JP2002226635A - ゴム組成物及び該ゴム組成物を用いたゴム製品の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は加工性を低下することなく加硫速度
を速めたゴム組成物及びそれを用いたゴム製品を提供す
る。 【解決手段】 本発明は加硫剤または加硫促進剤を芯剤
とし、ラジカル崩壊型樹脂で被覆したマイクロカプセル
を含むゴム組成物である。ここでラジカル崩壊型樹脂
は、好適には二級以上の炭素原子を主鎖に有する樹脂で
ある。他の発明は前記ゴム組成物を混練りする工程、混
練して得られたゴム組成物に電子線を照射する工程、そ
の後加硫する工程からなるゴム製品の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はゴム組成物及び該ゴ
ム組成物を用いたゴム製品の製造方法、特に加工性を低
下することなく加硫速度を速くした、タイヤ用ゴム組成
物及びタイヤの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ゴム組成物の加硫時間を短くする
為に加硫速度の速い加硫促進剤を配合することが行なわ
れていた。かかる加硫促進剤は、加硫前の加工工程にお
いて、部分的に加硫を開始しゴム焼けを生ずる問題があ
った。そこで加硫剤あるいは加硫促進剤を熱可塑性樹脂
などで被覆したマイクロカプセルを配合することによ
り、加硫時の加熱温度で熱可塑性樹脂を融解し、加硫剤
及び加硫促進剤を放出し加硫を開始させる技術が提案さ
れている（特開昭４８−２５０４２号公報、特開平１０
−１７７０６号公報、特開平１０−１７７０７号公
報）。

【０００３】従来技術における、加硫時の加熱温度でマ
イクロカプセルの被覆材である熱可塑性樹脂を融解し、
加硫剤及び加硫促進剤を放出し加硫を開始させる方法で
は、被覆材が融解するための時間、加硫剤及び加硫促進
剤が拡散するための時間がかかり、加硫時間の短縮に効
果的な手段とはいえない。更に加硫剤及び加硫促進剤の
ゴム組成物での均一な分散が達成できないという問題が
あった。したがってゴム組成物のマイクロカプセルの周
辺では加硫が充分起こるが、マイクロカプセルから離れ
た領域では架橋密度が低下するといった問題が生じてい
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題を解
決するもので、加工性を低下することなく加硫速度を速
くし、しかも加硫剤及び加硫促進剤のゴム組成物中での
分散を均一化ならしめ、ゴム製品の強度及び伸び率等の
基本特性を改善したゴム組成物及び該ゴム組成物を用い
たゴム製品の製造方法を提供する。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は加硫剤および／
または加硫促進剤を芯剤とし、ラジカル崩壊型樹脂で被
覆したマイクロカプセルを含むゴム組成物である。ここ
でラジカル崩壊型樹脂は、好ましくは二級以上の炭素原
子を主鎖に有する樹脂である。

【０００６】他の発明は加硫剤および／または加硫促進
剤を芯剤とし、ラジカル崩壊型樹脂で被覆したマイクロ
カプセルを含むゴム組成物を混練りする工程、混練して
得られたゴム組成物に電子線を照射する工程、その後加
硫する工程からなるゴム製品の製造方法である。ここで
ゴム製品として、好ましくはタイヤが適用される。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明のゴム組成物に用いられる
ゴム成分は、特に制限はなく各種ゴムが採用できる。例
えば、天然ゴム（ＮＲ）もしくはジエン系合成ゴムのう
ち少なくともいずれか一方を含むゴム成分を使用するこ
とができ、ジエン系合成ゴムとしては、スチレン−ブタ
ジエンゴム（ＳＢＲ）、ポリブタジエンゴム（ＢＲ）、
ポリイソプレンゴム（ＩＲ）、エチレン−プロピレン−
ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、
アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、ブチル
ゴム（ＩＩＲ）などをゴム成分中に１種類または２種類
以上含まれていてもよい。なお、エチレン−プロピレン
−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）とは、エチレン−プロピレン
ゴム（ＥＰＭ）に第三ジエン成分を含むものであり、こ
こで第三ジエン成分とは、炭素数５〜２０の非共役ジエ
ンであり、たとえば１，４−ペンタジエン、１，４−ヘ
キサジエン、１，５−ヘキサジエン、２，５−ジメチル
−１，５−ヘキサジエンおよび１，４−オクタジエン
や、たとえば１，４−シクロヘキサジエン、シクロオク
タジエン、ジシクロペンタジエンなどの環状ジエン、例
えば５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−ブチリデ
ン−２−ノルボルネン、２−メタリル−５−ノルボルネ
ンおよび２−イソプロペニル−５−ノルボルネンなどの
アルケニルノルボルネンなどが挙げられ、特にジエンの
中では、ジシクロペンタジエン、５−エチリデン−２−
ノルボルネンなどが使用できる。

【０００８】本発明のゴム組成物で配合されるマイクロ
カプセルは芯材として加硫剤又は加硫促進剤を用い、該
芯材はラジカル崩壊型樹脂で被覆されている。

【０００９】加硫剤としては、有機過酸化物もしくは硫
黄系加硫剤を使用できる。有機過酸化物としては、たと
えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサ
イド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミ
ルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチル
−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，
５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘ
キサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパ
ーオキシ）ヘキシン−３あるいは１，３−ビス（ｔ−ブ
チルパーオキシプロピル）ベンゼン、ジ−ｔ−ブチルパ
ーオキシ−ジイソプロピルベンゼン、ｔ−ブチルパーオ
キシベンゼン、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサ
イド、１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５
−トリメチルシロキサン、ｎ−ブチル−４，４−ジ−ｔ
−ブチルパーオキシバレレートなどを使用することがで
きる。これらの中で、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブ
チルパーオキシベンゼンおよびジ−ｔ−ブチルパーオキ
シ−ジイソプロピルベンゼンが好ましい。また、硫黄系
加硫剤としては、たとえば、硫黄、モルホリンジスルフ
ィドなどを使用できる。加硫剤として硫黄が好ましい。

【００１０】加硫剤はゴム成分１００重量部に対して、
０．３〜５．０重量部、特に１．０〜２．５重量部配合
されることが好ましい。

【００１１】加硫促進剤としては、スルフェンアミド
系、チアゾール系、チウラム系、チオウレア系、グアニ
ジン系、ジチオカルバミン酸系、アルデヒド−アミン系
またはアルデヒド−アンモニア系、イミダゾリン系、も
しくは、キサンテート系加硫促進剤のうち少なくとも一
つを含有するものを使用することが可能である。

【００１２】スルフェンアミド系としては、たとえばＣ
ＢＳ（Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフ
ェンアミド）、ＴＢＢＳ（Ｎ−ｔ−ブチル−２−ベンゾ
チアジルスルフェンアミド）、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシ
ル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド、Ｎ−オキシ
ジエチレン−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２−ベンゾチアゾールスルフ
ェンアミドなどのスルフェンアミド系化合物などを使用
することができる。

【００１３】チアゾール系としては、たとえばＭＢＴ
（ベンゾチアジルジスルフィド）、ＭＢＴＳ（ジベンゾ
チアジルジスルフィド）、２−（２，４−ジニトロフェ
ニル）メルカプトベンゾチアゾール、２−（２，６−ジ
エチル−４−モルホリノチオ）ベンゾチアゾールなどの
チアゾール系化合物などを使用することができる。

【００１４】チウラム系としては、たとえばＴＭＴＤ
（テトラメチルチウラムジスルフィド）、テトラエチル
チウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィド、ジペンタメチレンチウラムジスルフィド、ジペ
ンタメチレンチウラムモノスルフィド、ジペンタメチレ
ンチウラムテトラスルフィド、ジペンタメチレンチウラ
ムヘキサスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィ
ド、ペンタメチレンチウラムテトラスルフィドなどのチ
ウラム系化合物を使用することができる。

【００１５】チオウレア系としては、たとえばチアカル
バミド、ジエチルチオ尿素、ジブチルチオ尿素、トリメ
チルチオ尿素、ジオルトトリルチオ尿素などのチオ尿素
化合物などを使用することができる。

【００１６】グアニジン系としては、たとえばジフェニ
ルグアニジン、ジオルトトリルグアニジン、トリフェニ
ルグアニジン、オルトトリルビグアニド、ジフェニルグ
アニジンフタレートなどのグアニジン系化合物を使用す
ることができる。

【００１７】ジチオカルバミン酸系としては、たとえば
エチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ブチルフェニ
ルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン
酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエ
チルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、ジアミルジチオカルバミン酸亜鉛、ジプロピ
ルジチオカルバミン酸亜鉛、ペンタメチレンジチオカル
バミン酸亜鉛とピペリジンの錯塩、ヘキサデシル(また
はオクタデシル)イソプロピルジチオカルバミン酸亜
鉛、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチ
オカルバミン酸ナトリウム、ペンタメチレンジチオカル
バミン酸ピペリジン、ジメチルジチオカルバミン酸セレ
ン、ジエチルジチオカルバミン酸テルル、ジアミルジチ
オカルバミン酸カドミウムなどのジチオカルバミン酸系
化合物などを使用することができる。

【００１８】アルデヒド−アミン系またはアルデヒド−
アンモニア系としては、たとえばアセトアルデヒド−ア
ニリン反応物、ブチルアルデヒド−アニリン縮合物、ヘ
キサメチレンテトラミン、アセトアルデヒド−アンモニ
ア反応物などのアルデヒド−アミン系またはアルデヒド
−アンモニア系化合物などを使用することができる。

【００１９】イミダゾリン系としては、たとえば２−メ
ルカプトイミダゾリンなどのイミダゾリン系化合物など
を使用することができる。キサンテート系としては、た
とえばジブチルキサントゲン酸亜鉛などのキサンテート
系化合物などを使用することができる。

【００２０】ゴム組成物中の加硫促進剤の配合量は、ゴ
ム成分１００重量部に対して、０．５〜６重量部、好ま
しくは１．０〜３．０重量部の範囲である。そして加硫
剤に硫黄を使用する場合、硫黄（Ｓ）と加硫促進剤
（Ａ）の割合（Ｓ／Ａ）は０．１〜３．０、好ましくは
０．６〜１．５の範囲である。硫黄と加硫促進剤の割合
を上記範囲とすることにより、モノサルファイド架橋を
効果的に形成でき、加硫ゴム組成物の耐熱性、耐疲労性
が改善できる。

【００２１】本発明においてマイクロカプセルの膜材に
はラジカル崩壊型樹脂が使用される。ここでラジカル崩
壊型樹脂は樹脂の分子主鎖に二級以上の炭素原子を有す
るものを意味する。即ち、樹脂の分子主鎖の炭素原子に
一個以上の水素以外の置換基を有する樹脂である。ここ
で置換基はメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキ
ル基、芳香族基、ハロゲン等で電子線を照射した場合、
置換基が結合する炭素が容易にラジカルを生成し、樹脂
分子の主鎖の分解を誘発するものをいう。

【００２２】ラジカル崩壊型樹脂は、たとえば、ポリス
チレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタ
ン、ナイロン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エ
チレン−アクリル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル樹脂、ブタジエン樹脂、ブテン樹脂、
ポリカーボネート、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリアセタ
ール、ポリエステルなどで上記置換基を有する樹脂を使
用することができる。

【００２３】前記ラジカル崩壊型樹脂は、その軟化点が
６０〜２５０℃、好ましくは１００〜２００℃、特に１
２０〜１６０℃の温度範囲にあるものが好ましい。軟化
点が６０℃よりも低いとゴム組成物の混練の際にマイク
ロカプセルが破壊する可能性がある。一方軟化点が２５
０℃を超えると、電子線照射によるマイクロカプセルの
膜剤の分解が不充分な場合、ゴム組成物の通常の加硫温
度において、該膜材樹脂が融解せずマイクロカプセルか
ら加硫剤及び加硫促進剤が放出されない。したがって膜
材樹脂の種類は加硫温度との関係で選定されることが好
ましい。

【００２４】加硫剤と加硫促進剤をラジカル崩壊型樹脂
で被覆してマイクロカプセルを製造する方法としては、
一般に知られるマイクロカプセル化の手法が採用され
る。好適には、液中乾燥法すなわち水中や油中をカプセ
ル化の媒体とし、その中に、芯物質を含有する膜材物質
溶液を滴状に分散し、溶剤を飛ばして固いカプセル膜を
形成する方法が採用される。この方法では、まず沸点が
水のそれより低く、蒸気圧が大きく、しかも水と混和し
ない溶剤を選び、この溶剤中に壁材ポリマーを溶かす。
この溶液中に芯物質となる水溶液を分散して（Ｗ／Ｏ）
型の乳化物をつくる。

【００２５】別にカプセル化媒体として保護コロイドを
含む水溶液を用意し、これを攪拌しながら先の乳化物を
入れて分散し、〔（Ｗ／Ｏ）／Ｗ〕型の複合エマルジョ
ンを作る。この系は水溶液滴がポリマー溶液で囲まれた
形のたまが、水中に浮遊している。この系に加温、減
圧、溶媒抽出などの操作を施してポリマーの溶媒を乾燥
させると、ポリマーの固い膜が形成され、マイクロカプ
セルができる。

【００２６】また他の方法として採用し得る気中懸濁法
では芯物質（粉末）を気流によって流動化し懸濁させ
て、懸濁粒子表面に熱可塑性樹脂の膜材を乳化させた乳
液として噴霧する。そして懸濁化空気を加熱して溶媒を
蒸発させてカプセル膜を形成させることができる。また
噴霧乾燥法では、樹脂の膜材を乳化させた乳液に芯材を
懸濁させて、その懸濁液を噴霧、微粒子化して瞬間的に
乾燥させて、カプセル化膜を形成させることができる。
さらに粉体どうしを乾式でカプセル化する方法（芯材粒
子とそれより細かい膜材粒子を混合後、遠心力などによ
り衝撃を与え芯材の表面に膜剤を埋め込むようにしてカ
プセル化する方法）などが採用でき、マイクロカプセル
の製造方法は特に限定されない。

【００２７】上記方法で得られたマイクロカプセルは加
硫剤又は加硫促進剤をそれぞれ３０〜９５重量％、また
加硫剤又は加硫促進剤を同時に芯材として用いる場合
は、両者の合計が３０〜９５重量％含有することが好ま
しい。好ましくは４０〜８０重量％である。３０重量％
未満の場合、電子線照射時の被覆材樹脂の分解、あるい
は加硫時の被覆材樹脂の融解が不充分であり、加硫剤及
び加硫促進剤の放出、分散が不充分となる。一方９５重
量％を超えると、均一なマイクロカプセルの製造が困難
になる。

【００２８】本発明のゴム組成物では、各種充填剤及び
添加剤が使用できる。例えば充填剤としてゴム成分１０
０重量部に対してカーボンブラックを配合することがで
き、その配合量は通常１０〜１２０重量部である。カー
ボンブラックの種類としてはＦＥＦ、ＳＲＦ、ＨＡＦ、
ＩＳＡＦ、ＳＡＦなどが使用できる。

【００２９】また老化防止剤（劣化防止剤）としては、
アミン系、フェノール系、イミダゾール系、カルバミン
酸金属塩、ワックスなどを適宜選択して使用することが
可能である。

【００３０】更に、本発明のゴム組成物では練り加工性
を向上させるために軟化剤を併用することもできる。軟
化剤としては、プロセスオイル、潤滑油、パラフィン、
流動パラフィン、石油アスファルト、ワセリンなどの石
油系軟化剤；ヒマシ油、アマニ油、ナタネ油、ヤシ油な
どの脂肪油系軟化剤；トール油；サブ；蜜ロウ、カルナ
バロウ、ラノリンなどのワックス類；リノール酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ラウリン酸などが挙げられ
る。

【００３１】さらに本発明では必要に応じて可塑剤、例
えばＤＭＰ（フタル酸ジメチル）、ＤＥＰ（フタル酸ジ
エチル）、ＤＢＰ（フタル酸ジブチル）、ＤＨＰ（フタ
ル酸ジヘプチル）、ＤＯＰ（フタル酸ジオクチル）、Ｄ
ＩＮＰ（フタル酸ジイソノニル）、ＤＩＤＰ（フタル酸
ジイソデシル）、ＢＢＰ（フタル酸ブチルベンジル）、
ＤＬＰ（フタル酸ジラウリル）、ＤＣＨＰ（フタル酸ジ
シクロヘキシル）、無水ヒドロフタル酸エステル等が配
合できる。

【００３２】また白色充填剤として、シリカ、クレー、
アルミナ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化マ
グネシウム、酸化チタンなどが使用でき、これらは単独
あるいは２種以上混合して用いることができる。特にシ
リカ、クレー、水酸化アルミニウム、アルミナが好まし
い。

【００３３】また、ゴム組成物に白色充填剤を配合する
場合、カップリング剤を含有させることが好ましい。カ
ップリング剤としては、アルミネート系カップリング
剤、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤
などを使用できる。

【００３４】本発明のゴム組成物を用いて、ゴム製品を
製造するには次の方法で行なう。ゴム成分に硫黄または
加硫促進剤を含むマイクロカプセルと共に、カーボンブ
ラック等の充填剤及び可塑剤その他の添加剤を配合し、
バンバリーあるいはニーダーで混練する。そして混練り
したゴム組成物をタイヤ構成部材に使用する場合、ロー
ル等で、厚さが０．３〜５ｍｍの範囲のシートに形成す
る。シートの厚さが０．３ｍｍ未満の場合、タイヤ構成
部材に適性な寸法安定性が得られず、一方５ｍｍを超え
ると、電子線がゴムシートの内部まで透過しない。した
がって電子線照射によってマイクロカプセルの被覆材樹
脂の分解が不充分となり、加硫工程での昇温による被覆
材樹脂の融解をまって、加硫が始まることとなり本発明
の効果が充分達成できないことがある。好ましくはシー
トの厚さは０．５〜１．２ｍｍの範囲である。

【００３５】本発明ではゴム組成物のシートに電子線を
照射するには、タイヤ業界で一般に用いられている電子
線照射装置が使用できる。そして電子線照射の加速電圧
は、通常０．１ＭｅＶ〜５ＭｅＶの範囲で、照射線量は
４０Ｍｒａｄ以下、好ましくは３〜２０Ｍｒａｄの範囲
である。電子線照射によりマイクロカプセルの被覆材樹
脂が崩壊、即ちゴム分子主鎖の分解とともにゴム分子主
鎖間の架橋も同時進行する。したがって電子線照射の量
を調整することで、マイクロカプセルの被覆材樹脂の崩
壊を優先しておこさせることが可能となる。

【００３６】上記電子線照射をしたゴム組成物のシート
は単体として、あるいは他のシートと積層して、あるい
は所定の形状に成形して、通常の加硫工程におかれる。
加硫は製品の用途によってプレスあるいは、金型で行な
われる。加硫は通常１３０〜１８０℃で５〜６０分間行
なわれる。

【００３７】本発明は各種ゴム製品に適用でき、ゴム製
品の種類によってゴム組成物の配合、シート厚さおよび
形状、更に電子線照射条件を任意に選定される。本発明
はゴム組成物を所定の厚さに構成し、これに電子線を照
射し、これを積層又は成形し得るゴム製品に適用でき
る。例えばタイヤの構成部材であるトレッド部、サイド
ウオール部、カーカスプライ、ベルトプライ、ビードフ
ィラー等、更にオフセットブランケット、転写ローラー
等に好適に採用し得る。なお前記シート状のゴム組成物
は補強コード例えば、スチールコード、ポリエステルコ
ード、ナイロンコード、ケブラーコード及びレーヨンコ
ードが所定の密度で埋設された複合材であってもよい。
これらのタイヤの構成部材は電子線を照射した後、積層
成形し、金型内で加硫することによりタイヤを製造する
ことができる。

【００３８】

【実施例】（１） マイクロカプセルの製造 ポリスチレン（軟化点１００℃）７．５ｇをジクロロメ
タン１５０ｍｌに溶解し、この溶液に硫黄１５ｇを加え
て攪拌する。このとき少量の界面活性剤を添加する。次
に上記硫黄を含む溶液をＰＶＡ水溶液（ＰＶＡ１２ｇを
水１２００ｃｃに溶解したもの）に滴下する。その後攪
拌を１時間続け、濾過、乾燥してマイクロカプセルを得
た。マイクロカプセルは硫黄を４３．５重量％含んでい
る。

【００３９】（２）ゴム組成物の作製及び電子線照射 上記（１）の方法で作製したマイクロカプセルを用い
て、表１の配合で混練して、厚さ１ｍｍのシート状のゴ
ム組成物を製造した。このゴムシートに加速電圧を１Ｍ
ｅＶで、表１に示す条件ように照射量を変えて電子線を
照射した後にキュラスト試験をすると共に、電子線照射
をしたゴムシートを１５０℃で２０分間加硫して、その
物性評価をした。その結果を表２に示す。

【００４０】

【表１】

【００４１】

【表２】

【００４２】（３）試験方法 ＜キュラスト試験＞ＪＩＳ Ｋ６３００に従い、振動式
加硫試験機（キュラストメーター）を用いて、ＭＬ（ト
ルクの最小値）、Ｔｃ（１０）、Ｔｃ（９０）を測定し
た。

【００４３】＜引張試験＞ＪＩＳ Ｋ６２５１に従い、
ダンベル状３号系試験片を用い、引張速度５００ｍｍ／
ｍｉｎで引張強度及び破断時伸びを測定した。

【００４４】＜硬さ（Ｈｓ）＞ＪＩＳ Ｋ６２５３に従
い、タイプＡのデュロメーターで測定した。

【００４５】（４）評価結果 実施例および比較例の評価結果を表２に示す。実施例１
及び実施例２は硫黄のマイクロカプセルを配合したゴム
組成物のシートを電子線照射したものであるが、スコー
チ時間の指標である１３０℃でのＴｃ（１０）が１０分
以上あり、スコーチ時間が十分確保されている。更に、
引張強度（Ｔｂ）及び破断時伸び（Ｅｂ）にほとんど影
響を与えず、１００％モジュラス（Ｍ１００）および硬
度を下げ、逆に３００％モジュラス（Ｍ３００）を上げ
ることができた。これらの特性はタイヤ用のゴム組成物
として使用した場合、屈曲疲労性や耐摩耗性が改善され
るため有利である。なお、実施例３のように２０Ｍｒａ
ｄ以上の電子線を照射するとスコーチ時間は短くなると
共に、電子線照射時に加硫が進行すると共に加硫ゴム物
性も低下する傾向が認められるため、電子線照射量は４
０Ｍｒａｄ以上に上げると不利となる。その為、物性重
視の配合では２０Ｍｒａｄ以下、加硫時間の短縮を意図
する配合では４０Ｍｒａｄ以下で適宜、照射量を選択す
る。

【００４６】なお、今回開示された実施の形態および実
施例はすべての点で例示であって制限的なものではない
と考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明
ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の
範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含ま
れることが意図される。

【００４７】

【発明の効果】上述のごとく、本発明では加硫剤又は加
硫促進剤をラジカル崩壊型樹脂で被覆したマイクロカプ
セルとしてゴム組成物に配合した為、加硫前工程の任意
の時間に電子線を照射し、加硫剤及び加硫促進剤をマイ
クロカプセルから放出させることができ、効果的にスコ
ーチ時間を調整しながら加硫時間を短縮できる。更に１
００％モジュラス及び硬度を下げることができ、逆に３
００％モジュラスを上げることができる。係るゴム組成
物をタイヤの構成部材に適用した場合、タイヤの屈曲疲
労性および耐摩耗性が向上する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ２９Ｋ 21:00 Ｂ２９Ｋ 21:00 105:24 105:24 Ｂ２９Ｌ 30:00 Ｂ２９Ｌ 30:00 Ｆターム(参考） 4F202 AA45 AB03 AH20 CA21 CB01 CY30 4F203 AA45 AB03 AH20 DA11 DB01 DE06 4J002 AC011 AC031 AC061 AC071 AC081 AC091 BB151 BB181 DA046 EK026 EK036 EK046 EK056 EK066 EN007 ER027 EU117 EV046 EV127 EV167 EV277 EV327 FB286 FB287 FD146 FD157 GN01

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 加硫剤および／または加硫促進剤を芯剤
   とし、ラジカル崩壊型樹脂で被覆したマイクロカプセル
   を含むゴム組成物。
2. 【請求項２】 ラジカル崩壊型樹脂は、二級以上の炭素
   原子を主鎖に有する樹脂である請求項１記載のゴム組成
   物。
3. 【請求項３】 請求項１のゴム組成物を混練りする工
   程、混練して得られたゴム組成物に電子線を照射する工
   程、その後加硫する工程からなるゴム製品の製造方法。
4. 【請求項４】 ゴム製品はタイヤである請求項３記載の
   製造方法。