JP3649222B2 - 液晶装置及び電子機器 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、互いに対向する一対の基板のそれぞれに形成した配線の間をそれらの基板間に介在させた導通材によって導通する構造の液晶装置に関する。また、本発明は、その液晶装置を用いて構成される電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯型コンピュータ、携帯電話機、ビデオカメラ等といった電子機器の表示部に液晶装置が広く用いられている。この液晶装置は、一般に、それぞれに電極が形成された一対の基板をそれらの電極が互いに対向するように環状のシール材によって貼り合わせ、一対の基板及びシール材によって囲まれる領域に液晶を封入することによって形成される。この液晶装置では、一対の基板間に封止した液晶の配向を画素毎に制御することにより、文字、数字、図形等といった像を表示する。
【０００３】
この液晶装置には、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置や、アクティブ素子を用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶装置がある。また、そのようなアクティブ素子としては、２端子型の能動素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）素子や、３端子型の能動素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）素子等が知られている。
【０００４】
従来、単純マトリクス方式の液晶装置として、例えば図１２に示す装置が知られている。ここに示す液晶装置は、バックライト等といった照明装置や、制御基板や、その他必要に応じて付設される付帯機器を図示の液晶パネル１０１に付設することによって形成される。
【０００５】
液晶パネル１０１は、ガラス等によって形成された一対の基板１０２ａ及び１０２ｂを環状のシール材１０３によって貼り合わせることによって形成される。シール材１０３の適所には液晶注入用開口１０３ａが設けられ、さらに、シール材１０３の内部には多数の導通材１０６が混入されている。
【０００６】
シール材１０３によって囲まれると共に基板１０２ａと基板１０２ｂとによって挟まれる間隙が、いわゆるセルギャップであり、このセルギャップの中に液晶（図示せず）が液晶注入用開口１０３ａを通して注入され、その後、液晶注入用開口１０３ａが樹脂等によって封止される。一方の基板１０２ａは他方の基板１０２ｂの外側へ張り出す張出し部１０２ｃを有し、その張出し部１０２ｃの表面（図１２では紙面裏側の表面）に液晶駆動用ＩＣ１０４ａ及び１０４ｂが実装される。
【０００７】
一方の基板１０２ａの液晶側表面（すなわち、図１２の紙面奥側表面）には、図１３に示すように、複数の直線状の電極１０７ａが全体としてストライプ状になるように互いに平行に配列されている。また、各電極１０７ａの端部から基板張出し部１０２ｃ上の液晶駆動用ＩＣ１０４ａ（図１２参照）の実装領域に向けて配線１０８ａが形成される。また、液晶駆動用ＩＣ１０４ｂ（図１２参照）の実装領域から延びる配線１０８ｂがシール材１０３の形成領域を通過して液晶封入領域内へ入っている。
【０００８】
他方の基板１０２ｂの液晶側表面（すなわち、図１２の紙面手前側表面）には、図１４に示すように、複数の直線状の電極１０７ｂが全体としてストライプ状になるように互いに平行に配列されている。また、各電極１０７ｂの端部からシール材１０３の形成領域を少し越える位置まで、配線１０９が形成される。
【０００９】
なお、図１２、図１３及び図１４では、構造をわかり易く示すために、電極１０７ａ、電極１０７ｂ、配線１０８ａ、１０８ｂ，１０９等を実際よりも広い間隔で数本だけ模式的に示しているが、実際の液晶装置では、より多数本の電極１０７ａ等がより狭い間隔で配列される。
【００１０】
図１２に示す液晶パネル１０１を作製するにあたっては、図１３の基板１０２ａ又は図１４の基板１０２ａのいずれかにシール材１０３を形成し、そのシール材１０３を挟んで基板１０２ａと基板１０２ｂとを、電極１０７ａと電極１０７ｂとが互いに直交するように、互いに貼り合わせ、さらにシール材１０３を硬化させる。さらに、基板１０２ａの張出し部１０２ｃの表面に液晶駆動用ＩＣ１０４ａ及び１０４ｂを、それらの端子、すなわちバンプが配線１０８ａ及び１０８ｂに導電接続されるように実装する。
【００１１】
こうして２つの基板１０２ａ及び１０２ｂを貼り合せたとき、図１３の配線１０８ｂと図１４の配線１０９とが導通領域１１１の所で導通材１０６を間に挟んで重なり合い、これにより、基板１０２ａ側の配線１０８ｂと基板１０２ｂ側の配線１０９とが導電接続され、これにより、基板１０２ａ側の液晶駆動用ＩＣ１０４ｂと基板１０２ｂ側の電極１０７ｂとが電気的につなげられる。
【００１２】
以上のようにして形成された液晶パネル１０１に関しては、電極１０７ａと電極１０７ｂとの交点及びその交点に挟持される液晶によって１画素が構成され、さらにこの画素が複数個、ドットマトリクス状に配列することによって表示領域、すなわち駆動領域Ｖが形成され、この表示領域Ｖ内に文字、数字等といった像が形成される。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の液晶装置に関しては、シール材１０３の一辺に形成した導通領域１１１の所において、基板１０２ａ側の配線１０８ｂがシール材１０３を通過し、さらに、基板１０２ｂ側の配線１０９もシール材１０３を通過する。これに対し、導通領域１１１に向かい合う部分のシール材１０３の部分領域１１２には配線１０８ｂ等に相当するパターンは形成されていない。
【００１４】
このため、導通領域１１１ではセルギャップが厚くなり、それと反対側の部分領域１１２ではセルギャップが狭くなり、そのため、液晶パネル１０１の全体のセルギャップが不均一になるという問題が発生した。こうなると、各画素に印加される電圧にばらつきが発生し、鮮明な像が得られなくなるという問題があった。
【００１５】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、液晶装置を構成する基板の表面に形成されるパターンを工夫することにより、基板間隔の不均一性を低減して、すなわち液晶パネルのセル厚ムラを低減して、液晶表示品質を向上することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明に関わる液晶装置は、表示領域を備えた第１基板と第２基板と、前記表示領域を囲うように設けられ、導通材を含み、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、を備えた液晶装置であって、前記第１基板において、前記シール材と表示領域との間に延設され、前記シール材中の複数の第１導通領域において前記導通材により前記第２基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の第１引き回し配線と、前記シール材と表示領域との間に延設され、前記シール材中の複数の第２導通領域において前記導通材により前記第２基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の第２引き回し配線と、前記表示領域を挟んで前記第１導通領域と対向する位置で前記シール材と重なるように設けられた複数の第１ダミーパターンと、前記表示領域を挟んで前記第２導通領域と対向する位置で前記シール材と重なるように設けられた複数の第２ダミーパターンと、を有し、前記第１導通領域と前記第２ダミーパターンとは、シール材の表示領域に対して同じ側において、交互に位置することを特徴とする。
【００１７】
本発明の液晶装置は、第２基板に設けられた電極と電気的に接続された引き回し配線を有する。
【００１８】
電極と引き回し配線との接続はシール材中の導通領域において行われる。
【００１９】
このため、導通領域ではセルギャップが他の箇所に比べて厚くなるという不具合が生じる。
【００２０】
そこで、本発明では、導通領域に対して表示領域を挟んで対向する位置において、シール材と重なるダミーパターンを設ける。
【００２１】
この構成により、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【００２２】
さらに、本発明ではシール材中で、導通領域とダミーパターンとが交互に配置されている。
【００２３】
このため、引き回し配線は、表示領域の右端と左端とに対して、左右交互に振り分けられた状態でシール材と重なっている。
【００２４】
従って引き回し配線はシール材の内側において、ある部分にまとまって位置するのではなく、全体に満遍なく広がって延設される。
【００２５】
このように引き回し配線がシール材の内側において全体に広がっていれば、引き回し配線によるギャップのばらつきが生じることがない。
【００２６】
よって本発明の構成によれば、シール材の内側において引き回し配線を設ける場合に、ギャップのばらつきを低減するのに効果的である。
【００２７】
特に引き回し配線の上半分は表示領域の左端に対して振り分けられ、下半分は右端に対して振り分けられるパターンのように、引き回し配線の配置が偏ることがなく、本発明の構成では引き回し配線によるギャップのばらつきは大きく改善される。
【００２８】
また、本発明の液晶装置の別の態様では、前記第１ダミーパターンが前記シール材と重なる面積は、前記第１引き回し配線が前記シール材と重なる面積とほぼ等しいことを特徴とする。
【００２９】
こうすれば、シール材に対するダミーパターン側の面積状況と配線側の面積状況とが等しくなるので液晶パネルのセルギャップをより一層均一に維持できる。
【００３０】
なお本発明の液晶装置において、ダミーパターンは、導通領域内に存在する複数の引き回し配線の個々に対応した位置に形成された直線状の複数のダミーパターン要素の集合によって形成しても良い。
【００３１】
このように構成しても、シール材に対するダミーパターン側の面積状況と配線側の面積状況とが等しくすることができるので液晶パネルのセルギャップをより一層均一に維持できる。
【００３２】
また、この場合、ダミーパターンは対向する配線とほぼ等しい幅を持つように形成しても良い。
【００３３】
このように構成すれば、液晶パネルのセルギャップをより均一にできる。
【００３４】
また、本発明においては、一対の基板のうち一方の基板にダミーパターンを設けているが、必要に応じて他方の基板の適切な位置にダミーパターンを設けても良い。
【００３５】
このように構成しても液晶パネルのセルギャップをより均一にできる。
【００３６】
次に、本発明に係る電子機器は、液晶装置と、該液晶装置を収容する筐体とを有する電子機器において、前記液晶装置は上記した構成の液晶装置によって構成されることを特徴とする。
【００３７】
この電子機器によれば、内蔵する液晶装置において、液晶パネルの基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持できる。
【００３８】
これにより、液晶表示品質を高く維持できるので、電子機器に関する情報を常に鮮明に視認できる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
（液晶装置の第１実施形態）
図１は、ＴＦＤ（Thin Film Diode）素子をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス型の液晶装置であって、基板上にＩＣチップを直接に実装する構造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶装置に本発明を適用した場合の実施形態を示している。
【００４０】
ここに示す液晶装置１は、図１にその全体的な平面構造を示した液晶パネル２に、照明装置、制御基板、その他の付帯機器を付設することによって構成される。液晶パネル２は、図面の手前側に配置された第１基板３ａと、図面の奥側に配置された第２基板３ｂとを環状のシール材４によって互いに接合、すなわち貼り合わせることによって形成される。シール材４の内部には、第１基板３ａと第２基板３ｂとの間で電気的な導通をとるための導通材５が分散状態で含まれている。
【００４１】
シール材４、第１基板３ａ及び第２基板３ｂによって囲まれる領域は高さが一定の間隙、いわゆるセルギャップを構成し、そのセルギャップは図２に示すように、いずれか一方の基板３ａ又は３ｂの表面に分散した多数のスペーサ１０によって均一な寸法に維持される。スペーサ１０は、例えば球形状に形成される。さらに、シール材４の一部には液晶注入用開口４ａが形成される。上記のセルギャップ内には、上記液晶注入用開口４ａを通して液晶が注入され、その注入の完了後、液晶注入用開口４ａが樹脂等によって封止される。
【００４２】
図２は、図１におけるＡ−Ａ線に従って液晶装置１の断面構造を示している。図２に示すように、液晶パネル２の第２基板３ｂの裏側（すなわち、図２に示す構造の下側）には、発光源６及び導光体７を有する照明装置８がバックライトとして設けられている。
【００４３】
図１において、第１基板３ａは第２基板３ｂの外側へ張り出す、配線引出し領域としての基板張出し部３ｃを有し、その基板張出し部３ｃ上に液晶駆動用ＩＣ９ａ及び９ｂが導電接着要素、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）１１によって実装されている。液晶駆動用ＩＣ９ａと液晶駆動用ＩＣ９ｂは互いに特性が異なるものであり、このように特性の異なる２種類の液晶駆動用ＩＣを用いるのは、第１基板３ａ側と第２基板３ｂ側とで、換言すれば、走査線駆動系と信号線駆動系との間で使用する電圧値が異なっているため、それらを１つのＩＣチップで賄うことができないからである。
【００４４】
図２において、第１基板３ａは基材１２ａを有し、その基材１２ａの内側表面、すなわち液晶層Ｌ側の表面に複数の画素電極１３が形成される。また、図１に示すように、第１基板３ａの内側表面には、複数の直線状のライン配線１４が互いに平行に配列されて全体としてストライプ状に形成され、それらのライン配線１４に沿って適宜の間隔でＴＦＤ素子１６が形成され、それらのＴＦＤ素子１６を介して複数の画素電極１３が形成されている。複数の画素電極１３は平面的にはドットマトリクス状に配列されている。
【００４５】
図２において、画素電極１３、ＴＦＤ素子１６及びライン配線１４が形成された基材１２ａの表面上に、配向膜１７ａが形成される。また、基材１２ａの外側表面には位相差板１８ａが設けられ、さらにその上に偏光板１９ａが設けられる。
【００４６】
図１及び図２において矢印Ｃで示す１個のＴＦＤ素子の近傍の構造を示すと、例えば図３の通りである。図３に示すのは、いわゆるBack-to-Back（バック・ツー・バック）構造のＴＦＤ素子を用いたものである。図３において、ライン配線１４は、例えばＴａＷ（タングステン・タンタル）によって形成された第１層１４ａと、例えば陽極酸化膜であるＴａ２Ｏ５（酸化タンタル）によって形成された第２層１４ｂと、例えばＣｒによって形成された第３層１４ｃとから成る３層構造に形成されている。
【００４７】
また、ＴＦＤ素子１６は、第１ＴＦＤ要素１６ａと第２ＴＦＤ要素１６ｂとを直列に接続することによって構成されている。第１ＴＦＤ要素１６ａ及び第２ＴＦＤ要素１６ｂは、ＴａＷによって形成された第１金属層２１と、陽極酸化によって形成されたＴａ２Ｏ５の絶縁層２２と、ライン配線１４の第３層１４ｃと同一層であるＣｒの第２金属層２３との３層積層構造によって構成されている。
【００４８】
第１ＴＦＤ要素１６ａをライン配線１４側から見ると、第２金属層２３／絶縁層２２／第１金属層２１の積層構造が構成され、他方、第２ＴＦＤ要素１６ｂをライン配線１４側から見ると、第１金属層２１／絶縁層２２／第２金属層２３の積層構造が形成される。このように一対のＴＦＤ要素１６ａ及び１６ｂを電気的に逆向きに直列接続してバック・ツー・バック構造のＴＦＤ素子を構成することにより、ＴＦＤ素子のスイッチング特性の安定化が達成されている。画素電極１３は、第２ＴＦＤ要素１６ｂの第２金属層２３に接続するように、例えばＩＴＯによって形成される。
【００４９】
図２において、第２基板３ｂは基材１２ｂを有し、その基材１２ｂの内側表面、すなわち液晶層Ｌ側の表面には半透過反射膜２４が形成され、その上にカラーフィルタ膜２６が形成され、その上にオーバーコート膜２７が形成され、その上に対向電極２８が形成され、さらにその上に配向膜１７ｂが形成される。また、基材１２ｂの外側表面には、位相差板１８ｂが形成され、さらにその上に偏光板１９ｂが形成される。
【００５０】
対向電極２８は、図１に示すように、多数の直線状の電極をライン配線１４と交差するように互いに平行に並べることによりストライプ状に形成されている。なお、図１では、電極パターンをわかり易く示すために、対向電極２８の間隔を大きく広げて模式的に描いてあるが、実際には、対向電極２８の間隔は画素電極１３のドットピッチに合せて非常に狭く形成されている。
【００５１】
画素電極１３と対向電極２８との交差点はドットマトリクス状に配列しており、これらの交差点の個々が１つのドットを構成し、図２のカラーフィルタ膜２６の個々の色パターンがその１ドットに対応する。カラーフィルタ膜２６は、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色が１つのユニットとなって１つの画素を構成している。ドットマトリクス状に配列された複数のドットによって区画される方形の領域Ｖがスイッチング素子の駆動によって像が表示される領域、すなわち、駆動領域又は表示領域である。
【００５２】
基材１２ａ、１２ｂは、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、半透過反射膜２４は光反射性の材料、例えばＡｌ（アルミニウム）によって形成される。但し、光反射性材料は半透過及び反射の機能を達成するために、その厚さが光を透過可能な程度に薄く形成したり、あるいは、半透過反射膜２４の適所に光を通過させる開口を適宜の面積割合で形成したりする。
【００５３】
カラーフィルタ膜２６は、周知の色絵素形成手法、例えばインクジェット法、顔料分散法等を用いて顔料を、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等といった適宜のパターンに塗布することによって形成される。また、オーバーコート膜２７は、適宜の透光性樹脂材料を、例えばスピンコート法、ロールコート法等によって均一に塗布することによって形成される。
【００５４】
画素電極１３及び対向電極２８は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を周知の膜付け法、例えばスパッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、さらにフォトエッチング法によって希望のパターンに形成される。配向膜１７ａ及び１７ｂは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成する方法や、オフセット印刷法等によって形成される。
【００５５】
図４において、第１基板３ａの液晶側表面（すなわち、図４の裏側表面）には、ライン配線１４から基板張出し部３ｃの方向へそのまま延びる配線２９ａが形成される。また、第１基板３ａの張出し部３ｃと交差する方向へ延びていて表示領域Ｖを挟んで互いに対向する一対のシール材辺４ｂ及び４ｃのそれぞれの適所に導通領域３１が設定されている。そして、これらの導通領域３１と基板張出し部３ｃ上のＩＣ実装領域との間に配線２９ｂが形成されている。このとき、配線２９ｂはシール材４に関して導通領域３１以外の第２領域３２の所でこのシール材４を通過して張出し部３ｃ上へ延び出ている。
【００５６】
図５において、第２基板３ｂの液晶側表面（すなわち、図５の手前側表面）には、対向電極２８と導通領域３１との間、すなわち表示領域Ｖと導通領域３１との間に配線３３が形成されている。
【００５７】
図４の第１基板３ａ又は図５の第２基板３ｂのいずれかの液晶側表面にシール材４を印刷等によって環状に形成し、そのシール材４を挟んでそれらの基板３ａ及び３ｂを貼り合わせることによって図１に示すような液晶パネル２が形成される。このとき、図２０に示すように、導通領域３１において、第１基板３ａ側の配線２９ｂと第２基板３ｂ側の配線３３とが互いに重なり合い、さらにそれらの間がシール材４に含まれる導通材５によって導電接続される。
【００５８】
以上により、第１基板３ａ上に形成された画素電極１３は、ＴＦＤ素子１６及びライン配線１４を介して、第１基板３ａ上の液晶駆動用ＩＣ９ａに接続される。一方、第２基板３ｂ上に形成された対向電極２８は、導通領域３１において導通材５によって導電接続された配線３３及び配線２９ｂを介して第１基板３ａ上の液晶駆動用ＩＣ９ｂに接続される。
【００５９】
本実施形態の液晶装置１は以上のように構成されているので、図２において、太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合には、その外部光が第１基板３ａ及び液晶層Ｌを透過して半透過反射膜２４へ到達し、この半透過反射膜２４で反射した後に液晶層Ｌへ供給される。一方、外部光が不十分の場合には、照明装置８の発光源６を点灯し、その発光源６からの点状又は線状の光を導光体７によって面状の光へ変換して液晶パネル２へ供給する。こうして液晶パネル２へ供給された光は半透過反射板２４を透過して液晶層Ｌへ供給される。
【００６０】
以上のようにして光が液晶層Ｌへ供給されるとき、図１において液晶駆動用ＩＣ９ａが作動してライン配線１４へ走査信号又はデータ信号の一方が供給され、さらに液晶駆動用ＩＣ９ｂが作動して対向電極２８へ走査信号又はデータ信号の他方が供給される。これにより、表示領域Ｖを構成する複数の画素内の液晶の配向が画素毎に制御され、この液晶を通過する光が画素毎に変調され、こうして変調された光が図２の偏光板１９ａを選択的に通過することにより、外部に文字、数字等といった像が表示される。
【００６１】
本実施形態の液晶装置１では、図１において、表示領域Ｖを挟んで２つの導通領域３１の各々に向かい合う部分のシール材４の一部領域に第１ダミーパターン３４が設けられている。この第１ダミーパターン３４は、本実施形態の場合は、図４に示すように第１基板３ａの表面上において導通領域３１に向かい合う部分のシール材４を通過するように形成された複数の直線状の第１ダミーパターン要素３４ａと、図５に示すように第２基板３ｂの表面上において導通領域３１に向かい合う部分のシール材４を通過するように形成された複数の直線状の第１ダミーパターン要素３４ｂとによって構成されている。これらのダミーパターン３４ａ及び３４ｂは、図２０に示すように、シール材４を間に挟んで互いに対向する。
【００６２】
第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、基板３ａ上に配線２９ｂを形成する工程において同じ材料、例えばＴａ、Ｃｒ、ＩＴＯ等によって同時に同じ厚さに形成することができる。また、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、基板３ｂ上に対向電極２８及び配線３３を形成する工程において同じ材料、例えばＩＴＯ等によって同時に同じ厚さに形成することができる。
【００６３】
なお、ダミーパターン要素３４ｂは、対向電極２８に接続しても良いし、あるいは対向電極２８を延長させて形成しても良い。このようにしてダミーパターン要素３４ｂを対向電極２８に電気的に導通させれば次のような効果が得られる。すなわち、対向する基板３ａ及び３ｂのそれぞれに形成されたダミーパターンが両方とも電気的に独立しているとすると、そこにコンデンサが形成されるので、一度そこに電荷が蓄積されるとその電荷が逃げられなくなって都合が悪い。これに対し、ダミーパターンの一方を電極又は配線と電気的に接続すれば、電荷を逃げられるようにできて好都合である。
【００６４】
本実施形態では、１つの第１ダミーパターン要素３４ａと１つの第１ダミーパターン要素３４ｂとがシール材４を挟んで位置的に重なりあって一つのユニットを構成し、そのユニットが適宜の間隔をおいて複数集まって第１ダミーパターン３４を構成している。
【００６５】
図４において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、導通領域３１内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応した位置に形成されている。また、個々の第１ダミーパターン要素３４ａの線幅は対応する個々の配線２９ｂの線幅とほぼ等しく設定されている。
【００６６】
また、図５において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、向かい合う導通領域３１内に存在する複数の配線３３の個々に対応した位置に形成されている。また、個々の第１ダミーパターン要素３４ｂの線幅は対応する個々の配線３３の線幅とほぼ等しく設定されている。
【００６７】
また、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａと第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、図１では少しずれた位置に配置されているように示されているが、これは構造をわかり易く示すための便宜上の措置であり、実際には、第１ダミーパターン要素３４ａと第１ダミーパターン要素３４ｂとは、第１基板３ａと第２基板３ｂとを貼り合せた状態であってそれらの基板を直角方向から見た場合に、第１ダミーパターン要素３４ａと第１ダミーパターン要素３４ｂとが互いに重なり合ってほぼ１本の線になるように形成されている。
【００６８】
以上により、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａと第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂとによって構成される第１ダミーパターン３４がシール材４を通過する面積は、その第１ダミーパターン３４に向かい合う導通領域３１において第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過する面積の合計とほぼ等しくなっている。
【００６９】
導通領域３１においては、導通をとるための必要性から、第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過しなければならない。この場合に、その導通領域３１に向かい合う部分のシール部材４の領域に何等の措置も講じておかなければ、基板間の間隙寸法、すなわちセルギャップが不均一になって液晶の配向制御が表示領域Ｖの全面にわたって均一にできなくなるおそれがある。このことに関し、本実施形態では、導通領域３１に向かい合う部分のシール部材４の領域に第１ダミーパターン３４を設けたので、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【００７０】
また、第１ダミーパターン３４がシール材４を通過する面積を、第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過する面積の合計とほぼ同じに設定したので、セルギャップをより一層均一に維持できる。
【００７１】
また、図４において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、導通領域３１内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応して配置されている。また、図５において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、導通領域３１内に存在する複数の配線３３の個々に対応して配置されている。この構成により、シール材４に対する第１ダミーパターン３４側の面積状況と、シール材４に対する配線２９ｂ及び３３側の面積状況とが等しくなるので液晶パネルのセルギャップをより一層均一に維持できる。
【００７２】
次に、図４において、ライン配線１４から延びる配線２９ａはシール材４の１辺４ｅを通過する。また、ライン配線１４の反対側の端部であってシール材４の反対側の１辺４ｄを通過する部分はダミーパターン３８として機能する。このダミーパターン３８は、配線２９ａが通過する側のシール材辺４ｅの所の基板間厚さ、すなわちセルギャップと、その反対側のシール材辺４ｄの所のセルギャップとを等しい寸法に維持するように作用する。このダミーパターン３８の作用により、図４のライン配線１４に沿った図の縦方向における液晶パネルのセルギャップを一定に維持できる。
【００７３】
なお、図２に示すように、ダミーパターン３８に対向する位置の第２基板３ｂの表面には、別のダミーパターン６３がダミーパターン３８と重なるように形成されている。また、ダミーパターン３８と反対側において配線２９ａがシール材辺４ｅを通過する部分に対向する位置の第２基板３ｂの表面にも、別のダミーパターン６４が配線２９ａと重なるように形成されている。
【００７４】
ダミーパターン６３は、図４におけるダミーパターン３８がシール材４を通過する部分の形状と同じ形状となるように図５に示すように形成される。また、ダミーパターン６４は、図４における配線２９ａがシール材４を通過する部分の形状と同じ形状となるように図５に示すように形成される。なお、図２に示すように、ダミーパターン３８とダミーパターン６３はそれぞれ導通材５の上端及び下端に接触し、さらに、液晶層Ｌを挟んだ反対側では、配線２９ａとダミーパターン６４とがそれぞれ導通材５の上端及び下端に接触している。さらに、図５に示すように、ダミーパターン６３及びダミーパターン６４は、対向電極２８と電気的に接続されることなく、いずれも、電気的に独立している。これらのダミーパターン６３及び６４を設けることにより、セルギャップをより一層均一に維持することが可能となる。
【００７５】
ところで、本実施形態では、図４に示すように、第１基板３ａの表面に形成した配線２９ｂが導通領域３１以外の第２領域３２でシール材４を通過して、基板張出し部３ｃすなわち配線引出し領域へ延び出ている。この場合に、その第２領域３２に向かい合う部分のシール部材４の領域に何等の措置も講じておかなければ、基板間の間隙寸法、すなわちセルギャップが不均一になって液晶の配向制御が表示領域Ｖの全面にわたって均一にできなくなるおそれがある。このことに関し、本実施形態では、第２領域３２に向かい合う部分のシール部材４の領域に第２ダミーパターン３７を設けた。これにより、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【００７６】
本実施形態では、第２ダミーパターン３７は、第２領域３２内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応する位置に形成された複数の直線状のパターン３９によって構成されている。また、各パターン３９がシール材４を通過する面積の合計は、第２領域３２において配線２９ｂがシール材４を通過する面積の合計にほぼ等しくなっている。これにより、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【００７７】
さらに、本実施形態では、図４の配線２９ｂが形成された第１基板３ａに対向する図５の第２基板３ｂに関して、図４の配線２９ｂがシール材４を通過する位置に対向させてダミーパターン６６を形成した。また、図４のダミーパターン３９に対向する位置の図５の第２基板３ｂの表面にダミーパターン６７を形成した。このように、配線２９ｂを形成した第１基板３ａに対向する第２基板３ｂにダミーパターン６６及び６７を設けることにより、ライン配線１４の延在方向に沿ったセルギャップをより一層均一に維持できる。
【００７８】
（変形例）
図１に示す実施形態では、導通領域３１以外に配線２９ｂが通過する領域である第２領域３２に対応して第２ダミーパターン３７を設けたが、第２領域３２に対応する位置には、必ずしもダミーパターンを設けなくても良い。
【００７９】
また、図１に示す実施形態では、第１ダミーパターン３４を第１基板３ａ及び第２基板３ｂの両方に形成したが、場合によっては、いずれか一方の基板に形成するだけでも良い。
【００８０】
また、図１に示す実施形態では、第１ダミーパターン３４を複数の直線状のパターンの集合によって形成したが、これに代えて、適宜の面積を持った１つのパターンによって第１ダミーパターン３４を構成することもできる。
【００８１】
（液晶装置の第２実施形態）
図６は、アクティブ素子を用いない構造の単純マトリクス型の液晶装置であって、基板上にＩＣチップを直接に実装する構造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶装置に本発明を適用した場合の実施形態を示している。
【００８２】
ここに示す液晶装置４１は、図６にその全体的な平面構造を示した液晶パネル４２に、照明装置、制御基板、その他の付帯機器を付設することによって構成される。液晶パネル４２は、図面の手前側に配置された第１基板３ａと、図面の奥側に配置された第２基板３ｂとを環状のシール材４によって互いに接合、すなわち貼り合わせることによって形成される。シール材４の内部には、第１基板３ａと第２基板３ｂとの間で電気的な導通をとるための導通材５が分散状態で含まれている。
【００８３】
シール材４、第１基板３ａ及び第２基板３ｂによって囲まれる領域は高さが一定の間隙、いわゆるセルギャップを構成する。さらに、シール材４の一部には液晶注入用開口４ａが形成される。上記のセルギャップ内には、上記液晶注入用開口４ａを通して液晶が注入され、その注入の完了後、液晶注入用開口４ａが樹脂等によって封止される。
【００８４】
図７は、図６におけるＤ−Ｄ線に従って液晶装置４１の断面構造を示している。図７に示すように、液晶パネル４２の第２基板３ｂの裏側（すなわち、図７に示す構造の下側）には、発光源６及び導光体７を有する照明装置８がバックライトとして設けられている。
【００８５】
図６において、第１基板３ａは第２基板３ｂの外側へ張り出す、配線引出し領域としての基板張出し部３ｃを有し、その基板張出し部３ｃ上に液晶駆動用ＩＣ９ａ及び９ｂが導電接着要素、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）１１によって実装されている。液晶駆動用ＩＣ９ａと液晶駆動用ＩＣ９ｂは互いに特性が異なるものであり、このように特性の異なる２種類の液晶駆動用ＩＣを用いるのは、第１基板３ａ側と第２基板３ｂ側とで、換言すれば、走査線駆動系と信号線駆動系との間で使用する電圧値が異なっているため、それらを１つのＩＣチップで賄うことができないからである。
【００８６】
図７において、第１基板３ａは基材１２ａを有し、その基材１２ａの内側表面、すなわち液晶層Ｌ側の表面にはカラーフィルタ膜４６が形成され、そのカラーフィルタ膜４６の上に第１電極４３が形成され、さらにその上に配向膜１７ａが形成される。第１電極４３は、図６に示すように、複数本が互いに平行に配列されて全体としてストライプ状に形成されている。また、基材１２ａの外側表面には偏光板１９ａが設けられる。
【００８７】
図７において、第２基板３ｂは基材１２ｂを有し、その基材１２ｂの内側表面、すなわち液晶層Ｌ側の表面には第２電極４８が形成され、その上に配向膜１７ｂが形成される。また、基材１２ｂの外側表面には、偏光板１９ｂが形成され、その上に半透過反射膜４４が形成される。
【００８８】
第２電極４８は、図６に示すように、多数の直線状の電極４８を第１電極４３と交差するように互いに平行に並べることにより全体としてストライプ状に形成されている。なお、図６では、電極パターンをわかり易く示すために、第１電極４３及び第２電極４８を数本だけ間隔を大きく広げて模式的に示してあるが、実際には、第１電極４３及び第２電極４８は多数本が狭い間隔で形成されている。図６において、第１電極４３と第２電極４８との交差点はドットマトリクス状に配列しており、これらの交差点の個々が１つのドットを構成し、図７のカラーフィルタ膜４６の個々の色パターンがその１ドットに対応する。カラーフィルタ膜４６は、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色が１つのユニットとなって１つの画素を構成している。ドットマトリクス状に配列された複数のドットによって区画される方形の領域Ｖが、電圧印加によって駆動される駆動領域、すなわち文字等といった像が表示される表示領域である。
【００８９】
基材１２ａ、１２ｂは、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、半透過反射膜４４は光反射性の材料、例えばＡｌ（アルミニウム）によって形成される。但し、光反射性材料は半透過及び反射の機能を達成するために、その厚さが光を透過可能な程度に薄く形成したり、あるいは、半透過反射膜２４の適所に光を通過させる開口を適宜の面積割合で形成したりする。
【００９０】
カラーフィルタ膜４６は、周知の色絵素形成手法、例えばインクジェット法、顔料分散法等を用いて顔料を、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等といった適宜のパターンに塗布することによって形成される。
【００９１】
第１電極４３及び第２電極４８は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を周知の膜付け法、例えばスパッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、さらにフォトエッチング法によって希望のパターンに形成される。配向膜１７ａ及び１７ｂは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成する方法や、オフセット印刷法等によって形成される。
【００９２】
図８において、第１基板３ａの液晶側表面（すなわち、図８の裏側表面）には、第１電極４３から基板張出し部３ｃの方向へそのまま延びる配線２９ａが形成される。また、第１基板３ａの張出し部３ｃと平行に延びるシール材辺４ｅの両端部に導通領域３１が設定されている。そして、これらの導通領域３１と基板張出し部３ｃ上のＩＣ実装領域との間に配線２９ｂが形成されている。
【００９３】
また、図９において、第２基板３ｂの液晶側表面（すなわち、図９の手前側表面）には、第２電極４８の端部と導通領域３１との間、すなわち表示領域Ｖと導通領域３１との間に配線３３が形成されている。
【００９４】
図８の第１基板３ａ又は図９の第２基板３ｂのいずれかの液晶側表面にシール材４を印刷等によって環状に形成し、そのシール材４を挟んでそれらの基板３ａ及び３ｂを貼り合わせることによって図６に示すような液晶パネル４２が形成される。このとき、導通領域３１において、図２２に示すように、第１基板３ａ側の配線２９ｂと第２基板３ｂ側の配線３３とが互いに重なり合い、さらにそれらの間がシール材４に含まれる導通材５によって導電接続される。
【００９５】
以上により、図６において、第１基板３ａ上に形成された第１電極４３は、配線２９ａを介して、第１基板３ａ上の液晶駆動用ＩＣ９ａに接続される。一方、第２基板３ｂ上に形成された第２電極４８は、導通領域３１において導通材５によって導電接続された配線３３及び配線２９ｂを介して第１基板３ａ上の液晶駆動用ＩＣ９ｂに接続される。
【００９６】
本実施形態の液晶装置４１は以上のように構成されているので、図７において、太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合には、その外部光が第１基板３ａ及び液晶層Ｌを透過して半透過反射膜４４へ到達し、この半透過反射膜４４で反射した後に液晶層Ｌへ供給される。一方、外部光が不十分の場合には、照明装置８の発光源６を点灯し、その発光源６からの点状又は線状の光を導光体７によって面状の光へ変換して液晶パネル４２へ供給する。こうして液晶パネル４２へ供給された光は半透過反射板４４を透過して液晶層Ｌへ供給される。
【００９７】
以上のようにして光が液晶層Ｌへ供給されるとき、図６において液晶駆動用ＩＣ９ａが作動して第１電極４３へ走査信号又はデータ信号の一方が供給され、さらに液晶駆動用ＩＣ９ｂが作動して第２電極４８へ走査信号又はデータ信号の他方が供給される。これにより、表示領域Ｖを構成する複数の画素内の液晶の配向が画素毎に制御され、この液晶を通過する光が画素毎に変調され、こうして変調された光が図７の偏光板１９ａを選択的に通過することにより、外部に文字、数字等といった像が表示される。
【００９８】
本実施形態の液晶装置４１では、図６において、２つの導通領域３１の各々に向かい合う部分のシール材４の一部領域に第１ダミーパターン３４が設けられている。この第１ダミーパターン３４は、本実施形態の場合は、図８に示すように第１基板３ａの表面上において導通領域３１に向かい合う部分のシール材４を通過するように形成された複数の直線状の第１ダミーパターン要素３４ａと、図９に示すように第２基板３ｂの表面上において導通領域３１に向かい合う部分のシール材４を通過するように形成された複数の直線状の第１ダミーパターン要素３４ｂとによって構成されている。
【００９９】
図８において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、基板３ａ上に配線２９ｂを形成する工程において同じ材料、例えばＩＴＯ等によって同時に同じ厚さに形成することができる。また、図９において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、基板３ｂ上に配線３３を形成する工程において同じ材料、例えばＩＴＯ等によって同時に同じ厚さに形成することができる。
【０１００】
本実施形態では、１つの第１ダミーパターン要素３４ａと１つの第１ダミーパターン要素３４ｂとが、図２２に示すように、シール材４を挟んで位置的に重なりあって一つのユニットを構成し、そのユニットが図６において適宜の間隔をおいて複数集まって第１ダミーパターン３４を構成している。
【０１０１】
図８において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、導通領域３１内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応した位置に形成されている。また、個々の第１ダミーパターン要素３４ａの線幅は対応する個々の配線２９ｂの線幅とほぼ等しく設定されている。
【０１０２】
また、図９において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、導通領域３１内に存在する複数の配線３３の個々に対応した位置に形成されている。また、個々の第１ダミーパターン要素３４ｂの線幅は対応する個々の配線３３の線幅とほぼ等しく設定されている。
【０１０３】
また、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａと第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、図６では少しずれた位置に配置されているように示されているが、これは構造をわかり易く示すための便宜上の措置であり、実際には、第１ダミーパターン要素３４ａと第１ダミーパターン要素３４ｂとは、第１基板３ａと第２基板３ｂとを貼り合せた状態であってそれらの基板を直角方向から見た場合に、第１ダミーパターン要素３４ａと第１ダミーパターン要素３４ｂとが互いに重なり合ってほぼ１本の線になるように形成されている。
【０１０４】
以上により、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａと第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂとによって構成される第１ダミーパターン３４がシール材４を通過する面積は、その第１ダミーパターン３４に向かい合う導通領域３１において第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過する面積の合計とほぼ等しくなっている。
【０１０５】
導通領域３１においては、導通をとるための必要性から、第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過しなければならない。この場合に、その導通領域３１に向かい合う部分のシール部材４の領域に何等の措置も講じておかなければ、基板間の間隙寸法、すなわちセルギャップが不均一になって液晶の配向制御が表示領域Ｖの全面にわたって均一にできなくなるおそれがある。このことに関し、本実施形態では、導通領域３１に向かい合う部分のシール部材４の領域に第１ダミーパターン３４を設けたので、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【０１０６】
また、第１ダミーパターン３４がシール材４を通過する面積を、第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過する面積の合計とほぼ同じに設定したので、セルギャップをより一層均一に維持できる。
【０１０７】
また、図８において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、導通領域３１内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応して配置されている。また、図９において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、導通領域３１内に存在する複数の配線３３の個々に対応して配置されている。この構成により、シール材４に対する第１ダミーパターン３４側の面積状況と、シール材４に対する配線２９ｂ及び３３側の面積状況とが等しくなるので液晶パネルのセルギャップをより一層均一に維持できる。
【０１０８】
次に、図８において、第１電極４３から延びる配線２９ａはシール材４の１辺４ｅを通過する。また、第１電極４３の反対側の端部であってシール材４の反対側の１辺４ｄを通過する部分はダミーパターン３８として機能する。このダミーパターン３８は、配線２９ａが通過する側のシール材辺４ｅの所の基板間厚さ、すなわちセルギャップと、その反対側のシール材辺４ｄの所のセルギャップとを等しい寸法に維持するように作用する。このダミーパターン３８の作用により、図８の第１電極４３に沿った図の縦方向における液晶パネルのセルギャップを一定に維持できる。
【０１０９】
なお、図７に示すように、ダミーパターン３８に対向する位置の第２基板３ｂの表面には、別のダミーパターン６３がダミーパターン３８と重なるように形成されている。また、ダミーパターン３８と反対側において配線２９ａがシール材辺４ｅを通過する部分に対向する位置の第２基板３ｂの表面にも、別のダミーパターン６４が配線２９ａと重なるように形成されている。ダミーパターン６３は、図８におけるダミーパターン３８がシール材４を通過する部分の形状と同じ形状となるように図９に示すように形成される。また、ダミーパターン６４は、図８における配線２９ａがシール材４を通過する部分の形状と同じ形状となるように図９に示すように形成される。
【０１１０】
なお、図７に示すように、ダミーパターン３８とダミーパターン６３はそれぞれ導通材５の上端及び下端に接触し、さらに、液晶層Ｌを挟んだ反対側では、配線２９ａとダミーパターン６４とがそれぞれ導通材５の上端及び下端に接触している。さらに、図９に示すように、ダミーパターン６３及びダミーパターン６４は、第２電極４８と電気的に接続されることなく、いずれも、電気的に独立している。これらのダミーパターン６３及び６４を設けることにより、セルギャップをより一層均一に維持することが可能となる。
【０１１１】
ところで、本実施形態では、図９に示すように、第２基板３ｂの表面に形成した配線３３が導通領域３１以外の第２領域３２でシール材４を通過している。この場合に、その第２領域３２に向かい合う部分のシール部材４の領域Ａに何等の措置も講じておかなければ、基板間の間隙寸法、すなわちセルギャップが不均一になって液晶の配向制御が表示領域Ｖの全面にわたって均一にできなくなるおそれがある。このことに関し、本実施形態では、第２領域３２に向かい合う部分のシール部材４の領域Ａに第２ダミーパターン３７を設けた。これにより、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【０１１２】
本実施形態において、第２ダミーパターン３７に関しては、それを構成する複数の直線状のパターン３９がシール材４を通過する面積の合計は、領域Ａに対応する長さの第２領域３２において配線３３がシール材４を通過する面積にほぼ等しくなっている。これにより、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。なお、パターン３９は、対向電極４８に接続しても良いし、あるいは第２電極４８を延長させて形成しても良い。このようにしてパターン３９を第２電極４８に電気的に導通させれば次のような効果が得られる。すなわち、対向する基板３ａ及び３ｂのそれぞれに形成されたダミーパターンが両方とも電気的に独立しているとすると、そこにコンデンサが形成されるので、一度そこに電荷が蓄積されるとその電荷が逃げられなくなって都合が悪い。これに対し、ダミーパターンの一方を電極又は配線と電気的に接続すれば、電荷を逃げられるようにできて好都合である。
【０１１３】
図６のＥ−Ｅ線に従った断面図である図２１に示すように、シール材４の断面幅は複数の導通材５を含むことができる幅となっており、図２１ではその断面内に複数（図では３個）の導通材５が含まれている様子を示している。なお、図では導通材５を楕円形状に示してあるが、これは、図面を分かりやすく示すための措置であって、実際には、導通材５はスペーサ１０と略同じか、あるいはわずかに大きい球形又は円筒形に形成されている。
【０１１４】
図２１に示す通り、１つのダミーパターン３９のＥ−Ｅ断面における長さは、液晶層Ｌを挟んでその反対側にある配線３３であってシール材４の内部領域に在るもののＥ−Ｅ断面における長さよりも長くなっている。しかしながら、図９におけるＡ領域を考えれば、そのＡ領域内におけるパターン３９の面積の合計は、Ａ領域内における配線３３の面積の合計と等しくなるように設定されている。この結果、Ａ領域内においてパターン３９の上に載る導通材５の数と、同じくＡ領域内において配線３３の上に載る導通材５の数とは、互いに等しくなるように設定できる。こうすることにより、セルギャップをより一層均一に維持できる。
【０１１５】
（変形例）
図６に示す実施形態では、導通領域３１以外に配線３３が通過する領域である第２領域３２に対応して第２ダミーパターン３７を設けたが、第２領域３２に対応する位置には、必ずしもダミーパターンを設けなくても良い。
【０１１６】
また、図６に示す実施形態では、第１ダミーパターン３４を第１基板３ａ及び第２基板３ｂの両方に形成したが、場合によってはいずれか一方の基板に形成するだけでも良い。
【０１１７】
また、図６に示す実施形態では、第１ダミーパターン３４を複数の直線状のパターンの集合によって形成したが、これに代えて、適宜の面積を持った１つのパターンによって第１ダミーパターン３４を構成することもできる。
【０１１８】
（液晶装置の第３実施形態）
図１５は、本発明を単純マトリクス方式の半透過反射型カラー液晶装置に適用した場合の実施形態を示している。ここに示す液晶装置１２０は、図１５にその全体的な平面構造を示した液晶パネル１２１に、照明装置、制御基板、その他の付帯機器を付設することによって構成される。
【０１１９】
この液晶パネル１２１は、平面視長方形状の下基板１２２と上基板１２３とがシール材１２４を介して対向配置されている。シール材１２４の一部は各基板１２２，１２３の一辺（図１５における上辺）側で開口して液晶注入口１２５となっており、双方の基板１２２，１２３とシール材１２４とに囲まれた空間内に液晶が封入され、さらに液晶注入口１２５が封止材１２６によって封止されている。ただし、矩形環状のシール材１２４のうち、各基板１２２，１２３の右辺及び左辺に沿う部分１２４ａは異方性導電粒子等といった導通材５が混入され、液晶封止の他に導通部としても機能する。一方、各基板１２２，１２３の上辺及び下辺に沿う部分１２４ｂは導通材５を含んでおらず、液晶封止のための非導通シール材として機能する。
【０１２０】
本実施の形態では、上基板１２３よりも下基板１２２の外形寸法の方が大きく、上基板１２３と下基板１２２の３辺（すなわち、図１における上辺、右辺、左辺）では基板の縁、すなわち基板の端面が揃っているが、上基板１２３の残りの１辺（すなわち、図１における下辺）からは下基板１２２の周縁部が張り出すように配置され、張出領域１２９を形成している。そして、この張出領域１２９に、上基板１２３、下基板１２２の双方の電極を駆動するための駆動用半導体素子１２７が実装されている。なお、符号１２８は有効表示領域の周囲を遮光するための矩形環状の遮光層（すなわち、周辺見切り）であり、この遮光層１２８の内縁よりも内側の領域が実際の画像表示に寄与する有効表示領域となる。
【０１２１】
下基板１２２上には、図１６に示すように、縦方向に延在する複数のセグメント電極１３０がストライプ状に形成されている。一方、上基板１２３上には、セグメント電極１３０と直交するように図中横方向に延在する複数のコモン電極１３１がストライプ状に形成されている。
【０１２２】
カラーフィルター１３３のＲ、Ｇ、Ｂの各色素層１３３ｒ，１３３ｇ，１３３ｂは、各セグメント電極１３０の延在方向に同色が並び、それと直角の方向にＲ、Ｇ、Ｂが交互に並ぶように配列されており、図１６に示す横方向に並んだＲ、Ｇ、Ｂの３個の画素で画面上の１個のドットが構成されている。
【０１２３】
セグメント電極１３０は、Ｗ２の幅で形成されたＡＰＣ膜１３８と、これを覆うＷ１の幅で形成された透明導電膜１３９との積層構造を有する。ＡＰＣ膜１３８は、銀、パラジウム、銅を所定の割合で含有した合金からなる膜である。また、透明導電膜１３９は、例えば、ＩＴＯ膜によって形成される。
【０１２４】
ＡＰＣ膜１３８が半透過反射膜として機能するように、本実施形態ではＡＰＣ膜１３８が各画素毎に２個ずつの光透過用の窓部１３２を光透過領域として有している。窓部１３２は、カラーフィルター１３３の各色素層１３３ｒ，１３３ｇ，１３３ｂを複数の画素にわたって縦方向に見たときに千鳥状に配置されている。なお、ここで言う「画素」とは、図１６に示すように、セグメント電極１３０とコモン電極１３１とが平面的に見て重なり合った各領域のことである。
【０１２５】
図１５に示すように、各コモン電極１３１はその両端が導通シール材１２４ａに接し、さらに導通シール材１２４ａの外側にまで貫通して延在している。複数のコモン電極１３１（図１５では１０本のみ図示する）のうち、図１５の上側半分（図１５では５本）のコモン電極１３１については、コモン電極１３１の右端が、導通シール材１２４ａ中に混入させた異方性導電粒子等といった導通材５を介して下基板１２２上のコモン電極用引回し配線１４に電気的に接続されている。そして、下基板１２２上の引回し配線１４が導通シール材１２４ａから基板中央部に向けて延びた後、屈曲して下基板１２２の右辺に沿って縦方向に延び、非導通シール材１２４ｂの部分を横断して張出領域１２９に実装された駆動用半導体素子１２７の出力端子（図示省略）に接続されている。
【０１２６】
同様に、複数のコモン電極１３１のうち図１５の下側半分（図１５では５本）のコモン電極１３１については、コモン電極１３１の左端が、導通シール材１２４ａ中に混入させた異方性導電粒子等といった導通材５を介して下基板１２２上の引回し配線１３４に電気的に接続されている。そして、下基板１２２上の引回し配線１３４が導通シール材１２４ａから基板中央部に向けて延びた後、屈曲して下基板１２２の左辺に沿って縦方向に延び、非導通シール材１２４ｂの部分を横断して張出領域１２９に実装された駆動用半導体素子１２７の出力端子に接続されている。
【０１２７】
すなわち、全ての引回し配線１３４が導通シール材１２４ａより内側の領域でかつ遮光層１２８の形成幅の内縁よりも外側の範囲内に配置されている。つまり、引回し配線１３４は、形成された導通シール材１２４ａと遮光層１２８との間の領域（形成幅を含む）を延在して形成され、基板の短辺側に配置された非導通シール材１２４ｂを通過して張出領域１２９に張り出し、張出領域１２９に実装された駆動用半導体素子１２７の出力端子に接続されている。
【０１２８】
一方、セグメント電極１３０については、セグメント電極用引回し配線１３５がセグメント電極１３０の下端から非導通シール材１２４ｂに向けて引き出され、そのまま駆動用半導体素子１２７の出力端子に接続されている。多数の引回し配線１３４，１３５が各基板１２２，１２３の下辺側の非導通シール材１２４ｂを横断するが、非導通シール材１２４ｂは導電性を持たないため、狭ピッチで配置された引回し配線１３４，１３５が非導通シール材１２４ｂを横断しても短絡の恐れはない。
【０１２９】
本実施形態の場合、これらの引回し配線１３４，１３５もセグメント電極１３０と同様、ＡＰＣ膜とＩＴＯ膜との積層膜で構成されている。また、駆動用半導体素子１２７に各種信号を供給するための入力用配線（すなわち、外部入力端子）１３６が下基板１２２の下辺から駆動用半導体素子１２７の入力端子（図示省略）に向けて設けられている。
【０１３０】
図１６のＧ−Ｇ線に従って画素部分の断面構造を見ると、図１７に示すように、ガラス、プラスチック等といった透明基板からなる下基板１２２上に、ＡＰＣ膜１３８上にＩＴＯ膜１３９が積層された２層構造のセグメント電極１３０が紙面を貫通する方向にストライプ状に形成されている。また、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミド等からなる配向膜１４０が形成されている。本実施の形態の場合、セグメント電極１３０の構成は、ＡＰＣ膜１３８の上面のみにＩＴＯ膜１３９が積層されただけではなく、ＩＴＯ膜１３９がＡＰＣ膜１３８の側面も覆うようにＡＰＣ膜１３８の幅（Ｗ２）よりもＩＴＯ膜の幅（Ｗ１）の方が大きく設定されている。
【０１３１】
一方、ガラス、プラスチック等といった透明基板からなる上基板１２３上に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色素層１３３ｒ，１３３ｇ，１３３ｂからなるカラーフィルタ１３３が形成され、そのカラーフィルタ１３３上には各色素層間の段差を平坦化すると同時に各色素層の表面を保護するためのオーバーコート膜１４１が形成されている。このオーバーコート膜１４１はアクリル、ポリイミド等から成る樹脂膜でもよいし、シリコン酸化膜等といった無機膜でもよい。
【０１３２】
さらに、オーバーコート膜１４１上にＩＴＯの単層膜からなるコモン電極１３１が紙面に平行な方向にストライプ状に形成されており、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミド等から成る配向膜１４２が形成されている。上基板１２３と下基板１２２との間にはＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶等から成る液Ｌが挟持されている。また、バックライト（図示略）が下基板１２２の下面側に配置されている。
【０１３３】
また、上基板１２３の上にブラックストライプ１４５が形成されている。ブラックストライプ１４５は、例えば、樹脂ブラックや比較的反射率の低いクロム等といった金属等からなり、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色素層１３３ｒ，１３３ｇ，１３３ｂの間、すなわち境界を区画するように設けられている。本実施形態の場合、ブラックストライプ１４５の幅Ｗは、隣接する画素のＩＴＯ膜１３９の間隔Ｐ１、すなわちセグメント電極間の間隔より大きく、そしてＡＰＣ膜１３８の間隔Ｐ２に一致している。
【０１３４】
このことを図１６で見ると、セグメント電極１３０の輪郭を示す外側の線がＩＴＯ膜１３９の縁を示し、さらに、その内側の線がＡＰＣ膜１３８の縁を示しているが、ブラックストライプ１４５の輪郭を示す線はＡＰＣ膜１３８の縁を示す線に重なっている。つまり、半透過反射型カラー液晶装置の構成として、色素層の境界に設けられたブラックストライプ１４５の幅Ｗが、セグメント電極１３０のＩＴＯ膜１３９の間隔Ｐ１より広く、ＡＰＣパターン１８の間隔Ｐ２とほぼ同じになるように形成されて配置されている。
【０１３５】
図１５に符号Ｄで示す領域を拡大して示すと図１８に示す通りである。また、図１８のＨ−Ｈ線に従って断面構造を示すと図１９に示す通りである。図１８に示す上側３本のコモン電極１３１は、その右端で引回し配線１３４と電気的に接続する。一方、下側２本のコモン電極１３１は、図１５に示すように、その左端で引回し配線１３４と電気的に接続する。
【０１３６】
図１８において、上基板１２３のコモン電極１３１の端部は導通シール材１２４ａの形成領域よりも外側にはみ出しており、下基板１２２の引回し配線１３４の端部は導通シール材１２４ａの形成領域内に位置している。導通シール材１２４ａの中には例えば直径が１０μｍ程度の導電粒子１５０が混入されており、これらの導電粒子１５０が図１９に示すように基板１２２と基板１２３と間で接触することにより、上基板１２３のコモン電極１３１と下基板１２２の引回し配線１３４とが電気的に接続される。
【０１３７】
図１９において、引回し配線１３４は、セグメント電極１３０（図１７参照）と同様に、ＡＰＣ膜１３８上にＩＴＯ膜１３９が積層された２層構造となっており、ＡＰＣ膜１３８の側面もＩＴＯ膜１３９で覆われている。引回し配線１３４と左端で接続されたコモン電極１３１（例えば、図１８の下側２本のコモン電極１３１）に関しては、その右端部が導通シール材１２４ａを通過するが、そのコモン電極１３１の右端部に対向する基板上にはダミーパターン１５１が形成されている。このダミーパターン１５１も、引回し配線１３４と同様に、ＡＰＣ膜１８上にＩＴＯ膜１９が積層された２層構造となっている。
【０１３８】
また、引回し配線１３４と右端で接続されたコモン電極１３１（例えば、図１８の上側３本のコモン電極１３１）に関しては、その左端部が図１５に示すように導通シール材１２４ａを通過するが、そのコモン電極１３１の左端部に対向する基板上にもダミーパターン１５１が形成される。なお、図１８において、実際には引回し配線１３４及びダミーパターン１５１を構成するＡＰＣ膜の周囲にはＩＴＯ膜の輪郭が見えるはずであるが、ここでは図面を見やすくするため、図示を省略した。
【０１３９】
本実施形態において、引回し配線１３４は、図１９に示すように、ＡＰＣ膜１３８とＩＴＯ膜１３９との積層構造であり、引回し配線１３４の全体の層厚（すなわち、ＡＰＣ膜１３８とＩＴＯ膜１３９との合計の膜厚）が例えば０．３μｍ程度であるとする。すると通常であれば、シール材１２４の中で引回し配線１３４のある場所とない場所とで０．３μｍの段差ができ、セルギャップがばらついて表示不良となる恐れがある。
【０１４０】
これに対して本実施形態では、引回し配線１３４が存在しないコモン電極１３１の端部に引回し配線１３４と同じ形状及び同じ層厚のダミーパターン１５１を配置したので、液晶パネル全体のセルギャップが場所によらず一定になり、それ故、表示不良を防止することができる。また、引回し配線１３４とダミーパターン１５１は同じレイヤーで形成されているので、そのダミーパターンを形成する際にはマスクパターンの追加のみで済み、製造プロセスが複雑になることはない。
【０１４１】
また、本実施形態の場合、図１７に示すように、隣接するセグメント電極１３０のＡＰＣ膜１３８同士の間隙を完全に覆うように、上基板１２３上にブラックストライプ１４５を設けたため、光漏れがなくなり、混色を防止することができる。その結果、反射率に優れたＡＰＣ膜１３８を用いたことで反射モードでの表示の明るさが向上するのと同時に、透過モードでの色の彩度が従来より向上し、カラーの各色を鮮やかに視認し得る液晶装置を実現することができる。
【０１４２】
なお、本実施形態では、シール材１２４が導通シール材１２４ａと非導通シール材１２４ｂとで構成されているが、シール材１２４は導通シール材１２４ａのみによって構成されていても構わない。
【０１４３】
また、本実施形態では、図１５に示すように、張出領域１２９に駆動用半導体素子１２７を搭載した構成を示したが、これに代えて、駆動用半導体素子１２７を張出領域１２９に搭載させることなく、液晶装置１２０の外部に例えばＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）等を介して配置しておき、駆動用半導体素子１２７の端子をＦＰＣ等を介して外部入力端子１３６に接続し、その外部接続端子１３６から直接に引回し配線１３４及び引回し配線１３５へ信号を供給する構成とすることもできる。
【０１４４】
（液晶装置の第４実施形態）
図２３は、本発明に係る液晶装置の他の実施形態を示している。ここに示す液晶パネル１６１を用いて構成される液晶装置１６０の基本構成は図１５に示した液晶装置１２０と同じであるため、詳細な説明は省略する。
【０１４５】
図１５に示した実施形態では、複数のコモン電極１３１のうち、上半分のコモン電極１３１については、コモン電極１３１の右端から引回し配線１３４が引き回され、下半分のコモン電極１３１については、コモン電極１３１の左端から引回し配線１３４が引き廻されていた。これに対して、本実施形態の場合は、図２３における最上位のコモン電極１３１は右端から引回し配線１３４が引き回され、上から２番目のコモン電極１３１は左端から引回し配線１３４が引き回されるというように、引回し配線１３４が１本毎に右、左、右、左、…と交互に振り分けられている。その他の構成は図１５の実施形態の場合と全く同じである。
【０１４６】
本実施形態の液晶装置１６０においても、配線１３４と電極１３１とが交互に左右で導通されるとき、それらの導通領域３１に関して表示領域を挟んで向かい合う部分のシール材４の部分には、該シール材４を通過するダミーパターン３４が設けられる。これにより、セグメント電極１３１に沿った方向の液晶パネル１６１のセルギャップを均一に維持している。
【０１４７】
（電子機器の実施形態）
図１０は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話機を示している。ここに示した携帯電話機５０は、アンテナ５１、スピーカ５２、キースイッチ５３、マイクロホン５４等といった各種構成要素を、外装ケース５６に格納することによって構成される。外装ケース５６の内部には、表示装置として作用する液晶装置６０及び制御回路基板５７が収納される。
【０１４８】
液晶装置６０は図の上部面が表示面となっており、その表示面に対向する部分の外装ケース５６には、液晶装置６０を保護すると共に表示面の視界を確保するための透明なカバー５８が設けられる。液晶装置６０は、例えば図１に示す液晶装置１や図６に示す液晶装置４１によって構成できる。
【０１４９】
図１０に示す携帯電話機６０では、キースイッチ５３及びマイクロホン５４を通して入力される信号や、アンテナ５１によって受信した受信データ等が制御回路基板５７の制御回路に入力される。そしてその制御回路は、入力した各種のデータに基づいて液晶装置６０の表示面内に数字、文字、図形等といった像を表示し、さらにアンテナ５１から送信データを送信する。
【０１５０】
図１１は、図１０に示す携帯電話機、あるいはその他の電子機器に用いられる電気制御系の一実施形態を示している。ここに示した電気制御系は、表示情報出力源９０、表示情報処理回路９１、電源回路９２、タイミングジェネレータ９３、そして表示装置としての液晶装置９４を有する。また、液晶装置９４は液晶パネル９５及び駆動回路９６を有する。液晶装置９４は、例えば図１に示した液晶装置１や図６に示す液晶装置４１によって構成できる。
【０１５１】
表示情報出力源９０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ９３によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路９１に供給する。
【０１５２】
表示情報処理回路９１は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路８６へ供給する。駆動回路９６は走査線駆動回路、データ線駆動回路、検査回路等を含んで構成される。また、電源回路９２は各構成要素に所定の電圧を供給する。
【０１５３】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【０１５４】
例えば、以上の説明では、単純マトリクス型の液晶装置やＴＦＤ素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を例示したが、本発明は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型スイッチング素子をアクティブ素子として用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。
【０１５５】
また、本発明に係る電子機器は、図８に示した携帯電話機に限られず、その他の任意の電子機器、例えば携帯情報端末機、デジタルカメラ等とすることもできる。
【０１５６】
【発明の効果】
本発明に係るによれば、導通領域において配線がシール材を横切り、その導通領域に向かい合う部分のシール材を第１ダミーパターンが横切る。この構成により、配線がシール材の導通領域だけを横切る構造の従来の液晶装置の場合に比べて、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図３】図１の液晶装置で用いられるＴＦＤ素子の一例を示す斜視図である。
【図４】図１の液晶装置を構成する一方の基板を示す平面図である。
【図５】図１の液晶装置を構成する他方の基板を示す平面図である。
【図６】本発明に係る液晶装置の他の実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図７】図６のＤ−Ｄ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図８】図６の液晶装置を構成する一方の基板を示す平面図である。
【図９】図６の液晶装置を構成する他方の基板を示す平面図である。
【図１０】本発明に係る電子機器の一例である携帯電話機の一実施形態を示す斜視図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示すブロック図である。
【図１２】従来の液晶装置の一例を一部破断して示す平面図である。
【図１３】図１２に示す従来の液晶装置を構成する一方の基板を示す平面図である。
【図１４】図１２に示す従来の液晶装置を構成する他方の基板を示す平面図である。
【図１５】本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図１６】図１５の要部を示す平面図である。
【図１７】図１７のＧ−Ｇ線に従った断面図である。
【図１８】図１５の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す図である。
【図１９】図１８のＨ−Ｈ線に従った断面図である。
【図２０】図１のＢ−Ｂ線に従った断面図である。
【図２１】図６のＥ−Ｅ線に従った断面図である。
【図２２】図６のＦ−Ｆ線に従った断面図である。
【図２３】本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態を一部破断して示す平面図である。
【符号の説明】
１ 液晶装置
２ 液晶パネル
３ａ，３ｂ 基板
３ｃ 基板張出し部（配線引出し領域）
４ シール材
４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ シール材辺
５ 導通材
８ 照明装置
９ａ，９ｂ 液晶駆動用ＩＣ
１１ ＡＣＦ
１２ａ，１２ｂ 基材
１３ 画素電極
１４ ライン配線
１６ ＴＦＤ素子
１７ａ，１７ｂ 配向膜
１８ａ，１８ｂ 位相差板
１９ａ，１９ｂ 偏光板
２４ 半透過反射板
２６ カラーフィルタ膜
２７ オーバーコート膜
２８ 対向電極
２９ａ，２９ｂ 配線
３１ 導通領域
３２ 第２領域
３３ 配線
３４ 第１ダミーパターン
３４ａ，３４ｂ 第１ダミーパターン要素
３７ 第２ダミーパターン
３８ ダミーパターン
３９ パターン
４１ 液晶装置
４２ 液晶パネル
４３ 第１電極
４４ 半透過反射膜
４６ カラーフィルタ膜
４８ 第２電極
５０ 携帯電話機（電子機器）
６０，１２０，１６０ 液晶装置
６３，６４，６６，６７ ダミーパターン
１２１，１６１ 液晶パネル
１３４，１３５ 引回し配線
１５１ ダミーパターン
Ｌ 液晶層
Ｖ 表示領域
【発明の属する技術分野】
本発明は、互いに対向する一対の基板のそれぞれに形成した配線の間をそれらの基板間に介在させた導通材によって導通する構造の液晶装置に関する。また、本発明は、その液晶装置を用いて構成される電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯型コンピュータ、携帯電話機、ビデオカメラ等といった電子機器の表示部に液晶装置が広く用いられている。この液晶装置は、一般に、それぞれに電極が形成された一対の基板をそれらの電極が互いに対向するように環状のシール材によって貼り合わせ、一対の基板及びシール材によって囲まれる領域に液晶を封入することによって形成される。この液晶装置では、一対の基板間に封止した液晶の配向を画素毎に制御することにより、文字、数字、図形等といった像を表示する。
【０００３】
この液晶装置には、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置や、アクティブ素子を用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶装置がある。また、そのようなアクティブ素子としては、２端子型の能動素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）素子や、３端子型の能動素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）素子等が知られている。
【０００４】
従来、単純マトリクス方式の液晶装置として、例えば図１２に示す装置が知られている。ここに示す液晶装置は、バックライト等といった照明装置や、制御基板や、その他必要に応じて付設される付帯機器を図示の液晶パネル１０１に付設することによって形成される。
【０００５】
液晶パネル１０１は、ガラス等によって形成された一対の基板１０２ａ及び１０２ｂを環状のシール材１０３によって貼り合わせることによって形成される。シール材１０３の適所には液晶注入用開口１０３ａが設けられ、さらに、シール材１０３の内部には多数の導通材１０６が混入されている。
【０００６】
シール材１０３によって囲まれると共に基板１０２ａと基板１０２ｂとによって挟まれる間隙が、いわゆるセルギャップであり、このセルギャップの中に液晶（図示せず）が液晶注入用開口１０３ａを通して注入され、その後、液晶注入用開口１０３ａが樹脂等によって封止される。一方の基板１０２ａは他方の基板１０２ｂの外側へ張り出す張出し部１０２ｃを有し、その張出し部１０２ｃの表面（図１２では紙面裏側の表面）に液晶駆動用ＩＣ１０４ａ及び１０４ｂが実装される。
【０００７】
一方の基板１０２ａの液晶側表面（すなわち、図１２の紙面奥側表面）には、図１３に示すように、複数の直線状の電極１０７ａが全体としてストライプ状になるように互いに平行に配列されている。また、各電極１０７ａの端部から基板張出し部１０２ｃ上の液晶駆動用ＩＣ１０４ａ（図１２参照）の実装領域に向けて配線１０８ａが形成される。また、液晶駆動用ＩＣ１０４ｂ（図１２参照）の実装領域から延びる配線１０８ｂがシール材１０３の形成領域を通過して液晶封入領域内へ入っている。
【０００８】
他方の基板１０２ｂの液晶側表面（すなわち、図１２の紙面手前側表面）には、図１４に示すように、複数の直線状の電極１０７ｂが全体としてストライプ状になるように互いに平行に配列されている。また、各電極１０７ｂの端部からシール材１０３の形成領域を少し越える位置まで、配線１０９が形成される。
【０００９】
なお、図１２、図１３及び図１４では、構造をわかり易く示すために、電極１０７ａ、電極１０７ｂ、配線１０８ａ、１０８ｂ，１０９等を実際よりも広い間隔で数本だけ模式的に示しているが、実際の液晶装置では、より多数本の電極１０７ａ等がより狭い間隔で配列される。
【００１０】
図１２に示す液晶パネル１０１を作製するにあたっては、図１３の基板１０２ａ又は図１４の基板１０２ａのいずれかにシール材１０３を形成し、そのシール材１０３を挟んで基板１０２ａと基板１０２ｂとを、電極１０７ａと電極１０７ｂとが互いに直交するように、互いに貼り合わせ、さらにシール材１０３を硬化させる。さらに、基板１０２ａの張出し部１０２ｃの表面に液晶駆動用ＩＣ１０４ａ及び１０４ｂを、それらの端子、すなわちバンプが配線１０８ａ及び１０８ｂに導電接続されるように実装する。
【００１１】
こうして２つの基板１０２ａ及び１０２ｂを貼り合せたとき、図１３の配線１０８ｂと図１４の配線１０９とが導通領域１１１の所で導通材１０６を間に挟んで重なり合い、これにより、基板１０２ａ側の配線１０８ｂと基板１０２ｂ側の配線１０９とが導電接続され、これにより、基板１０２ａ側の液晶駆動用ＩＣ１０４ｂと基板１０２ｂ側の電極１０７ｂとが電気的につなげられる。
【００１２】
以上のようにして形成された液晶パネル１０１に関しては、電極１０７ａと電極１０７ｂとの交点及びその交点に挟持される液晶によって１画素が構成され、さらにこの画素が複数個、ドットマトリクス状に配列することによって表示領域、すなわち駆動領域Ｖが形成され、この表示領域Ｖ内に文字、数字等といった像が形成される。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の液晶装置に関しては、シール材１０３の一辺に形成した導通領域１１１の所において、基板１０２ａ側の配線１０８ｂがシール材１０３を通過し、さらに、基板１０２ｂ側の配線１０９もシール材１０３を通過する。これに対し、導通領域１１１に向かい合う部分のシール材１０３の部分領域１１２には配線１０８ｂ等に相当するパターンは形成されていない。
【００１４】
このため、導通領域１１１ではセルギャップが厚くなり、それと反対側の部分領域１１２ではセルギャップが狭くなり、そのため、液晶パネル１０１の全体のセルギャップが不均一になるという問題が発生した。こうなると、各画素に印加される電圧にばらつきが発生し、鮮明な像が得られなくなるという問題があった。
【００１５】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、液晶装置を構成する基板の表面に形成されるパターンを工夫することにより、基板間隔の不均一性を低減して、すなわち液晶パネルのセル厚ムラを低減して、液晶表示品質を向上することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明に関わる液晶装置は、表示領域を備えた第１基板と第２基板と、前記表示領域を囲うように設けられ、導通材を含み、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、を備えた液晶装置であって、前記第１基板において、前記シール材と表示領域との間に延設され、前記シール材中の複数の第１導通領域において前記導通材により前記第２基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の第１引き回し配線と、前記シール材と表示領域との間に延設され、前記シール材中の複数の第２導通領域において前記導通材により前記第２基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の第２引き回し配線と、前記表示領域を挟んで前記第１導通領域と対向する位置で前記シール材と重なるように設けられた複数の第１ダミーパターンと、前記表示領域を挟んで前記第２導通領域と対向する位置で前記シール材と重なるように設けられた複数の第２ダミーパターンと、を有し、前記第１導通領域と前記第２ダミーパターンとは、シール材の表示領域に対して同じ側において、交互に位置することを特徴とする。
【００１７】
本発明の液晶装置は、第２基板に設けられた電極と電気的に接続された引き回し配線を有する。
【００１８】
電極と引き回し配線との接続はシール材中の導通領域において行われる。
【００１９】
このため、導通領域ではセルギャップが他の箇所に比べて厚くなるという不具合が生じる。
【００２０】
そこで、本発明では、導通領域に対して表示領域を挟んで対向する位置において、シール材と重なるダミーパターンを設ける。
【００２１】
この構成により、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【００２２】
さらに、本発明ではシール材中で、導通領域とダミーパターンとが交互に配置されている。
【００２３】
このため、引き回し配線は、表示領域の右端と左端とに対して、左右交互に振り分けられた状態でシール材と重なっている。
【００２４】
従って引き回し配線はシール材の内側において、ある部分にまとまって位置するのではなく、全体に満遍なく広がって延設される。
【００２５】
このように引き回し配線がシール材の内側において全体に広がっていれば、引き回し配線によるギャップのばらつきが生じることがない。
【００２６】
よって本発明の構成によれば、シール材の内側において引き回し配線を設ける場合に、ギャップのばらつきを低減するのに効果的である。
【００２７】
特に引き回し配線の上半分は表示領域の左端に対して振り分けられ、下半分は右端に対して振り分けられるパターンのように、引き回し配線の配置が偏ることがなく、本発明の構成では引き回し配線によるギャップのばらつきは大きく改善される。
【００２８】
また、本発明の液晶装置の別の態様では、前記第１ダミーパターンが前記シール材と重なる面積は、前記第１引き回し配線が前記シール材と重なる面積とほぼ等しいことを特徴とする。
【００２９】
こうすれば、シール材に対するダミーパターン側の面積状況と配線側の面積状況とが等しくなるので液晶パネルのセルギャップをより一層均一に維持できる。
【００３０】
なお本発明の液晶装置において、ダミーパターンは、導通領域内に存在する複数の引き回し配線の個々に対応した位置に形成された直線状の複数のダミーパターン要素の集合によって形成しても良い。
【００３１】
このように構成しても、シール材に対するダミーパターン側の面積状況と配線側の面積状況とが等しくすることができるので液晶パネルのセルギャップをより一層均一に維持できる。
【００３２】
また、この場合、ダミーパターンは対向する配線とほぼ等しい幅を持つように形成しても良い。
【００３３】
このように構成すれば、液晶パネルのセルギャップをより均一にできる。
【００３４】
また、本発明においては、一対の基板のうち一方の基板にダミーパターンを設けているが、必要に応じて他方の基板の適切な位置にダミーパターンを設けても良い。
【００３５】
このように構成しても液晶パネルのセルギャップをより均一にできる。
【００３６】
次に、本発明に係る電子機器は、液晶装置と、該液晶装置を収容する筐体とを有する電子機器において、前記液晶装置は上記した構成の液晶装置によって構成されることを特徴とする。
【００３７】
この電子機器によれば、内蔵する液晶装置において、液晶パネルの基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持できる。
【００３８】
これにより、液晶表示品質を高く維持できるので、電子機器に関する情報を常に鮮明に視認できる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
（液晶装置の第１実施形態）
図１は、ＴＦＤ（Thin Film Diode）素子をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス型の液晶装置であって、基板上にＩＣチップを直接に実装する構造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶装置に本発明を適用した場合の実施形態を示している。
【００４０】
ここに示す液晶装置１は、図１にその全体的な平面構造を示した液晶パネル２に、照明装置、制御基板、その他の付帯機器を付設することによって構成される。液晶パネル２は、図面の手前側に配置された第１基板３ａと、図面の奥側に配置された第２基板３ｂとを環状のシール材４によって互いに接合、すなわち貼り合わせることによって形成される。シール材４の内部には、第１基板３ａと第２基板３ｂとの間で電気的な導通をとるための導通材５が分散状態で含まれている。
【００４１】
シール材４、第１基板３ａ及び第２基板３ｂによって囲まれる領域は高さが一定の間隙、いわゆるセルギャップを構成し、そのセルギャップは図２に示すように、いずれか一方の基板３ａ又は３ｂの表面に分散した多数のスペーサ１０によって均一な寸法に維持される。スペーサ１０は、例えば球形状に形成される。さらに、シール材４の一部には液晶注入用開口４ａが形成される。上記のセルギャップ内には、上記液晶注入用開口４ａを通して液晶が注入され、その注入の完了後、液晶注入用開口４ａが樹脂等によって封止される。
【００４２】
図２は、図１におけるＡ−Ａ線に従って液晶装置１の断面構造を示している。図２に示すように、液晶パネル２の第２基板３ｂの裏側（すなわち、図２に示す構造の下側）には、発光源６及び導光体７を有する照明装置８がバックライトとして設けられている。
【００４３】
図１において、第１基板３ａは第２基板３ｂの外側へ張り出す、配線引出し領域としての基板張出し部３ｃを有し、その基板張出し部３ｃ上に液晶駆動用ＩＣ９ａ及び９ｂが導電接着要素、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）１１によって実装されている。液晶駆動用ＩＣ９ａと液晶駆動用ＩＣ９ｂは互いに特性が異なるものであり、このように特性の異なる２種類の液晶駆動用ＩＣを用いるのは、第１基板３ａ側と第２基板３ｂ側とで、換言すれば、走査線駆動系と信号線駆動系との間で使用する電圧値が異なっているため、それらを１つのＩＣチップで賄うことができないからである。
【００４４】
図２において、第１基板３ａは基材１２ａを有し、その基材１２ａの内側表面、すなわち液晶層Ｌ側の表面に複数の画素電極１３が形成される。また、図１に示すように、第１基板３ａの内側表面には、複数の直線状のライン配線１４が互いに平行に配列されて全体としてストライプ状に形成され、それらのライン配線１４に沿って適宜の間隔でＴＦＤ素子１６が形成され、それらのＴＦＤ素子１６を介して複数の画素電極１３が形成されている。複数の画素電極１３は平面的にはドットマトリクス状に配列されている。
【００４５】
図２において、画素電極１３、ＴＦＤ素子１６及びライン配線１４が形成された基材１２ａの表面上に、配向膜１７ａが形成される。また、基材１２ａの外側表面には位相差板１８ａが設けられ、さらにその上に偏光板１９ａが設けられる。
【００４６】
図１及び図２において矢印Ｃで示す１個のＴＦＤ素子の近傍の構造を示すと、例えば図３の通りである。図３に示すのは、いわゆるBack-to-Back（バック・ツー・バック）構造のＴＦＤ素子を用いたものである。図３において、ライン配線１４は、例えばＴａＷ（タングステン・タンタル）によって形成された第１層１４ａと、例えば陽極酸化膜であるＴａ２Ｏ５（酸化タンタル）によって形成された第２層１４ｂと、例えばＣｒによって形成された第３層１４ｃとから成る３層構造に形成されている。
【００４７】
また、ＴＦＤ素子１６は、第１ＴＦＤ要素１６ａと第２ＴＦＤ要素１６ｂとを直列に接続することによって構成されている。第１ＴＦＤ要素１６ａ及び第２ＴＦＤ要素１６ｂは、ＴａＷによって形成された第１金属層２１と、陽極酸化によって形成されたＴａ２Ｏ５の絶縁層２２と、ライン配線１４の第３層１４ｃと同一層であるＣｒの第２金属層２３との３層積層構造によって構成されている。
【００４８】
第１ＴＦＤ要素１６ａをライン配線１４側から見ると、第２金属層２３／絶縁層２２／第１金属層２１の積層構造が構成され、他方、第２ＴＦＤ要素１６ｂをライン配線１４側から見ると、第１金属層２１／絶縁層２２／第２金属層２３の積層構造が形成される。このように一対のＴＦＤ要素１６ａ及び１６ｂを電気的に逆向きに直列接続してバック・ツー・バック構造のＴＦＤ素子を構成することにより、ＴＦＤ素子のスイッチング特性の安定化が達成されている。画素電極１３は、第２ＴＦＤ要素１６ｂの第２金属層２３に接続するように、例えばＩＴＯによって形成される。
【００４９】
図２において、第２基板３ｂは基材１２ｂを有し、その基材１２ｂの内側表面、すなわち液晶層Ｌ側の表面には半透過反射膜２４が形成され、その上にカラーフィルタ膜２６が形成され、その上にオーバーコート膜２７が形成され、その上に対向電極２８が形成され、さらにその上に配向膜１７ｂが形成される。また、基材１２ｂの外側表面には、位相差板１８ｂが形成され、さらにその上に偏光板１９ｂが形成される。
【００５０】
対向電極２８は、図１に示すように、多数の直線状の電極をライン配線１４と交差するように互いに平行に並べることによりストライプ状に形成されている。なお、図１では、電極パターンをわかり易く示すために、対向電極２８の間隔を大きく広げて模式的に描いてあるが、実際には、対向電極２８の間隔は画素電極１３のドットピッチに合せて非常に狭く形成されている。
【００５１】
画素電極１３と対向電極２８との交差点はドットマトリクス状に配列しており、これらの交差点の個々が１つのドットを構成し、図２のカラーフィルタ膜２６の個々の色パターンがその１ドットに対応する。カラーフィルタ膜２６は、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色が１つのユニットとなって１つの画素を構成している。ドットマトリクス状に配列された複数のドットによって区画される方形の領域Ｖがスイッチング素子の駆動によって像が表示される領域、すなわち、駆動領域又は表示領域である。
【００５２】
基材１２ａ、１２ｂは、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、半透過反射膜２４は光反射性の材料、例えばＡｌ（アルミニウム）によって形成される。但し、光反射性材料は半透過及び反射の機能を達成するために、その厚さが光を透過可能な程度に薄く形成したり、あるいは、半透過反射膜２４の適所に光を通過させる開口を適宜の面積割合で形成したりする。
【００５３】
カラーフィルタ膜２６は、周知の色絵素形成手法、例えばインクジェット法、顔料分散法等を用いて顔料を、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等といった適宜のパターンに塗布することによって形成される。また、オーバーコート膜２７は、適宜の透光性樹脂材料を、例えばスピンコート法、ロールコート法等によって均一に塗布することによって形成される。
【００５４】
画素電極１３及び対向電極２８は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を周知の膜付け法、例えばスパッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、さらにフォトエッチング法によって希望のパターンに形成される。配向膜１７ａ及び１７ｂは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成する方法や、オフセット印刷法等によって形成される。
【００５５】
図４において、第１基板３ａの液晶側表面（すなわち、図４の裏側表面）には、ライン配線１４から基板張出し部３ｃの方向へそのまま延びる配線２９ａが形成される。また、第１基板３ａの張出し部３ｃと交差する方向へ延びていて表示領域Ｖを挟んで互いに対向する一対のシール材辺４ｂ及び４ｃのそれぞれの適所に導通領域３１が設定されている。そして、これらの導通領域３１と基板張出し部３ｃ上のＩＣ実装領域との間に配線２９ｂが形成されている。このとき、配線２９ｂはシール材４に関して導通領域３１以外の第２領域３２の所でこのシール材４を通過して張出し部３ｃ上へ延び出ている。
【００５６】
図５において、第２基板３ｂの液晶側表面（すなわち、図５の手前側表面）には、対向電極２８と導通領域３１との間、すなわち表示領域Ｖと導通領域３１との間に配線３３が形成されている。
【００５７】
図４の第１基板３ａ又は図５の第２基板３ｂのいずれかの液晶側表面にシール材４を印刷等によって環状に形成し、そのシール材４を挟んでそれらの基板３ａ及び３ｂを貼り合わせることによって図１に示すような液晶パネル２が形成される。このとき、図２０に示すように、導通領域３１において、第１基板３ａ側の配線２９ｂと第２基板３ｂ側の配線３３とが互いに重なり合い、さらにそれらの間がシール材４に含まれる導通材５によって導電接続される。
【００５８】
以上により、第１基板３ａ上に形成された画素電極１３は、ＴＦＤ素子１６及びライン配線１４を介して、第１基板３ａ上の液晶駆動用ＩＣ９ａに接続される。一方、第２基板３ｂ上に形成された対向電極２８は、導通領域３１において導通材５によって導電接続された配線３３及び配線２９ｂを介して第１基板３ａ上の液晶駆動用ＩＣ９ｂに接続される。
【００５９】
本実施形態の液晶装置１は以上のように構成されているので、図２において、太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合には、その外部光が第１基板３ａ及び液晶層Ｌを透過して半透過反射膜２４へ到達し、この半透過反射膜２４で反射した後に液晶層Ｌへ供給される。一方、外部光が不十分の場合には、照明装置８の発光源６を点灯し、その発光源６からの点状又は線状の光を導光体７によって面状の光へ変換して液晶パネル２へ供給する。こうして液晶パネル２へ供給された光は半透過反射板２４を透過して液晶層Ｌへ供給される。
【００６０】
以上のようにして光が液晶層Ｌへ供給されるとき、図１において液晶駆動用ＩＣ９ａが作動してライン配線１４へ走査信号又はデータ信号の一方が供給され、さらに液晶駆動用ＩＣ９ｂが作動して対向電極２８へ走査信号又はデータ信号の他方が供給される。これにより、表示領域Ｖを構成する複数の画素内の液晶の配向が画素毎に制御され、この液晶を通過する光が画素毎に変調され、こうして変調された光が図２の偏光板１９ａを選択的に通過することにより、外部に文字、数字等といった像が表示される。
【００６１】
本実施形態の液晶装置１では、図１において、表示領域Ｖを挟んで２つの導通領域３１の各々に向かい合う部分のシール材４の一部領域に第１ダミーパターン３４が設けられている。この第１ダミーパターン３４は、本実施形態の場合は、図４に示すように第１基板３ａの表面上において導通領域３１に向かい合う部分のシール材４を通過するように形成された複数の直線状の第１ダミーパターン要素３４ａと、図５に示すように第２基板３ｂの表面上において導通領域３１に向かい合う部分のシール材４を通過するように形成された複数の直線状の第１ダミーパターン要素３４ｂとによって構成されている。これらのダミーパターン３４ａ及び３４ｂは、図２０に示すように、シール材４を間に挟んで互いに対向する。
【００６２】
第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、基板３ａ上に配線２９ｂを形成する工程において同じ材料、例えばＴａ、Ｃｒ、ＩＴＯ等によって同時に同じ厚さに形成することができる。また、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、基板３ｂ上に対向電極２８及び配線３３を形成する工程において同じ材料、例えばＩＴＯ等によって同時に同じ厚さに形成することができる。
【００６３】
なお、ダミーパターン要素３４ｂは、対向電極２８に接続しても良いし、あるいは対向電極２８を延長させて形成しても良い。このようにしてダミーパターン要素３４ｂを対向電極２８に電気的に導通させれば次のような効果が得られる。すなわち、対向する基板３ａ及び３ｂのそれぞれに形成されたダミーパターンが両方とも電気的に独立しているとすると、そこにコンデンサが形成されるので、一度そこに電荷が蓄積されるとその電荷が逃げられなくなって都合が悪い。これに対し、ダミーパターンの一方を電極又は配線と電気的に接続すれば、電荷を逃げられるようにできて好都合である。
【００６４】
本実施形態では、１つの第１ダミーパターン要素３４ａと１つの第１ダミーパターン要素３４ｂとがシール材４を挟んで位置的に重なりあって一つのユニットを構成し、そのユニットが適宜の間隔をおいて複数集まって第１ダミーパターン３４を構成している。
【００６５】
図４において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、導通領域３１内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応した位置に形成されている。また、個々の第１ダミーパターン要素３４ａの線幅は対応する個々の配線２９ｂの線幅とほぼ等しく設定されている。
【００６６】
また、図５において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、向かい合う導通領域３１内に存在する複数の配線３３の個々に対応した位置に形成されている。また、個々の第１ダミーパターン要素３４ｂの線幅は対応する個々の配線３３の線幅とほぼ等しく設定されている。
【００６７】
また、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａと第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、図１では少しずれた位置に配置されているように示されているが、これは構造をわかり易く示すための便宜上の措置であり、実際には、第１ダミーパターン要素３４ａと第１ダミーパターン要素３４ｂとは、第１基板３ａと第２基板３ｂとを貼り合せた状態であってそれらの基板を直角方向から見た場合に、第１ダミーパターン要素３４ａと第１ダミーパターン要素３４ｂとが互いに重なり合ってほぼ１本の線になるように形成されている。
【００６８】
以上により、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａと第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂとによって構成される第１ダミーパターン３４がシール材４を通過する面積は、その第１ダミーパターン３４に向かい合う導通領域３１において第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過する面積の合計とほぼ等しくなっている。
【００６９】
導通領域３１においては、導通をとるための必要性から、第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過しなければならない。この場合に、その導通領域３１に向かい合う部分のシール部材４の領域に何等の措置も講じておかなければ、基板間の間隙寸法、すなわちセルギャップが不均一になって液晶の配向制御が表示領域Ｖの全面にわたって均一にできなくなるおそれがある。このことに関し、本実施形態では、導通領域３１に向かい合う部分のシール部材４の領域に第１ダミーパターン３４を設けたので、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【００７０】
また、第１ダミーパターン３４がシール材４を通過する面積を、第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過する面積の合計とほぼ同じに設定したので、セルギャップをより一層均一に維持できる。
【００７１】
また、図４において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、導通領域３１内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応して配置されている。また、図５において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、導通領域３１内に存在する複数の配線３３の個々に対応して配置されている。この構成により、シール材４に対する第１ダミーパターン３４側の面積状況と、シール材４に対する配線２９ｂ及び３３側の面積状況とが等しくなるので液晶パネルのセルギャップをより一層均一に維持できる。
【００７２】
次に、図４において、ライン配線１４から延びる配線２９ａはシール材４の１辺４ｅを通過する。また、ライン配線１４の反対側の端部であってシール材４の反対側の１辺４ｄを通過する部分はダミーパターン３８として機能する。このダミーパターン３８は、配線２９ａが通過する側のシール材辺４ｅの所の基板間厚さ、すなわちセルギャップと、その反対側のシール材辺４ｄの所のセルギャップとを等しい寸法に維持するように作用する。このダミーパターン３８の作用により、図４のライン配線１４に沿った図の縦方向における液晶パネルのセルギャップを一定に維持できる。
【００７３】
なお、図２に示すように、ダミーパターン３８に対向する位置の第２基板３ｂの表面には、別のダミーパターン６３がダミーパターン３８と重なるように形成されている。また、ダミーパターン３８と反対側において配線２９ａがシール材辺４ｅを通過する部分に対向する位置の第２基板３ｂの表面にも、別のダミーパターン６４が配線２９ａと重なるように形成されている。
【００７４】
ダミーパターン６３は、図４におけるダミーパターン３８がシール材４を通過する部分の形状と同じ形状となるように図５に示すように形成される。また、ダミーパターン６４は、図４における配線２９ａがシール材４を通過する部分の形状と同じ形状となるように図５に示すように形成される。なお、図２に示すように、ダミーパターン３８とダミーパターン６３はそれぞれ導通材５の上端及び下端に接触し、さらに、液晶層Ｌを挟んだ反対側では、配線２９ａとダミーパターン６４とがそれぞれ導通材５の上端及び下端に接触している。さらに、図５に示すように、ダミーパターン６３及びダミーパターン６４は、対向電極２８と電気的に接続されることなく、いずれも、電気的に独立している。これらのダミーパターン６３及び６４を設けることにより、セルギャップをより一層均一に維持することが可能となる。
【００７５】
ところで、本実施形態では、図４に示すように、第１基板３ａの表面に形成した配線２９ｂが導通領域３１以外の第２領域３２でシール材４を通過して、基板張出し部３ｃすなわち配線引出し領域へ延び出ている。この場合に、その第２領域３２に向かい合う部分のシール部材４の領域に何等の措置も講じておかなければ、基板間の間隙寸法、すなわちセルギャップが不均一になって液晶の配向制御が表示領域Ｖの全面にわたって均一にできなくなるおそれがある。このことに関し、本実施形態では、第２領域３２に向かい合う部分のシール部材４の領域に第２ダミーパターン３７を設けた。これにより、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【００７６】
本実施形態では、第２ダミーパターン３７は、第２領域３２内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応する位置に形成された複数の直線状のパターン３９によって構成されている。また、各パターン３９がシール材４を通過する面積の合計は、第２領域３２において配線２９ｂがシール材４を通過する面積の合計にほぼ等しくなっている。これにより、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【００７７】
さらに、本実施形態では、図４の配線２９ｂが形成された第１基板３ａに対向する図５の第２基板３ｂに関して、図４の配線２９ｂがシール材４を通過する位置に対向させてダミーパターン６６を形成した。また、図４のダミーパターン３９に対向する位置の図５の第２基板３ｂの表面にダミーパターン６７を形成した。このように、配線２９ｂを形成した第１基板３ａに対向する第２基板３ｂにダミーパターン６６及び６７を設けることにより、ライン配線１４の延在方向に沿ったセルギャップをより一層均一に維持できる。
【００７８】
（変形例）
図１に示す実施形態では、導通領域３１以外に配線２９ｂが通過する領域である第２領域３２に対応して第２ダミーパターン３７を設けたが、第２領域３２に対応する位置には、必ずしもダミーパターンを設けなくても良い。
【００７９】
また、図１に示す実施形態では、第１ダミーパターン３４を第１基板３ａ及び第２基板３ｂの両方に形成したが、場合によっては、いずれか一方の基板に形成するだけでも良い。
【００８０】
また、図１に示す実施形態では、第１ダミーパターン３４を複数の直線状のパターンの集合によって形成したが、これに代えて、適宜の面積を持った１つのパターンによって第１ダミーパターン３４を構成することもできる。
【００８１】
（液晶装置の第２実施形態）
図６は、アクティブ素子を用いない構造の単純マトリクス型の液晶装置であって、基板上にＩＣチップを直接に実装する構造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶装置に本発明を適用した場合の実施形態を示している。
【００８２】
ここに示す液晶装置４１は、図６にその全体的な平面構造を示した液晶パネル４２に、照明装置、制御基板、その他の付帯機器を付設することによって構成される。液晶パネル４２は、図面の手前側に配置された第１基板３ａと、図面の奥側に配置された第２基板３ｂとを環状のシール材４によって互いに接合、すなわち貼り合わせることによって形成される。シール材４の内部には、第１基板３ａと第２基板３ｂとの間で電気的な導通をとるための導通材５が分散状態で含まれている。
【００８３】
シール材４、第１基板３ａ及び第２基板３ｂによって囲まれる領域は高さが一定の間隙、いわゆるセルギャップを構成する。さらに、シール材４の一部には液晶注入用開口４ａが形成される。上記のセルギャップ内には、上記液晶注入用開口４ａを通して液晶が注入され、その注入の完了後、液晶注入用開口４ａが樹脂等によって封止される。
【００８４】
図７は、図６におけるＤ−Ｄ線に従って液晶装置４１の断面構造を示している。図７に示すように、液晶パネル４２の第２基板３ｂの裏側（すなわち、図７に示す構造の下側）には、発光源６及び導光体７を有する照明装置８がバックライトとして設けられている。
【００８５】
図６において、第１基板３ａは第２基板３ｂの外側へ張り出す、配線引出し領域としての基板張出し部３ｃを有し、その基板張出し部３ｃ上に液晶駆動用ＩＣ９ａ及び９ｂが導電接着要素、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）１１によって実装されている。液晶駆動用ＩＣ９ａと液晶駆動用ＩＣ９ｂは互いに特性が異なるものであり、このように特性の異なる２種類の液晶駆動用ＩＣを用いるのは、第１基板３ａ側と第２基板３ｂ側とで、換言すれば、走査線駆動系と信号線駆動系との間で使用する電圧値が異なっているため、それらを１つのＩＣチップで賄うことができないからである。
【００８６】
図７において、第１基板３ａは基材１２ａを有し、その基材１２ａの内側表面、すなわち液晶層Ｌ側の表面にはカラーフィルタ膜４６が形成され、そのカラーフィルタ膜４６の上に第１電極４３が形成され、さらにその上に配向膜１７ａが形成される。第１電極４３は、図６に示すように、複数本が互いに平行に配列されて全体としてストライプ状に形成されている。また、基材１２ａの外側表面には偏光板１９ａが設けられる。
【００８７】
図７において、第２基板３ｂは基材１２ｂを有し、その基材１２ｂの内側表面、すなわち液晶層Ｌ側の表面には第２電極４８が形成され、その上に配向膜１７ｂが形成される。また、基材１２ｂの外側表面には、偏光板１９ｂが形成され、その上に半透過反射膜４４が形成される。
【００８８】
第２電極４８は、図６に示すように、多数の直線状の電極４８を第１電極４３と交差するように互いに平行に並べることにより全体としてストライプ状に形成されている。なお、図６では、電極パターンをわかり易く示すために、第１電極４３及び第２電極４８を数本だけ間隔を大きく広げて模式的に示してあるが、実際には、第１電極４３及び第２電極４８は多数本が狭い間隔で形成されている。図６において、第１電極４３と第２電極４８との交差点はドットマトリクス状に配列しており、これらの交差点の個々が１つのドットを構成し、図７のカラーフィルタ膜４６の個々の色パターンがその１ドットに対応する。カラーフィルタ膜４６は、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色が１つのユニットとなって１つの画素を構成している。ドットマトリクス状に配列された複数のドットによって区画される方形の領域Ｖが、電圧印加によって駆動される駆動領域、すなわち文字等といった像が表示される表示領域である。
【００８９】
基材１２ａ、１２ｂは、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、半透過反射膜４４は光反射性の材料、例えばＡｌ（アルミニウム）によって形成される。但し、光反射性材料は半透過及び反射の機能を達成するために、その厚さが光を透過可能な程度に薄く形成したり、あるいは、半透過反射膜２４の適所に光を通過させる開口を適宜の面積割合で形成したりする。
【００９０】
カラーフィルタ膜４６は、周知の色絵素形成手法、例えばインクジェット法、顔料分散法等を用いて顔料を、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等といった適宜のパターンに塗布することによって形成される。
【００９１】
第１電極４３及び第２電極４８は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を周知の膜付け法、例えばスパッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、さらにフォトエッチング法によって希望のパターンに形成される。配向膜１７ａ及び１７ｂは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成する方法や、オフセット印刷法等によって形成される。
【００９２】
図８において、第１基板３ａの液晶側表面（すなわち、図８の裏側表面）には、第１電極４３から基板張出し部３ｃの方向へそのまま延びる配線２９ａが形成される。また、第１基板３ａの張出し部３ｃと平行に延びるシール材辺４ｅの両端部に導通領域３１が設定されている。そして、これらの導通領域３１と基板張出し部３ｃ上のＩＣ実装領域との間に配線２９ｂが形成されている。
【００９３】
また、図９において、第２基板３ｂの液晶側表面（すなわち、図９の手前側表面）には、第２電極４８の端部と導通領域３１との間、すなわち表示領域Ｖと導通領域３１との間に配線３３が形成されている。
【００９４】
図８の第１基板３ａ又は図９の第２基板３ｂのいずれかの液晶側表面にシール材４を印刷等によって環状に形成し、そのシール材４を挟んでそれらの基板３ａ及び３ｂを貼り合わせることによって図６に示すような液晶パネル４２が形成される。このとき、導通領域３１において、図２２に示すように、第１基板３ａ側の配線２９ｂと第２基板３ｂ側の配線３３とが互いに重なり合い、さらにそれらの間がシール材４に含まれる導通材５によって導電接続される。
【００９５】
以上により、図６において、第１基板３ａ上に形成された第１電極４３は、配線２９ａを介して、第１基板３ａ上の液晶駆動用ＩＣ９ａに接続される。一方、第２基板３ｂ上に形成された第２電極４８は、導通領域３１において導通材５によって導電接続された配線３３及び配線２９ｂを介して第１基板３ａ上の液晶駆動用ＩＣ９ｂに接続される。
【００９６】
本実施形態の液晶装置４１は以上のように構成されているので、図７において、太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合には、その外部光が第１基板３ａ及び液晶層Ｌを透過して半透過反射膜４４へ到達し、この半透過反射膜４４で反射した後に液晶層Ｌへ供給される。一方、外部光が不十分の場合には、照明装置８の発光源６を点灯し、その発光源６からの点状又は線状の光を導光体７によって面状の光へ変換して液晶パネル４２へ供給する。こうして液晶パネル４２へ供給された光は半透過反射板４４を透過して液晶層Ｌへ供給される。
【００９７】
以上のようにして光が液晶層Ｌへ供給されるとき、図６において液晶駆動用ＩＣ９ａが作動して第１電極４３へ走査信号又はデータ信号の一方が供給され、さらに液晶駆動用ＩＣ９ｂが作動して第２電極４８へ走査信号又はデータ信号の他方が供給される。これにより、表示領域Ｖを構成する複数の画素内の液晶の配向が画素毎に制御され、この液晶を通過する光が画素毎に変調され、こうして変調された光が図７の偏光板１９ａを選択的に通過することにより、外部に文字、数字等といった像が表示される。
【００９８】
本実施形態の液晶装置４１では、図６において、２つの導通領域３１の各々に向かい合う部分のシール材４の一部領域に第１ダミーパターン３４が設けられている。この第１ダミーパターン３４は、本実施形態の場合は、図８に示すように第１基板３ａの表面上において導通領域３１に向かい合う部分のシール材４を通過するように形成された複数の直線状の第１ダミーパターン要素３４ａと、図９に示すように第２基板３ｂの表面上において導通領域３１に向かい合う部分のシール材４を通過するように形成された複数の直線状の第１ダミーパターン要素３４ｂとによって構成されている。
【００９９】
図８において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、基板３ａ上に配線２９ｂを形成する工程において同じ材料、例えばＩＴＯ等によって同時に同じ厚さに形成することができる。また、図９において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、基板３ｂ上に配線３３を形成する工程において同じ材料、例えばＩＴＯ等によって同時に同じ厚さに形成することができる。
【０１００】
本実施形態では、１つの第１ダミーパターン要素３４ａと１つの第１ダミーパターン要素３４ｂとが、図２２に示すように、シール材４を挟んで位置的に重なりあって一つのユニットを構成し、そのユニットが図６において適宜の間隔をおいて複数集まって第１ダミーパターン３４を構成している。
【０１０１】
図８において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、導通領域３１内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応した位置に形成されている。また、個々の第１ダミーパターン要素３４ａの線幅は対応する個々の配線２９ｂの線幅とほぼ等しく設定されている。
【０１０２】
また、図９において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、導通領域３１内に存在する複数の配線３３の個々に対応した位置に形成されている。また、個々の第１ダミーパターン要素３４ｂの線幅は対応する個々の配線３３の線幅とほぼ等しく設定されている。
【０１０３】
また、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａと第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、図６では少しずれた位置に配置されているように示されているが、これは構造をわかり易く示すための便宜上の措置であり、実際には、第１ダミーパターン要素３４ａと第１ダミーパターン要素３４ｂとは、第１基板３ａと第２基板３ｂとを貼り合せた状態であってそれらの基板を直角方向から見た場合に、第１ダミーパターン要素３４ａと第１ダミーパターン要素３４ｂとが互いに重なり合ってほぼ１本の線になるように形成されている。
【０１０４】
以上により、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａと第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂとによって構成される第１ダミーパターン３４がシール材４を通過する面積は、その第１ダミーパターン３４に向かい合う導通領域３１において第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過する面積の合計とほぼ等しくなっている。
【０１０５】
導通領域３１においては、導通をとるための必要性から、第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過しなければならない。この場合に、その導通領域３１に向かい合う部分のシール部材４の領域に何等の措置も講じておかなければ、基板間の間隙寸法、すなわちセルギャップが不均一になって液晶の配向制御が表示領域Ｖの全面にわたって均一にできなくなるおそれがある。このことに関し、本実施形態では、導通領域３１に向かい合う部分のシール部材４の領域に第１ダミーパターン３４を設けたので、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【０１０６】
また、第１ダミーパターン３４がシール材４を通過する面積を、第１基板３ａ側の配線２９ｂ及び第２基板３ｂ側の配線３３がシール材４を通過する面積の合計とほぼ同じに設定したので、セルギャップをより一層均一に維持できる。
【０１０７】
また、図８において、第１基板３ａ側の第１ダミーパターン要素３４ａは、導通領域３１内に存在する複数の配線２９ｂの個々に対応して配置されている。また、図９において、第２基板３ｂ側の第１ダミーパターン要素３４ｂは、導通領域３１内に存在する複数の配線３３の個々に対応して配置されている。この構成により、シール材４に対する第１ダミーパターン３４側の面積状況と、シール材４に対する配線２９ｂ及び３３側の面積状況とが等しくなるので液晶パネルのセルギャップをより一層均一に維持できる。
【０１０８】
次に、図８において、第１電極４３から延びる配線２９ａはシール材４の１辺４ｅを通過する。また、第１電極４３の反対側の端部であってシール材４の反対側の１辺４ｄを通過する部分はダミーパターン３８として機能する。このダミーパターン３８は、配線２９ａが通過する側のシール材辺４ｅの所の基板間厚さ、すなわちセルギャップと、その反対側のシール材辺４ｄの所のセルギャップとを等しい寸法に維持するように作用する。このダミーパターン３８の作用により、図８の第１電極４３に沿った図の縦方向における液晶パネルのセルギャップを一定に維持できる。
【０１０９】
なお、図７に示すように、ダミーパターン３８に対向する位置の第２基板３ｂの表面には、別のダミーパターン６３がダミーパターン３８と重なるように形成されている。また、ダミーパターン３８と反対側において配線２９ａがシール材辺４ｅを通過する部分に対向する位置の第２基板３ｂの表面にも、別のダミーパターン６４が配線２９ａと重なるように形成されている。ダミーパターン６３は、図８におけるダミーパターン３８がシール材４を通過する部分の形状と同じ形状となるように図９に示すように形成される。また、ダミーパターン６４は、図８における配線２９ａがシール材４を通過する部分の形状と同じ形状となるように図９に示すように形成される。
【０１１０】
なお、図７に示すように、ダミーパターン３８とダミーパターン６３はそれぞれ導通材５の上端及び下端に接触し、さらに、液晶層Ｌを挟んだ反対側では、配線２９ａとダミーパターン６４とがそれぞれ導通材５の上端及び下端に接触している。さらに、図９に示すように、ダミーパターン６３及びダミーパターン６４は、第２電極４８と電気的に接続されることなく、いずれも、電気的に独立している。これらのダミーパターン６３及び６４を設けることにより、セルギャップをより一層均一に維持することが可能となる。
【０１１１】
ところで、本実施形態では、図９に示すように、第２基板３ｂの表面に形成した配線３３が導通領域３１以外の第２領域３２でシール材４を通過している。この場合に、その第２領域３２に向かい合う部分のシール部材４の領域Ａに何等の措置も講じておかなければ、基板間の間隙寸法、すなわちセルギャップが不均一になって液晶の配向制御が表示領域Ｖの全面にわたって均一にできなくなるおそれがある。このことに関し、本実施形態では、第２領域３２に向かい合う部分のシール部材４の領域Ａに第２ダミーパターン３７を設けた。これにより、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【０１１２】
本実施形態において、第２ダミーパターン３７に関しては、それを構成する複数の直線状のパターン３９がシール材４を通過する面積の合計は、領域Ａに対応する長さの第２領域３２において配線３３がシール材４を通過する面積にほぼ等しくなっている。これにより、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。なお、パターン３９は、対向電極４８に接続しても良いし、あるいは第２電極４８を延長させて形成しても良い。このようにしてパターン３９を第２電極４８に電気的に導通させれば次のような効果が得られる。すなわち、対向する基板３ａ及び３ｂのそれぞれに形成されたダミーパターンが両方とも電気的に独立しているとすると、そこにコンデンサが形成されるので、一度そこに電荷が蓄積されるとその電荷が逃げられなくなって都合が悪い。これに対し、ダミーパターンの一方を電極又は配線と電気的に接続すれば、電荷を逃げられるようにできて好都合である。
【０１１３】
図６のＥ−Ｅ線に従った断面図である図２１に示すように、シール材４の断面幅は複数の導通材５を含むことができる幅となっており、図２１ではその断面内に複数（図では３個）の導通材５が含まれている様子を示している。なお、図では導通材５を楕円形状に示してあるが、これは、図面を分かりやすく示すための措置であって、実際には、導通材５はスペーサ１０と略同じか、あるいはわずかに大きい球形又は円筒形に形成されている。
【０１１４】
図２１に示す通り、１つのダミーパターン３９のＥ−Ｅ断面における長さは、液晶層Ｌを挟んでその反対側にある配線３３であってシール材４の内部領域に在るもののＥ−Ｅ断面における長さよりも長くなっている。しかしながら、図９におけるＡ領域を考えれば、そのＡ領域内におけるパターン３９の面積の合計は、Ａ領域内における配線３３の面積の合計と等しくなるように設定されている。この結果、Ａ領域内においてパターン３９の上に載る導通材５の数と、同じくＡ領域内において配線３３の上に載る導通材５の数とは、互いに等しくなるように設定できる。こうすることにより、セルギャップをより一層均一に維持できる。
【０１１５】
（変形例）
図６に示す実施形態では、導通領域３１以外に配線３３が通過する領域である第２領域３２に対応して第２ダミーパターン３７を設けたが、第２領域３２に対応する位置には、必ずしもダミーパターンを設けなくても良い。
【０１１６】
また、図６に示す実施形態では、第１ダミーパターン３４を第１基板３ａ及び第２基板３ｂの両方に形成したが、場合によってはいずれか一方の基板に形成するだけでも良い。
【０１１７】
また、図６に示す実施形態では、第１ダミーパターン３４を複数の直線状のパターンの集合によって形成したが、これに代えて、適宜の面積を持った１つのパターンによって第１ダミーパターン３４を構成することもできる。
【０１１８】
（液晶装置の第３実施形態）
図１５は、本発明を単純マトリクス方式の半透過反射型カラー液晶装置に適用した場合の実施形態を示している。ここに示す液晶装置１２０は、図１５にその全体的な平面構造を示した液晶パネル１２１に、照明装置、制御基板、その他の付帯機器を付設することによって構成される。
【０１１９】
この液晶パネル１２１は、平面視長方形状の下基板１２２と上基板１２３とがシール材１２４を介して対向配置されている。シール材１２４の一部は各基板１２２，１２３の一辺（図１５における上辺）側で開口して液晶注入口１２５となっており、双方の基板１２２，１２３とシール材１２４とに囲まれた空間内に液晶が封入され、さらに液晶注入口１２５が封止材１２６によって封止されている。ただし、矩形環状のシール材１２４のうち、各基板１２２，１２３の右辺及び左辺に沿う部分１２４ａは異方性導電粒子等といった導通材５が混入され、液晶封止の他に導通部としても機能する。一方、各基板１２２，１２３の上辺及び下辺に沿う部分１２４ｂは導通材５を含んでおらず、液晶封止のための非導通シール材として機能する。
【０１２０】
本実施の形態では、上基板１２３よりも下基板１２２の外形寸法の方が大きく、上基板１２３と下基板１２２の３辺（すなわち、図１における上辺、右辺、左辺）では基板の縁、すなわち基板の端面が揃っているが、上基板１２３の残りの１辺（すなわち、図１における下辺）からは下基板１２２の周縁部が張り出すように配置され、張出領域１２９を形成している。そして、この張出領域１２９に、上基板１２３、下基板１２２の双方の電極を駆動するための駆動用半導体素子１２７が実装されている。なお、符号１２８は有効表示領域の周囲を遮光するための矩形環状の遮光層（すなわち、周辺見切り）であり、この遮光層１２８の内縁よりも内側の領域が実際の画像表示に寄与する有効表示領域となる。
【０１２１】
下基板１２２上には、図１６に示すように、縦方向に延在する複数のセグメント電極１３０がストライプ状に形成されている。一方、上基板１２３上には、セグメント電極１３０と直交するように図中横方向に延在する複数のコモン電極１３１がストライプ状に形成されている。
【０１２２】
カラーフィルター１３３のＲ、Ｇ、Ｂの各色素層１３３ｒ，１３３ｇ，１３３ｂは、各セグメント電極１３０の延在方向に同色が並び、それと直角の方向にＲ、Ｇ、Ｂが交互に並ぶように配列されており、図１６に示す横方向に並んだＲ、Ｇ、Ｂの３個の画素で画面上の１個のドットが構成されている。
【０１２３】
セグメント電極１３０は、Ｗ２の幅で形成されたＡＰＣ膜１３８と、これを覆うＷ１の幅で形成された透明導電膜１３９との積層構造を有する。ＡＰＣ膜１３８は、銀、パラジウム、銅を所定の割合で含有した合金からなる膜である。また、透明導電膜１３９は、例えば、ＩＴＯ膜によって形成される。
【０１２４】
ＡＰＣ膜１３８が半透過反射膜として機能するように、本実施形態ではＡＰＣ膜１３８が各画素毎に２個ずつの光透過用の窓部１３２を光透過領域として有している。窓部１３２は、カラーフィルター１３３の各色素層１３３ｒ，１３３ｇ，１３３ｂを複数の画素にわたって縦方向に見たときに千鳥状に配置されている。なお、ここで言う「画素」とは、図１６に示すように、セグメント電極１３０とコモン電極１３１とが平面的に見て重なり合った各領域のことである。
【０１２５】
図１５に示すように、各コモン電極１３１はその両端が導通シール材１２４ａに接し、さらに導通シール材１２４ａの外側にまで貫通して延在している。複数のコモン電極１３１（図１５では１０本のみ図示する）のうち、図１５の上側半分（図１５では５本）のコモン電極１３１については、コモン電極１３１の右端が、導通シール材１２４ａ中に混入させた異方性導電粒子等といった導通材５を介して下基板１２２上のコモン電極用引回し配線１４に電気的に接続されている。そして、下基板１２２上の引回し配線１４が導通シール材１２４ａから基板中央部に向けて延びた後、屈曲して下基板１２２の右辺に沿って縦方向に延び、非導通シール材１２４ｂの部分を横断して張出領域１２９に実装された駆動用半導体素子１２７の出力端子（図示省略）に接続されている。
【０１２６】
同様に、複数のコモン電極１３１のうち図１５の下側半分（図１５では５本）のコモン電極１３１については、コモン電極１３１の左端が、導通シール材１２４ａ中に混入させた異方性導電粒子等といった導通材５を介して下基板１２２上の引回し配線１３４に電気的に接続されている。そして、下基板１２２上の引回し配線１３４が導通シール材１２４ａから基板中央部に向けて延びた後、屈曲して下基板１２２の左辺に沿って縦方向に延び、非導通シール材１２４ｂの部分を横断して張出領域１２９に実装された駆動用半導体素子１２７の出力端子に接続されている。
【０１２７】
すなわち、全ての引回し配線１３４が導通シール材１２４ａより内側の領域でかつ遮光層１２８の形成幅の内縁よりも外側の範囲内に配置されている。つまり、引回し配線１３４は、形成された導通シール材１２４ａと遮光層１２８との間の領域（形成幅を含む）を延在して形成され、基板の短辺側に配置された非導通シール材１２４ｂを通過して張出領域１２９に張り出し、張出領域１２９に実装された駆動用半導体素子１２７の出力端子に接続されている。
【０１２８】
一方、セグメント電極１３０については、セグメント電極用引回し配線１３５がセグメント電極１３０の下端から非導通シール材１２４ｂに向けて引き出され、そのまま駆動用半導体素子１２７の出力端子に接続されている。多数の引回し配線１３４，１３５が各基板１２２，１２３の下辺側の非導通シール材１２４ｂを横断するが、非導通シール材１２４ｂは導電性を持たないため、狭ピッチで配置された引回し配線１３４，１３５が非導通シール材１２４ｂを横断しても短絡の恐れはない。
【０１２９】
本実施形態の場合、これらの引回し配線１３４，１３５もセグメント電極１３０と同様、ＡＰＣ膜とＩＴＯ膜との積層膜で構成されている。また、駆動用半導体素子１２７に各種信号を供給するための入力用配線（すなわち、外部入力端子）１３６が下基板１２２の下辺から駆動用半導体素子１２７の入力端子（図示省略）に向けて設けられている。
【０１３０】
図１６のＧ−Ｇ線に従って画素部分の断面構造を見ると、図１７に示すように、ガラス、プラスチック等といった透明基板からなる下基板１２２上に、ＡＰＣ膜１３８上にＩＴＯ膜１３９が積層された２層構造のセグメント電極１３０が紙面を貫通する方向にストライプ状に形成されている。また、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミド等からなる配向膜１４０が形成されている。本実施の形態の場合、セグメント電極１３０の構成は、ＡＰＣ膜１３８の上面のみにＩＴＯ膜１３９が積層されただけではなく、ＩＴＯ膜１３９がＡＰＣ膜１３８の側面も覆うようにＡＰＣ膜１３８の幅（Ｗ２）よりもＩＴＯ膜の幅（Ｗ１）の方が大きく設定されている。
【０１３１】
一方、ガラス、プラスチック等といった透明基板からなる上基板１２３上に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色素層１３３ｒ，１３３ｇ，１３３ｂからなるカラーフィルタ１３３が形成され、そのカラーフィルタ１３３上には各色素層間の段差を平坦化すると同時に各色素層の表面を保護するためのオーバーコート膜１４１が形成されている。このオーバーコート膜１４１はアクリル、ポリイミド等から成る樹脂膜でもよいし、シリコン酸化膜等といった無機膜でもよい。
【０１３２】
さらに、オーバーコート膜１４１上にＩＴＯの単層膜からなるコモン電極１３１が紙面に平行な方向にストライプ状に形成されており、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミド等から成る配向膜１４２が形成されている。上基板１２３と下基板１２２との間にはＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶等から成る液Ｌが挟持されている。また、バックライト（図示略）が下基板１２２の下面側に配置されている。
【０１３３】
また、上基板１２３の上にブラックストライプ１４５が形成されている。ブラックストライプ１４５は、例えば、樹脂ブラックや比較的反射率の低いクロム等といった金属等からなり、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色素層１３３ｒ，１３３ｇ，１３３ｂの間、すなわち境界を区画するように設けられている。本実施形態の場合、ブラックストライプ１４５の幅Ｗは、隣接する画素のＩＴＯ膜１３９の間隔Ｐ１、すなわちセグメント電極間の間隔より大きく、そしてＡＰＣ膜１３８の間隔Ｐ２に一致している。
【０１３４】
このことを図１６で見ると、セグメント電極１３０の輪郭を示す外側の線がＩＴＯ膜１３９の縁を示し、さらに、その内側の線がＡＰＣ膜１３８の縁を示しているが、ブラックストライプ１４５の輪郭を示す線はＡＰＣ膜１３８の縁を示す線に重なっている。つまり、半透過反射型カラー液晶装置の構成として、色素層の境界に設けられたブラックストライプ１４５の幅Ｗが、セグメント電極１３０のＩＴＯ膜１３９の間隔Ｐ１より広く、ＡＰＣパターン１８の間隔Ｐ２とほぼ同じになるように形成されて配置されている。
【０１３５】
図１５に符号Ｄで示す領域を拡大して示すと図１８に示す通りである。また、図１８のＨ−Ｈ線に従って断面構造を示すと図１９に示す通りである。図１８に示す上側３本のコモン電極１３１は、その右端で引回し配線１３４と電気的に接続する。一方、下側２本のコモン電極１３１は、図１５に示すように、その左端で引回し配線１３４と電気的に接続する。
【０１３６】
図１８において、上基板１２３のコモン電極１３１の端部は導通シール材１２４ａの形成領域よりも外側にはみ出しており、下基板１２２の引回し配線１３４の端部は導通シール材１２４ａの形成領域内に位置している。導通シール材１２４ａの中には例えば直径が１０μｍ程度の導電粒子１５０が混入されており、これらの導電粒子１５０が図１９に示すように基板１２２と基板１２３と間で接触することにより、上基板１２３のコモン電極１３１と下基板１２２の引回し配線１３４とが電気的に接続される。
【０１３７】
図１９において、引回し配線１３４は、セグメント電極１３０（図１７参照）と同様に、ＡＰＣ膜１３８上にＩＴＯ膜１３９が積層された２層構造となっており、ＡＰＣ膜１３８の側面もＩＴＯ膜１３９で覆われている。引回し配線１３４と左端で接続されたコモン電極１３１（例えば、図１８の下側２本のコモン電極１３１）に関しては、その右端部が導通シール材１２４ａを通過するが、そのコモン電極１３１の右端部に対向する基板上にはダミーパターン１５１が形成されている。このダミーパターン１５１も、引回し配線１３４と同様に、ＡＰＣ膜１８上にＩＴＯ膜１９が積層された２層構造となっている。
【０１３８】
また、引回し配線１３４と右端で接続されたコモン電極１３１（例えば、図１８の上側３本のコモン電極１３１）に関しては、その左端部が図１５に示すように導通シール材１２４ａを通過するが、そのコモン電極１３１の左端部に対向する基板上にもダミーパターン１５１が形成される。なお、図１８において、実際には引回し配線１３４及びダミーパターン１５１を構成するＡＰＣ膜の周囲にはＩＴＯ膜の輪郭が見えるはずであるが、ここでは図面を見やすくするため、図示を省略した。
【０１３９】
本実施形態において、引回し配線１３４は、図１９に示すように、ＡＰＣ膜１３８とＩＴＯ膜１３９との積層構造であり、引回し配線１３４の全体の層厚（すなわち、ＡＰＣ膜１３８とＩＴＯ膜１３９との合計の膜厚）が例えば０．３μｍ程度であるとする。すると通常であれば、シール材１２４の中で引回し配線１３４のある場所とない場所とで０．３μｍの段差ができ、セルギャップがばらついて表示不良となる恐れがある。
【０１４０】
これに対して本実施形態では、引回し配線１３４が存在しないコモン電極１３１の端部に引回し配線１３４と同じ形状及び同じ層厚のダミーパターン１５１を配置したので、液晶パネル全体のセルギャップが場所によらず一定になり、それ故、表示不良を防止することができる。また、引回し配線１３４とダミーパターン１５１は同じレイヤーで形成されているので、そのダミーパターンを形成する際にはマスクパターンの追加のみで済み、製造プロセスが複雑になることはない。
【０１４１】
また、本実施形態の場合、図１７に示すように、隣接するセグメント電極１３０のＡＰＣ膜１３８同士の間隙を完全に覆うように、上基板１２３上にブラックストライプ１４５を設けたため、光漏れがなくなり、混色を防止することができる。その結果、反射率に優れたＡＰＣ膜１３８を用いたことで反射モードでの表示の明るさが向上するのと同時に、透過モードでの色の彩度が従来より向上し、カラーの各色を鮮やかに視認し得る液晶装置を実現することができる。
【０１４２】
なお、本実施形態では、シール材１２４が導通シール材１２４ａと非導通シール材１２４ｂとで構成されているが、シール材１２４は導通シール材１２４ａのみによって構成されていても構わない。
【０１４３】
また、本実施形態では、図１５に示すように、張出領域１２９に駆動用半導体素子１２７を搭載した構成を示したが、これに代えて、駆動用半導体素子１２７を張出領域１２９に搭載させることなく、液晶装置１２０の外部に例えばＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）等を介して配置しておき、駆動用半導体素子１２７の端子をＦＰＣ等を介して外部入力端子１３６に接続し、その外部接続端子１３６から直接に引回し配線１３４及び引回し配線１３５へ信号を供給する構成とすることもできる。
【０１４４】
（液晶装置の第４実施形態）
図２３は、本発明に係る液晶装置の他の実施形態を示している。ここに示す液晶パネル１６１を用いて構成される液晶装置１６０の基本構成は図１５に示した液晶装置１２０と同じであるため、詳細な説明は省略する。
【０１４５】
図１５に示した実施形態では、複数のコモン電極１３１のうち、上半分のコモン電極１３１については、コモン電極１３１の右端から引回し配線１３４が引き回され、下半分のコモン電極１３１については、コモン電極１３１の左端から引回し配線１３４が引き廻されていた。これに対して、本実施形態の場合は、図２３における最上位のコモン電極１３１は右端から引回し配線１３４が引き回され、上から２番目のコモン電極１３１は左端から引回し配線１３４が引き回されるというように、引回し配線１３４が１本毎に右、左、右、左、…と交互に振り分けられている。その他の構成は図１５の実施形態の場合と全く同じである。
【０１４６】
本実施形態の液晶装置１６０においても、配線１３４と電極１３１とが交互に左右で導通されるとき、それらの導通領域３１に関して表示領域を挟んで向かい合う部分のシール材４の部分には、該シール材４を通過するダミーパターン３４が設けられる。これにより、セグメント電極１３１に沿った方向の液晶パネル１６１のセルギャップを均一に維持している。
【０１４７】
（電子機器の実施形態）
図１０は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話機を示している。ここに示した携帯電話機５０は、アンテナ５１、スピーカ５２、キースイッチ５３、マイクロホン５４等といった各種構成要素を、外装ケース５６に格納することによって構成される。外装ケース５６の内部には、表示装置として作用する液晶装置６０及び制御回路基板５７が収納される。
【０１４８】
液晶装置６０は図の上部面が表示面となっており、その表示面に対向する部分の外装ケース５６には、液晶装置６０を保護すると共に表示面の視界を確保するための透明なカバー５８が設けられる。液晶装置６０は、例えば図１に示す液晶装置１や図６に示す液晶装置４１によって構成できる。
【０１４９】
図１０に示す携帯電話機６０では、キースイッチ５３及びマイクロホン５４を通して入力される信号や、アンテナ５１によって受信した受信データ等が制御回路基板５７の制御回路に入力される。そしてその制御回路は、入力した各種のデータに基づいて液晶装置６０の表示面内に数字、文字、図形等といった像を表示し、さらにアンテナ５１から送信データを送信する。
【０１５０】
図１１は、図１０に示す携帯電話機、あるいはその他の電子機器に用いられる電気制御系の一実施形態を示している。ここに示した電気制御系は、表示情報出力源９０、表示情報処理回路９１、電源回路９２、タイミングジェネレータ９３、そして表示装置としての液晶装置９４を有する。また、液晶装置９４は液晶パネル９５及び駆動回路９６を有する。液晶装置９４は、例えば図１に示した液晶装置１や図６に示す液晶装置４１によって構成できる。
【０１５１】
表示情報出力源９０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ９３によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路９１に供給する。
【０１５２】
表示情報処理回路９１は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路８６へ供給する。駆動回路９６は走査線駆動回路、データ線駆動回路、検査回路等を含んで構成される。また、電源回路９２は各構成要素に所定の電圧を供給する。
【０１５３】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【０１５４】
例えば、以上の説明では、単純マトリクス型の液晶装置やＴＦＤ素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を例示したが、本発明は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型スイッチング素子をアクティブ素子として用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。
【０１５５】
また、本発明に係る電子機器は、図８に示した携帯電話機に限られず、その他の任意の電子機器、例えば携帯情報端末機、デジタルカメラ等とすることもできる。
【０１５６】
【発明の効果】
本発明に係るによれば、導通領域において配線がシール材を横切り、その導通領域に向かい合う部分のシール材を第１ダミーパターンが横切る。この構成により、配線がシール材の導通領域だけを横切る構造の従来の液晶装置の場合に比べて、基板間隔、すなわちセルギャップを液晶パネルの全面にわたって均一に維持でき、これにより、液晶表示品質を高く維持できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図３】図１の液晶装置で用いられるＴＦＤ素子の一例を示す斜視図である。
【図４】図１の液晶装置を構成する一方の基板を示す平面図である。
【図５】図１の液晶装置を構成する他方の基板を示す平面図である。
【図６】本発明に係る液晶装置の他の実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図７】図６のＤ−Ｄ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図８】図６の液晶装置を構成する一方の基板を示す平面図である。
【図９】図６の液晶装置を構成する他方の基板を示す平面図である。
【図１０】本発明に係る電子機器の一例である携帯電話機の一実施形態を示す斜視図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示すブロック図である。
【図１２】従来の液晶装置の一例を一部破断して示す平面図である。
【図１３】図１２に示す従来の液晶装置を構成する一方の基板を示す平面図である。
【図１４】図１２に示す従来の液晶装置を構成する他方の基板を示す平面図である。
【図１５】本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図１６】図１５の要部を示す平面図である。
【図１７】図１７のＧ−Ｇ線に従った断面図である。
【図１８】図１５の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す図である。
【図１９】図１８のＨ−Ｈ線に従った断面図である。
【図２０】図１のＢ−Ｂ線に従った断面図である。
【図２１】図６のＥ−Ｅ線に従った断面図である。
【図２２】図６のＦ−Ｆ線に従った断面図である。
【図２３】本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態を一部破断して示す平面図である。
【符号の説明】
１ 液晶装置
２ 液晶パネル
３ａ，３ｂ 基板
３ｃ 基板張出し部（配線引出し領域）
４ シール材
４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ シール材辺
５ 導通材
８ 照明装置
９ａ，９ｂ 液晶駆動用ＩＣ
１１ ＡＣＦ
１２ａ，１２ｂ 基材
１３ 画素電極
１４ ライン配線
１６ ＴＦＤ素子
１７ａ，１７ｂ 配向膜
１８ａ，１８ｂ 位相差板
１９ａ，１９ｂ 偏光板
２４ 半透過反射板
２６ カラーフィルタ膜
２７ オーバーコート膜
２８ 対向電極
２９ａ，２９ｂ 配線
３１ 導通領域
３２ 第２領域
３３ 配線
３４ 第１ダミーパターン
３４ａ，３４ｂ 第１ダミーパターン要素
３７ 第２ダミーパターン
３８ ダミーパターン
３９ パターン
４１ 液晶装置
４２ 液晶パネル
４３ 第１電極
４４ 半透過反射膜
４６ カラーフィルタ膜
４８ 第２電極
５０ 携帯電話機（電子機器）
６０，１２０，１６０ 液晶装置
６３，６４，６６，６７ ダミーパターン
１２１，１６１ 液晶パネル
１３４，１３５ 引回し配線
１５１ ダミーパターン
Ｌ 液晶層
Ｖ 表示領域
Claims (3)
- 表示領域を備えた第１基板と第２基板と、前記表示領域を囲うように設けられ、導通材を含み、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、を備えた液晶装置であって、
前記第１基板において、
前記シール材と表示領域との間に延設され、前記シール材中の複数の第１導通領域において前記導通材により前記第２基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の第１引き回し配線と、
前記シール材と表示領域との間に延設され、前記シール材中の複数の第２導通領域において前記導通材により前記第２基板上の複数の電極と電気的に接続される複数の第２引き回し配線と、
前記表示領域を挟んで前記第１導通領域と対向する位置で前記シール材と重なるように設けられた複数の第１ダミーパターンと、
前記表示領域を挟んで前記第２導通領域と対向する位置で前記シール材と重なるように設けられた複数の第２ダミーパターンと、
を有し、
前記第１導通領域と前記第２ダミーパターンとは、シール材の表示領域に対して同じ側において、交互に位置すること
を特徴とする液晶装置。 - 前記第１ダミーパターンが前記シール材と重なる面積は、前記第１引き回し配線が前記シール材と重なる面積とほぼ等しいことを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
- 液晶装置と、該液晶装置を収容する筐体とを有する電子機器において、前記液晶装置は請求項１または２に記載した液晶装置によって構成されることを特徴とする電子機器。
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