JP2002222900A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2002222900A
JP2002222900A JP2001017799A JP2001017799A JP2002222900A JP 2002222900 A JP2002222900 A JP 2002222900A JP 2001017799 A JP2001017799 A JP 2001017799A JP 2001017799 A JP2001017799 A JP 2001017799A JP 2002222900 A JP2002222900 A JP 2002222900A
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semiconductor
hole
pattern
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Hitoshi Shibue
人志 渋江
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Sony Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

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  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度実装のため、より小さく、薄くという
課題を満たすべく、半導体装置をチップサイズと全く同
等サイズに構成できると共に、製造工程を少なくして生
産効率を高め、同時に封止用樹脂等の材料を不要にして
材料費を節減することにより、製造コストを低減できる
半導体装置を提供する。 【解決手段】 半導体素子1の表面2に形成した表面パ
ターン3からスルーホール4を介して半導体素子1の裏
面6に導通をとり、この半導体素子1の裏面6に前記ス
ルーホール4に接続された裏面パターン8を形成すると
共に、同裏面パターン8に繋がる外部端子としてのラン
ド9を形成してなる半導体装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特に半導体装置を高密度実装できるCSP(chi
p size package)と称されているチップ
サイズと全く同等サイズの小型半導体パッケージに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年において、電子機器の高性能化、高
密度化に伴い、半導体装置を如何に高密度実装するかが
重要な課題となってきている。こうした状況下、半導体
装置の高密度実装は、如何にして半導体装置を小さく
し、かつ薄くするかにかかっており、そのため幾多の提
案がなされている。その一つがCSPと略称されている
チップサイズパッケージであるが、従来のCSPチップ
サイズパッケージはチップサイズとは言え、半導体チッ
プサイズよりも幾分か大きくなっているのが実情であ
る。
【0003】図4は、従来のCSPチップサイズパッケ
ージの概略構成を示すもので、図中において、21は配
線基板であり、この配線基板21上にダイボンディング
樹脂22を介して半導体素子23をダイボンディングし
ている。この半導体素子23の各電極と配線基板21の
配線をボンディングワイヤ24によって接続し、それら
を封止用樹脂25で封止することによって保護するよう
構成している。
【0004】上記のCSPチップサイズパッケージは、
半導体素子23の各電極と配線基板21の配線をボンデ
ィングワイヤ24によって接続しているため、ボンディ
ングワイヤ24を接続するためのスペースLが必要であ
り、その分だけ半導体チップサイズより幅寸法が大きく
なることは避けられなかった。また、ボンディングワイ
ヤ24の高さとそれを覆うだけの厚さ寸法を有する封止
用樹脂25が必要であり、配線基板21の厚みも加わる
ことから、厚さ寸法Dも半導体チップサイズより大きく
ならざるを得なかった。
【0005】更に、半導体素子23に対するパターン形
成、配線基板21に対するダイボンディング、ボンディ
ングワイヤ24による接続等の工程の他に、封止用樹脂
25による樹脂封止工程が必要であり、製造に際して工
程数が多く、時間がかかることから生産効率が低いとい
う問題があった。しかも、配線基板21や封止用樹脂2
5が必要であることから、余分な材料費がかかり、製造
コストが高くなるという問題があった。
【0006】一方、半導体装置を高密度実装するため、
より小さく、薄くしたものの一つとして図5に示すウエ
ーハレベルCSPと称されているものが提案されてい
る。このウエーハレベルCSPは、パターンを形成した
半導体素子31の表面側に再配線層32を配置し、Cu
ポスト33を介して半田ボール34に接続したもので、
半導体素子31と再配線層32を保護するため、封止用
樹脂35によって樹脂封止した構成としたものである。
【0007】しかして、ウエーハレベルCSPは、図示
の通り外形サイズを半導体チップサイズと同等のサイズ
にできることから、幅寸法を小さくできる特長を有する
ものの、厚さ寸法Dに関しては、半導体チップの厚さに
封止用樹脂35と半田ボール34の厚さ分がプラスされ
ることから、依然として半導体チップサイズよりも厚く
なり、厚さ寸法を薄くするという課題は残されたままで
あった。
【0008】更には、上記したCSPチップサイズパッ
ケージの場合と同様に、樹脂封止工程が必要であり、製
造に際して工程数が多く、時間がかかるというと共に、
半田ボール34や封止用樹脂35が必要であることか
ら、余分な材料費がかかり、製造コストが高くなるとい
う問題があった。
【0009】以上のように、従来の半導体装置は、高密
度実装のためにより小さく、より薄くするという要求に
対して、その求めを十分満たしているとは言えなかっ
た。また、製造工程が多く、時間がかかることから生産
効率が低く、しかも余分な材料費がかかることから製造
コストが高くなるという問題を内包しており、改善すべ
き点が残されていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の問題
に対処するためになされたものであり、その第一の課題
は、半導体装置を高密度実装のため、より小さく、より
薄くという課題を十分満たすべく、半導体チップサイズ
と全く同等サイズに構成できる半導体装置を提供するこ
とにある。本発明のもう一つの課題は、製造工程を少な
くして生産効率を高めることができると共に、封止用樹
脂等の材料を不要にして材料費を節減することにより、
製造コストを低減できる半導体装置を提供することにあ
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ため、本発明にかかる半導体装置は、半導体素子の表面
に形成した表面パターンからスルーホールを介して半導
体素子の裏面に導通をとり、この半導体素子の裏面に前
記スルーホールに接続された裏面パターンを形成すると
共に、同裏面パターンに繋がる外部端子としてのランド
を形成したことを特徴とするものである。
【0012】かかる構成とすることにより、前述したC
SPのようにボンディングワイヤを接続するためのスペ
ース等を必要とせず、その幅寸法を半導体チップサイズ
と全く同等サイズとすることができると共に、その裏面
を利用して裏面パターンを形成し、外部端子としてのラ
ンドに繋ぐようにしているため、厚さ寸法も半導体チッ
プサイズと略同等サイズとすることができる。
【0013】また、本発明にかかる半導体装置は、上記
した半導体装置において、前記スルーホールに蒸着又は
めっきによって導体金属を設けたことを特徴とするもの
である。
【0014】半導体素子を貫通するスルーホールに対
し、蒸着又はめっき等により導体金属を設けることによ
って、チップサイズ内で容易に表面側から裏面側と導通
をとることができる。
【0015】更に、本発明にかかる半導体装置は、上記
した半導体装置において、前記スルーホールに絶縁性樹
脂を充填して穴埋めしたことを特徴とするものである。
【0016】このようにスルーホールに絶縁性樹脂を充
填して穴埋めすることによって、絶縁性を確保すること
ができる。
【0017】更にまた、本発明にかかる半導体装置は、
上記した半導体装置において、前記半導体素子の表面に
表面保護膜を形成すると共に、裏面に前記ランドを開口
により逃がした裏面保護膜を形成したことを特徴とする
ものである。
【0018】上記のように半導体素子の表面及び裏面に
それぞれ表面保護膜及び裏面保護膜を形成し、半導体素
子の表面及び裏面を覆うことによって、樹脂封止しなく
ても半導体素子を十分保護することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を図1乃
至図3に基づいて説明する。図1は本発明の実施形態に
かかる半導体装置の表面図、図2はその縦断面図、図3
はその裏面図である。
【0020】図中において、1は半導体素子であり、所
定の幅寸法と厚さ寸法を有する方形のチップからなるも
のである。この半導体素子1の表面2側には、図示のよ
うに半導体素子の機能部としての表面パターン3が形成
されている。また、半導体素子1の周辺部には、裏面6
側に貫通するスルーホール4がレーザー加工等によって
形成されている。
【0021】スルーホール4には、導体としての導体金
属5が蒸着あるいはめっき等によって設けられ、この導
体金属5と表面パターン3とを接続することにより裏面
6側に導通が取られるようになっている。なお、このス
ルーホール4の内側に絶縁性樹脂7を充填し、スルーホ
ール4を穴埋めすることにより絶縁性を向上させるよう
にしてもよい。
【0022】一方、半導体素子1の裏面6側には、裏面
6側に貫通しているスルーホール4から導体金属5に接
続された裏面パターン8が形成されている。この裏面パ
ターン8は、外部端子としてのランド9の繋がってお
り、該ランド9を介して図示されていないマザーボード
に実装できるようになっている。
【0023】また、半導体素子1の表面2側には、半導
体素子1の表面2を覆うように薄い表面保護膜10が設
けられており、同様にその裏面6側には、ランド9を開
口により逃がして半導体素子1の裏面6を覆うように薄
い裏面保護膜11が設けられている。
【0024】しかして、上記の実施形態によると、半導
体素子1の表面2側に形成されている表面パターン3か
ら裏面6側に貫通しているスルーホール4を介して裏面
6側に導体金属5により導通を取り、この半導体素子1
の裏面6側にスルーホール4の導体金属5に接続された
裏面パターン8を形成すると共に、該裏面パターン8に
繋がる外部端子としてのランド9を形成することによっ
て、半導体装置を構成することができる。
【0025】このため、半導体装置として、従来のCS
Pパッケージのようにボンディングワイヤを接続するた
めのスペースを必要とせず、その幅寸法を半導体チップ
サイズと全く同等サイズとすることができる。また、半
導体素子1の裏面6を利用して裏面パターン8を引き回
し、裏面6に形成された外部端子としてのランド9に繋
ぐようにしているため、厚さ寸法も封止用樹脂や半田ボ
ールを必要としない分だけ薄くすることができ、半導体
チップサイズと略同等サイズとすることができる。
【0026】従って、半導体装置のサイズを幅寸法、厚
さ寸法とも文字通り半導体チップサイズと同等サイズと
することができ、これによって半導体装置の実装をより
高密度化し、電子機器の高性能化、高密度化に対応する
ことができる。
【0027】更に、半導体素子1のダイボンディング、
ボンディングワイヤの接続、樹脂封止等を不要にするこ
とができるため、半導体装置の製造工程からそれらの工
程を省略して工程数を減らし、所要製造時間を短縮する
ことができると共に、配線基板、半田ボール、封止用樹
脂等の材料を不要とすることができるため、生産効率の
向上と材料費の節減により、大幅なコストダウンを期待
することができる。
【0028】なお、スルーホール4を絶縁性樹脂7を充
填して穴埋めしているため、絶縁性を確保することがで
きると共に、半導体素子1の表面、裏面をそれぞれ表面
保護膜10及び裏面保護膜11で覆っているため、半導
体素子1を十分保護することができる。
【0029】
【発明の効果】以上に詳細に説明したように、本発明に
かかる半導体装置によると、半導体装置を半導体チップ
サイズと全く同等サイズに構成できるため、より小さ
く、より薄くという要求を十分満たすことができ、半導
体装置の高密度実装化に寄与することができる。また、
樹脂封止等の省略して製造工程を少なくし、生産効率を
高めることができると共に、封止用樹脂等の材料を不要
にし、材料費を節減することができるため、製造コスト
を大幅に低減してコストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態にかかる半導体装置の表面図
である。
【図2】本発明の実施形態にかかる半導体装置の縦断面
図である。
【図3】本発明の実施形態にかかる半導体装置の裏面図
である。
【図4】従来のCSPチップサイズパッケージの断面図
である。
【図5】従来のウエーハレベルCSPの断面図である。
【符号の説明】
1…半導体素子、2…表面、3…表面パターン、4…ス
ルーホール、5…導体金属、6…裏面、7…絶縁性樹
脂、8…裏面パターン、9…ランド、10…表面保護
膜、11…裏面保護膜
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/768 H01L 21/88 J 21/90 B

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子の表面に形成した表面パター
    ンからスルーホールを介して半導体素子の裏面に導通を
    とり、 この半導体素子の裏面に前記スルーホールに接続された
    裏面パターンを形成すると共に、同裏面パターンに繋が
    る外部端子としてのランドを形成したことを特徴とする
    半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記スルーホールに蒸着又はめっきによ
    って導体金属を設けたことを特徴とする請求項1に記載
    の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記スルーホールに絶縁性樹脂を充填し
    て穴埋めしたことを特徴とする請求項1又は2のいずれ
    かに記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記半導体素子の表面に表面保護膜を形
    成すると共に、裏面に前記ランドを開口により逃がした
    裏面保護膜を形成したことを特徴とする請求項1乃至3
    に記載の半導体装置。
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