。この場合、ガラスを加熱して軟化させた
状態で高融点器具をガラスに挿入し、器具を引き抜く直
前または直後にガラスを冷却して硬化させることによっ
て、貫通穴部９を形成できる。
【００４１】なお、上記のプリフォーム５のコア領域６
とクラッド領域７は、Ｇｅ，Ｆ，Ｔｉ，Ｂ，Ｐ等の添加
物を添加したシリカガラスで形成することもでき、更に
添加物濃度をプリフォーム５内で変化させることによ
り、屈折率をプリフォーム５内で変化させることも可能
である。この場合には、波長分散やモードフィールド径
などに関して、所望の特性を容易に得ることができる。
また、貫通穴部９の位置やプリフォーム５の材料屈折率
分布は、全反射またはブラッグ反射によって所定の波長
の光が光ファイバ１中のコア２に閉じ込められてファイ
バ軸方向に沿って導波されるように選ばれる。
【００４２】また、光ファイバの空孔となる貫通穴部
は、特に図２に示すような配置には限定されず、図３〜
図５に示すような配置を採ることもできる。図３に示す
構成では、シリカガラスからなるプリフォーム５Ａに貫
通穴部９Ａが複数配置されており、その結果、空孔占有
率が小さいコア領域６Ａを空孔占有率が大きいクラッド
領域７Ａが包囲する。この構成では、光ファイバが生成
された際に、全反射によってコアに光を閉じ込めてファ
イバ軸方向に導波させることができるが、コアとクラッ
ドとの間で等価的に大きな屈折率差を実現し、絶対値の
大きな波長分散や小さなモードフィールド径を実現でき
る。前者は分散補償への応用において好ましく、後者は
非線形光学効果の利用において好ましい。
【００４３】図４に示す構成では、シリカガラスからな
るプリフォーム５Ｂに貫通穴部９Ｂが複数配置されてお
り、その結果、径方向に規則的な屈折率分布を有するク
ラッド領域７Ｂによって貫通穴部９Ｂを含むコア領域６
Ｂが囲まれる。径方向に規則的な屈折率分布は、図４に
示すように貫通穴部９Ｂをリング状に配置することによ
って実現できるほか、Ｇｅ，Ｆ，Ｔｉ，Ｂ，Ｐ等の添加
物をリング状に添加することによっても実現できる。
【００４４】また、図５に示すように、シリカガラスか
らなるプリフォーム５Ｃに貫通穴部９Ｃを複数配置し、
その結果、断面内で規則的な屈折率分布を有するクラッ
ド領域７Ｃによって貫通穴部９Ｃを含むコア領域６Ｃが
囲まれる構成も可能である。図４及び図５に示す構成に
より、光ファイバが生成された際には、ブラッグ反射に
よってコアに光を閉じ込めてファイバ軸方向に導波させ
ることができる。また、コアが空孔を含むことにより、
空孔を伝搬するパワーの全伝搬パワーに占める割合を大
きく、例えば５０％以上にすることができる。その結
果、低い伝送損失や低い非線形性を実現できる。
【００４５】図２に戻り、上記のようにプリフォーム５
に貫通穴部９を形成した後、この貫通穴部９におけるプ
リフォーム５の内壁５ａの表面（図７参照）を平滑化す
ることが好ましい。この内壁５ａ表面の平滑化は、ヤス
リ状の器具を用いて内壁５ａ表面を直接削ったり、貫通
穴部９内にダイヤモンド粉末と適当な溶媒を満たして超
音波を照射することにより行う。これにより、プリフォ
ーム５の内壁５ａ表面の表面積が小さくなるため、その
分だけ内壁５ａ表面部に存在するＯＨ基の総量が減少す
る。
【００４６】また、プリフォーム５に貫通穴部９を形成
した後、プリフォーム５の内壁５ａ表面に、ＨＦ水溶液
によるウェットエッチングを施すと共にＳＦ6等による
ドライエッチングを施すことが好ましい。ＳＦ6による
ドライエッチングは、例えば１０００℃以上に加熱され
たプリフォーム５の貫通穴部９内にＳＦ6を導入するこ
とにより行う。ＨＦエッチングを行うことにより、切削
時にプリフォーム５の内壁５ａ表面に付着した汚染物質
が除去される。また、ＳＦ6エッチングを行うことによ
り、内壁５ａ表面が平滑化されると同時に、プリフォー
ム５の内壁５ａ表面部の層が直接除去されるため、内壁
５ａ表面部に存在するＯＨ基の総量が更に減少する。
【００４７】プリフォームを作成する他の方法を図６に
示す。同図において、まずシリカガラス製のロッド１０
と複数本のシリカガラス製のキャピラリ１１を束ねて、
バンドル１２を形成する。ロッド１０は、光ファイバの
コアを形成するものであり、キャピラリ１１の径と同程
度の径を有している。なお、キャピラリ１１の径の半分
以下の径を有する別のロッドを、スペーサとして更に設
けることもできる。そして、バンドル１２の径よりも僅
かに大きい内径を有するシリカガラス製のジャケット管
１３の中に、バンドル１２を挿入することによって、プ
リフォーム１４を形成する。このような構造では、キャ
ピラリ１１の中空部分がプリフォーム１４の貫通穴部１
５を構成することになる。ロッド１０及びキャピラリ１
１の径の典型値は１ｍｍ程度であり、キャピラリ１１の
外径に対する内径の比は、例えば０．４ないし０．８で
ある。ジャケット管１３としては、外径２０ｍｍ程度、
内径１８ｍｍ程度のものが用いられる。
【００４８】このように複数本のキャピラリを束ねてプ
リフォームが形成する方法では、径の小さな貫通穴部を
含むプリフォームの形成が容易に行えるため、光ファイ
バに形成される空孔の径を小さくできる。このように光
ファイバの空孔の径を小さくすることで、比較的短い波
長の光に対しても低い実効屈折率を実現できる。従っ
て、この方法は、短い波長の光を導波させるのに適した
光ファイバの製造に有利である。
【００４９】以上のように複数の貫通穴部を有するプリ
フォームを形成した後、貫通穴部を形成するプリフォー
ムの内壁表面部に存在するＯＨ基の除去処理を行う。こ
のＯＨ基の除去処理を実施するための構成を図７に示
す。
【００５０】同図において、貫通穴部９を有するプリフ
ォーム５は線引機の炉内にセットされる。プリフォーム
５の両端にはガラス管２１ａ，２１ｂの一端が接続さ
れ、各ガラス管２１ａ，２１ｂの他端には蓋体２２ａ，
２２ｂが固定されている。これにより、プリフォーム５
の貫通穴部９内に汚染物質が侵入するのを防ぐことがで
きる。ガラス管２１ａ，２１ｂの長さは、線引機の構成
に依存して調整される。ガラス管２１ａには、プリフォ
ーム５の貫通穴部９内に乾燥性を有する気体を供給する
ための供給配管２３ａが接続されている。また、ガラス
管２１ｂには、乾燥性を有する気体をプリフォーム５の
外部に排出するための排気配管２３ｂが接続されてい
る。ここで、乾燥性を有する気体（以下、乾燥気体とい
う）とは、完全に乾燥した気体のみならず、わずかな水
分を含んでいる実質的に乾燥している気体をも含む概念
である。なお、ガラス管２１ａ，２１ｂは、プリフォー
ム５におけるプリフォーム有効部つまり線引後に光ファ
イバとなる部分を、供給配管２３ａ、排気配管２３ｂ及
び把持手段（図示せず）に接続するために設けたもので
ある。
【００５１】以上において、プリフォーム５の貫通穴部
９内に、プリフォーム５の一端から他端に向けて乾燥気
体を例えば５リットル／分程度の流速で流すと共に、炉
内の加熱部２４によりプリフォーム５を加熱する。この
とき、プリフォーム５を８００℃以上で３０分以上加熱
することが好ましく、１２００℃以上で１時間以上加熱
することがより好ましい。また、プリフォーム５のプリ
フォーム有効部の長さに比べて加熱部２４が小さい場合
には、プリフォーム５を適時上下動させてプリフォーム
有効部全体が適切に加熱されるようにする。
【００５２】このように乾燥気体をプリフォーム５の貫
通穴部９に流しながら、プリフォーム５を加熱すること
により、貫通穴部９を形成するプリフォーム５の内壁５
ａ表面に存在するＯＨ基がＨ2Ｏ分子となる反応が促進
され、ＯＨ基がＨ2Ｏ分子として貫通穴部９の空間へと
拡散する。そして、その拡散したＨ2Ｏ分子は、貫通穴
部９内にとどまることなく、乾燥気体の流れによって排
気配管２３ｂを介して排出される。これにより、内壁５
ａ表面におけるＯＨ濃度が低下する。また、貫通穴部９
内に乾燥気体を流すことで、内壁５ａ表面へのＯＨ基の
再付着が抑制されるため、内壁５ａ表面部におけるＯＨ
濃度の低下が早くなる。このように内壁５ａ表面部に存
在するＯＨ基が除去されるため、ＯＨ基に起因する光フ
ァイバの伝送損失を低減することが可能となる。
【００５３】ここで、内壁５ａ表面部に存在するＯＨ基
を効果的に除去するためには、Ｈ2Ｏ濃度が十分に低い
乾燥気体を使用するのが望ましい。このような乾燥気体
としては、具体的には、露点が−５０℃以下、より好ま
しくは露点が−７０℃以下の気体を使用する。
【００５４】ところで、シリカガラス製のプリフォーム
５を加熱したときには、プリフォーム５の貫通穴部９内
の気体分子はガラスと反応しやすくなる。このような気
体とガラスとの化学反応の中には、光吸収や光散乱を増
大させて伝送特性を劣化させる反応もある。そこで、乾
燥気体としては、不活性気体を８５％以上のモル濃度で
含む気体を使用するのが好ましい。乾燥気体が化学的に
不活性であると、シリカガラスとの反応が生じにくくな
るため、貫通穴部９内の気体とガラスとの化学反応が抑
制され、これにより光ファイバの伝送特性の劣化を防止
することができる。なお、乾燥気体としては、Ｎ2、Ｈ
ｅ、Ａｒの１つ又は２つ以上の混合である不活性気体を
８５％以上のモル濃度で含む気体を使用する。これらの
気体は特に活性度が低く、ガラスとの化学反応の抑制に
効果的である。
【００５５】また、乾燥気体としては、脱水作用を有す
る活性気体を含む気体を使用することもできる。この場
合には、プリフォーム５の内壁５ａ表面のＯＨ濃度の低
下速度を速めることができるため、その分ＯＨ基の除去
処理時間が短縮される。なお、脱水作用を有する活性気
体としては、ＨＦ、Ｆ2、Ｃｌ2、ＣＯの少なくとも１つ
を含む気体を使用する。これらの気体は特に脱水作用に
優れており、ＯＨ基の除去処理時間の短縮に効果的であ
る。また、活性気体の濃度を高く、例えば３０％以上に
すると、脱水にとって効果的である。
【００５６】なお、以上のようなプリフォーム５の内壁
５ａ表面部に存するＯＨ基の除去処理は、必ずしも線引
機において行う必要はなく、この工程に適した構成を適
宜用いることができる。
【００５７】以上のようにＯＨ基の除去処理を行った
後、プリフォーム５を線引機の加熱部２４により例えば
１８００℃程度に加熱し、プリフォーム５の加熱側端か
ら光ファイバに線引する。これにより、図１に示すよう
な複数本の空孔４を有すると共に１２５μｍの径をもっ
た光ファイバ１が生成される。このとき、上述した蓋体
２２ａを用いて線引を行うと、プリフォーム５の貫通穴
部９内に水蒸気等の汚染物質が侵入することが防止さ
れ、その結果歩留まりが向上する。
【００５８】このようなプリフォーム５の線引時には、
貫通穴部９を形成するプリフォーム５の内壁５ａ表面に
おける表面張力によって光ファイバ１における空孔占有
率は減少しようとする。ここで、空孔占有率は、ファイ
バにおける空孔断面積をファイバ断面積で割った値、ま
たはプリフォーム５の貫通穴部９の断面積をプリフォー
ム５の断面積で割った値である。この線引時の空孔占有
率は、プリフォーム５の貫通穴部９内と内壁５ａとの間
に生じる圧力差にも依存する。そこで、貫通穴部９内の
圧力を制御することによって、光ファイバ１において所
望の空孔占有率が得られるようにする。
【００５９】具体的には、乾燥気体の供給圧力を調整す
るための圧力調整部２５を供給配管２３ａに介設させる
と共に、プリフォーム５の貫通穴部９内の圧力を検出す
るための圧力センサ２６を設ける。圧力センサ２６は、
供給配管２３ａにおける圧力を検出してもよく、この検
出値に基づいて貫通穴部９における圧力を求めることが
できる。そして、圧力調整部２５は、圧力センサ２６の
検出値に基づいて、貫通穴部９内の圧力が所望値となる
ように乾燥気体の供給圧力を制御する。これにより、プ
リフォーム５の内壁５ａ表面における表面張力による貫
通穴部９の収縮が抑制され、所望の空孔占有率を有する
光ファイバが線引されるようになる。また、乾燥気体の
供給圧力を調整することにより、光ファイバ１の空孔占
有率を適宜調節することができる。この場合には、波長
分散やモードフィールド径といったファイバ特性を容易
に調整することが可能となる。
【００６０】以上のように本実施形態にあっては、貫通
穴部９を有するプリフォーム５を形成した後に、乾燥気
体を貫通穴部９内に流しながらプリフォーム５を加熱す
るようにしたので、貫通穴部９を形成するプリフォーム
５の内壁５ａ表面部に存在するＯＨ基が除去され、これ
により伝送損失の低い光ファイバ１を得ることができ
る。
【００６１】また、乾燥気体を貫通穴部９内に流すこと
で、プリフォーム５の内壁５ａ表面へのＯＨ基の再付着
も抑制されるため、内壁５ａ表面部におけるＯＨ濃度が
速く低下する。また、乾燥気体を貫通穴部９内に流しな
がらプリフォーム５を加熱する前に、プリフォーム５の
内壁５ａ表面を平滑化し、更にプリフォーム５の内壁５
ａ表面をドライエッチングするので、内壁５ａ表面部に
存在するＯＨ基の総量が減少する。これにより、ＯＨ基
の除去に要する時間が短くなり、製造コストの削減を図
ることができる。
【００６２】さらに、プリフォーム５を光ファイバ１に
線引する際、プリフォーム５の貫通穴部９内の圧力を調
整するので、所望の空孔占有率を有する光ファイバ１を
得ることができる。
【００６３】図１に示す光ファイバ１を製造する他の方
法について図８により説明する。なお、上述した製造方
法と同様の内容については、その説明を省略する。
【００６４】本製造方法では、光ファイバ１の母材であ
るプリフォーム３０として、軸方向に延び一端側が閉じ
られた複数本の凹状穴部３１を有するものを使用する。
このプリフォーム３０は、上述した実施形態と同じ方法
で作成される。プリフォーム３０を形成した後、図５に
示す構成によって、凹状穴部３１を形成するプリフォー
ム３０の内壁３０ａ表面部に存在するＯＨ基の除去処理
を行う。
【００６５】図５において、プリフォーム３０における
開口側端にはガラス管３２の一端が接続され、このガラ
ス管３２の他端には蓋体３３が取り付けられている。ガ
ラス管３２には分岐配管３４が接続され、この分岐配管
３４には、乾燥気体をプリフォーム３０の凹状穴部３１
内に供給するための供給配管３５と、凹状穴部３１内の
乾燥気体を排出するための排気配管３６とが分岐接続さ
れている。排気配管３６は、真空ポンプ３７と接続され
ている。また、配管３５，３６には開閉弁３８，３９が
それぞれ設けられている。
【００６６】以上において、開閉弁３９を閉じ、開閉弁
３８を開いた状態で、乾燥気体を流し、プリフォーム３
０の凹状穴部３１内に乾燥気体を満たす。その状態で、
炉内の加熱部２４によりプリフォーム３０を８００℃以
上の温度で３０分以上加熱する。そして、所定時間経過
後、開閉弁３８を閉じ、開閉弁３９を開いた状態で、真
空ポンプ３７により凹状穴部３１内の気体を排気する。
このような乾燥気体の注入及び排気は、複数回繰り返し
て行うのが好ましい。
【００６７】これにより、プリフォーム３０の内壁３０
ａ表面や内壁３０ａ中のＯＨ基がＨ 2Ｏ分子として凹状
穴部３１の空間へと拡散する。そして、そのＨ2Ｏ分子
は、拡散または対流によってプリフォーム３０の外部に
送られ、更に真空ポンプ３７により排出される。従っ
て、プリフォーム３０の内壁３０ａ表面部に存在するＯ
Ｈ基が効果的に除去されると共に、内壁３０ａ表面への
ＯＨ基の再付着が抑制される。
【００６８】このとき、プリフォーム３０のプリフォー
ム非有効部からプリフォーム有効部へのＨ2Ｏ分子の拡
散を低減することにより、プリフォーム有効部における
内壁３０ａ表面部のＯＨ濃度の低下を速めることができ
る。ここで、プリフォーム非有効部からプリフォーム有
効部へのＨ2Ｏ分子の拡散を低減する方法としては、プ
リフォーム有効部をプリフォーム非有効部よりも高温に
したり、プリフォーム非有効部に吸湿性媒質を設けた
り、プリフォーム非有効部における凹状穴部３１の容積
をプリフォーム有効部における凹状穴部３１よりも大き
くする等があげられる。
【００６９】以上のようにＯＨ基の除去処理を行った
後、プリフォーム３０を線引機の加熱部２４により加熱
し、プリフォーム３０の加熱側端からファイバに線引す
る。このとき、供給配管３５に介設した圧力調整部２４
と圧力センサ２５によって、プリフォーム３０の凹状穴
部３１内の圧力が所望値となるように乾燥気体の供給圧
力を制御する。これにより、プリフォーム３０の内壁３
０ａ表面における表面張力による凹状穴部３１の収縮が
抑制され、所望の空孔占有率を有する光ファイバが線引
される。
【００７０】以上のような実施形態においても、凹状穴
部３１を形成するプリフォーム３０の内壁３０ａ表面部
に存在するＯＨ基が確実に除去されるので、ＯＨ基に起
因する光ファイバの伝送損失を低減することができる。
【００７１】図１に示す光ファイバ１を製造する更に他
の方法について説明する。なお、上述した製造方法と同
様の内容については、その説明を省略する。また、本製
造方法では、図５に示すプリフォーム３０を使用する。
【００７２】まず、凹状穴部３１を有するプリフォーム
３０を形成する。続いて、開閉弁３８を閉じ、開閉弁３
９を開いた状態で、真空ポンプ３７により凹状穴部３１
内を減圧排気すると共に、炉内の加熱部２４によりプリ
フォーム３０を８００℃以上の温度で３０分以上加熱す
る。これにより、凹状穴部３１を形成するプリフォーム
３０の内壁３０ａ表面や内壁３０ａ中に存在するＯＨ基
がＨ2Ｏ分子として凹状穴部３１の空間へと拡散し、そ
のＨ2Ｏ分子が減圧排気によってプリフォーム３０の外
部に排出される。
【００７３】続いて、開閉弁３９を閉じ、開閉弁３８を
開いた状態で、乾燥気体を流し、プリフォーム３０の凹
状穴部３１内に乾燥気体を満たす。そして、線引機の加
熱部２４によりプリフォーム３０を加熱し、プリフォー
ム３０の加熱側端からファイバに線引する。
【００７４】このような実施形態においても、凹状穴部
３１を形成するプリフォーム３０の内壁３０ａ表面部に
存在するＯＨ基を除去することができるので、ＯＨ基に
起因する光ファイバの伝送損失を低減することが可能と
なる。
【００７５】図９に、線引された光ファイバの伝送損失
に関する一実験例を示す。同図において、実線Ｐは、プ
リフォームの内壁表面部に存在するＯＨ基の除去処理を
行った場合の伝送損失であり、点線Ｑは、ＯＨ基の除去
処理を行わなかった場合の伝送損失である。なお、ＯＨ
基の除去処理においては、乾燥気体として露点が−７０
℃以下のＮ2を使用し、これをプリフォームの穴部内に
流しながら、プリフォームを１２００℃の温度で３時間
加熱した。
【００７６】図９から分かるように、ＯＨ基の除去処理
を行った場合には、ＯＨ基の吸収による損失が低く抑え
られることで、約１１００〜１７００ｎｍの波長帯域に
おける伝送損失が低減される。このとき、波長１５５０
ｎｍにおける伝送損失は、６．７ｄＢ／ｋｍから１．１
ｄＢ／ｋｍに低減されている。なお、８．５ｄＢ／ｋｍ
以上の伝送損失については、測定器の測定可能範囲を超
えているため、正確には測れていない。
【００７７】図１０は、上記のＯＨ基の除去処理工程に
先立って、プリフォームの内壁表面を平滑化した場合の
伝送損失に関する一実験例を示したものである。図１０
から分かるように、ＯＨ基の吸収ピーク波長である１３
８０ｎｍにおける伝送損失は約２４ｄＢ／ｋｍであり、
波長１５５０ｎｍにおいては伝送損失が０．６８ｄＢ／
ｋｍにまで低減されている。
【００７８】以上のような種々の製造方法によって得ら
れた空孔４を有する光ファイバ１においては、ＯＨ基の
吸収ピーク波長である１３８０ｎｍにおける伝送損失を
約２００ｄＢ／ｋｍ以下とすることにより、１５５０ｎ
ｍ付近の波長帯域において１０ｄＢ／ｋｍ以下、好まし
くは３ｄＢ／ｋｍ以下の低い伝送損失が実現可能とな
る。このとき、光ファイバ１の空孔４内部に存在する水
の密度が好ましくは１ｍｇ／リットル以下であれば、空
孔４内に含まれる水が、空孔４を形成するファイバ内壁
表面に付着することが抑えられるため、そのような低い
伝送損失を確実に達成できる。伝送損失の低い光ファイ
バは、分散補償器としての使用に好適である。
【００７９】具体的には、空孔４を有する光ファイバ１
を分散補償器として使用する場合、長尺の光ファイバ１
を使用できるため、補償できる分散量が大きくなる。そ
の結果、分散補償対象の伝送路長を長くして、伝送距離
を増大させることができる。また、所定のＳＮ比を実現
するための分散補償器の入力光信号パワーを低減できる
ため、ＳＰＭ、ＸＰＭ、ＦＷＭなどの非線形光学効果に
よる伝送品質劣化が抑制され、スペクトル利用効率つま
り周波数帯域当たりの伝送容量を増大させることができ
る。
【００８０】このとき、１３８０ｎｍの波長における伝
送損失を３０ｄＢ／ｋｍ以下とすることにより、１５５
０ｎｍ付近の波長帯域において１ｄＢ／ｋｍ以下の極め
て低い伝送損失を実現できるようになる。これにより、
光ファイバ１を分散補償器として更に有効的に使用でき
る。また、この場合には、数十ｋｍオーダーでの伝送が
可能となるため、分散補償器としてのみならず、光伝送
路としても好適に応用でき、伝送距離を更に増大させる
ことができる。
【００８１】このような伝送損失の低い光ファイバを使
用して構築した光通信システムについて、以下に説明す
る。
【００８２】図１１は、図１に示す光ファイバ１を含む
分散補償器を備えた光通信システムの一例を示したもの
である。この光通信システム４０においては、光送信機
４１と光受信機４２とが、光伝送路４３及び分散補償器
４４を介して接続されている。光伝送路４３は、１種類
または２種類以上の光ファイバで構成され、通常は正の
波長分散を有している。この光伝送路４３の後段に分散
補償器４４が接続されている。この分散補償器４４は、
光伝送路４３の分散と逆符号の波長分散を有する光ファ
イバ１からなるコイル４５と、このコイル４５の前段お
よび後段に設けられた光アンプ４６とによって構成され
ている。このような構成では、分散補償器４４によって
光伝送路４３の波長分散が補償され、パルス波形劣化が
抑制されることにより、大きな伝送容量が得られる。ま
た、光伝送路４３の後段に分散補償器４４を挿入するこ
とにより、分散補償器４４への入力光信号パワーが低減
され、ＦＷＭ等の非線形光学効果による伝送品質劣化が
抑制され、スペクトル利用効率が向上する。
【００８３】図１２は、図１に示す光ファイバ１を含む
光伝送路を備えた光通信システムの一例を示したもので
ある。この光通信システム５０においては、光送信機５
１と光受信機５２とが、光伝送路５３及び光アンプ５４
を介して接続されている。光伝送路５３に使用される光
ファイバ１は、５０ｎｍ以上の広い波長帯域にわたって
絶対値が１〜１０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍの波長分散を有する
と共に、３０ｋｍ以上の長さを有している。なお、光増
幅器を挟んで複数の光伝送路を接続し、伝送距離を更に
長くすることができる。このように広い帯域にわたって
絶対値の小さな波長分散を有することにより、１波長当
たりの伝送容量を大きく且つ波長数の大きな波長多重伝
送を行うことができ、大きな伝送容量が得られる。
【００８４】図１３は、図１に示す光ファイバ１を含む
光伝送路を備えた他の光通信システムの一例を示したも
のである。この光通信システム６０においては、光送信
機６１と光受信機６２とが、光伝送路６３及び光アンプ
６４を介して接続されている。光伝送路６３は、空孔を
有しない通常の光ファイバで構成された伝送路６５と、
図１に示すような空孔４を有する光ファイバ１で構成さ
れた伝送路６６とを含んでいる。伝送路６５に使用され
る通常の光ファイバは、＋１ｐｓ／ｎｍ／ｋｍの波長分
散を有すると共に、３０ｋｍ以上の長さを有している。
伝送路６６に使用される光ファイバ１は、−３ｐｓ／ｎ
ｍ／ｋｍの波長分散を有すると共に、１０ｋｍ以上の長
さを有している。各々の光ファイバの長さは、累積波長
分散が所定の範囲内の値となるように選ばれる。なお、
光増幅器を挟んで複数の光伝送路を接続し、伝送距離を
更に長くすることができる。このように絶対波長分散が
所定値以上の光ファイバを用いることにより、ＦＷＭ等
の非線形光学効果による伝送品質劣化が抑制され、伝送
速度やスペクトル利用効率が向上する。
【００８５】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。例えば、上記実施形態の光ファイバ
は、クラッドのみに空孔を形成したものであるが、本発
明は、コアに空孔が形成された光ファイバにも適用可能
である。
【００８６】
【発明の効果】本発明によれば、乾燥性を有する気体を
プリフォームの貫通穴部内に流しながらプリフォームを
加熱するので、貫通穴部におけるプリフォームの内壁表
面部に存在するＯＨ基が除去され、これにより伝送損失
の低い光ファイバを得ることができる。
【００８７】また、乾燥性を有する気体をプリフォーム
の凹状穴部内に満たして、プリフォームを加熱するの
で、凹状穴部におけるプリフォームの内壁表面部に存在
するＯＨ基が除去され、これにより伝送損失の低い光フ
ァイバを得ることができる。
【００８８】さらに、プリフォームの凹状穴部内を減圧
排気すると共に、プリフォームを加熱するので、凹状穴
部におけるプリフォームの内壁表面部に存在するＯＨ基
が除去され、これにより伝送損失の低い光ファイバを得
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる光ファイバの一実施形態を示す
断面図である。
【図２】プリフォームを作成する方法の一例を示す図で
ある。
【図３】他のプリフォームを示す断面図である。
【図４】更に他のプリフォームを示す断面図である。
【図５】更に他のプリフォームを示す断面図である。
【図６】プリフォームを作成する方法の他の例を示す図
である。
【図７】プリフォームの内壁表面部に存在するＯＨ基の
除去処理を行う方法を示す図である。
【図８】プリフォームの内壁表面部に存在するＯＨ基の
除去処理を行う他の方法を示す図である。
【図９】空孔を有する光ファイバの伝送損失に関する一
実験例を示したものである。
【図１０】プリフォームの内壁表面部に存在するＯＨ基
の除去処理に先立って、プリフォームの内壁表面を平滑
化した場合の光ファイバの伝送損失に関する一実験例を
示したものである。
【図１１】図１に示す光ファイバを含む分散補償器を備
えた光通信システムの一例を示したものである。
【図１２】図１に示す光ファイバを含む光伝送路を備え
た光通信システムの一例を示したものである。
【図１３】図１に示す光ファイバを含む他の光伝送路を
備えた光通信システムの一例を示したものである。
【符号の説明】 １…光ファイバ、２…コア、３…クラッド、４…空孔、
５…プリフォーム、５ａ…内壁、８…穿孔具、９…貫通
穴部、１１…キャピラリ（筒状部材）、１２…バンド
ル、１３…ジャケット管、１４…プリフォーム、１５…
貫通穴部、２５…圧力調整部、２６…圧力センサ、３０
…プリフォーム、３０ａ…内壁、３１…凹状穴部、３７
…真空ポンプ。

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 軸方向に延びる空孔を有する光ファイバ
    を製造する光ファイバの製造方法であって、 前記空孔となる貫通穴部を有するプリフォームを形成す
    る第１の工程と、 乾燥性を有する気体を前記貫通穴部内に流しながら、前
    記プリフォームを加熱する第２の工程と、 前記プリフォームを光ファイバに線引きする第３の工程
    とを含むことを特徴とする光ファイバの製造方法。
  2. 【請求項２】 軸方向に延びる空孔を有する光ファイバ
    を製造する光ファイバの製造方法であって、 前記空孔となる凹状穴部を有するプリフォームを形成す
    る第１の工程と、 乾燥性を有する気体を前記凹状穴部内に満たして、前記
    プリフォームを加熱する第２の工程と、 前記プリフォームを光ファイバに線引きする第３の工程
    とを含むことを特徴とする光ファイバの製造方法。
  3. 【請求項３】 前記第２の工程において、前記乾燥性を
    有する気体を前記凹状穴部内に注入する工程と、前記凹
    状穴部内から前記乾燥性を有する気体を排出する工程と
    を繰り返すことを特徴とする請求項２記載の光ファイバ
    の製造方法。
  4. 【請求項４】 軸方向に延びる空孔を有する光ファイバ
    を製造する光ファイバの製造方法であって、 前記空孔となる凹状穴部を有するプリフォームを形成す
    る第１の工程と、 前記凹状穴部内を減圧排気すると共に、前記プリフォー
    ムを加熱する第２の工程と、 前記プリフォームを光ファイバに線引きする第３の工程
    とを含むことを特徴とする光ファイバの製造方法。
  5. 【請求項５】 前記第２の工程において、前記プリフォ
    ームを８００℃以上の温度で加熱することを特徴とする
    請求項１〜４のいずれか一項記載の光ファイバの製造方
    法。
  6. 【請求項６】 前記乾燥性を有する気体として、露点が
    −５０℃以下の気体を使用することを特徴とする請求項
    １〜５のいずれか一項記載の光ファイバの製造方法。
  7. 【請求項７】 前記乾燥性を有する気体として、不活性
    気体を８５％以上のモル濃度で含む気体を使用すること
    を特徴とする請求項６記載の光ファイバの製造方法。
  8. 【請求項８】 前記不活性気体として、Ｎ2、Ｈｅ、Ａ
    ｒの１つ又は２つ以上の混合である気体を使用すること
    を特徴とする請求項７記載の光ファイバの製造方法。
  9. 【請求項９】 前記乾燥性を有する気体として、脱水作
    用を有する活性気体を含む気体を使用することを特徴と
    する請求項６記載の光ファイバの製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記脱水作用を有する活性気体とし
    て、ＨＦ、Ｆ2、Ｃｌ2、ＣＯの少なくとも１つを含む気
    体を使用することを特徴とする請求項９記載の光ファイ
    バの製造方法。
  11. 【請求項１１】 前記第２の工程の前に、前記穴部にお
    ける前記プリフォームの内壁表面を平滑化することを特
    徴とする請求項１〜１０のいずれか一項記載の光ファイ
    バの製造方法。
  12. 【請求項１２】 前記第２の工程の前に、前記穴部にお
    ける前記プリフォームの内壁表面をドライエッチングす
    ることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項記載
    の光ファイバの製造方法。
  13. 【請求項１３】 前記第３の工程において、前記穴部内
    の圧力を調整することを特徴とする請求項１〜１２のい
    ずれか一項記載の光ファイバの製造方法。
  14. 【請求項１４】 前記第１の工程において、穿孔具を用
    いて円柱状の前記プリフォームを切削することにより、
    前記プリフォームに前記穴部を形成することを特徴とす
    る請求項１〜１３のいずれか一項記載の光ファイバの製
    造方法。
  15. 【請求項１５】 前記第１の工程において、複数の筒状
    部材を束ねてバンドルを形成し、このバンドルをジャケ
    ット管内に挿入することにより、前記穴部を有するプリ
    フォームを形成することを特徴とする請求項１〜１３の
    いずれか一項記載の光ファイバの製造方法。
  16. 【請求項１６】 コアと、このコアを囲むクラッドとを
    有し、前記コア及び前記クラッドの少なくとも一方には
    軸方向に延びる空孔が設けられ、全反射またはブラッグ
    反射によって光を前記コアに閉じ込めて軸方向に導波さ
    せる光ファイバであって、波長１３８０ｎｍにおける伝
    送損失が２００ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする
    光ファイバ。
  17. 【請求項１７】 前記空孔の内部における水の密度が１
    ｍｇ／リットル以下であることを特徴とする請求項１６
    記載の光ファイバ。
  18. 【請求項１８】 前記波長１３８０ｎｍにおける伝送損
    失が３０ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする請求項
    １６記載の光ファイバ。
  19. 【請求項１９】 コアと、このコアを囲むクラッドとを
    有し、前記コア及び前記クラッドの少なくとも一方には
    軸方向に延びる空孔が設けられ、全反射またはブラッグ
    反射によって光を前記コアに閉じ込めて軸方向に導波さ
    せる光ファイバであって、波長１５５０ｎｍにおける伝
    送損失が１０ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする光
    ファイバ。
  20. 【請求項２０】 前記波長１５５０ｎｍにおける伝送損
    失が３ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする請求項１
    ９記載の光ファイバ。
  21. 【請求項２１】 前記波長１５５０ｎｍにおける伝送損
    失が１ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする請求項２
    ０記載の光ファイバ。
  22. 【請求項２２】 請求項１６〜２１のいずれか一項記載
    の光ファイバを含むことを特徴とする光通信システム。
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