JP2002182224A

JP2002182224A - 電気光学装置および電子機器

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Publication number: JP2002182224A
Application number: JP2000381929A
Authority: JP
Inventors: Takashi Tsuchie; 崇史土江; Takeshi Hagiwara; 武萩原; Takeshi Kurashima; 健倉島
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2000-12-15
Filing date: 2000-12-15
Publication date: 2002-06-26
Anticipated expiration: 2020-12-15
Also published as: JP4474770B2

Abstract

(57)【要約】【課題】マークを付す領域として広い領域を確保しな
くても、複数の層の形成位置を各々、正確に指示するこ
とのできる電気光学装置、およびこの電気光学装置を用
いた電子機器を提供すること。【解決手段】電気光学装置を構成する一対の基板のう
ち、第２の透明基板２０には、矩形のマーク１００が形
成されている。このマーク１００の外側縁部１２０、内
側縁部１２０、および幅１４０に相当する部分は、それ
ぞれ、配向膜、オーバーコート膜、およびシール材の形
成位置を指示している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の基板によっ
て電気光学物質が保持された電気光学装置、およびこの
電気光学装置を用いた電子機器に関するものである。さ
らに詳しくは、当該電気光学装置において基板に対して
シール材の塗布位置等を指示するための技術に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型コンピュー
タ、ビデオカメラ等といった電子機器の表示部として、
液晶パネルなどといった電気光学装置が広く用いられて
いる。この電気光学装置のうち、液晶装置では、一対の
基板がシール材によって貼り合わされたパネルに偏光板
が貼り付けられ、シール材で区画された領域内に、電気
光学物質としての液晶が封入されている。

【０００３】ここで、シール材は、ディスペンサーなど
を用いて一方の基板に塗布される。また、基板には配向
膜が形成され、この配向膜によって、基板間に注入され
た液晶の配向を規定する。さらに、基板間の短絡を防止
するために、一方の基板には配向膜と電極パターンとの
間に絶縁性のオーバーコート膜が形成される。

【０００４】このように、液晶装置では、液晶駆動用の
電極の他、複数の薄膜層が基板に形成されるが、このよ
うな薄膜層は所定位置に形成する必要がある。すなわ
ち、基板表面には、端子が形成されているので、このよ
うな端子の表面に絶縁性の薄膜層が形成されると、端子
での電気的接続を行えなくなる。また、配向膜の形成領
域が狭すぎると、この部分では、配向膜から液晶が配向
規制力を受けないことになって、配向状態に乱れが発生
する。

【０００５】そこで、従来は、例えば、基板上に複数の
マークを付し、これらのマークによって、各薄膜層の形
成位置を指示していた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】電気光学装置を携帯電
話機などに搭載するにあたって、例えば、電気光学装置
の一方の面側に配置した枠体の窓部分からシール材が見
えないよう、シール材の塗布位置や塗布量についてより
厳しい要求がなされる。従って、マークを目安に各薄膜
層を形成せざるを得ないが、電気光学装置では、同一サ
イズの画像表示領域であれば、パネルをできるだけ小型
化したいという要求が強いことから、画像表示領域の外
周領域を狭くしていく傾向にあり、このような場合に、
狭い領域に複数のマークを配置することは困難である。

【０００７】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
マークを付す領域として広い領域を確保しなくても、複
数の層の形成位置を各々、正確に指示することのできる
電気光学装置、およびこの電気光学装置を用いた電子機
器を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、一対の基板によって電気光学物質が保
持された電気光学装置において、前記一対の基板の少な
くとも一方の基板には、該基板上の異なる位置に設けら
れる複数の層の各形成位置を各々指示する矩形のマーク
が形成されてなることを特徴とする。

【０００９】本発明においては、複数の層の各形成位置
を各々指示する矩形のマークが基板に形成されているた
め、この一つのマークで、複数の層の各形成位置を各々
指示することができる。従って、シール材、配向膜、あ
るいはオーバーコート膜などといった層を基板上の所定
位置に正確に形成することができる。また、一つのマー
クで、複数の層の各形成位置を各々指示するため、基板
に形成するマークの数を必要最小限まで減らすことがで
きるので、画像表示領域の外周領域を狭くしていった場
合でも、シール材、配向膜、あるいはオーバーコート膜
などといった層を基板上に正確に塗布することができ
る。さらに、このマークは、矩形であり、その縁部分な
どで層の形成位置を指示するので、形成位置を明確に指
示できる。

【００１０】本発明において、前記マークは、例えば、
その内側の縁部分、幅、および外側の縁部分のうちの２
箇所により２つの層の形成位置を各々指示する。

【００１１】本発明において、前記マークについては、
その内側の縁部分、幅、および外側の縁部分の３箇所に
より３つの層の形成位置を各々指示するように構成して
もよい。

【００１２】本発明において、前記マークによって形成
位置が指示される複数の層には、例えば、前記一対の基
板を貼り合わせるためのシール材、前記電気光学物質を
配向させるための配向膜、および前記一対の基板間への
導電性異物混入に起因する短絡を防止するためのオーバ
ーコート膜の少なくとも二つが含まれている。

【００１３】本発明において、前記一対の基板は、当該
基板同士を貼り合わすシール材に含まれる基板間導通材
によって基板間の導通を行う基板間導通用端子が基板辺
に沿って形成されていることがあり、このような場合に
は、前記基板間導通用端子が形成されている領域では、
前記マークによって、前記電気光学物質を配向させるた
めの配向膜の形成位置、および前記一対の基板間への導
電性異物混入に起因する短絡を防止するためのオーバー
コート膜の形成位置が指示され、前記シール材の形成位
置については、別のマークによって指示されている構成
を採用することが好ましい。

【００１４】本発明において、前記マークは、該マーク
が付されている基板に形成される他の層と同一材料から
構成されていることが好ましい。すなわち、前記マーク
は、該マークが付されている基板に形成される他の層と
同時形成されてなることが好ましい。このように構成す
ると、前記マークを形成するといっても、新たな工程を
追加する必要がないという利点がある。

【００１５】このような電気光学装置は、携帯電話機、
携帯型コンピュータ、ビデオカメラ等といった電子機器
の表示部として用いられる。

【００１６】

【発明の実施の形態】添付図面を参照して、本発明の実
施の形態を説明する。

【００１７】（全体構成）図１および図２はそれぞれ、
本発明を適用した電気光学装置の斜視図および分解斜視
図である。図３および図４はそれぞれ、本発明を適用し
た電気光学装置を図１のＩ−Ｉ′線で切断したときのＩ
側の端部の断面図、およびＩ′側の端部の断面図であ
る。なお、図１および図２には、電極パターンおよび端
子などを模式的に示してあるだけなので、それらの詳細
については、図５、図６および図７を参照して説明す
る。図５および図６はそれぞれ、図１および図２に示し
た電気光学装置の第１の透明基板に形成した第１の電極
パターンおよび端子などを拡大して示す平面図、および
第２の透明基板に形成した第２の電極パターンおよび端
子などを拡大して示す平面図である。図７は、図５に示
す第１の透明基板と、図６に示す第２の透明基板とを貼
り合わせたときの電極パターンおよび端子などを拡大し
て示す平面図である。

【００１８】図１および図２において、本形態の電気光
学装置１は、携帯電話などの電子機器に搭載されている
パッシブマトリクスタイプの液晶表示装置であり、所定
の間隙を介してシール材３０によって貼り合わされた矩
形のガラスなどからなる一対の透明基板間にシール材３
０によって液晶封入領域３５が区画されているととも
に、この液晶封入領域３５内に液晶が封入されている。
ここでは、前記一対の透明基板のうち、液晶封入領域３
５内で縦方向に延びる複数列の第１の電極パターン４０
が形成されている方の基板を第１の透明基板１０とし、
液晶封入領域３５内で横方向に延びる複数列の第２の電
極パターン５０が形成されている方の基板を第２の透明
基板２０とする。

【００１９】ここに示す電気光学装置１は透過型であ
り、第２の透明基板２０の外側表面に偏光板６１が貼ら
れ、第１の透明基板１０の外側表面にも偏光板６２が貼
られている。また、第２の透明基板２０の外側にはバッ
クライト装置９が配置されている。

【００２０】第１の透明基板１０には、図３および図４
に示すように、第１の電極パターン４０と第２の電極パ
ターン５０との交点に相当する領域に赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが
形成され、これらのカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの
表面側に絶縁性の平坦化膜１３、第１の電極パターン４
０および配向膜１２がこの順に形成されている。これに
対して、第２の透明基板２０には、第２の電極パターン
５０および配向膜２２がこの順に形成されている。

【００２１】また、第１の透明基板１０および第２の透
明基板２０のうち、第２の透明基板２０の表面には、配
向膜２２の下層側に絶縁性のオーバーコート膜２９が形
成されている。このオーバーコート膜２９は、Ｓｉ
Ｏ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、およびＳｂ₂Ｏ₂を含む金属酸
化膜、あるいはＳｉＯ₂単独膜から構成され、前記の一
対の基板間に導電性異物が混入することに起因する基板
間の短絡を防止する機能を有する。また、オーバーコー
ト膜２９は、下地と配向膜２２との密着性を向上する機
能も有する。

【００２２】この電気光学装置１において、第１の電極
パターン４０および第２の電極パターン５０はいずれ
も、ＩＴＯ膜（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ／透
明導電膜）によって形成されている。

【００２３】なお、第２の電極パターン５０を半透過・
半反射性の導電膜で形成すれば、半透過・半反射型の電
気光学装置１を構成できる。また、第２の電極パターン
５０を反射性の導電膜で形成すれば、反射型の電気光学
装置１を構成でき、この場合には、第２の透明基板２０
の裏面側からバックライト装置９を省略すればよい。

【００２４】（電極パターンおよび端子の構成）このよ
うに構成した電気光学装置１において、外部からの信号
入力および基板間の導通のいずれを行うにも、第１の透
明基板１０および第２の透明基板２０の同一方向に位置
する各基板辺１０１、２０１付近において第１の透明基
板１０および第２の透明基板２０のそれぞれに形成され
ている第１の端子形成領域１１および第２の端子形成領
域２１が用いられる。従って、第２の透明基板２０とし
ては、第１の透明基板１０よりも大きな基板が用いら
れ、第１の透明基板１０と第２の透明基板２０とを貼り
合わせたときに第１の透明基板１０の基板辺１０１から
第２の透明基板２０が張り出す部分２５を利用して、駆
動用ＩＣ７をＣＯＦ実装したフレキシブル基板９０の接
続などが行われる。

【００２５】このため、第２の透明基板２０において、
第２の端子形成領域２１は、基板辺２０１に近い部分が
第１の透明基板１０から張り出した部分２５に形成さ
れ、この基板辺２０１に近い端子形成領域部分の表面は
開放状態にある。これに対して、第２の透明基板２０に
おいて、第２の端子形成領域２１の液晶封入領域３５の
側に位置する部分は、第１の透明基板１０の側との基板
間導通用に用いられるので、この第２の端子形成領域２
１のうち、液晶封入領域３５の側に位置する部分は、第
１の透明基板１０との重なり部分に形成されている。

【００２６】また、第１の透明基板１０において、第１
の端子形成領域１１は、第２の透明基板２０の側との基
板間導通に用いられるので、第２の透明基板２０との重
なり部分に形成されている。

【００２７】このような接続構造を構成するにあたっ
て、本形態では、図２および図５に示すように、第１の
透明基板１０において、第１の端子形成領域１１は第１
の透明基板１０の基板辺１０１の中央部分に沿って形成
され、この第１の端子形成領域１１では、基板辺１０１
に沿って複数の第１の基板間導通用端子６０が所定の間
隔をもって並んでいる。また、第１の透明基板１０で
は、第１の基板間導通用端子６０から対向する基板辺１
０２に向かって複数列の液晶駆動用の第１の電極パター
ン４０が両側に斜めに延びた後、液晶封入領域３５内で
基板辺１０１、１０２に直交する方向に延びている。

【００２８】図２および図６に示すように、第２の透明
基板２０において、第２の端子形成領域２１も基板辺２
０１に沿って形成されているが、この第２の端子形成領
域２１は、基板辺２０１の両端を除く比較的広い範囲に
わたって形成されている。第２の端子形成領域２１に
は、その中央領域で基板辺２０１に沿って所定の間隔を
もって並ぶ複数の第１の外部入力用端子８１、およびこ
れらの第１の外部入力用端子８１が形成されている領域
の両側２箇所で基板辺２０１に沿って所定の間隔をもっ
て並ぶ複数の第２の外部入力用端子８２が形成されてい
る。

【００２９】また、第１の外部入力用端子８１からは、
第１の透明基板１０と第２の透明基板２０とを貼り合わ
せたときに第１の基板間導通用端子６０と重なる複数の
第２の基板間導通用端子７０が基板辺２０２に向かって
直線的に延びている。

【００３０】さらに、第２の透明基板２０において、第
２の外部入力用端子８２からは、第１の透明基板１０と
第２の透明基板２０とを貼り合わせたときに第１の電極
パターン４０の形成領域の両側に相当する領域を回り込
むように複数列の液晶駆動用の第２の電極パターン５０
が形成され、これらの第２の電極パターン５０は、液晶
封入領域３５内において第１の電極パターン４０と交差
するように延びている。

【００３１】このように構成した第１の透明基板１０お
よび第２の透明基板２０を用いて電気光学装置１を構成
するにあたって、本形態では、第１の透明基板１０と第
２の透明基板２０とをシール材３０を介して貼り合わせ
る際に、シール材３０にギャップ材および導通材を配合
しておくとともに、シール材３０を第１の基板間導通用
端子６０および第２の基板間導通用端子７０が重なる領
域に形成する。ここで、シール材３０４に含まれる導電
材は、たとえば、弾性変形可能なプラスチックビーズの
表面にめっきを施した粒子であり、その粒径は、シール
材３０４に含まれるギャップ材の粒径よりもわずかに大
きい。それ故、第１の透明基板１０と第２の透明基板２
０とを重ねた状態でその間隙を狭めるような力を加えな
がらシール材３０を溶融、硬化させると、導電材は、第
１の透明基板１０と第２の透明基板２０との間で押し潰
された状態で第１の基板間導通用端子６０と第２の基板
間導通用端子７０とを導通させる。

【００３２】また、図７に示すように、第１の透明基板
１０と第２の透明基板２０とをシール材３０を介して貼
り合わせると、第１の電極パターン４０と第２の電極パ
ターン５０との交差部分によって画素５がマトリクス状
に形成される。このため、第２の透明基板２０の第２の
端子形成領域２１の基板辺２０１側の端部に対してフレ
キシブル基板９０を異方性導電材などを用いて実装した
後、このフレキシブル基板９０を介して第２の透明基板
２０の第１の外部入力用端子８１および第２の外部入力
用端子８２に信号入力すると、第２の透明基板２０に形
成されている第２の電極パターン５０には第２の外部入
力用端子８２を介して走査信号を直接、印加することが
でき、かつ、第１の透明基板１０に形成されている第１
の電極パターン４０には、第１の外部入力用端子８１、
第２の基板間導通用端子７０、導通材および第１の基板
間導通用端子６０を介して画像データを信号入力するこ
とができる。よって、これらの画像データおよび走査信
号によって、各画素５において第１の電極パターン４０
と第２の電極パターン５０との間に位置する液晶の配向
状態を制御することができるので、所定の画像を表示す
ることができる。

【００３３】［電気光学装置の製造方法］このような構
成の電気光学装置１を製造するには、まず、第１の透明
基板１０に、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ、絶縁性
の平坦化膜１３、第１の電極パターン４０および配向膜
１２をこの順に形成していく。但し、第１の端子形成領
域１１には配向膜１２を形成しない。

【００３４】また、第２の透明基板２０には、第２の電
極パターン５０、オーバーコート膜２９、および配向膜
２２をこの順に形成していく。ここで、第２の透明基板
２０には、各種端子が形成されているので、配向膜２２
については、後述するマークで指示された領域のみにフ
レキソ印刷などの方法で塗布し、第２の端子形成領域１
２には配向膜２２を形成しない。また、オーバーコート
膜２９についても、後述するマークで指示された領域の
みにフレキソ印刷などの方法で塗布し、第２の端子形成
領域２１にはオーバーコート膜２９を形成しない。

【００３５】ここで、第１の電極パターン４０および第
２の電極パターン５０を形成するには、ＩＴＯ膜などを
基板全面に形成した後、フォトリソグラフィ技術を用い
てパターニングを行う。このとき、各端子も同時形成さ
れる。

【００３６】このようにして各基板を形成した後、本形
態では、第２の透明基板２０の方にシール材３０を塗布
する。ここで、シール材３０は、液晶封入領域を区画形
成し、かつ、第２の基板間導通用端子７０による基板間
導通を行うため、後述するマークで指示された領域のみ
にディズペンサーなどにより塗布する。

【００３７】しかる後に、シール材３０を挟んで第１の
透明基板１０と第２の透明基板２０とを位置合わせしな
がら重ねた後、紫外線照射あるいは加熱処理によって、
シール材３０を硬化させる。

【００３８】このような方法で電気光学装置１を製造す
るにあたって、第２の透明基板２０に対して、オーバー
コート膜２９、配向膜２２、およびシール材３０を所定
位置に精度よく形成することを目的に、本形態では、図
６および図８（Ａ）に示すように、第２の透明基板２０
における基板辺２０２の側（図１のＩ−Ｉ′線における
Ｉ側の端部）では、その角付近に、直交する基板辺に沿
って矩形の第１のマーク１００が２つ形成されている。
これらの第１のマーク１００は、第２の電極パターン５
０と同様に成膜、パターニングされたもので、ＩＴＯ膜
からなる。また、半透過・半反射型、あるいは反射型の
場合には、第２の電極パターン５０を反射性の金属の導
電膜で形成する構成とし、第１のマーク１００が第２の
電極パターン５０と同様に成膜、パターニングされた金
属膜からなるようにしてもよい。また、半透過・半反射
型、あるいは反射型の場合には、第２の電極パターン５
０と第２の透明基板２０との間に金属の反射膜を設ける
構成とし、第１のマーク１００がこの反射膜と同様に成
膜、パターニングされた金属膜からなるようにしてもよ
い。

【００３９】第１のマーク１００において、その外側縁
部１３０は、図８（Ｂ）に一点鎖線Ｌ１１で示すよう
に、配向膜２２の形成領域を指示している。また、第１
のマーク１００において、その内側縁部１２０は、図８
（Ｂ）に二点鎖線Ｌ１２で示すように、オーバーコート
膜２９の形成領域を指示している。さらに、第１のマー
ク１００において、その幅１４０に対応する領域（一点
鎖線Ｌ１１と二点鎖線Ｌ１２で挟まれた斜線領域）は、
シール材３０の塗布領域を指示している。

【００４０】従って、第１のマーク１００は、それ一つ
で、配向膜２２の形成領域、オーバーコート膜２９の形
成領域、およびシール材３０の塗布領域を指示してお
り、第１のマーク１００で指示された位置に従って、配
向膜２２、オーバーコート膜２９、およびシール材３０
を塗布、形成すれば、シール材３０の外側縁部に重なる
位置まで配向膜２２を形成することができるなど、配向
膜２２、オーバーコート膜２９、およびシール材３０の
形成領域を制御よく管理できる。

【００４１】これに対して、図６および図９（Ａ）に示
すように、第２の透明基板２０における第２の端子形成
領域２１近く（図１のＩ−Ｉ′線におけるＩ′側の端部
近く）では、基板の側辺に沿って矩形の第２のマーク２
００が形成されている。また、基板辺２０１から第２の
基板間導通用端子７０が形成されている領域までの距離
と略等しい距離の位置には、第２のマーク２００とは別
の矩形の第３のマーク３００が形成されている。これら
の第２のマーク２００および第３のマーク３００も、第
２の電極パターン５０と同様に成膜、パターングされた
もので、ＩＴＯ膜からなる。また、半透過・半反射型、
あるいは反射型の場合には、第２の電極パターン５０を
反射性の金属の導電膜で形成する構成とし、第３のマー
ク３００が第２の電極パターン５０と同様に成膜、パタ
ーニングされた金属膜からなるようにしてもよい。ま
た、半透過・半反射型、あるいは反射型の場合には、第
２の電極パターン５０と第２の透明基板２０との間に金
属の反射膜を設ける構成とし、第３のマーク３００がこ
の反射膜と同様に成膜、パターニングされた金属膜から
なるようにしてもよい。

【００４２】第２のマーク２００において、その外側縁
部２１０は、図９（Ｂ）に一点鎖線Ｌ２１で示すよう
に、配向膜２２の形成領域を指示している。また、第２
のマーク２００において、その内側縁部２２０は、図９
（Ｂ）に二点鎖線Ｌ２２で示すように、オーバーコート
膜２９の形成領域を指示している。

【００４３】第２のマーク１００において、その幅２４
０に対応する領域（一点鎖線Ｌ２１と二点鎖線Ｌ２２で
挟まれた領域のうち、基板側辺に沿った斜線領域）は、
シール材３０の塗布領域を指示している。

【００４４】但し、第２のマーク２００の指示だけでシ
ール材３０を塗布すると、第２の基板間導通用端子７０
からずれた領域にシール材３０が塗布されてしまい、基
板間導通を行えない。

【００４５】そこで、本形態では、第２の基板間導通用
端子７０が形成されている領域近くでは、第３のマーク
３００および第２のマーク２００の双方の指示に従って
シール材３０を塗布する。すなわち、基板の側辺に沿う
方向については、第２のマーク２００の指示に従ってシ
ール材３０を塗布し、それと直交する方向については、
別のマーク３００の幅３４０に対応する領域（点線Ｌ３
１、Ｌ３２で挟まれた領域）にシール材３０を塗布す
る。

【００４６】このように、第２のマーク１００は、それ
一つで、配向膜２２の形成領域、オーバーコート膜２９
の形成領域、およびシール材３０の塗布領域の一部を指
示しており、第２のマーク２００で指示された位置に従
って、配向膜２２、オーバーコート膜２９、およびシー
ル材３０を塗布、形成すれば、シール材３０の外側縁部
に重なる位置まで配向膜２２を形成することができるな
ど、配向膜２２、オーバーコート膜２９、およびシール
材３の形成領域を制御よく管理できる。

【００４７】また、第２の基板間導通用端子７０が形成
されている領域近くでは、配向膜２２の形成領域、およ
びオーバーコート膜２９の形成領域から外れた位置にシ
ール材３０を塗布しなければならないが、このような領
域には、別の第３のマーク３００を形成し、この別の第
３のマーク３００に従ってシール材３０を塗布するの
で、第２の基板間導通用端子７０に対して確実に重なる
ようにシール材３０を塗布することができる。

【００４８】また、第１のマーク１００、第２のマーク
２００および第３のマーク３００は、いずれも、第２の
電極パターン５０と同様に成膜、パターニングされたも
のであるため、これらのマークを形成するといっても、
新たな工程を追加する必要がない。

【００４９】［その他の実施の形態］なお、上記の実施
形態では、基板間導通を行うタイプであったため、基板
間導通用端子が形成されている領域近くに別の第３のマ
ーク３００を形成したが、図１０に示すように、電気光
学装置１を構成する一対の基板の各々にフレキシブル基
板を接続するタイプのものでは、基板間導通を利用する
必要がない。従って、このようなタイプの電気光学装置
１を製造する場合には、図８（Ａ）、（Ｂ）を参照して
説明した第１のマーク１００を４隅に２つずつ形成し、
これら８つの第１のマーク１００によって、配向膜２２
の形成領域、オーバーコート膜２９の形成領域、および
シール材３０の塗布領域を指示してもよい。

【００５０】また、上記形態において、マーク１００、
２００は、３つの層についてその形成領域を指示してい
たが、外側縁部、内側縁部および幅のうちの２箇所によ
って、２つの層についてその形成領域を各々指示する構
成であってもよい。

【００５１】さらに、上記実施形態では、パッシブマト
リクスタイプの電気光学装置１を例に説明したが、アク
ティブマトリクスタイプの電気光学装置に対して本発明
を適用してもよい。また、本発明では、マーク１００、
２００、３００の材質は、ＩＴＯ（透明導電膜）とした
が、これに限定されることなく、配向膜２２、オーバー
コート膜２９、およびシール材３０の形成工程において
観察可能な物質であれば各種用いることができる。

【００５２】また、アクティブマトリックスタイプの電
気光学装置の場合には、マーク１００、２００、３００
がスイッチング素子を構成している薄膜層と同様に成
膜、パターニングされたものとしてもよい。この場合に
も、これらのマークを形成するといっても新たな工程を
追加する必要がない。

【００５３】要するに、マーク１００、２００、３００
の材質は観察可能な物質であればよく、マーク１００、
２００、３００が配向膜２２、オーバーコート膜２９、
およびシール材３０の形成工程以前の成膜工程において
形成されておればよい。さらに、マーク１００、２０
０、３００の形成工程を、配向膜２２、オーバーコート
膜２９、およびシール材３０の形成工程以前の他の成膜
工程と兼ねるようにすれば、これらのマークを形成する
ための新たな工程を追加する必要がない。

【００５４】［電子機器の具体例］図１１（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、本発明を適用した電気光学
装置１を用いた電子機器の外観図である。

【００５５】まず、図１１（Ａ）は携帯電話の外観図で
ある。この図において、１０００は携帯電話本体を示
し、１００１は、本発明を適用した電気光学装置１を用
いた画像表示装置である。

【００５６】図１１（Ｂ）は、腕時計型電子機器の外観
図である。この図において、１１００は時計本体を示
し、１１０１は、本発明を適用した電気光学装置１を用
いた画像表示装置である。

【００５７】図１１（Ｃ）は、ワードプロセッサ、パー
ソナルコンピュータなどの携帯型情報処理装置の外観図
である。この図において、１２００は情報処理装置を示
し、１２０２はキーボードなどの入力部、１２０６は本
発明を適用した電気光学装置１を用いた画像表示装置で
あり、１２０４は情報処理装置本体を示す。

【００５８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る電気
光学装置では、複数の層の各形成位置を各々指示する矩
形のマークが基板に形成されているため、この一つのマ
ークで、複数の層の各形成位置を各々指示することがで
きる。従って、シール材、配向膜、あるいはオーバーコ
ート膜などといった層を基板上に正確に塗布することが
できる。また、一つのマークで、複数の層の各形成位置
を各々指示するため、基板に形成するマークの数を必要
最小限まで減らすことができるので、画像表示領域の外
周領域を狭くしていった場合でも、シール材、配向膜、
あるいはオーバーコート膜などといった層を基板上に正
確に塗布することができる。さらに、マークは、矩形で
あり、その縁部分などで層の形成位置を指示するので、
形成位置を明確に指示できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した電気光学装置の斜視図であ
る。

【図２】図１に示す電気光学装置の分解斜視図である。

【図３】図１に示す電気光学装置を図１のＩ−Ｉ′線で
切断したときのＩ側の端部の断面図である。

【図４】図１に示す電気光学装置を図１のＩ−Ｉ′線で
切断したときのＩ′側の端部の断面図である。

【図５】図１に示す電気光学装置の第１の透明基板に形
成した第１の電極パターンおよび端子などを拡大して示
す平面図である。

【図６】図１に示す電気光学装置の第２の透明基板に形
成した第２の電極パターンおよび端子などを拡大して示
す平面図である。

【図７】図５に示す第１の透明基板と、図６に示す第２
の透明基板とを貼り合わせたときの電極パターンおよび
端子などを拡大して示す平面図である。

【図８】（Ａ）、（Ｂ）はいずれも、本発明を適用した
電気光学装置において、配向膜の形成位置、オーバーコ
ート膜の形成位置、およびシール材の形成位置を指示す
る第１のマークの説明図である。

【図９】（Ａ）、（Ｂ）はいずれも、本発明を適用した
電気光学装置において、配向膜の形成位置、オーバーコ
ート膜の形成位置、およびシール材の形成位置を指示す
る第２のマークおよび別の第３のマークの説明図であ
る。

【図１０】本発明を適用した別の電気光学装置の説明図
である。

【図１１】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、本発明
を適用した電気光学装置を用いた電子機器の外観図であ
る。

【符号の説明】

１電気光学装置４液晶（電気光学物質）５画素１０第１の透明基板１１第１の端子形成領域７Ｒ、７Ｇ、７Ｂカラーフィルタ２０第２の透明基板２１第２の端子形成領域２５第２の透明基板の張り出した部分２９オーバーコート膜３０シール材３５液晶封入領域（画像表示領域）４０第１の電極パターン５０第２の電極パターン６０第１の基板間導通用端子６１、６２偏光板７０第２の基板間導通用端子８１第１の外部入力用端子８２第２の外部入力用端子９０フレキシブル基板１００第１のマーク１１０第１のマークの外側縁部１２０第１のマークの内側縁部１３０第１のマークの幅２００第２のマーク２１０第２のマークの外側縁部２２０第２のマークの内側縁部２３０第２のマークの幅３００別の第３のマーク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者倉島健長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内Ｆターム(参考） 2H089 LA03 LA19 NA24 NA40 NA42 NA45 NA48 PA13 PA19 QA12 QA14 5G435 AA17 BB12 BB15 EE25 EE33 FF00 FF01 FF05 GG12 KK03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板によって電気光学物質が保持
された電気光学装置において、前記一対の基板の少なくとも一方の基板には、該基板上
の異なる位置に設けられる複数の層の各形成位置を各々
指示する矩形のマークが形成されてなることを特徴とす
る電気光学装置。
【請求項２】請求項１において、前記マークは、その
内側の縁部分、幅、および外側の縁部分のうちの２箇所
により２つの層の形成位置を各々指示することを特徴と
する電気光学装置。
【請求項３】請求項１において、前記マークは、その
内側の縁部分、幅、および外側の縁部分の３箇所により
３つの層の形成位置を各々指示することを特徴とする電
気光学装置。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記マークによって形成位置が指示される複数の層に
は、前記一対の基板を貼り合わせるためのシール材、前
記電気光学物質を配向させるための配向膜、および前記
一対の基板間への導電性異物混入に起因する短絡を防止
するためのオーバーコート膜のうちの少なくとも二つが
含まれていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】請求項１において、前記一対の基板は、
当該基板同士を貼り合わすシール材に含まれる基板間導
通材によって基板間の導通を行う基板間導通用端子が基
板辺に沿って形成され、該基板間導通用端子が形成されている領域付近では、前
記マークによって、前記電気光学物質を配向させるため
の配向膜の形成位置、および前記一対の基板間への導電
性異物混入に起因する短絡を防止するためのオーバーコ
ート膜の形成位置が指示され、前記シール材の形成位置
については、別のマークによって指示されていることを
特徴とする電気光学装置。
【請求項６】請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記マークは、該マークが付されている基板に形成され
る他の層と同一材料から構成されていることを特徴とす
る電気光学装置。
【請求項７】請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記マークは、該マークが付されている基板に形成され
る他の層と同時形成されてなることを特徴とする電気光
学装置。
【請求項８】請求項１ないし７のいずれかに規定する
電気光学装置を表示部として備えていることを特徴とす
る電子機器。