JP2002241988A - メッキ成形品の製造方法 - Google Patents
メッキ成形品の製造方法Info
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Abstract
成形品においても、メッキが剥がれ難く、また表面に梨
地面を形成する場合でもその梨地を再現することができ
るメッキ成形品の製造方法を提供する。 【解決手段】 メッキ成形品の製造方法は、2色成形に
よって得られた薄肉部を有する成形品の表面に、メッキ
を処理する方法である。樹脂を高速で射出成形し、得ら
れた薄肉部を有する成形品の表面に以下の工程によりメ
ッキを処理する: (a)成形品表面に、無電解メッキによって金属メッキ
層を形成する工程、(b)無電解メッキ層の表面に、電
気メッキによって銅メッキ層を形成する工程、(c)銅
メッキ層の表面に、電気メッキによってニッケル層を形
成する工程、および(d)ニッケル層の表面に、電気メ
ッキによってクロム層またはクロム合金層を形成する工
程。
Description
ッキ成形品の製造方法に関し、詳しくは、例えば、スイ
ッチ、パソコン操作用キー・トップ等の電気、電子部
品、パソコン、電話等のOA機器、DVD、MD等の通
信機器表面のメッキ方法に関し、さらに詳しくは携帯電
話の操作ボタン(キー)の製造方法に関する。
の携帯電話においては、その厚みが薄いことが益々要望
されている。このような携帯電話に取り付けられる操作
ボタン(キー)も極力厚みの薄いものが要求されてい
る。
の容易なABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチ
レン)樹脂で成形されることが多いが、ABS樹脂は携
帯電話本体側への接着性が悪いという性質があり、また
装飾のためメッキされない部分を形成する場合もあるの
で、ABS樹脂以外の樹脂、例えば、PC(ポリカーボ
ネート)樹脂を用いて二色成形することがある。さら
に、装飾のため操作ボタンのメッキされた表面に、光沢
面とつや消し面(微細な凹凸面)とを形成する場合もあ
る。
製造する場合には、インモールド成形すると、シャープ
感、光沢感がでないので、上記したように、2色成形し
た後に、成形品表面にメッキ処理することが行われてい
る。
ティとコアとを逆にした成形法が採用される。
に、従来では、射出速度を高速にしてキャビテイ内に樹
脂を射出成形していた。樹脂の速度が遅いと、キャビテ
ィ内に樹脂が入らず、薄型の成形品が得られないからで
ある。しかし、樹脂速度が速いと、得られた成形品のメ
ッキが剥がれ易いという問題がある。この理由は、成形
の際の樹脂の流れ性あるいは配向に起因しているものと
思われ、成形品の表面にメッキのアンカー効果がないた
めと思われる。
面に、無電解メッキによって金属メッキ層を形成した
後、無電解メッキ層の表面に、電気メッキによってニッ
ケル層を形成し、その後ニッケル層の表面に電気メッキ
によってクロム層またはクロム合金層を形成している
が、このようなメッキ処理では、碁盤目試験、ヒートシ
ョック試験等の試験において、メッキが剥がれ易いので
ある。
形成した後に、銅メッキを電気メッキするという方法も
考えられたが、従来の銅メッキは、レベリング作用が強
いので、以下のような問題点がある。
が形成されているときに、従来のものではダレが発生
し、光沢ができ、その結果、梨地が再現されない、すな
わち、電鋳キャビティの特徴をこわすという欠点があ
る。
着目してなされたものであって、その目的とするところ
は、高速で射出成形して得られた薄肉部を有する成形品
においても、メッキが剥がれ難く、また表面に梨地面を
有する場合でもその梨地を再現することができるメッキ
成形品の製造方法を提供することにある。
成形品の製造方法は、樹脂を高速で射出成形し、得られ
た薄肉部を有する成形品の表面に以下の工程によりメッ
キを処理する方法であり、そのことにより上記目的が達
成される: (a)成形品表面に、無電解メッキによって金属メッキ
層を形成する工程、(b)該無電解メッキ層の表面に、
電気メッキによって銅メッキ層を形成する工程、(c)
該銅メッキ層の表面に、電気メッキによってニッケル層
を形成する工程、(d)該ニッケル層の表面に、電気メ
ッキによってクロム層またはクロム合金層を形成する工
程。
例えば、ABS樹脂中のブタジエン分子の配向が変化す
る程度の速度を意味する。すなわち、ブタジエン分子
は、従来の射出速度では、ほぼ球形となっているが、一
定速度以上では楕円形となり、従来のメッキ処理では成
形品表面からメッキが剥がれ易いのである。
は、2色成形によって得られた薄肉部を有する成形品の
表面に、メッキを処理する方法であって、樹脂を高速で
射出成形し、得られた薄肉部を有する成形品の表面に以
下の工程によりメッキを処理する方法であり、そのこと
により上記目的が達成される: (a)成形品表面に、無電解メッキによって金属メッキ
層を形成する工程、(b)該無電解メッキ層の表面に、
電気メッキによって銅メッキ層を形成する工程、(c)
該銅メッキ層の表面に、電気メッキによってニッケル層
を形成する工程、(d)該ニッケル層の表面に、電気メ
ッキによってクロム層またはクロム合金層を形成する工
程。
下の条件により実施される:濃度70〜90g/lの硫酸
銅、濃度170〜210g/lの硫酸の硫酸銅浴の中に、
成形品を10〜30℃にて浸漬し、陰極電流密度1〜4
A/dm2にてメッキする。
に、光沢面と凹凸面が形成されている。
れかの方法によって得られる。
話の操作ボタンである。
よって形成される金属メッキ層は、ニッケル層、銅層等
である。
形品表面に無電解メッキによってニッケル層または銅層
を形成した後、無電解メッキ層の表面に、電気メッキに
よって銅メッキ層を形成し、それから銅メッキ層の表面
に電気メッキによってニッケル層およびクロム層または
クロム合金層を形成することにより、薄肉部を有する成
形品においても、その生地表面に金属メッキ層が強固に
接着して剥がれることが難しく、また表面に光沢面と梨
地とが形成される成形品表面へのメッキ処理が、再現性
良く実施される。
の条件で実施される。
mm碁盤目)にて測定される。
−35℃・1時間の繰り返しサイクル試験であり、6サ
イクル以上で変化しないということが要求されるが、従
来のものは3サイクルで破壊した。
に、2色成形によって得られた薄肉部3を有するもので
あり、ABS樹脂にて形成された一次成形品1と、該一
次成形品1の内側に二色成形によって成形された二次成
形品2とを有する。二次成形品2は、必要に応じてPC
等の透明な樹脂にて形成することができる。
部3を有し、その薄肉部の厚さは、通常0.35mm以
下であり、好ましくは0.15〜0.30mmである。
このような成形品は、キャビティとコアとを逆構造にし
た二色成形によって成形することができる。また、薄肉
部を有することにより、射出速度を従来に比べて早くし
た状態で成形される。
形品の表面に以下の工程によりメッキ処理が行われる。 (a)成形品を水洗し、その表面に無電解ニッケルメッ
キ(化学メッキ)または銅メッキによって金属メッキ層
を形成する。
できる。
溶液に成形品を所定温度にて浸漬後、水洗し、表面を粗
面化する。
化第1スズと塩酸の水溶液に、成形品を浸漬後、水洗
し、成形品表面にスズを吸着させる。
酸の水溶液に成形品を浸漬し、水洗しパラジウムとスズ
の置換反応を行う。
学メッキ):ニッケルまたは銅、ホルマリン、ロッセル
塩、苛性ソーダ、水等の混合液に浸漬し、水洗する。こ
れによって、ホルマリンの還元反応により、ニッケル
(銅)をパラジウム上に析出させる。
して電気メッキを行う。
ルメッキ、クロムメッキ又はクロム合金メッキをする。 (b)無電解メッキ層の表面に、電気メッキによって銅
メッキ層を形成する。
である。
る。
〜210g/lの硫酸の硫酸銅浴の中に、成形品を10〜
30℃(より好ましくは20℃)にて浸漬し、陰極電流
密度1〜4A/dm2にてメッキする。
酸銅を使用するものであり、この硫酸銅は追従性が優れ
ているので、成形品の生地のブラスト処理(シボ目)の
部分は、そのままブラスト目(シボ目)の凹凸が得られ
る。また、平面の部分(光沢面)は従来通り、光沢感が
得られる。 (c)銅メッキ層の表面に、電気メッキによってニッケ
ル層を形成する。
沢剤を含む混合液に成形品を浸漬後、所定の電圧、電流
条件で処理後、水洗し、成形品の表面にニッケルの被膜
を形成する。 (d)ニッケル層の表面に、電気メッキによってクロム
層またはクロム合金層を形成する。
面部をこすり取り、PCで形成された二次成形品の表面
部分を露出させ、水洗し、乾燥させる。
属メッキ層を剥離することにより、成形品の表面の一部
を透明としたり、あるいは剥離面を取り付け面として、
例えば、携帯電話本体側のシリコンゴム製シートに接着
性よく接着剤にて貼り付けることができる。
たメッキでは、平滑性に優れた性質を有しているため
に、生地のブラスト処理(シボ目)の部分と、平面の部
分(光沢面)の境界がなくなり、全て光沢性の仕上がり
となる。
ング硫酸銅を使用すると、追従性が優れている性質を有
していので、生地のブラスト処理(シボ目)の部分は、
そのままブラスト目(シボ目)の凹凸が得られる。ま
た、平面の部分(光沢面)は従来通り、光沢感が得られ
る。
られた薄肉部を有する成形品においても、メッキが剥が
れ難く、また表面に梨地面を形成する場合でもその梨地
を再現することができる。
作用が強いので、以下の問題点がある。梨地のように表
面に微細な凹凸が形成されているときに、従来のもので
はダレが発生し、光沢ができ、梨地が再現されない。す
なわち、電鋳キャビティの特徴をこわす。
リング硫酸銅を使用することにより、薄肉部を有する成
形品においても、その生地表面に金属メッキ層が強固に
接着して剥がれることがなく、また表面に光沢面と梨地
とが形成される成形品表面へのメッキ処理が、再現性良
く実施される。
品の一実施例の断面図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 樹脂を高速で射出成形し、得られた薄肉
部を有する成形品の表面に以下の工程によりメッキを処
理するメッキ成形品の製造方法: (a)成形品表面に、無電解メッキによって金属メッキ
層を形成する工程、(b)該無電解メッキ層の表面に、
電気メッキによって銅メッキ層を形成する工程、(c)
該銅メッキ層の表面に、電気メッキによってニッケル層
を形成する工程、および(d)該ニッケル層の表面に、
電気メッキによってクロム層またはクロム合金層を形成
する工程。 - 【請求項2】 2色成形によって得られた薄肉部を有す
る成形品の表面に、メッキを処理するメッキ成形品の製
造方法であって、樹脂を高速で射出成形し、得られた薄
肉部を有する成形品の表面に以下の工程によりメッキを
処理するメッキ成形品の製造方法: (a)成形品表面に、無電解メッキによって金属メッキ
層を形成する工程、(b)該無電解メッキ層の表面に、
電気メッキによって銅メッキ層を形成する工程、(c)
該銅メッキ層の表面に、電気メッキによってニッケル層
を形成する工程、および(d)該ニッケル層の表面に、
電気メッキによってクロム層またはクロム合金層を形成
する工程。 - 【請求項3】 前記銅メッキが、以下の条件により実施
される:濃度70〜90g/lの硫酸銅および濃度170
〜210g/lの硫酸を含有する硫酸銅浴の中に、成形品
を10〜30℃にて浸漬し、陰極電流密度1〜4A/d
m2にてメッキする、請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記成形品の表面に、光沢面と凹凸面が
形成されている請求項1〜3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかの方法によって
得られるメッキ成形品。 - 【請求項6】 前記成形品が携帯電話の操作用ボタンで
ある請求項5に記載のメッキ成形品。
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