JP2002244280A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JP2002244280A JP2002244280A JP2001039659A JP2001039659A JP2002244280A JP 2002244280 A JP2002244280 A JP 2002244280A JP 2001039659 A JP2001039659 A JP 2001039659A JP 2001039659 A JP2001039659 A JP 2001039659A JP 2002244280 A JP2002244280 A JP 2002244280A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- melting point
- manufactured
- acid
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
て好適な感光性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 融点が80℃以上のワックスを含む感光
性樹脂組成物。
Description
キシブルプリント配線板、あるいはBGA(ボール グ
リッド アレイ)、CSP(チップ サイズ パッケー
ジ)等のLSIパッケージの製造に使用されるソルダー
レジスト組成物として好適に用いられる感光性樹脂組成
物に関する。
において使用されているが、近年はBGAやCSPとい
った新しいLSIパッケージにも使用されるようになっ
てきた。ソルダーレジストはソルダリング工程で半田が
不必要な部分に付着するのを防ぐ保護膜として、また永
久マスクとして必要不可欠な材料である。ソルダーレジ
ストとしては熱硬化型のものをスクリーン印刷法で印刷
して施す方法がある。近年、配線の高密度化に伴いスク
リーン印刷法では解像度の点で限界があり、写真法でパ
ターン形成するフォトソルダーレジストが盛んに用いら
れるようになっている。中でも炭酸ソーダ溶液等の弱ア
ルカリ溶液で現像可能なアルカリ現像型のものが作業環
境保全、地球環境保全の点から主流になっている。この
ようなものとして特開昭61−243869号公報、特
開平1−141904号公報に示されるものが知られて
いる。しかしアルカリ現像型のフォトソルダーレジスト
は、耐久性の点ではまだまだ問題がある。すなわち従来
の熱硬化型のものに比べて耐サーモサイクルテスト性、
耐リフロークラック性が劣る。これらの欠点を改良した
ものにエラストマーを含有させたアルカリ現像型のフォ
トソルダーレジストがあり、特開平10−91129号
公報及び特開平10−91130号公報にはこのエラス
トマー含有タイプの感光性樹脂が提示されている。しか
しながらこのタイプには露光時に、タック性が劣り(粘
着性があり)、ネガフィルム等を汚染しやすいという欠
点がある。
解決するものであり、タック性が良いソルダーレジスト
組成物として好適な感光性樹脂組成物を提供するもので
ある。
解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のワックス
が優れたタック性を発現することを見出し、この知見に
基づいて本発明を完成するに至った。すなわち本発明
は、 融点が80℃以上のワックス(A)を含む感光性
樹脂組成物に関する。また本発明は、 融点が80℃以
上のワックス(A)の他にカルボキシル基を有する感光
性樹脂(B)、エポキシ硬化剤(C)及び光重合開始剤
(D)を含む前記記載の感光性樹脂組成物に関する。ま
た本発明は、カルボキシル基を有する感光性樹脂(B)
がエポキシ化合物(a)と不飽和モノカルボン酸とのエ
ステル化物に飽和又は不飽和多塩基酸無水物を付加した
付加反応物である前記記載の感光性樹脂組成物に関す
る。また本発明は、エラストマー(E)を含む前記記載
の感光性樹脂組成物に関する。
以上のワックス(A)としては、脂肪酸アマイドが好適
に用いられる。脂肪酸アマイドは、分子内に直鎖のアル
キル基と極性の強いアミド基を持ち、水素結合により会
合しているため特異的な物理かつ化学的な性質を有し、
特に、物質の表面において特異な挙動を示します。ワッ
クス(脂肪酸アマイド)としては、例えば、モノアマイ
ド類が適しており、ラウリン酸アマイド(融点87℃の
日本化成製ダイヤミッドY)、パルミチン酸アマイド
(融点100℃の日本化成製のダイヤミッドKP)、ス
テアリン酸アマイド(融点101℃の日本化成製アマイ
ドAP−1、融点101℃のダイヤミッド200、融点
107℃のアマイドAP95、融点99−105℃の日
本精化製ニュートロン−2、融点95−105℃の日本
油脂製アルフローS−10、融点100−105℃花王
製脂肪酸アマイドS、T)、ベヘン酸アマイド(融点9
8の℃日本化成製ダイヤミッドKN、融点110℃のダ
イヤミッドB−90、融点105−115℃の日本精化
製BNT)、ヒドロキシステアリン酸アマイド(融点1
07℃の日本化成製ダイヤミッドKH)、エルカ酸アマ
イド(融点81〜82℃のダイヤミッドL、融点79−
84℃の日本精化製NEUTRON−S)、N−オレイ
ル12ヒドロキシステアリン酸アマイド(融点90の℃
日本化成製ニッカアマイドOH)、オレイン酸アマイド
(融点70−78℃の日本油脂製アルフローE−10)
等が挙げられる。また、メチロールアマイド類としてメ
チロールステアリン酸アマイド(融点110℃の日本化
成製メチロールアマイド)やメチロールベヘン酸アマイ
ド(融点110℃の日本化成製クローバーエースKN)
等も好適に用いられる。それ以外に適しているワックス
(脂肪酸アマイド)としては、例えば、ビスアマイド類
も挙げられ、メチレンビスステアリン酸アマイド(融点
142℃の日本化成製ビスアマイドLA、融点142℃
のダイヤミッド200ビスLA)、メチレンビスラウリ
ン酸アマイド(融点131℃の日本化成製ビスアマイド
12)、メチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド
(融点143℃の日本化成製ビスアマイドKH)、エチ
レンビスカプリル酸アマイド(融点165℃の日本化成
製スリパックス8)、エチレンビスカプリン酸アマイド
(融点161℃の日本化成製スリパックスC)、エチレ
ンビスラウリン酸アマイド(融点157℃の日本化成製
スリパックスL)、エチレンビスステアリン酸アマイド
(融点145℃の日本化成製スリパックスE、融点15
1℃の日本油脂製アルフローH−50、融点141.5
−146.5℃の花王製カオーワックスEB)、エチレ
ンビスイソステアリン酸アマイド(融点106℃の日本
化成製スリパックスI)、エチレンビスヒドロキシステ
アリン酸アマイド(融点145℃の日本化成製スリパッ
クスH)、エチレンビスベヘン酸アマイド(融点142
℃の日本化成製スリパックスB)、ヘキサメチレンビス
ステアリン酸アマイド(融点140℃の日本化成製スリ
パックスZHS)ヘキサメチレンビスベヘン酸アマイド
(融点142℃の日本化成製スリパックスZHB)、ヘ
キサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド(融
点142℃の日本化成製スリパックスZHH)、ブチレ
ンビスヒドロキシステアリン酸アマイド(融点140℃
の日本化成製スリパックスZBH)、N,N′−ジステ
アリルアジピン酸アマイド(融点141℃の日本化成製
スリパックスZSA)、N,N′−ジステアリルセバシ
ン酸アマイド(融点136℃の日本化成製スリパックス
ZSS)等が好適に用いられる。また、メチレンビスオ
レイン酸アマイド(融点116℃の日本化成製ビスアマ
イドO)、エチレンビスオレイン酸アマイド(融点11
9℃の日本化成製スリパックスO)、エチレンビスエル
カ酸アマイド(融点120℃の日本化成製スリパックス
R)、ヘキサメチレンビスオレイン酸アマイド(融点1
10℃の日本化成製スリパックスZHO)、N,N′−
ジオレイルアジピン酸アマイド(融点118℃の日本化
成製スリパックスZOA)、N,N′−ジオレイルセバ
シン酸アマイド(融点113℃の日本化成製スリパック
スZOS)、m−キシリレンビスステアリン酸アマイド
(融点123℃の日本化成製スリパックスPXS)、
N,N′−ジステアリルイソフタル酸アマイド(融点1
25℃の日本化成製スリパックスPSI)等も好適に用
いられる。これらのワックスは、レジスト塗布のタック
性の点から融点が80℃以上である必要があり、タック
性の点から85℃以上であることが好ましく、95〜2
00℃であることが更に好ましい。
る感光性樹脂(B)としては、エポキシ化合物(a)と
不飽和モノカルボン酸のエステル化物に飽和又は不飽和
多塩基酸無水物を付加した付加反応物等が好適に用いら
れる。エポキシ化合物(a)としては例えばフェノー
ル、クレゾール、ハロゲン化フェノール及びアルキルフ
ェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で反応し
て得られるノボラック類とエピクロルヒドリンを反応さ
せて得られるノボラック型エポキシ化合物が適してお
り、東都化成社製YDCN−701,704、YDPN
−638,602、ダウケミカル社製DEN−431,
439、チバ・ガイギ社製EPN−1299、大日本イ
ンキ化学工業社製N−730、770、865、66
5、673、VH−4150,4240,日本化薬社製
EOCN−120、BREN等が挙げられる。又ノボラ
ック型エポキシ化合物以外にも、例えばサリチルアルデ
ヒド−フェノールあるいはクレゾール型エポキシ化合物
(日本化薬社製EPPN502H,FAE2500等)
が好適に用いられる。また、例えば油化シェル社製エピ
コート828、1007、807、大日本インキ化学工
業社製エピクロン840、860、3050、ダウ・ケ
ミカル社製DER−330、337、361、ダイセル
化学工業社製セロキサイド2021、三菱ガス化学社製
TETRAD−X,C、日本曹達社製EPB−13、2
7、チバ・ガイギ社製GY−260,255、XB−2
615等のビスフェノールA型、ビスフェノールF型、
水添ビスフェノールA型、臭素化ビスフェノールA型、
アミノ基含有、脂環式あるいはポリブタジエン変性等の
グリシジルエーテル型等のエポキシ化合物も好適に用い
られる。あるいは特開平8−260008号公報に記し
てあるポリアミド、ポリアミドイミド系エポキシ化合物
も使用できる。これらの混合物あるいはブロック共重合
物も使用できる。
タ)アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸及び飽和又は不飽
和多塩基酸無水物と1分子中に1個の水酸基を有する
(メタ)アクリレート類あるいは飽和又は不飽和二塩基
酸と不飽和モノグリシジル化合物との半エステル化合物
類との反応物、例えばフタル酸、テトラヒドロフタル
酸、へキサヒドロフタル酸、マレイン酸、コハク酸とヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、グリシ
ジル(メタ)アクリレートを常法により等モル比で反応
させて得られる反応物が挙げられる。これらの不飽和モ
ノカルボン酸は単独又は混合して用いることができる。
これらの中でアクリル酸が好ましい。
はフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタ
ル酸、マレイン酸、コハク酸、トリメリット酸等の無水
物が用いられる。
気特性他の特性バランス上、40〜250、好ましくは
50〜150である。
脂にさらに、イソシアネートエチル(メタ)アクリレー
ト、あるいはトリレンジイソシアネート又はイソホロン
ジイソシアネートと1分子中に水酸基を1個以上有する
(メタ)アクリレート類、例えばヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレートとの等モル反応物を反応させてウレタ
ン結合を介して不飽和結合を導入してもよい。
(B)としては、他にカルボキシル基と(メタ)アクリ
レート基を有する特公平7−92603号公報あるいは
特開昭63−205649号公報に示されるアクリル
系、スチレン系樹脂を使用してもよい。
性樹脂(B)の好ましい配合は10〜90重量%であ
る。
は、分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹
脂が好ましく、東都化成社製YDC1312、新日鐵化
学社製ESLVー80XY、ESLVー90CRがあ
る。またビスフェノールF型エポキシ樹脂が使用でき
る。またビスフェノールA型、S型エポキシ樹脂及びそ
の臭素化物等の誘導体、フェノールあるいはクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹
脂、例えば「YX4000」(油化シェルエポキシ社
製)、特殊グリシジルエーテル系エポキシ樹脂、例えば
「TACTIX742」(ダウケミカル社製)、「ZX
1257」(東都化成社製)、ESLV−120TE、
−80DE(新日鉄化学社製商品名)等のグリシジルエ
ーテル系エポキシ樹脂;グリシジルエステル系エポキシ
樹脂、例えば「デナコールEX711」(ナガセ化成工
業社製)、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、例えば
「YH434」(東都化成社製)、ナフタレン型エポキ
シ樹脂、例えば「エピクロンHP−4032」(大日本
インキ化学工業社製)、ジシクロ型エポキシ樹脂、例え
ば「エピクロンHP7200H」(大日本インキ化学工
業社製)、環式脂肪族エポキシ樹脂、複素環式エポキシ
樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、トリグリシジルイ
ソシアヌレート等の特殊エポキシ樹脂等が挙げられる。
好ましくは2〜3官能のエポキシ樹脂が耐湿熱性、耐T
CT性、機械特性の点から好適である。
てもよいし、有していなくてもよい。感光基を有するエ
ポキシ硬化剤としてはカルボキシル基を有する感光性樹
脂(A)を得る前段階の酸無水物を反応させないノボラ
ック型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸のエステ
ル化物であるエポキシアクリレート化合物が好適に用い
られる。さらにエポキシアクリレート化合物等をウレタ
ン結合を介して導入したウレタン化物等も好適に用いら
れる。
は感光性樹脂組成物に対して0.1〜40重量%、更に
好ましくは1〜30重量%である。
しては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン類、アセト
フェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフ
ェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−
[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプ
ロパン−1−オン、2,2−ジエトキシアセトフェノ
ン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセト
フェノン類、2−メチルアントラキノン、2−エチルア
ントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、
1−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノ
ン、2−アミノアントラキノン等のアントラキノン類、
2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチ
オキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジ
イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類、ア
セトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタ
ール等のケタール類、ベンゾフェノン、メチルベンゾフ
ェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、4,4′
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ミヒラーズ
ケトン、4−ベンゾイル−4′−メチルジフェニルサル
ファイド等のベンゾフェノン類、2−(o−クロロフェ
ニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−
(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−−メトキシ
フェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2
−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,
5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−
メトキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール二量
体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリ
ールイミダゾール二量体、9−フェニルアクリジン、
1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン等の
アクリジン誘導体、2,4,6−トリメチルベンゾイル
ジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられ、これ
らは単独であるいは2種以上を組み合わせて用いること
ができる。光重合開始剤(D)の好ましい配合割合は感
光性樹脂組成物に対して0.1〜20重量%、更に好ま
しくは1〜10重量%である。
アミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチ
ルアミノベンゾエート、ジメチルエタノールアミン、ト
リエチルアミン、トリエタノールアミン等の3級アミン
類がある。これらは、単独あるいは混合して感光性樹脂
組成物中の0.1〜20重量%の範囲で用いることがで
きる。
しては、スチレン系エラストマー,オレフィン系エラス
トマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラ
ストマー、ポリアミド系エラストマー、アクリル系エラ
ストマー及びシリコーン系エラストマーが挙げられる。
ン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー、スチレ
ン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー、スチレ
ン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックコポリマ
ー、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロッ
クコポリマーが挙げられる。スチレン系エラストマーを
構成する成分であるスチレンのほかに、α−メチルスチ
レン、3−メチルスチレン、4−プロピルスチレン、4
−シクロヘキシルスチレン等のスチレン誘導体を用いる
ことができる。具体的には、タフプレン、ソルプレン
T、アサプレンT、タフテック(以上、旭化成工業
(株)製)、エラストマーAR(アロン化成製)、クレ
イトンG、カリフレックス(以上、シェルジャパン
製)、JSR−TR、TSR−SIS、ダイナロン(以
上、日本合成ゴム(株)製)、デンカSTR(電気化学
製)、クインタック(日本ゼオン製)、TPE−SBシ
リーズ(住友化学(株)製)、ラバロン(三菱化学
(株)製)、セプトン,ハイブラ−(以上、クラレ
製)、スミフレックス(住友ベーク(株)製)、レオス
トマー、アクティマ−(以上、理研ビニル工業製)等が
挙げられる。
プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチルー
ペンテン等の炭素数2〜20のα−オレフィンの共重合
体であり、例えば、エチレン−プロピレン共重合体(E
PR)、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体(EP
DM)等が挙げられ、また、ジシクロペンタジエン、
1,4−ヘキサジエン、シクロオクタンジエン、メチレ
ンノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ブタジエ
ン、イソプレン等の炭素数2〜20の非共役ジエンとα
−オレフィン共重合体が挙げられる。また、ブタジエン
−アクニロニトリル共重合体にメタクリル酸を共重合し
たカルボキ変性NBRが挙げられる。具体的には、エチ
レン・α−オレフィン共重合体ゴム、エチレン・α−オ
レフィン・非共役ジエン共重合体ゴム、プロピレン・α
−オレフィン共重合体ゴム、ブテン・α−オレフィン共
重合体ゴム等が挙げられる。更に、具体的には、ミラス
トマ(三井石油化学製)、EXACT(エクソン化学
製)、ENGAGE(ダウケミカル製)、水添スチレン
−ブタジエンラバ−“DYNABON HSBR”(日
本合成ゴム製)、ブタジエン−アクリロニトリル共重合
体“NBRシリーズ”(日本合成ゴム製)、あるいは架
橋点を有する変性ブタジエン−アクニロニトリル共重合
体の“XER91等のXERシリーズ”(日本合成ゴム
製)等が挙げられる。
ングリコールとジイソシアネートからなるハードセグメ
ントと高分子(長鎖)ジオールとジイソシアネートから
なるソフトセグメントとの構造単位からなり、高分子
(長鎖)ジオールとして、ポリプロピレングリコール、
ポリテトラメチレンオキサイド、ポリ(1、4−ブチレ
ンアジペート)、ポリ(エチレン・1,4−ブチレンア
ジペート)、ポリカプロラクトン、ポリ(1,6−ヘキ
シレンカーボネート)、ポリ(1,6−へキシレン・ネ
オペンチレンアジペート)等が挙げられる。高分子(長
鎖)ジオールの数平均分子量は、500〜10,000
が好ましい。エチレングリコールの他に、プロピレング
リコール、1,4−ブタンジオール、ビスフェノールA
等の短鎖ジオールを用いることができ、短鎖ジオールの
数平均分子量は、48〜500が好ましい。ウレタンエ
ラストマーの具体例として、PANDEX T−218
5,T−2983N(大日本インキ製)、シラクトラン
E790等が挙げられる。
カルボン酸又はその誘導体とジオール化合物又はその誘
導体を重縮合して得られる。ジカルボン酸の具体例とし
て、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボ
ン酸等の芳香族ジカルボン酸及びこれらの芳香核の水素
原子がメチル基、エチル基、フェニル基等で置換された
芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカ
ンジカルボン酸等の炭素数2〜20の脂肪族ジカルボン
酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式ジカ
ルボン酸などが挙げられる。これらの化合物は2種以上
用いることができる。ジオール化合物の具体例として、
エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,
4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,
10−デカンジオール、1,4−シクロヘキサンジオー
ル等の脂肪族ジオール及び脂環式ジオール、又は、その
具体例として、ビスフェノールA、ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−メタン、ビス−(4−ヒドロキシ−3
−メチルフェニル)−プロパン、レゾルシン等が挙げら
れる。これらの化合物は2種以上用いることができる。
また、芳香族ポリエステル(例えば、ポリブチレンテレ
フタレート)部分をハードセグメント成分に、脂肪族ポ
リエステル(例えば、ポリテトラメチレングリコール)
部分をソフトセグメント成分にしたマルチブロック共重
合体を用いることができる。ハードセグメントとソフト
セグメントの種類、比率、分子量の違いによりさまざま
なグレードのものがある。具体例として、ハイトレル
(デュポン−東レ製)、ペルプレン(東洋紡績製)、エ
スペル(日立化成製)等が挙げられる。
ポリアミドを、ソフト相にポリエーテルやポリエステル
を用いたポリエーテルブロックアミド型とポリエーテル
エステルブロックアミド型の2種類に大別され、ポリア
ミドとしては、ポリアミドー6、11、12等が用いら
れ、ポリエーテルとしては、ポリオキシエチレン、ポリ
オキシプロピレン、ポリテトラメチレングリコール等が
用いられる。具体的には,UBEポリアミドエラストマ
(宇部興産製)、ダイアミド(ダイセルヒュルス製)、
PEBAX(東レ製)、グリロンELY(エムスジャパ
ン製)、ノバミッド(三菱化学製)、グリラックス(大
日本インキ製)等が挙げられる。
ステルを主成分とし、エチルアクリレート、ブチルアク
リレート、メトキシエチルアクリレート、エトキシエチ
ルアクリレート等が用いられ、また、架橋点モノマーと
して、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエ
ーテル等が用いられる。さらに、アクリルニトリルやエ
チレンを共重合することもできる。具体的には、アクリ
ロニトリル−ブチルアクリレート共重合体、アクリロニ
トリル−ブチルアクリレト−エチルアクリレート共重合
体、アクリロニトリル−ブチルアクリレート−グリシジ
ルメタクリレート共重合体等が挙げられる。
ガノポリシロキサンを主成分したもので、ポリジメチル
シロキサン系,ポリメチルフェニルシロキサン系,ポリ
ジフェニルシロキサン系に分けられる。一部をビニル
基,アルコキシ基等で変性したものもある。具体例とし
て、コアシェル型シリコーンゴムSYシリーズ(ワッカ
ー社製)KEシリーズ(信越化学製)SEシリーズ,C
Yシリーズ,SHシリーズ(以上、東レダウコーニング
シリコーン製)等が挙げられる。
性したエポキシ化合物を用いることができる。ゴム変性
エポキシ化合物として以下のものが使用できる。例えば
エポキシ化ポリブタジエンPB3600,PB4700
(ダイセル化学工業社製)、エポキシ化ブタジエン−ス
チレン エポブレンドAT014等(ダイセル化学工業
社製)、あるいはポリジメチルシロキサンのエポキシ化
合物 X22−163B,KF100T(信越シリコン
社製)が挙げられる、また、両末端カルボン酸のアクリ
ロニトリル−ブタジエンゴムに上述のビスフェノール
F、A型エポキシの一部を反応させることにより得られ
る。またこれらゴム変性エポキシ化合物は、感光性樹脂
(A)のエポキシ化合物(a)として使用することもで
きる。
性、耐リフロー性(封止材とのせん断密着性)の点で、
ブタジエン−アクニロニトリル系エラストマー、ポリエ
ステル系エラストマー、シリコーン系エラストマー、ゴ
ム変性エポキシ化合物を含有する感光性樹脂組成物が好
ましい。
脂樹組成物中の、好ましくは1〜50重量%、更に好ま
しくは2〜40重量%用いられる。1重量%未満では、
耐TCT性に効果が無く、50重量部を超えると耐熱
性、現像性等劣る傾向がある。
ミン、トリアジン化合物及びその誘導体を含有させるこ
とができる。メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグア
ナミン、メラミン−フェノール−ホルマリン樹脂、四国
化成工業社製;2MZ−AZINE,2E4MZ−AZ
INE,C11Z−AZINE、2MA−OK等が挙げ
られる。あるいはエチルジアミノ−S−トリアジン、
2,4−ジアミノ−S−トリアジン、2,4−ジアミノ
−6−キシリル−S−トリアジン等のトリアジン誘導体
類が挙げられる。これらの化合物は銅回路との密着性を
上げ耐PCT性を向上させ、電食性にも効果がある。こ
れらは感光性樹脂組成物に対して0.1%〜10重量%
で使用されるのが好ましい。
化促進剤が使用できる。硬化剤としては、三フッ化ホウ
素−アミンコンプレックス、ジシアンジアミド、有機酸
ヒドラジッド、ジアミノマレオニトリル、尿素、アミン
イミド、また、ヘキサメトキシメチル化メラミン等のア
ルキル化メラミン樹脂、ポリアミンの塩類、ジアミノジ
フェニルメタン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジ
フェニルメタン、メタキシレンジアミン、ジアミノジフ
ェニルスルホン、「ハードナーHT972」(チバガイ
ギ社製)等の芳香族アミン類、無水フタル酸、無水トリ
メリット酸、エチレングリコールビス(アンヒドロトリ
メリテート)、グリセロールトリス(アンヒドロトリメ
リテート)、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物等
の芳香族酸無水物、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水
フタル酸等の脂肪族酸無水物類、ポリビニルフェノー
ル、ポリビニルフェノール臭素化物、フェノールノボラ
ック、アルキルフェノールノボラック等のポリフェノー
ル類等がある。熱硬化促進剤としては、アセチルアセト
ナートZn等のアセチルアセトンの金属塩、エナミン、
オクチル酸スズ、第4級フォスホニウム塩、トリフェニ
ルフォスフィン等の第3級フォスフィン類、トリ−n−
ブチル(2,5−ジヒドロキシフェニル)ホスホニウム
ブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロ
ライド等のホスホニウム塩類、ベンジルトリメチルアン
モニウムクロライド、フェニルトリブチルアンモニウム
クロライド等の4級アンモニウム塩類、ジフェニルヨー
ドニウムテトラフルオロポロエート、トリフェニルスル
ホニウムへキサフルオロアンチモネート等のポロエー
ト、アンチモネート類、ジメチルベンジルアミン、1,
8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン、m−ア
ミノフェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノ
フェノール)、テトラメチルグアニジン等の第3級アミ
ン類、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチ
ルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾー
ル、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メ
チル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾ
ール類が挙げられ、単独あるいは混合系で使用できる。
硬化剤、熱硬化促進剤はそれぞれ感光性樹脂組成物の
0.01重量%から10重量%の範囲で使用できる。
じて光感度、各種特性を向上させる目的で各種感光性モ
ノマーを加えて使用することもできる。例えば、2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メ
タ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルア
ミド、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコールのモノあるいは多
官能(メタ)アクリレート類、ビスフェノールAのポリ
エチレングリコールあるいはプロピレングリコール付加
物のモノ又は多官能(メタ)アルリレート類、トリス
(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸のモノあるい
は多官能(メタ)アクリレート類、トリグリシジルイソ
シアヌレートなどのグリシジルエーテルの(メタ)アク
リレート類、ジアリルフタレート等の光重合性モノマー
が使用できる。これらは単独あるいは混合系で使用でき
る。
て有機溶剤で希釈することができる。例えばエチルメチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素、メチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレング
リコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル
類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテ
ート、カルビトールアセテート等のエステル類、エタノ
ール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレン
グリコール等のアルコール類、オクタン、デカン等の脂
肪族炭化水素、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナ
フサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等を挙げること
ができる。
度等の特性を向上する目的で必要に応じて硫酸バリウ
ム、チタン酸バリウム、粉状酸化珪素、無定形シリカ、
タルク、クレー、焼成カオリン、炭酸マグネシウム、炭
酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウ
ム、雲母粉等の無機充填剤が使用できる。その使用量は
好ましくは0〜60重量%である。更に必要に応じてフ
タロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、アイオ
ジングリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレ
ット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラ
ックなどの着色剤等を用いることができる。さらにハイ
ドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、te
rt−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジ
ン等の重合禁止剤、ベントン、モンモリロナイト、エア
ロジル等のチキソ性付与剤、シリコーン系、フッ素系、
高分子系等の消泡剤、レベリング剤、及びイミダゾール
系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリン
グ剤等の密着性付与剤のような添加剤類を用いることが
できる。
で配合した配合原料をロールミル、ビーズミル等で均一
に混合し、例えば次のように硬化させて、硬化物を得る
ことがでさる。即ちプリント配線板等に、スクリーン印
刷法、スプレー法、静電スプレー法、エアレススプレー
法、カーテンコータ法、ロールコート法等の方法により
10〜160μmの膜厚で本発明の組成物を塗布し、塗
膜を60〜110℃で乾燥させた後、ネガフィルムを塗
膜の上に置き、紫外線等の放射線を照射し次いで、未露
光部分を希アルカリ水溶液(例えば0.5〜2重量%炭
酸ソーダ水溶液等)で溶解除去(現像)した後、さらに
通常紫外線の照射及び又は加熱(例えば100〜200
℃で0.5〜1.0時間)によって十分な硬化を行い硬
化皮膜を得る。
板及びBGA、CSP等のパッケージ用のソルダーレジ
スト組成物として特に有用であるが、その他にも塗料、
ガラス、セラミック、プラスチック、紙等のコーティン
グ材にも使用できる。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
合組成に従って組成物を配合し、3本ロールミルで混練
し感光性樹脂組成物を調製した。これをスクリーン印刷
法により、120メシュのテトロンスクリーンを用い
て、約30μmの厚さ(乾燥後)になるように銅張り積
層板に塗布し、80゜Cで30分間熱風循環式乾燥機で
乾燥させた。次に、所定のパターンを有するネガマスク
を塗膜に密着させ紫外線露光装置を用いて、500mJ
/cm2露光した。このときにタック性を観た。その
後、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液剤で60秒間、
1.8kgf/cm2の圧力でスプレー現像し、未露光
部を溶解現像した。得られた像を用いて現像性を評価
し、次に150℃で1時間加熱し試験板を作成した。試
験板について、後述のはんだ耐熱性、PCT性、耐TC
T性を行った。表2に評価結果をまとめて示した。尚、
試験方法及び評価方法は以下のとおりである。
した。 ○・・・・ネガフィルムへの粘着性、汚染が全くない。 △・・・・ネガフィルムへの粘着性が若干有り。汚染は
無い。 ×・・・・ネガフィルムへの粘着性が顕著にあり、汚染
も認められる。 [現像性]:以下の評価基準で用いた。 ○・・・・現像後、完全に組成物が除去され、現像でき
た。 △・・・・現像後、わずかに残さあり ×・・・・現像後、現像されない部分あり [はんだ耐熱性]:試験片にロジン系フラックスを塗布
し260℃のはんだ槽に10秒間浸漬した。これを1サ
イクルとして、6サイクル繰り返した後、塗膜外観を目
視観察した。 ○・・・・塗膜外観に異常(剥離、フクレ)がなく、は
んだのもぐりのないもの ×・・・・塗膜外観に異常(剥離、フクレ)があるか、
あるいははんだのもぐりのあるもの [耐プレッシャークッカーテスト(PCT)]:121
℃、2気圧の蒸気中で96時間放置後、塗膜の外観、碁
盤目試験を行った。ごばん目の剥離状態を観察し、以下
の基準で評価した。 ○・・・・90/100以上剥離なし △・・・・50/100以上〜90/100未満で剥離
なし ×・・・・0/100〜50/100未満 [耐TCT(熱衝撃)性]:試験片を、−55℃/30
分、125℃/30分を1サイクルとして熱履歴を加
え、1000サイクル経過後、試験片を目視観察、顕微
鏡観察した。 ○・・・・ クラック発生なし △・・・・ クラック発生あり ×・・・・ クラック発生著しい
密着性、耐熱性、耐TCT性、現像性に優れ、LSIパ
ッケージ等の製造に用いられるソルダーレジスト組成物
として好適である。
Claims (4)
- 【請求項1】 融点が80℃以上のワックス(A)を
含む感光性樹脂組成物。 - 【請求項2】 融点が80℃以上のワックス(A)の
他にカルボキシル基を有する感光性樹脂(B)、エポキ
シ硬化剤(C)及び光重合開始剤(D)を含む請求項1
記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項3】 カルボキシル基を有する感光性樹脂
(B)がエポキシ化合物(a)と不飽和モノカルボン酸
とのエステル化物に飽和又は不飽和多塩基酸無水物を付
加した付加反応物である請求項1又は2記載の感光性樹
脂組成物。 - 【請求項4】 エラストマー(E)を含む請求項1、2
又は3記載の感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001039659A JP4797255B2 (ja) | 2001-02-16 | 2001-02-16 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001039659A JP4797255B2 (ja) | 2001-02-16 | 2001-02-16 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002244280A true JP2002244280A (ja) | 2002-08-30 |
JP4797255B2 JP4797255B2 (ja) | 2011-10-19 |
Family
ID=18902400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001039659A Expired - Lifetime JP4797255B2 (ja) | 2001-02-16 | 2001-02-16 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4797255B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009192632A (ja) * | 2008-02-12 | 2009-08-27 | Fujifilm Corp | 絶縁材料用樹脂組成物、感光性フィルム、及び感光性積層体 |
JP2013182174A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
WO2015030198A1 (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 日産化学工業株式会社 | レジストパターンの形成方法及びレジストパターン形成用組成物 |
CN106556969A (zh) * | 2015-09-29 | 2017-04-05 | 株式会社田村制作所 | 感光性树脂组合物 |
JP2017068247A (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物 |
JP2017134173A (ja) * | 2016-01-26 | 2017-08-03 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物 |
JP2017181663A (ja) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2020040105A (ja) * | 2018-09-13 | 2020-03-19 | 株式会社タムラ製作所 | はんだ組成物および電子基板の製造方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03116148A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | プリント配線板の製造方法 |
JPH03223315A (ja) * | 1990-01-30 | 1991-10-02 | Nippon Petrochem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JPH11143068A (ja) * | 1997-11-10 | 1999-05-28 | Fuji Film Olin Kk | アルカリ現像型感光性樹脂組成物の塗設物 |
JPH11216965A (ja) * | 1998-02-04 | 1999-08-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
JPH11235870A (ja) * | 1998-02-20 | 1999-08-31 | Oji Paper Co Ltd | 可逆性感熱記録体 |
JPH11277927A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-12 | Konica Corp | 印刷版原版、それを用いた印刷版の製版方法及び該印刷版を用いた印刷方法 |
JPH11288087A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-10-19 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2000221667A (ja) * | 1999-02-02 | 2000-08-11 | Konica Corp | 画像形成材料と平版印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JP2000258899A (ja) * | 1999-03-05 | 2000-09-22 | Konica Corp | 平版印刷版材料及び印刷方法 |
JP2001109145A (ja) * | 1999-10-01 | 2001-04-20 | Toray Ind Inc | パターン形成用ペースト、ディスプレイ用部材、およびディスプレイ |
-
2001
- 2001-02-16 JP JP2001039659A patent/JP4797255B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03116148A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | プリント配線板の製造方法 |
JPH03223315A (ja) * | 1990-01-30 | 1991-10-02 | Nippon Petrochem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JPH11143068A (ja) * | 1997-11-10 | 1999-05-28 | Fuji Film Olin Kk | アルカリ現像型感光性樹脂組成物の塗設物 |
JPH11216965A (ja) * | 1998-02-04 | 1999-08-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
JPH11235870A (ja) * | 1998-02-20 | 1999-08-31 | Oji Paper Co Ltd | 可逆性感熱記録体 |
JPH11277927A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-12 | Konica Corp | 印刷版原版、それを用いた印刷版の製版方法及び該印刷版を用いた印刷方法 |
JPH11288087A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-10-19 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2000221667A (ja) * | 1999-02-02 | 2000-08-11 | Konica Corp | 画像形成材料と平版印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JP2000258899A (ja) * | 1999-03-05 | 2000-09-22 | Konica Corp | 平版印刷版材料及び印刷方法 |
JP2001109145A (ja) * | 1999-10-01 | 2001-04-20 | Toray Ind Inc | パターン形成用ペースト、ディスプレイ用部材、およびディスプレイ |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009192632A (ja) * | 2008-02-12 | 2009-08-27 | Fujifilm Corp | 絶縁材料用樹脂組成物、感光性フィルム、及び感光性積層体 |
JP2013182174A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
WO2015030198A1 (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 日産化学工業株式会社 | レジストパターンの形成方法及びレジストパターン形成用組成物 |
JPWO2015030198A1 (ja) * | 2013-08-30 | 2017-03-02 | 日産化学工業株式会社 | レジストパターンの形成方法及びレジストパターン形成用組成物 |
CN106556969A (zh) * | 2015-09-29 | 2017-04-05 | 株式会社田村制作所 | 感光性树脂组合物 |
JP2017068247A (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物 |
JP2017134173A (ja) * | 2016-01-26 | 2017-08-03 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物 |
JP2017181663A (ja) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2020040105A (ja) * | 2018-09-13 | 2020-03-19 | 株式会社タムラ製作所 | はんだ組成物および電子基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4797255B2 (ja) | 2011-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3247091B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JPH01141904A (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法 | |
JP5056088B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
EP0915383B1 (en) | Photosensitive resin composition | |
JPH11288087A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP5223207B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
KR100711112B1 (ko) | 감광성 수지조성물, 이것을 이용한 감광성 엘리먼트,레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트배선판 | |
JP3928620B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP4127010B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 | |
JP2002296776A (ja) | プリント配線板用光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びプリント配線板 | |
JPH08269172A (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物 | |
JP4797255B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP3849637B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH09185166A (ja) | 感光性プレポリマー及びそれを用いた光硬化性・熱硬化性ソルダーレジストインキ組成物 | |
JP2000181058A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP3931370B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH11288090A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP3415779B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2004138979A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP3154782B2 (ja) | レジストインキ組成物及びソルダーレジスト膜形成法 | |
JPH06138655A (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物 | |
JP4218306B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2002162738A (ja) | 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JP2003280188A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP4407862B2 (ja) | 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100419 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100427 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101130 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110705 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110718 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4797255 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |