JP2013008823A - 切断装置 - Google Patents
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 145
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 115
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 19
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 63
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】回転可能なチャックテーブル3に保持された被加工物に切削ブレード61bを回転させながら接触させて切削する切削手段6と、チャックテーブル3に保持された被加工物に洗浄液を噴射するノズル51を備えた洗浄手段5と、チャックテーブル3に保持された被加工物をレーザー加工するレーザー加工手段4とから少なくとも構成される切断装置1であって、切削手段6と洗浄手段5とレーザー加工手段4との作用位置を同一駆動軸70上に位置させることにより、同一のチャックテーブル3に保持された被加工物が切削手段6と洗浄手段5とレーザー加工手段4とによる作用を連続して受けることができるようにして、被加工物の搬送時における破損を低減する。
【選択図】図1
Description
(1)装置構成
図1の切断装置1は、本発明の第一の実施形態を示している。この切断装置1は、複数のチャックテーブル3を等間隔に配置した回転基台7と、回転基台7の近傍に配設されたレーザー加工手段4と洗浄手段5と切断手段6とを備えている。回転基台7は、略円盤形状に形成され、当該基台7によって複数のチャックテーブル3が自転可能に支持されている。回転基台7は、図1において二点鎖線で示す円弧状の駆動軸70に沿って矢印Aに示す両方向に回転移動可能となっており、回転基台7の回転により、駆動軸70に沿ってチャックテーブル3を公転させることができる。
図2に示すウェーハWは、図1に示した切断装置1によって加工される被加工物の一例であり、その表面WAには、格子状のストリートSによって区画されて複数のデバイスDが形成されている。このウェーハWについて、裏面WBからレーザー加工及び切削加工を行う。
ウェーハWを裏面WB側からレーザー加工する場合には、図1に示すように、チャックテーブル3の吸着部31にフレームFと一体となっているウェーハWの表面WA側(保護テープT)を吸着させる。そして、回転基台7を矢印A1方向に回転させることにより、チャックテーブル3をレーザー加工手段4の直下に移動させる。
レーザー加工溝H形成の際には、レーザー光線の照射位置付近に加工屑が飛散し、ウェーハWの裏面WBには加工屑が付着するため、洗浄手段5によってウェーハWの裏面WBに付着した加工屑を除去する。
洗浄手段5によって洗浄されチャックテーブル3に保持されたウェーハWは、回転基台7を矢印A1方向に回転させることにより、切削手段6の直下に移動する。すなわち、チャックテーブル3を駆動軸70に沿って移動させる。
(1)装置構成
図9の切断装置2は、本発明の第二の実施形態を示している。この切断装置2は、X軸方向に延びる基台8と、基台8上に所定間隔で配設されたレーザー加工手段40と洗浄手段50と切削手段60とを備えている。基台8には、その中央部にレーザー加工手段40から切削手段60までを軸通したボールスクリュー8aと、ボールスクリュー8aと平行に配設された一対のガイドレール8bと、ボールスクリュー8aの一端に連結されたモーター8cとを備えた駆動軸9を設けている。レーザー加工手段40と洗浄手段50と切削手段60とは、X軸方向に向く1本の駆動軸9に沿ってそれぞれ配設され、レーザー加工手段40と洗浄手段50と切削手段60との作用位置が駆動軸9上に位置することにより、被加工物を同一駆動軸上でレーザー加工、洗浄及び切削加工することができる構成となっている。
以下では、第一の実施形態と同様に、図2に示したように表面WAにおいて格子状のストリートSによって区画されて複数のデバイスDが形成されたウェーハWについて、裏面WB側からストリートSに沿ってレーザー加工溝を形成し、その加工溝を切削して切断する場合について説明する。
ウェーハWをレーザー加工する場合には、図9に示すように、吸着部31にフレームFと一体となっているウェーハWの表面WA側(保護テープT側)を吸着させて、フレームFを固定部103で固定する。そして、チャックテーブル10をレーザー加工手段40の直下に移動させる。レーザー加工手段40は、アライメントを実行して被加工物であるウェーハWの加工すべきストリートSを2本検出する。ストリートSの検出後、図10に示すように、レーザー加工手段40の2つの集光器42が、2本のストリートSの照射開始位置Pの直上にそれぞれ位置付けられ、集光器42を介してウェーハWに対するレーザー光線の照射を開始する。そして、図9に示したチャックテーブル10を駆動軸9に沿ってX軸方向に移動させながら、ストリートSの一方の端部から他方の端部までレーザー光線を照射する。
レーザー加工溝H形成の際には、レーザー光線の照射位置付近に加工屑が飛散し、ウェーハWの裏面WBには加工屑が付着するため、洗浄手段50によってウェーハWの裏面WBに付着した加工屑を除去する。
洗浄手段50によって洗浄されチャックテーブル3に保持されたウェーハWは、移動基台104をX軸方向に相対移動させることにより、切削手段60の直下に移動させる。すなわち、チャックテーブル3を駆動軸9に沿って移動させる。
3:チャックテーブル 31:吸着部 32:軸部
4、40:レーザー加工手段
41:照射部 41a、撮像装置
42:集光器 43、43a、43b:ボールスクリュー
44、44a:ガイドレール 45、45a:モーター 46:昇降基台
47:移動基台
5、50:洗浄手段 51:ノズル 52:洗浄液噴出口 53:アーム
6、60:切削手段
61a:スピンドル 61b:切削ブレード 61c:ブレードカバー
61d:撮像装置
62、62a、62b:ボールスクリュー 63、63a:ガイドレール
64、64a:モーター 65:昇降基台 66:移動基台
7:回転基台 70:駆動軸
8:基台 8a:ボールスクリュー 8b:ガイドレール 8c:モーター
9:駆動軸
10:チャックテーブル
101:吸着部102:軸部 103:撮像装置 104:移動基台
W:ウェーハ S:ストリート D:デバイス T:保護テープ F:フレーム
WA:表面 WB:裏面 M:被膜 H:レーザー加工溝
Claims (1)
- 被加工物を保持し回転可能なチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持された被加工物に切削ブレードを回転させながら接触させることで該被加工物を切削する切削手段と、
該チャックテーブルに保持された被加工物に洗浄液を噴射することができるノズルを備えた洗浄手段と、
該チャックテーブルに保持された被加工物をレーザー加工するためにレーザー光線を照射するレーザー加工手段と、
から少なくとも構成される切断装置であって、
該切削手段と該洗浄手段と該レーザー加工手段との作用位置が同一駆動軸上に位置することにより、同一のチャックテーブルにおいて保持された被加工物が、該切削手段と該洗浄手段と該レーザー加工手段とによる一連の作用を受けることを特徴とする切断装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011140303A JP2013008823A (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 切断装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011140303A JP2013008823A (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 切断装置 |
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JP2013008823A true JP2013008823A (ja) | 2013-01-10 |
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ID=47675927
Family Applications (1)
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JP2011140303A Pending JP2013008823A (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 切断装置 |
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