JP2002246448A - リードレス半導体素子の複合処理方法及び複合処理装置 - Google Patents

リードレス半導体素子の複合処理方法及び複合処理装置

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JP2002246448A JP2001199171A JP2001199171A JP2002246448A JP 2002246448 A JP2002246448 A JP 2002246448A JP 2001199171 A JP2001199171 A JP 2001199171A JP 2001199171 A JP2001199171 A JP 2001199171A JP 2002246448 A JP2002246448 A JP 2002246448A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 CSP等のリードレス半導体素子を個々に特
性測定し、捺印等してテーピング梱包する複合処理工程
における作業インデックスと歩留まりの改善。 【解決手段】 複数のリードレス半導体素子1を高密度
で保持するウェーハシート2を供給テーブル10に供給
し、供給テーブル10上でウェーハシート2を伸展させ
て半導体素子間隔を拡げた状態で半導体素子1を1個ず
つピックアップポジションPaに供給テーブル10で移
動させて、最初のターンテーブル20の吸着ノズル21
でピックアップする。連続的に配置された複数のターン
テーブル20,30,…に半導体素子1を順に移動さ
せ、途中の測定テーブル30で半導体素子1を複数個ず
つ同時に位置補正検査と特性測定をして、最終的に良品
をテーピング機60でテーピング梱包して出荷する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂モールドパッ
ケージの裏面等に電極端子を露呈させたリードレスの半
導体素子を特性測定等してテーピング梱包する製造シス
テムにおけるリードレス半導体素子の複合処理方法と複
合処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】携帯型コンピュータの普及で需要が増大
傾向にあるCSP(Chip Size Package)等のリードレ
ス半導体素子の製造工場は、ブレージング行程で個々に
分断されて製造されたリードレス半導体素子の特性測定
や外観検査等の複合処理を行ってから品質ランク別にテ
ーピング梱包して出荷している。リードレス半導体素子
のブレージング行程では、複数のリードレス半導体素子
が高密度で一連に形成された薄板形状の樹脂モールド基
板をウェーハシートに貼着した状態でブレージングソー
で個々のリードレス半導体素子に細分割しており、この
行程でミリサイズに細分割されたリードレス半導体素子
の個々が、次の複合処理設備に送られて最終的にテーピ
ング梱包される。
【0003】ウェーハシート上でミリサイズに細分割さ
れたリードレス半導体素子を1個ずつウェーハシートか
ら剥がして整列トレーに多数個を整列させ、必要時に整
列トレーからリードレス半導体素子を1個ずつ複合処理
設備の特性測定装置に送り出して、最終的に良品をテー
ピング機でテーピング梱包している。或いは、上記ウェ
ーハシートから個々のリードレス半導体素子をパーツフ
ィーダに集合させ、必要時にパーツフィーダでリードレ
ス半導体素子を整列させながら複合処理設備に送り出し
てテーピング梱包している。上記複合処理設備は、整列
トレーやパーツフィーダから取り出された半導体素子を
1個或いは複数個ずつ位置決めして特性測定する測定装
置や、個々の半導体素子の樹脂パッケージ表面に品番等
をレーザーでマーキングする捺印装置等を工場の床上に
連続的に配置し、これら装置群の最後にテーピング機を
配置して構成される。なお、リードレス半導体素子のよ
うな小形電子部品を対象としていないが、似たような複
合処理設備に特許公報第531006号等で開示されて
いる複数種類のターンテーブルを連続的に配置したもの
がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】個々のリードレス半導
体素子を整列トレーやパーツフィーダで整列させて複合
処理設備に送り込む製造システムの場合、ウェーハシー
トから分離した個々のリードレス半導体素子を整列トレ
ーやパーツフィーダに移送するための移送設備と作業工
程が必要であり、この作業工程が製造システム全体の作
業インデックスを低下させ、複合処理工程の前工程とイ
ンライン対応させることを難しくしている。また、上記
作業工程で個々のリードレス半導体素子がバラ扱いされ
るために、作業工程中に振動や衝撃で半導体素子の樹脂
パッケージに割れや欠け、汚れが生じて、テーピング梱
包されるリードレス半導体素子の歩留まりが低下するこ
とがある。
【0005】また、上記した複数種類のターンテーブル
を連続的に配置した複合処理設備は、各ターンテーブル
の周縁部に所定間隔で配備した真空式の吸着ノズルで電
子部品を吸着保持して、上流側ターンテーブルから下流
側ターンテーブルへと順に送り出し、各ターンテーブル
で特性測定等の所望の処理をして最終的にテーピング機
でテーピング梱包する設備である。この複合処理設備に
送り込まれる電子部品は、樹脂パッケージからリードを
導出したSIP等の比較的大形のリード挿入型半導体部
品が対象で、樹脂パッケージからリードを導出した電子
部品の個々がリードフレームに支持された状態で専用の
送り機構を介して複合処理設備の最初のターンテーブル
に給送される。
【0006】このようなターンテーブル式複合処理設備
は、リードフレームが上記整列トレーのように取り扱え
てあまり問題とならないのであるが、リードフレームを
使用しないで製造されるミリサイズのリードレス半導体
素子を対象とした場合は、多数のリードレス半導体素子
が高密度で形成された樹脂パッケージ基板をリードフレ
ームのように取り扱うことが難しい。そこで、樹脂パッ
ケージ基板から個々に分断されたリードレス半導体素子
を専用の整列トレーに整列させて複合処理設備の最初の
ターンテーブルに給送するようにしているが、これでは
整列トレーを使用することに起因する上記問題が残る。
【0007】従って、本発明の目的は、小形化されたリ
ードレス半導体素子に適合した作業インデックスの良い
複合処理方法と処理装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の複合処理方法は、ウェーハシートに貼着された複数
のリードレス半導体素子を有するウェーハシートユニッ
トのウェーハシートを伸展させて複数の半導体素子を分
離させる行程と、ウェーハシートから半導体素子を1個
以上例えば1個ずつピックアップする行程と、このピッ
クアップされた半導体素子の1個以上例えば2個ずつを
所定の測定ポジションに移送して1個以上例えば2個同
時に特性測定する行程と、測定ポジションから半導体素
子をピックアップして1個以上例えば1個ずつ後続の処
理ポジションに順に移送して最終処理ポジションで半導
体素子を1個以上例えば1個ずつテーピング梱包する行
程とを有することを特徴としている。
【0009】また、この発明においては、上記ウェーハ
シートからリードレス半導体素子を1個以上例えば1個
ずつピックアップしてから、このピックアップされた半
導体素子の1個以上例えば2個ずつを所定の位置補正ポ
ジションに移送してカメラによる位置認識処理をし、こ
の位置認識処理された半導体素子を次の測定ポジション
に移送して特性測定することを特徴としている。
【0010】ここで、ウェーハシートユニットはリード
レス半導体素子の製造に使用される既存品で、本発明方
法はこのウェーハシートユニットを利用している。すな
わち、リードレス半導体素子はCSP等の樹脂パッケー
ジされたミリサイズのチップ部品で、1枚の樹脂パッケ
ージ基板から多数個が一括して製造されて、伸展可能な
ウェーハシートに貼着された状態で基板がブレージング
されて複数のリードレスの半導体素子に分割される。ま
た、ウェーハシートはその周辺部が金属のウェーハリン
グに支持された伸展可能な粘着シートである。このウェ
ーハシートを使って製造された個々のリードレス半導体
素子をウェーハシートから剥がさずに残してウェーハシ
ートとユニット化し、このウェーハシートユニットを複
合処理設備におけるリードレス半導体素子の供給手段と
して使用する。そして、ウェーハシートユニットからリ
ードレス半導体素子を1個以上ずつピックアップし、所
定の測定ポジションに移送して1個以上同時に特性測定
し、1個以上ずつ所望の処理をしてから最終的に1個以
上ずつテーピング梱包することで、小形のリードレス半
導体素子の各種処理が正確に高インデックスで行えるよ
うになる。ウェーハシートユニットからのリードレス半
導体素子のピックアップ手段は真空式の吸着ノズルが望
ましく、ウェーハシートユニットから各種の処理ポジシ
ョンへの半導体素子の移送手段は前記吸着ノズルを具え
たターンテーブルが望ましい。
【0011】また、上記目的を達成する本発明の複合処
理装置は、ウェーハシートに貼着された複数のリードレ
ス半導体素子を有するウェーハシートユニットを脱着可
能に支持して任意の半導体素子を1個以上例えば1個ず
つ所定のピックアップポジションに移動させる供給テー
ブルと、この供給テーブルから離れた定位置で半導体素
子を単品ずつテーピング梱包するテーピング機と、前記
供給テーブルとテーピング機の間に連続的に配置された
複数種類のターンテーブルを備え、この複数種類の各タ
ーンテーブルは周縁部等配位置に1個以上の半導体素子
を着脱自在に保持して隣接する上流側ターンテーブルか
ら下流側ターンテーブルへと半導体素子の受け渡しをす
るハンドリング機構を有し、このハンドリング機構で保
持された半導体素子に対して特性測定等の各種処理を行
うことを特徴とする。
【0012】ここで、ウェーハシートユニットを支持す
る供給テーブルは水平面を前後左右に移動可能かつ回転
可能なXYθテーブルが適用され、この供給テーブルに
ウェーハリング、ウェーハシート、リードレス半導体素
子群のユニットが位置決め搭載され、供給テーブルが前
後左右に移動することで個々の半導体素子が1個以上ず
つ順に所定のピックアップポジションに送られて最初の
ターンテーブルのハンドリング機構でピックアップされ
る。
【0013】また、本発明の複合処理装置においては、
上記供給テーブルにウェーハシートユニットのウェーハ
シートを伸展させて複数のリードレス半導体素子を分離
させるシート伸展機構を装備させたことを特徴とする。
【0014】つまり、ウェーハシートは、その周辺部が
ウェーハリングで固定されて、ウェーハリングを利用し
てウェーハシートを伸展させて半導体素子を分離するよ
うにしていることから、このウェーハシートを伸展させ
る機能を供給テーブルに持たせて、供給テーブルにウェ
ーハシートユニットが搬入されてからウェーハシートを
伸展させるようにして、供給テーブルにウェーハシート
を伸展させない平常時のウェーハシートユニットが搬入
できるようすることが、ウェーハシートユニットの取り
扱いを容易にする上で望ましい。
【0015】また、具体的な本発明装置は、上記供給テ
ーブルに隣接するターンテーブルが間欠回転する毎に上
記ピックアップポジションから半導体素子を1個以上例
えば1個ずつピックアップして次のターンテーブルへと
移送するピックアップテーブルであり、このピックアッ
プテーブルの次のターンテーブルが間欠回転する毎にピ
ックアップテーブルの連続する複数のハンドリング機構
から1個以上ずつの半導体素子を受け取って1個以上例
えば2個ずつ同時に特性測定する測定テーブルであるこ
とを特徴とする。
【0016】このようにピックアップテーブルで半導体
素子を1個以上ずつピックアップして、1個以上例えば
2個ずつを測定テーブルに供給し、測定テーブルで半導
体素子を1個以上例えば2個ずつ同時に特性測定するこ
とで、測定テーブルは余裕ある時間帯で各1個の半導体
素子の特性測定をする。このような時間的余裕を持たせ
た特性測定はピックアップテーブルのインデックスを低
下させることが無く、而も、ミリサイズまで小形化され
たリードレス半導体素子の特性測定の精度を安定したも
のにする上で有効である。
【0017】さらに、具体的な本発明装置は、上記測定
テーブルの周縁部に配置される複数の処理ポジション
が、ハンドリング機構に保持された1個以上例えば2個
の半導体素子を撮像した画像から位置認識をする位置補
正ポジションと、この位置補正ポジションより後続で位
置補正ポジションからの位置補正情報に基づいて1個以
上例えば2個の半導体素子の特性を測定する測定プロー
ブと測定対象の半導体素子の相対位置を補正して測定開
始する測定ポジションを有することを特徴とする。
【0018】このように位置補正ポジションと測定ポジ
ションの協働で特性測定することで、ミリサイズまで小
形化されたリードレス半導体素子のより安定した高精度
な特性測定が容易となる。この場合、リードレス半導体
素子が測定テーブルのハンドリング機構で保持されてい
ることから、リードレス半導体素子を動かさずに測定プ
ローブを動かすように位置補正して特性測定すること
が、複数あるハンドリング機構を改変することなく特性
測定が実行できることから望ましい。
【0019】
【発明の実施の形態】第1の実施の形態を図1乃至図6
に示し、第2の実施の形態を図7に示して、以下に詳述
する。
【0020】図1の平面図に示される複合処理装置は、
リードレスの半導体素子1の供給手段である供給テーブ
ル10と、半導体素子1に各種処理を施行するための複
数のターンテーブル20,30,…と、テーピング梱包
するテーピング機60,…とを工場の床上に連続的に配
置して構成される。供給テーブル10からリードレスの
半導体素子1が1個ずつターンテーブル20,…に順に
送られ、各ターンテーブル20,…で各種の処理が順に
なされて最終的にテーピング機60でテーピング梱包さ
れる。
【0021】供給テーブル10は水平面を前後左右に移
動可能かつ回転可能なXYθテーブルで、複数のリード
レス半導体素子1,…を保持したウェーハシートユニッ
ト4を着脱可能に支持する。供給テーブル10を前後左
右移動及び回転させることで、任意の1個以上例えば1
個の半導体素子1が所定のピックアップポジションPa
に供給され、このポジションPaで半導体素子1が最初
のターンテーブル20でピックアップされて後続のター
ンテーブル30,…へと送られる。
【0022】ウェーハシートユニット4はウェーハシー
ト2とウェーハリング3を有し、金属のウェーハリング
3にウェーハシート2の周辺部が固着されてウェーハシ
ート2の中央部に複数のリードレスの半導体素子1,…
が碁盤目状に貼着されている。ウェーハシートユニット
4の複数がマガジン11に出し入れ可能に収納され、マ
ガジン11から単品のウェーハシートユニット4が供給
テーブル10上に切り出されて位置決め保持される。図
1の複合処理行程の前行程であるブレージング行程で、
ウェーハシートユニット4のウェーハシート2に貼着さ
れた樹脂モールド基板が複数の半導体素子1,…に分割
され、このブレージング行程を経たウェーハシートユニ
ット4がマガジン11に保管された状態で、必要時に供
給テーブル10に供給される。また、ブレージング行程
からウェーハシートユニット4を直接に供給テーブル1
0に供給するようにして、複合処理工程をインライン処
理の前行程とインライン対応させるようにしてもよい。
【0023】また、供給テーブル10にウェーハシート
ユニット4のウェーハシート2を伸展させて隣接するリ
ードレス半導体素子1の間隔を拡げるシート伸展機構5
を設置する。シート伸展機構5は、ウェーハシートユニ
ット4のウェーハリング3を使用してウェーハシート2
の中央部を図示しない伸展台に押し付ける機構で、図2
(A)に示すようにウェーハシート2上に貼着された複
数の半導体素子1,…は、図2(B)に示すようにウェ
ーハシート2を放射状に伸展させると隣接する半導体素
子1,…の間隔が拡がる。このように供給テーブル10
上に供給されたウェーハシートユニット4のウェーハシ
ート2を伸展させた状態で供給テーブル10を移動させ
て任意の1個以上例えば1個の半導体素子1をピックア
ップポジションPaに搬入させると、図2(C)に示す
ようにピックアップポジションPaに配置された突き上
げピン12が1個以上例えば1個の半導体素子1を下か
ら突き上げてウェーハシート2から離脱し易いようにす
る。
【0024】なお、図2に示される半導体素子1は、ミ
リサイズの矩形チップ状の樹脂モールドパッケージ1a
の上面に複数の電極端子1bを形成したリードレスチッ
プ部品(CSP)である。この半導体素子1の電極端子
1bは金メッキ面やバンプ電極であり、半導体素子1は
電極端子1bの在る面を下にしてプリント基板等に実装
されることから、樹脂モールドパッケージ1aの電極端
子1bの在る面を実装面、反対の面をモールド面と称す
る。
【0025】供給テーブル10とテーピング機60の間
に連続的に配置される複数種類のターンテーブル20,
…の各々は、周縁部に半導体素子1を1個以上例えば1
個ずつ脱着容易に保持するハンドリング機構、例えば真
空系に配管されて半導体素子1の実装面又はモールド面
の中央部を真空吸着する吸着ノズルを有する。連続する
ターンテーブル20,…は、半導体素子1の処理流れか
ら見て最上流側の例えばピックアップテーブル20と、
ピックアップテーブル20に隣接する測定テーブル30
と、測定テーブル30に隣接する挿入テーブル50と、
挿入テーブル50と隣接する捺印テーブル40で構成さ
れ、挿入テーブル50に単数或いは複数(図1では3
台)のテーピング機60が配置される。なお、捺印テー
ブル40は半導体素子1のモールド面にレーザーで品番
等をマーキングするテーブルで、この捺印テーブル40
を省略したのが図7に示す第2の実施の形態の複合処理
装置である。
【0026】最上流側のターンテーブルであるピックア
ップテーブル20の周縁部には、例えば15等配位置に
計15本の吸着ノズル21,…を有し、この吸着ノズル
21の配列ピッチでピックアップテーブル20が間欠回
転して吸着ノズル21が1本ずつピックアップポジショ
ンPaに送られる。図2(C)に示すようにピックアッ
プテーブル20の吸着ノズル21は下向きで、ピックア
ップポジションPaに搬入されると吸着ノズル21の下
端が供給テーブル10の1個以上例えば1個の半導体素
子1の実装面中央部を真空吸着して、半導体素子1をウ
ェーハシート2からピックアップする。
【0027】このようなピックアップ動作は、供給テー
ブル10側のウェーハシート2を伸展させ、かつ、突き
上げピン12で半導体素子1を突き上げておくことで高
インデックスで容易、確実に行える。また、供給テーブ
ル10のウェーハシートユニット4は、リードレス半導
体素子製造行程のブレージング行程に使用される既存ユ
ニットであり、ブレージング行程を終了したものをその
まま供給テーブル10に移動させて複合処理設備への半
導体素子供給手段として使用することで、ブレージング
された個々のリードレス半導体素子を整列トレー等に移
す必要が無くなり、ブレージング行程と複合処理工程の
間の作業インデックスを上げることが容易になる。ま
た、供給テーブル10のウェーハシート2からピックア
ップテーブル20の吸着ノズル21に半導体素子1が直
接に受け渡されて、半導体素子1の個々がバラ扱いされ
ないので、テーブル間移動時に半導体素子1が振動や衝
撃で割れたり欠けたりする可能性が激減する。このこと
は各ターンテーブル間でも同様であって、最終的にテー
ピング梱包されるリードレス半導体素子の歩留まりが向
上する。
【0028】測定テーブル30はピックアップテーブル
20から半導体素子1を1個以上例えば2個ずつ受け取
って1個以上ずつ例えば2個同時に特性測定するターン
テーブルで、周縁部に一対の吸着ノズル31,32の複
数対を例えば8等配位置に有する。一対の吸着ノズル3
1,32例えば2個の配列ピッチとピックアップテーブ
ル20の隣接する2本の吸着ノズル21,21の配列ピ
ッチが同一にしてある。ピックアップテーブル20のピ
ックアップポジションPaと反対側に1個以上例えば2
つの受け渡しポジションPb、Pcが設けられて、ピッ
クアップテーブル20が間欠回転して隣接する2本の吸
着ノズル21,21が受け渡しポジションPb、Pcに
同時移動すると、同ポジションPb、Pcに測定テーブ
ル30の一対の吸着ノズル31,32が移動するように
測定テーブル30が間欠回転する。
【0029】測定テーブル30の吸着ノズル31,32
は上向きで、受け渡しポジションPb、Pcで図3
(A)に示すようにピックアップテーブル20の1本以
上例えば2本の吸着ノズル21,21から2個の半導体
素子1,1を同時に受け取る。測定テーブル30の周縁
部の8等配位置に設けられる8箇所の作業ポジションに
位置補正ポジションPdと測定ポジションPe、及び、
挿入テーブル50との交差ポジションである受け渡しポ
ジションPfが設けられ、他の作業ポジションは空ポジ
ションである。位置補正ポジションPdが図3(B)に
示され、測定ポジションPeが図3(C)に示される。
【0030】位置補正ポジションPdにはカメラ装置3
3が設置され、測定テーブル30の1回の間欠回転で位
置補正ポジションPdに一対の吸着ノズル31,32で
保持された1個以上例えば2個の半導体素子1,1が搬
入されると、この2個の半導体素子1,1の実装面をカ
メラ装置33のカメラが撮像し、撮像した画像を演算処
理して半導体素子実装面の電極端子1bの位置ズレを検
出して、位置補正信号を次の測定ポジションPeの特性
測定装置34に出力する。特性測定装置34は図3
(C)に示すように複数の測定プローブ35とこれを支
持して前後左右及び上下動させる駆動系36を有する。
測定プローブ35は、測定ポジションPeに搬入された
1個以上例えば2個の半導体素子1,1の実装面の電極
端子1bに個別に接触して、2個の半導体素子1,1の
特性測定を同時に行う。
【0031】測定テーブル30の1回の間欠回転で測定
ポジションPeに1個以上例えば2個の半導体素子1,
1が搬入されると、駆動系36がカメラ装置33からの
位置補正信号に基づいて測定プローブ35を2個の半導
体素子1,1との相対位置ズレを無くすように位置補正
の動作をさせて、1個以上例えば2個同時の特性測定が
行われる。この2個同時の特性測定の時間帯は、ピック
アップテーブル20が2回間欠回転して半導体素子1を
1個以上例えば1個ずつ計2個をピックアップする時間
帯であることから、測定テーブル30による半導体素子
2個同時の特性測定が時間的余裕を持って行え、これに
よって半導体素子1がミリサイズの小片チップであって
も安定した測定精度で特性測定することが容易となる。
また、半導体素子1の電極端子1bが微小面積で高密度
配置されていても、実装面を撮像して得られた位置補正
信号で測定プローブ35を位置補正動作させることで電
極端子1bに対応する測定プローブ35を正確に接触さ
せることが容易となり、測定精度が安定する。
【0032】なお、図3(C)の特性測定時において、
測定プローブ側を定位置制御させて半導体素子側を位置
補正動作させるようにしても、安定した精度で特性測定
することが可能である。この半導体素子側を位置補正動
作させる場合は、測定テーブル30の多数在る吸着ノズ
ル側を位置補正動作可能なように改変する必要がある。
従って、測定テーブル30の吸着ノズル31,32は半
導体素子1,1を安定して吸着させるだけにして、測定
プローブ35を位置補正動作させることが機構的かつ機
能的に望ましい。
【0033】測定テーブル30の受け渡しポジションP
fに一対の吸着ノズル31,32で特性測定済み半導体
素子1,1が搬入されると、測定テーブル30と挿入テ
ーブル50の間に設置された例えば反転ドラム(図示せ
ず)が吸着ノズル31,32から半導体素子1,1を受
け取った状態で上下に180°回転して半導体素子1,
1の上下を反転させる。
【0034】受け渡しポジションPfで測定テーブル3
0と交差する挿入テーブル50は、周縁部の例えば16
等配位置に16本の吸着ノズル51を有して、吸着ノズ
ル51の配列ピッチで間欠回転する。吸着茶ノズル51
は図4に示すような下向きノズルで、挿入テーブル50
の間欠回転で1本の吸着ノズル51が受け渡しポジショ
ンPfに移動すると、上記反転ドラムで上下反転された
半導体素子1の上向きモールド面が吸着ノズル51の下
端に吸着されて反転ドラムから吸着ノズル51に受け渡
される。
【0035】挿入テーブル50の間欠回転で吸着ノズル
51に吸着された半導体素子1が後続の各種作業ポジシ
ョン、例えば捺印テーブル40と交差する受け渡しポジ
ションPg,Phや実装面認識ポジション、不良品振り
分けポジション、半導体素子姿勢補正ポジション等に順
に送られ、最終的にテーピング機60に良品だけが挿入
されてテーピング梱包される。このテーピング梱包は、
図6に示すようにエンボステープ61の1つのエンボス
部62に1個の半導体素子1をその実装面を下にして挿
入してから、エンボステープ61にカバーテープ(図示
せず)を貼り付けることで行われる。テーピング機60
は1台以上例えば3台が連続的に配置されて、この3台
に半導体素子が品質ランク別にテーピング梱包される。
或いは、3台のテーピング機60,…の内の2台でテー
ピング梱包され、残りの1台は他のテーピング機のテー
プ交換作業等の一時停止時の交換機として待機する。
【0036】捺印テーブル40は周縁部の例えば12等
配位置に上向きの吸着ノズル41を有し、この吸着ノズ
ル41の配列ピッチで間欠回転する。捺印テーブル40
の間欠回転で1本の吸着ノズル41が挿入テーブル50
との受け渡しポジションPgに移動すると、図5に示す
ように上向きの吸着ノズル41に挿入テーブル50の下
向きの吸着ノズル51から半導体素子1が受け渡され
る。この半導体素子1は捺印テーブル40の間欠回転で
各種の処理ポジション、例えば欠陥認識ポジション、捺
印ポジション、ブラッシングポジション、文字認識ポジ
ションに順に送られて、最終的に挿入テーブル50との
受け渡しポジションPhに送られる。前記欠陥認識ポジ
ションでは半導体素子1のモールド面の割れ等の欠陥の
有無が検査され、ここでの欠陥品は排除される。また、
前記捺印ポジションで半導体素子1のモールド面に品番
等がレーザーマーキング法で捺印され、ブラッシングポ
ジションでレーザーマーキングにより発生した樹脂屑が
排除され、文字認識ポジションで捺印の良否が検査され
て、最終的に受け渡しポジションPhに送られ、受け渡
しポジションPhから挿入テーブル50の吸着ノズル5
1に受け渡される。
【0037】以上の実施の形態の複合処理装置は、供給
テーブル10に供給されるウェーハシートユニット4の
リードレス半導体素子1が捺印されていない場合のもの
で、ウェーハシートユニット4のウェーハシート2に保
持されたリードレス半導体素子1が捺印済みの場合は、
図7に示す複合処理装置のように挿入テーブル50から
捺印テーブルを取り外して省略することで対処できる。
【0038】
【発明の効果】本発明方法によれば、CSP等のリード
レス半導体素子の個々がウェーハシートに保持された状
態で1個以上例えば1個ずつピックアップされて各種処
理ポジションに送られるので、従来において作業インデ
ックスを遅らせる要因となっている整列トレーやパーツ
フィーダを使用すること無くリードレス半導体素子の複
合処理設備への供給ができて、複合処理の作用インデッ
クスを上げることが容易になる効果がある。また、ウェ
ーハシートからリードレス半導体素子を1個以上例えば
1個ずつピックアップして、1個以上例えば2個ずつ同
時に特性測定し、その後1個以上例えば1個ずつ必要な
各種処理をして最終的にテーピング梱包するので、半導
体素子の特性測定が時間的余裕を持って高精度に行える
効果がある。
【0039】また、本発明装置によれば、リードレス半
導体素子の個々がウェーハシートに保持された状態で供
給テーブルで所定のピックアップポジションに送られて
最初のターンテーブルのハンドリング機構でピックアッ
プされ、各ターンテーブルに順に送られて各種処理が行
われてから最終的にテーピング機でテーピング梱包され
るので、リードレス半導体素子製造のブレージング行程
を経たウェーハシートをそのまま供給テーブルに移動さ
せることでブレージングされた個々のリードレス半導体
素子を整列トレー等に移さずに直接的に複合処理工程に
送ることができて、複合処理工程の作業インデックスを
上げ、インライン処理される半導体製造の前行程とイン
ライン対応させることが容易になる。また、リードレス
半導体素子が1個ずつ供給テーブルのウェーハシートか
ら各ターンテーブルのハンドリング機構に受け渡たされ
て最後にテーピング梱包されるので、半導体素子のテー
ブル間移動がスムーズに行われて半導体素子が振動や衝
撃で割れたり欠けたりする可能性が減少し、テーピング
梱包されるリードレス半導体素子の歩留まりが向上す
る。
【0040】また、供給テーブルにウェーハシートユニ
ットのウェーハシートを伸展させて複数のリードレス半
導体素子を分離させるシート伸展機構を装備させること
で、ブレージング行程を経たウェーハシートユニットを
そのまま供給テーブルに移動させることができて、ウェ
ーハシートユニットの取り扱いが便利になる。
【0041】また、供給テーブルに隣接するターンテー
ブルのピックアップテーブルでピックアップポジション
から半導体素子を1個以上例えば1個ずつピックアップ
して次のターンテーブルへと移送し、このピックアップ
テーブルの次のターンテーブルの測定テーブルでピック
アップテーブルから1個以上例えば2個ずつの半導体素
子を受け取って1個以上例えば2個ずつ同時に特性測定
するようにすることで、測定テーブルはピックアップテ
ーブルがウェーハシートから半導体素子を1個ずつ計2
個をピックアップする時間帯で各1個の半導体素子の特
性測定をすることになって、ミリサイズまで小形化され
たリードレス半導体素子の特性測定を時間的余裕を持っ
て安定した精度で、かつ、高インデックスで行うことが
できる。
【0042】また、測定テーブルの周縁部に1個以上例
えば2個の半導体素子を撮像した画像から位置認識をす
る位置補正ポジションと、この位置補正ポジションから
の位置補正情報に基づいて1個以上例えば2個の半導体
素子の特性を測定する測定プローブと測定対象の半導体
素子の相対位置を補正する動作をして1個以上例えば2
個の半導体素子の特性を測定する測定ポジションを設け
て特性測定することで、ミリサイズまで小形化されたリ
ードレス半導体素子が特性測定時に若干の位置ズレを起
こしていても、この位置ズレを補正して高精度な特性測
定を実行することが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を示す複合処理装置
の概略平面図。
【図2】(A)〜(C)は図1装置における供給テーブ
ルでのリードレス半導体素子の各動作状況を示す部分側
面図。
【図3】(A)〜(C)は図1装置における測定テーブ
ルでの半導体素子の各動作状況を示す部分側面図。
【図4】図1装置における捺印テーブルの部分側面図。
【図5】図1装置における挿入テーブルの部分側面図。
【図6】図1装置におけるテーピング機のテープ部分断
面図。
【図7】本発明の第2の実施の形態を示す複合処理装置
の概略平面図。
【符号の説明】
1 リードレス半導体素子 2 ウェーハシート 3 ウェーハリング 4 ウェーハシートユニット 5 シート伸展機構 10 供給テーブル Pa ピックアップポジション 20 ターンテーブル、ピックアップテーブル 21 ハンドリング機構、吸着ノズル 30 ターンテーブル、測定テーブル 31,32 ハンドリング機構、吸着ノズル Pd 位置補正ポジション Pe 測定ポジション 40 ターンテーブル、捺印テーブル 41 ハンドリング機構、吸着ノズル 50 ターンテーブル、挿入テーブル 51 ハンドリング機構、吸着ノズル 60 テーピング機

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェーハシートに貼着された複数のリー
    ドレス半導体素子を有するウェーハシートユニットのウ
    ェーハシートを伸展させて複数の半導体素子を分離させ
    る行程と、ウェーハシートから半導体素子を1個以上ず
    つピックアップする行程と、このピックアップされた半
    導体素子の1個以上ずつを所定の測定ポジションに移送
    して1個以上同時に特性測定する行程と、測定ポジショ
    ンから半導体素子をピックアップして1個以上ずつ後続
    の処理ポジションに順に移送して最終処理ポジションで
    半導体素子を1個以上ずつテーピング梱包する行程と、
    を有することを特徴とするリードレス半導体素子の複合
    処理方法。
  2. 【請求項2】 上記ウェーハシートからリードレス半導
    体素子を1個以上ずつピックアップしてから、このピッ
    クアップされた半導体素子の1個以上ずつを所定の位置
    補正ポジションに移送してカメラによる位置認識処理を
    し、この位置認識処理された半導体素子を次の測定ポジ
    ションに移送して特性測定することを特徴とする請求項
    1記載のリードレス半導体素子の複合処理方法。
  3. 【請求項3】 ウェーハシートに貼着された複数のリー
    ドレス半導体素子を有するウェーハシートユニットを脱
    着可能に支持して任意の半導体素子を1個以上ずつ所定
    のピックアップポジションに移動させる供給テーブル
    と、この供給テーブルから離れた定位置で半導体素子を
    1個以上ずつテーピング梱包するテーピング機と、前記
    供給テーブルとテーピング機の間に連続的に配置された
    複数種類のターンテーブルとを備え、複数種類の各ター
    ンテーブルは周縁部等配位置に1個以上の半導体素子を
    着脱自在に保持して隣接する上流側ターンテーブルから
    下流側ターンテーブルへと半導体素子の受け渡しをする
    ハンドリング機構を有して、このハンドリング機構で保
    持された半導体素子に対して特性測定等の各種処理を行
    うことを特徴とするリードレス半導体素子の複合処理装
    置。
  4. 【請求項4】 上記供給テーブルは、支持したウェーハ
    シートユニットのウェーハシートを伸展させて複数のリ
    ードレス半導体素子を分離させるシート伸展機構を有す
    ることを特徴とする請求項3記載のリードレス半導体素
    子の複合処理装置。
  5. 【請求項5】 上記供給テーブルに隣接するターンテー
    ブルが間欠回転する毎に上記ピックアップポジションか
    ら半導体素子を1個以上ずつピックアップして次のター
    ンテーブルへと移送するピックアップテーブルであり、
    このピックアップテーブルの次のターンテーブルが間欠
    回転する毎にピックアップテーブル周縁部の連続する複
    数のハンドリング機構から1個以上ずつの半導体素子を
    受け取って1個以上ずつ同時に特性測定する測定テーブ
    ルであることを特徴とする請求項3又は4記載のリード
    レス半導体素子の複合処理装置。
  6. 【請求項6】 上記測定テーブルの周縁部に配置される
    複数の処理ポジションが、測定テーブルのハンドリング
    機構に保持された1個以上の半導体素子をカメラで撮像
    した画像から位置認識をする位置補正ポジションと、こ
    の位置補正ポジションより後続で位置補正ポジションか
    らの位置補正情報に基づいて1個以上の半導体素子とこ
    の半導体素子の特性を測定する測定プローブの相対位置
    を補正して測定開始する測定ポジションを有することを
    特徴とする請求項5記載のリードレス半導体素子の複合
    処理装置。
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