JP2002224929A - 板状被加工物の切削装置 - Google Patents

板状被加工物の切削装置

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JP2002224929A
JP2002224929A JP2001020982A JP2001020982A JP2002224929A JP 2002224929 A JP2002224929 A JP 2002224929A JP 2001020982 A JP2001020982 A JP 2001020982A JP 2001020982 A JP2001020982 A JP 2001020982A JP 2002224929 A JP2002224929 A JP 2002224929A
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cutting
workpiece
rotary blade
air
semiconductor wafer
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JP2001020982A
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Toshiharu Takemoto
俊春 竹本
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TAKEMOTO DENKI SEISAKUSHO KK
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TAKEMOTO DENKI SEISAKUSHO KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 切削屑の混ざった汚水を半導体ウエハー等の
被加工物表面から効果的に除去して製品の歩留まりを高
めると共に、乾燥等の後工程も容易にして製品コストの
低減化を可能とすること。 【解決手段】 チャックテーブル2に半導体ウエハー等
の板状被加工物1を載置して回転刃5により被加工物を
切断する切削装置であって、前記回転刃5による被加工
物の切削部分に切削液を噴射する切削液噴射ノズル7
と、前記切削液の噴射に起因して被加工物表面に残留す
る切削液を切削屑と共に吹き飛ばすエアー噴射ノズル9
とを回転刃近傍に設けた構造。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、半導体ウエハーや
半導体デバイス用ガラス等の板状被加工物を回転刃によ
って格子状に切削する切削装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体ウエハーを切削する際、切
削液を回転刃と半導体ウエハーとの切削部分に供給しな
がら行っている。この際、回転刃によって切削された切
削屑が生じるため、切削液とは別に洗浄水を噴射させて
半導体ウエハー表面に洗浄水の流れを形成させ、切削屑
が混った汚水を除去するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように洗
浄水の流れを形成して汚水を除去しながら切削しても、
切削屑の比重は水より重いため、半導体ウエハー上に形
成されているボンディングパットやCCD等の微細な凹
凸部分に付着して不良品の発生原因となっている。この
ような不良品の発生は、切削される半導体ウエハーが高
価なため、製品単価に及ぼす影響が極めて高い。そこで
本発明は、このような切削屑の混ざった汚水を半導体ウ
エハー等の被加工物表面から効果的に除去して製品の歩
留まりを高めると共に、乾燥等の後工程も容易にして製
品コストの低減化を可能とした切削装置を提供すること
を主たる目的とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】該目的を達成するために
本発明では次のような技術的手段を講じた。即ち本発明
に係る切削装置にあっては、チャックテーブル2に半導
体ウエハー等の板状被加工物1を載置して回転刃5によ
り被加工物を切断する切削装置であって、前記回転刃5
による被加工物の切削部分に切削液を噴射する切削液噴
射ノズル7と、前記切削液の噴射に起因して被加工物表
面に残留する切削液を切削屑と共に吹き飛ばすエアー噴
射ノズル9とを回転刃近傍に設けた構造とした。
【0005】前記エアー噴射ノズル9は、少なくとも回
転刃5による被加工物の切削終了側であって、回転刃5
を保持するスピンドル3を有しない側に配置するのがよ
いが、回転刃5の左右両側に配置するようにしてもよ
い。また夫々の側に配置されるエアー噴射ノズル9は複
数設けてもよいことは勿論である。
【0006】また、前記エアー噴射ノズル9から噴射さ
れるエアーは、前記切削液噴射ノズル7の噴射方向と略
同方向に向き且つ被加工物1の上方から斜め下向きに吹
き付けるように形成するのがよい。
【0007】
【発明の実施の形態】以下本発明の詳細を図に示した実
施例に基づいて説明する。図において符号Aは本発明に
かかる切削装置であって、半導体ウエハー等の板状被加
工物1を上面に吸着保持するチャックテーブル2と、ス
ピンドル3に保持された回転横軸4に着脱自在に取り付
けられた回転刃5とを備えている。前記チャックテーブ
ル2は垂直な軸の周りで90度毎に回転固定できるよう
になっており、且つ台板6と共に回転刃5の回転横軸4
に対して直交する方向(図2並びに図3の左右方向)に
移動できるようになっている。また前記スピンドル3は
スピンドル軸方向に沿って予め割り出された間隔づつ前
後(図3の上下方向)に移動できるようになっている。
これにより、回転刃5によってチャックテーブル2上の
被加工物1を所定の切削ラインに沿って格子状に切削で
きるように構成されている。また上記切削の際に回転刃
5の加熱を押さえて滑らかに切断できるように回転刃5
の切削部分に切削液を噴射する切削液噴射ノズル7が回
転刃5の両側で回転刃カバー8に取り付けられている。
【0008】更に本発明では、前記切削液の噴射に起因
して被加工物表面に残留する切削液を切削屑と共に吹き
飛ばすエアー噴射ノズル9が設けられている。このエア
ー噴射ノズル9は回転刃5と共に前後に移動できるよう
に前記回転刃カバー8又はこれに連なる部分に取り付け
られている。
【0009】前記エアー噴射ノズル9は、噴射されるエ
アーの角度が切削液噴射ノズル7の噴射方向と略同方向
に向き且つ被加工物1の上方から斜め下向きに吹き付け
るように取り付けられる。また、図に示した実施例で
は、前記エアー噴射ノズル9は、回転刃5による被加工
物1の切削終了側であって、回転刃5を保持するスピン
ドル3を有しない側に配置されているが、回転刃5の左
右両側に配置するようにしてもよい。
【0010】エアー噴射ノズル9から噴射されるエアー
の圧力や風量は加工される被加工物1によって異なる
が、例えば直径12.5cmの半導体ウエハーを切削する
場合はウエハー面10mmの高度か5度の噴射角度で、風
量10m3/min、エアー圧力5.7kg/cmで実験したとこ
ろ、半導体ウエハー上の切削屑は殆ど見られず極めて良
好な結果が得られた。また同時にエアー噴射によって半
導体ウエハー表面の切削水が殆ど吹き飛ばされるので、
乾燥等の後工程処理も楽になって加工時間が短縮され
る。
【0011】以上本発明の代表的な実施例について説明
したが、本発明は必ずしも上記の実施例構造のみに特定
されるものではない。例えばエアー噴射ノズル9は並列
して複数個設けてもよく、或いは回転刃5による切削箇
所を除いて被加工物1の全表面にエアーを吹き付けるよ
うに多数設けてもよい。その他本発明では、その構成要
件を備え、且つ効果を有する範囲内で適宜変更して実施
できることは勿論である。
【0012】
【発明の効果】本発明の切削装置は上記の如く構成され
たものであるから、エアー噴射ノズルからのエアーによ
って切削屑の混ざった汚水をウエハー半導体等の被加工
物表面から効果的に除去し、品質の向上と不良品の発生
を軽減して製品の歩留まりを高めることができ、これに
より高価な被加工物の有効利用が可能となって製品コス
トの低減化を図ることができる。加えて、エアー噴射に
よって被加工物表面の切削水が殆ど吹き飛ばされるの
で、乾燥等の後工程処理も楽になって加工時間が短縮さ
れる、といった効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る切削装置の要部の斜視図。
【図2】上記切削装置の回転刃部分の作動を示す拡大側
面図。
【図3】上記切削装置の回転刃部分の作動を示す拡大平
面図。
【符号の説明】
1 被加工物 2 チャックテーブル 3 スピンドル 4 回転横軸 5 回転刃 6 台板 7 切削液噴射ノズル 8 回転刃カバー 9 エアー噴射ノズル A 切削装置

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チャックテーブル(2)に半導体ウエハー
    等の板状被加工物(1)を載置して回転刃(5)により被加工
    物(1)を切断する切削装置(A)であって、前記回転刃(5)
    による被加工物(1)の切削部分に切削液を噴射する切削
    液噴射ノズル(7)と、前記切削液の噴射に起因して被加
    工物表面に残留する切削液を切削屑と共に吹き飛ばすエ
    アー噴射ノズル(9)とを回転刃近傍に設けたことを特徴
    とする板状被加工物の切削装置。
  2. 【請求項2】 前記エアー噴射ノズル(9)が、少なくと
    も回転刃(5)による被加工物(1)の切削終了側であって、
    回転刃(5)を保持するスピンドル(3)を有しない側に配置
    されている請求項1に記載の板状被加工物の切削装置。
  3. 【請求項3】 前記エアー噴射ノズル(9)から噴射され
    るエアーは、前記切削液噴射ノズル(7)の噴射方向と略
    同方向に向き且つ被加工物(1)の上方から斜め下向きに
    吹き付けるように形成されている請求項1または2に記
    載の板状被加工物の切削装置。
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