JP2002212800A - スズ合金めっき皮膜の電解剥離方法 - Google Patents
スズ合金めっき皮膜の電解剥離方法Info
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 19
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 36
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N [Ag].[Sn] Chemical compound [Ag].[Sn] QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 abstract description 5
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 abstract description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 9
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 5
- -1 for example Substances 0.000 description 5
- JWVAUCBYEDDGAD-UHFFFAOYSA-N bismuth tin Chemical compound [Sn].[Bi] JWVAUCBYEDDGAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHOZNOZYMBRCBL-OUKQBFOZSA-N (2E)-2-Tetradecenal Chemical compound CCCCCCCCCCC\C=C\C=O WHOZNOZYMBRCBL-OUKQBFOZSA-N 0.000 description 1
- UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-tributylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)N(CCCC)CCCC UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-trimethylthiourea Chemical compound CNC(=S)N(C)C JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNLHIRFQKMVKPX-UHFFFAOYSA-N 1,1-diethylthiourea Chemical compound CCN(CC)C(N)=S CNLHIRFQKMVKPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMBRJVMBQNMRDM-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxybutane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCC(O)S(O)(=O)=O KMBRJVMBQNMRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLHYKAZPWIRRRD-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound CCC(O)S(O)(=O)=O CLHYKAZPWIRRRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZOVBIIWPDQIHF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1S(O)(=O)=O BZOVBIIWPDQIHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIVQQUNOTICCSA-UHFFFAOYSA-N ANTU Chemical compound C1=CC=C2C(NC(=S)N)=CC=CC2=C1 PIVQQUNOTICCSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N Ethylenethiourea Chemical compound S=C1NCCN1 PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)NCC FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- MNMKEULGSNUTIA-UHFFFAOYSA-K bismuth;methanesulfonate Chemical compound [Bi+3].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O MNMKEULGSNUTIA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCS(O)(=O)=O QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QUQFTIVBFKLPCL-UHFFFAOYSA-L copper;2-amino-3-[(2-amino-2-carboxylatoethyl)disulfanyl]propanoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C(N)CSSCC(N)C([O-])=O QUQFTIVBFKLPCL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N isethionic acid Chemical compound OCCS(O)(=O)=O SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044654 phenolsulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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Abstract
っき皮膜を基材を侵すことなく剥離することのできる電
解剥離方法を提供すること。 【解決手段】 スルホン酸類とチオ尿素類とを含有する
電解剥離液中で、スズ合金めっき皮膜を陽極として直流
電解を行うことを特徴とするスズ合金めっき皮膜の電解
剥離方法。
Description
膜の電解剥離方法に関し、更に詳細には、鉛フリーはん
だめっき等のスズ合金めっき皮膜を、ラック等の接点か
ら基材を侵すことなく除去することのできる電解剥離方
法に関する。
は、めっきされるべき物品をラックと呼ばれる治具に懸
架し、このラックの接点から電流を流しながらめっきを
行うことが一般的である。ラックの接点は小さいもので
あるため、通常この部分に析出される金属は無視される
ことが多いが、長時間使用していると、めっきすべき物
品のみならず、この部分にもかなりな金属が析出するこ
とがある。そして、このような接点に対する金属の析出
を放置すると、接点の部分に優先的にめっきが析出し、
めっきすべき物品に必要な膜厚のめっきが析出しないと
いう事態に立ち至ることがある。そこで、電気めっきの
現場においては、一定量のめっき作業を行った後に接点
に析出した金属を除去する作業を行っている場合が多
い。
はんだめっきが行われているが、そのはんだめっき皮膜
は非常に溶解しやすい性質を持っている。また、めっき
工程においては、製品の品質や外観を向上させるために
前処理が必要となる。そのため、通常ラックも製品と一
緒に前処理薬品中で浸漬または電解処理されている。し
かし、ラックにはんだめっきが析出したまま前処理薬品
中で処理すると、皮膜の合金成分であるスズや鉛が溶解
して不純物イオンとして混入するため前処理液が劣化し
てしまい、めっき製品自体の品質が著しく低下する場合
がある。そのためこのような製品のめっき工程ではめっ
き後に毎回治具剥離を行うのが一般的である。
出した金属を除去するだけでなく治具基材まで浸食さ
れ、治具の交換頻度が高くなる場合がある。そのためコ
スト的な問題や、通電不良等による製品の品質低下等の
問題が発生する。
ンにおいて、治具剥離はめっき加工品の品質維持のため
の技術として重要なポイントの一つであり、治具を侵す
ことなく皮膜を完全に除去するという性能が必要とされ
る。
濃度の硝酸を主成分とした剥離液が使われてきたが、剥
離時のガスやミストの発生や、取扱い時の危険性が問題
となっている。
2098号公報で報告されている、スルホン酸類を含有
する電解剥離液等が使用されることが多くなっている。
従来のスズ−鉛はんだめっきから、鉛を含まないはん
だ、いわゆる鉛フリーのはんだめっきへ移行しつつあ
る。この鉛フリーはんだめっきの工程においても、従来
と同様の性能を有する治具剥離が求められている。この
鉛フリーのはんだめっきによる金属皮膜は、従来のはん
だめっき用の剥離剤で剥離を試みても黒色皮膜が残留
し、十分に剥離できるとは言い難かった。
しようとする課題は、スズ合金めっき、特に鉛フリーは
んだめっき皮膜を基材を侵すことなく剥離することので
きる電解剥離方法を提供することである。
鑑み鋭意研究した結果、従来のスルホン酸類を含有する
電解剥離液にチオ尿素類を添加して直流電解を行うこと
で基剤を侵すことなくスズ合金皮膜を完全に剥離しうる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
尿素類とを含有する電解剥離液中で、スズ合金めっき皮
膜を陽極として直流電解を行うことを特徴とするスズ合
金めっき皮膜の電解剥離方法を提供するものである。
剥離方法の対象となるスズ合金皮膜とは、基材上にスズ
を含む合金の皮膜を指称し、例えば、スズ単独、スズと
銅、銀、ビスマス、鉛、亜鉛等との合金の皮膜であり、
これらはめっきの他、化学気層析出、蒸着等により皮膜
を、ステンレスやチタン等の基材上に形成したものが挙
げられる。特に本発明の効果が認められるのは、スズを
含むが鉛を含まない、いわゆる鉛フリーはんだについて
である。
離液に含有されるスルホン酸類の例としては、メタンス
ルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブ
タンスルホン酸等のアルカンスルホン酸、ヒドロキシエ
タンスルホン酸、ヒドロキシプロパンスルホン酸、ヒド
ロキシブタンスルホン酸等のアルカノールスルホン酸、
フェノールスルホン酸、クレゾールスルホン酸、ニトロ
ベンゼンスルホン酸等のアリールスルホン酸等およびそ
れらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩等を挙げること
ができる。特にメタンスルホン酸の使用が好ましい。
用量は0.05モル/L〜1モル/Lが好ましく、特
に、0.1〜0.5モル/Lがより好ましい。なお、含有
量が0.05モル/Lより少ないと剥離速度が遅く、か
つ剥離も不完全であり、1モル/Lより多いと電解条件
によっては剥離が不完全で基材表面が変色する。
素類の例としては、チオ尿素、1−アセチル−1−チオ
尿素、アリルチオ尿素、エチレンチオ尿素、トリメチル
チオ尿素、N,N−ジエチルチオ尿素、1−ナフチルチ
オ尿素、トリブチルチオ尿素等が挙げられる。特にチオ
尿素の使用が好ましい。
中、0.3〜1.5モル/Lが好ましく、特に、0.5〜
1モル/Lが好ましい。なお、含有量が0.3モル/L
より少ないと剥離速度が遅く、かつ剥離も不完全であ
り、1.5モル/Lより多くても効果はかわらない。
は、上記必須成分の他、基材表面に生じる変色を防止す
る目的として、ジヒドロキシベンゼン類を添加すること
もできる。このジヒドロキシベンゼン類としてはヒドロ
キノン、カテコール、レゾルシンが挙げられる。なおジ
ヒドロキシベンゼン類の使用量は0.1〜5.0g/Lが
好ましく、特に、0.5〜2.0g/Lが好ましい。な
お、含有量が0.1g/Lより少ないと基材表面の変色
を防止することができず、5.0g/Lより多いと変色
防止の効果がないだけでなく、剥離速度も低下してしま
う。
れる電解剥離液には、更に本発明の効果を損なわない範
囲で必要に応じて、界面活性剤や含窒素複素環式化合物
等の陰極への析出性を向上させる効果を持つ添加剤を含
有させても良い。
記のように調製された電解剥離液を必要により適当な溶
媒、例えば水に溶解または希釈し、好ましくは20℃〜
50℃、より好ましくは30〜40℃の液温に調製し、
スズ合金めっき皮膜を剥離すべきものを前記電解剥離液
に浸漬し、これを陽極として直流電解すればよい。
流電解を0.5V〜4.0Vの範囲の電圧で行うことが好
ましく、特に直流電解を1.0V〜2.5Vの定電圧で行
うことが望ましい。電解における電圧が上記範囲より低
いと剥離速度が遅い上に剥離が不完全となることがあ
る。逆に、設定電圧より高いと黒色皮膜が残留し、剥離
が不完全となることがある。なお、定電流で電解を行う
と、皮膜剥離終了後も基材に対して電解が行われ、基材
が溶解されてしまうおそれがある。
ば、従来のスズ合金剥離剤では剥離しにくかったスズ合
金皮膜、特に鉛フリーはんだ皮膜を基材を侵すことなく
剥離することが可能である。
するが、本発明はこれら実施例に何ら制約されるもので
はない。
(2mmφ×10cm)上に厚さ10μmのスズ−銀
(スズ:銀=97:3)めっき(荏原ユージライト社
製、エバソルダSEプロセス)を施したものを試験片と
した。このようにして作成された試験片を、下記成分
を、40℃とした下記組成の電解剥離液に浸漬し、試験
片を陽極として、陰極にSUS304を用いて2Vの定
電圧で直流電解を行った。
電解を行う以外は実施例1と同様にした。
を行う以外は実施例1と同様にした。
2Vの定電圧で直流電解を行う以外は実施例1と同様に
した。
スズ−銀めっき皮膜の剥離を行った。その剥離の速度お
よび剥離の状態を下記評価方法により評価した。その結
果を表1に示す。
より、電流値が0になるまで電解した後の試験片を水洗
し、その外観を目視により、下記評価基準で評価した。
る。 × : 剥離不十分で、黒色被膜が残留する。
離方法によれば、スズ−銀めっき皮膜が問題なく剥離で
きる。
304に10μmのスズ−ビスマス(スズ:ビスマス=
98:2)めっき(例えば、特開平2000−8049
3号公報、実施例2のメタンスルホン酸ビスマスを2g
/lとしたもの)を行い、これを試験片とした。以下、
実施例1と同様の電解剥離液と電解条件を用いて直流電
解を行った。
同様の電解剥離液と電解条件で直流電解を行った。
同様の電解剥離液と電解条件で直流電解を行った。
同様の電解剥離液と電解条件で直流電解を行った。
スズ−ビスマスめっき皮膜の剥離を行った時の剥離の速
度および剥離の状態を試験例1と同様に評価した、その
結果を表2に示す。
離方法によれば、スズ−ビスマスめっき皮膜が問題なく
剥離できる。
に10μmのスズ−銅(スズ:銅=97:3)めっき
(例えば、特開平2000−80493号公報、実施例
3の硫酸銅を1g/lとしたもの)を行い、試験片とし
た。この試験片について、以下実施例1と同様の電解剥
離液と電解条件で直流電解を行った。
同様の電解剥離液と電解条件で直流電解を行った。
同様の電解剥離液と電解条件で直流電解を行った。
同様の電解剥離液と電解条件で直流電解を行った。
スズ−銅めっき皮膜の剥離を行った時の剥離の速度およ
び剥離の状態を試験例1と同様に評価した、その結果を
表3に示す。
離方法によれば、スズ−銅めっき皮膜が問題なく剥離で
きる。
に10μmのスズ−鉛(スズ:鉛=90:10)めっき
(荏原ユージライト社製、エバソルダHS−22プロセ
ス)を行い試験片とした。以下、実施例1〜3と同様の
電解剥離液と電解条件を用いて直流電解を行った。
を用いてもスズ−鉛めっき(はんだめっき)皮膜は完全
に剥離することができた。
等のスズ合金めっき皮膜を、基材を侵すさずに剥離する
ことのできる電解剥離方法を提供することができる。
置の製造過程において、スズ合金めっき皮膜の剥離、特
にラック等の治具のステンレスの接点等に析出した鉛フ
リーはんだめっき皮膜を完全に除去できるため、リード
フレームなどの電子部品の品質維持が可能となる。 以 上
Claims (4)
- 【請求項1】 スルホン酸類とチオ尿素類とを含有する
電解剥離液中で、スズ合金めっき皮膜を陽極として直流
電解を行うことを特徴とするスズ合金めっき皮膜の電解
剥離方法。 - 【請求項2】 上記電解剥離液として、更にジヒドロキ
シベンゼンを含有せしめたものを用いることを特徴とす
るスズ合金めっき皮膜の電解剥離方法。 - 【請求項3】 スズ合金めっきがスズ銀めっきまたはス
ズ銅めっきである請求項第1項および第2項記載のスズ
合金めっき皮膜の電解剥離方法。 - 【請求項4】 直流電解を定電圧で行う請求項第1項な
いし第3項のいずれかの項記載のスズ合金めっき皮膜の
電解剥離方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001002922A JP2002212800A (ja) | 2001-01-10 | 2001-01-10 | スズ合金めっき皮膜の電解剥離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001002922A JP2002212800A (ja) | 2001-01-10 | 2001-01-10 | スズ合金めっき皮膜の電解剥離方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002212800A true JP2002212800A (ja) | 2002-07-31 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2001002922A Pending JP2002212800A (ja) | 2001-01-10 | 2001-01-10 | スズ合金めっき皮膜の電解剥離方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002212800A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4895944A (ja) * | 1972-03-23 | 1973-12-08 | ||
JPS62257000A (ja) * | 1986-04-22 | 1987-11-09 | ペンウオルト・コ−ポレ−シヨン | 卑金属基材からの金属コ−テイングの選択的電解剥離 |
JPH10140400A (ja) * | 1996-11-13 | 1998-05-26 | Ebara Yuujiraito Kk | 電解剥離用電解液および電解剥離方法 |
-
2001
- 2001-01-10 JP JP2001002922A patent/JP2002212800A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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A977 | Report on retrieval |
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