JPS6353266B2 - - Google Patents
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- JPS6353266B2 JPS6353266B2 JP16296086A JP16296086A JPS6353266B2 JP S6353266 B2 JPS6353266 B2 JP S6353266B2 JP 16296086 A JP16296086 A JP 16296086A JP 16296086 A JP16296086 A JP 16296086A JP S6353266 B2 JPS6353266 B2 JP S6353266B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
- C23G1/19—Iron or steel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
- C23G1/20—Other heavy metals
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はめつきのエツチングもしくは剥離方法
に関し、さらに詳細には金属素地上にめつきを有
する金属材料からめつきを除去して金属素地を再
使用するのに適した、めつきのエツチングもしく
は剥離方法に関するものである。本発明におい
て、「エツチング」および「剥離」という用語は、
めつきを除去する作用において均等であるため、
以下の説明においては簡略化するため「剥離」の
用語を使用する。
に関し、さらに詳細には金属素地上にめつきを有
する金属材料からめつきを除去して金属素地を再
使用するのに適した、めつきのエツチングもしく
は剥離方法に関するものである。本発明におい
て、「エツチング」および「剥離」という用語は、
めつきを除去する作用において均等であるため、
以下の説明においては簡略化するため「剥離」の
用語を使用する。
従来から銅、亜鉛、鉄、真鍮、ステンレスなど
の金属素地に化学めつき、電気めつきなどにより
クロム、金、白金、パラジウムなどの単体金属を
鍍金し、さらにその上にイオンプレーテイング法
により炭化チタンや窒化チタンなどのチタン化合
物を被覆することが当業界で周知されている。
の金属素地に化学めつき、電気めつきなどにより
クロム、金、白金、パラジウムなどの単体金属を
鍍金し、さらにその上にイオンプレーテイング法
により炭化チタンや窒化チタンなどのチタン化合
物を被覆することが当業界で周知されている。
さらに、鍍金或いはイオンプレーテイングの工
程からめつき不良品が出た場合、その金属素地を
回収して再使用することも行なわれている。
程からめつき不良品が出た場合、その金属素地を
回収して再使用することも行なわれている。
従来、このようなチタン化合物を含むめつきの
剥離には、弗酸、硝酸などの無機強酸が使用され
ている。しかしながら、この種の無機酸は、たと
えば強力な酸化作用などのため、特に濃度の高い
場合には金属素材をしばしば損傷することがあ
る。
剥離には、弗酸、硝酸などの無機強酸が使用され
ている。しかしながら、この種の無機酸は、たと
えば強力な酸化作用などのため、特に濃度の高い
場合には金属素材をしばしば損傷することがあ
る。
本発明は、上記欠点を解消すると共に容易に操
作可能であり、緩徐な酸化作用により金属素地を
傷めることなく簡単かつ安全にめつきを剥離する
方法を得ることを目的とする。
作可能であり、緩徐な酸化作用により金属素地を
傷めることなく簡単かつ安全にめつきを剥離する
方法を得ることを目的とする。
上記目的は、本発明によれば、金属素地上にチ
タン化合物を含むめつきを有する金属材料を、主
として過酸化水素とアルカリ剤とを含有する水溶
液に浸漬することにより達成される。
タン化合物を含むめつきを有する金属材料を、主
として過酸化水素とアルカリ剤とを含有する水溶
液に浸漬することにより達成される。
浸漬用に使用する水溶液の過酸化水素濃度およ
びアルカリ剤濃度は、金属素地およびめつきの種
類に応じて変化するが、濃H2O2も使用すること
ができるが、一般に過酸化水素の濃度を水溶液に
対して5〜99%の範囲とし、またアルカリ剤の濃
度も低濃度から高濃度まで、たとえば水溶液に対
し1〜95%とすることができ、水溶液のPHを7.5
〜11の範囲のアルカリ性にするのが好ましい。ア
ルカリ剤としてはアルカリ金属(NaもしくはK)
の水酸化物、アンモニウムなどが好適に使用され
る。
びアルカリ剤濃度は、金属素地およびめつきの種
類に応じて変化するが、濃H2O2も使用すること
ができるが、一般に過酸化水素の濃度を水溶液に
対して5〜99%の範囲とし、またアルカリ剤の濃
度も低濃度から高濃度まで、たとえば水溶液に対
し1〜95%とすることができ、水溶液のPHを7.5
〜11の範囲のアルカリ性にするのが好ましい。ア
ルカリ剤としてはアルカリ金属(NaもしくはK)
の水酸化物、アンモニウムなどが好適に使用され
る。
さらに、過酸化水素による酸化作用を緩徐にす
る目的で、水溶液中に界面活性剤や無機・有機の
酸化抑制剤を少量混入すれば一層好適である。
る目的で、水溶液中に界面活性剤や無機・有機の
酸化抑制剤を少量混入すれば一層好適である。
さらに、水溶液中には微量の金属塩、たとえば
NiSO4,NiCl2,CH3 COONa,CuSO4,ZnSO4
などを存在させれば好適である。
NiSO4,NiCl2,CH3 COONa,CuSO4,ZnSO4
などを存在させれば好適である。
金属素地としては銅、亜鉛、ニツケル、鉄など
或いはそれらの合金、たとえば真鍮、ステンレス
など当業界で知られた全ゆる金属が挙げられ、こ
れら全てに本発明を適用することができる。
或いはそれらの合金、たとえば真鍮、ステンレス
など当業界で知られた全ゆる金属が挙げられ、こ
れら全てに本発明を適用することができる。
めつきとしては、ニツケル、クロム或いは金、
白金、パラジウムなど当業界で知られた各種のめ
つきに対し本発明を適用することができる。
白金、パラジウムなど当業界で知られた各種のめ
つきに対し本発明を適用することができる。
イオンプレーテイングによる主としてTiN,
TiCの被覆は、窒素およびアルゴンの存在下でチ
タンをイオンプレーテイングして行なわれること
が当業界で周知されている。本発明の方法を適用
しうる金属材料は主としてイオンプレーテイング
によるチタン化合物の被覆を有するものである
が、このチタン化合物の被覆はたとえばステンレ
ス素地などの場合、素地上へ直接またはNi,
Au,Pdなどの上に、或いはたとえば銅―亜鉛合
金を素地とするような場合には、ニツケル、クロ
ム、金、パラジウムなどを鍍金した上に直接に
TiC,TiNを施したもののいずれであつてもよ
い。
TiCの被覆は、窒素およびアルゴンの存在下でチ
タンをイオンプレーテイングして行なわれること
が当業界で周知されている。本発明の方法を適用
しうる金属材料は主としてイオンプレーテイング
によるチタン化合物の被覆を有するものである
が、このチタン化合物の被覆はたとえばステンレ
ス素地などの場合、素地上へ直接またはNi,
Au,Pdなどの上に、或いはたとえば銅―亜鉛合
金を素地とするような場合には、ニツケル、クロ
ム、金、パラジウムなどを鍍金した上に直接に
TiC,TiNを施したもののいずれであつてもよ
い。
本発明による方法の処理時間は、剥離が完全か
つきれいに行なわれる範囲内において、肉眼観察
或いは機器測定などに基づき適宜簡単に決定する
ことができる。
つきれいに行なわれる範囲内において、肉眼観察
或いは機器測定などに基づき適宜簡単に決定する
ことができる。
本発明によれば、剥離作用が従来の強酸による
よりも弱いアルカリ性で緩徐であるため金属素地
の損傷が全くなく、従つてその金属素地を同じ鍍
金処理およびイオンプレーテイング処理に直ちに
再使用することができる。
よりも弱いアルカリ性で緩徐であるため金属素地
の損傷が全くなく、従つてその金属素地を同じ鍍
金処理およびイオンプレーテイング処理に直ちに
再使用することができる。
さらに、表面が侵されないため前後処理の研磨
など、仕上げが不要となり、寸法精度を要する物
品に対し特に有効となるなどの利点を有する。
など、仕上げが不要となり、寸法精度を要する物
品に対し特に有効となるなどの利点を有する。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例 1
5cm×5cmのステンレス鋼板に、常法に従つて
窒素およびアルゴンの存在下でイオンプレーテイ
ングを行なうことにより窒化チタン(TiN)を
被覆した。
窒素およびアルゴンの存在下でイオンプレーテイ
ングを行なうことにより窒化チタン(TiN)を
被覆した。
このTiN被覆されたステンレス鋼板を、100ml
のH2O2と3gのNaOHとを含有する常温の水溶
液に60分間浸漬した。浸漬の後、試料片を流水に
より充分洗浄して、めつきの剥離したステンレス
鋼板が回収された。この鋼板は、肉眼観察の結
果、表面に傷がなくかつ安全にTiN層が剥離さ
れていることが確認された。
のH2O2と3gのNaOHとを含有する常温の水溶
液に60分間浸漬した。浸漬の後、試料片を流水に
より充分洗浄して、めつきの剥離したステンレス
鋼板が回収された。この鋼板は、肉眼観察の結
果、表面に傷がなくかつ安全にTiN層が剥離さ
れていることが確認された。
界面活性剤としてアルキルベンゼンスルホン酸
ナトリウムを0.01g含有させ、かつ酸化抑制剤と
してEDTAを30g含有させた以外は上記手順と
同様に処理してより良好な結果が得られた。
ナトリウムを0.01g含有させ、かつ酸化抑制剤と
してEDTAを30g含有させた以外は上記手順と
同様に処理してより良好な結果が得られた。
実施例 2
5cm×5cmの鋼―亜鉛合金よりなる試料板片に
金めつきを電気鍍金法で施し、次いでその上にイ
オンプレーテイングによりTiCを被覆した。
金めつきを電気鍍金法で施し、次いでその上にイ
オンプレーテイングによりTiCを被覆した。
このようなめつきを有する試料片を、アルカリ
剤としてアンモニウムを実施例1のNaOHと当
量で使用する以外は実施例1と同様に処理して、
表面に傷がなくかつ安全にめつき層が剥離されて
いる合金素地が回収された。この場合にも、実施
例1におけると同じ種類および量の界面活性剤お
よび酸化抑制剤により同様な効果が得られた。
剤としてアンモニウムを実施例1のNaOHと当
量で使用する以外は実施例1と同様に処理して、
表面に傷がなくかつ安全にめつき層が剥離されて
いる合金素地が回収された。この場合にも、実施
例1におけると同じ種類および量の界面活性剤お
よび酸化抑制剤により同様な効果が得られた。
以上、本発明を好適実施例につき説明したが、
たとえば素地金属、めつき金属の種類ならびにア
ルカリ剤、界面活性剤などの種類を種々選択する
ことにより多くの種類のめつきに対し本発明を適
用しうることが当業者には了解されよう。たとえ
ば界面活性剤として非イオン型、アニオン型、カ
チオン型、両性型など全ゆる種類のものから任意
に選択することができ、また酸化抑制剤としてク
エン酸、リンゴ酸、酒石酸、酢酸、EDTAなど
の有機物或いは塩化ナトリウム、塩化マグネシウ
ム、硫酸ナトリウムもしくはカリウム、塩化アン
モニウムなどの無機物を適宜選択して使用するこ
とができる。
たとえば素地金属、めつき金属の種類ならびにア
ルカリ剤、界面活性剤などの種類を種々選択する
ことにより多くの種類のめつきに対し本発明を適
用しうることが当業者には了解されよう。たとえ
ば界面活性剤として非イオン型、アニオン型、カ
チオン型、両性型など全ゆる種類のものから任意
に選択することができ、また酸化抑制剤としてク
エン酸、リンゴ酸、酒石酸、酢酸、EDTAなど
の有機物或いは塩化ナトリウム、塩化マグネシウ
ム、硫酸ナトリウムもしくはカリウム、塩化アン
モニウムなどの無機物を適宜選択して使用するこ
とができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 金属素地上にチタン化合物を含むめつきが施
された金属材料を、主として過酸化水素とアルカ
リ剤とを含有する水溶液に浸漬することを特徴と
するめつきのエツチングもしくは剥離方法。 2 水溶液中の過酸化水素の濃度が5〜99%であ
り、かつアルカリ剤の濃度が1〜95%である特許
請求の範囲第1項記載の方法。 3 アルカリ剤をアルカリ金属水酸化物および水
酸化アンモニウムよりなる群から選択する特許請
求の範囲第1項記載の方法。 4 水溶液中に界面活性剤および無機・有機の酸
化抑制剤をさらに含有させる特許請求の範囲第1
項記載の方法。 5 界面活性剤がカチオン型、アニオン型、両性
型であり、酸化抑制剤をクエン酸、リンゴ酸、酒
石酸、酢酸、EDTAなどの有機物および塩化ナ
トリウム、塩化マグネシウム、硫酸ナトリウムも
しくはカリウム、塩化アンモニウムなどの無機物
から選択する特許請求の範囲第4項記載の方法。 6 チタン化合物を含むめつきがチタン化合物の
み、または単体金属もしくはその合金の下層めつ
きとチタン化合物の上層被覆とからなる特許請求
の範囲第1項記載の方法。 7 金属塩として微量のNiSO4,NiCl2,CH3
COONa,CuSO4,ZnSO4の少なくとも1種をさ
らに水溶液中に存在させる特許請求の範囲第1項
記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16296086A JPS6320489A (ja) | 1986-07-12 | 1986-07-12 | めつきの剥離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16296086A JPS6320489A (ja) | 1986-07-12 | 1986-07-12 | めつきの剥離方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6320489A JPS6320489A (ja) | 1988-01-28 |
JPS6353266B2 true JPS6353266B2 (ja) | 1988-10-21 |
Family
ID=15764550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16296086A Granted JPS6320489A (ja) | 1986-07-12 | 1986-07-12 | めつきの剥離方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6320489A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002517615A (ja) * | 1998-06-11 | 2002-06-18 | ユナキス・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト | 硬質材層を除去するための方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5269850A (en) * | 1989-12-20 | 1993-12-14 | Hughes Aircraft Company | Method of removing organic flux using peroxide composition |
JPH06310492A (ja) * | 1993-04-23 | 1994-11-04 | Fuji Xerox Co Ltd | チタン系薄膜のエッチング液及び半導体装置の製造方法 |
GB2349892A (en) * | 1999-05-13 | 2000-11-15 | Warwick Internat Group Ltd | Metal cleaning |
DE10145488A1 (de) * | 2001-09-14 | 2003-05-22 | Mol Katalysatortechnik Gmbh | Wasserstoffperoxidhaltige wässrige Lösung |
JP5481179B2 (ja) * | 2009-12-15 | 2014-04-23 | Dowaメタルテック株式会社 | Cu系材料のSnめっき層の剥離方法 |
CN103255418B (zh) * | 2012-02-17 | 2015-07-22 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种脱锡剂及其制备方法 |
US9330937B2 (en) | 2013-11-13 | 2016-05-03 | Intermolecular, Inc. | Etching of semiconductor structures that include titanium-based layers |
-
1986
- 1986-07-12 JP JP16296086A patent/JPS6320489A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002517615A (ja) * | 1998-06-11 | 2002-06-18 | ユナキス・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト | 硬質材層を除去するための方法 |
JP4824163B2 (ja) * | 1998-06-11 | 2011-11-30 | エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | 硬質材層を除去するための方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6320489A (ja) | 1988-01-28 |
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