JP2002107530A - 電気光学装置の製造方法 - Google Patents
電気光学装置の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルタの表面側にフレキソ印刷を利
用して塗膜を形成したときでも、モワレの発生を防止す
ることのできる電気光学装置の製造方法を提供すること
にある。 【解決手段】 液晶装置４００の製造工程で、所定の同
色ピッチＰ１をもつカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂが形成された第２の透明基板４２０の表面
側に、フレキソ印刷によって配向膜４１６やオーバーコ
ート膜４２９を形成するにあたって、このフレキソ印刷
に用いるアニロックスローラのメッシュのピッチ、およ
び凸版の凸部の表面に形成されているピッチのピッチを
カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの同色ピ
ッチＰ１に等しくしてモワレの発生を防止する。
用して塗膜を形成したときでも、モワレの発生を防止す
ることのできる電気光学装置の製造方法を提供すること
にある。 【解決手段】 液晶装置４００の製造工程で、所定の同
色ピッチＰ１をもつカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂが形成された第２の透明基板４２０の表面
側に、フレキソ印刷によって配向膜４１６やオーバーコ
ート膜４２９を形成するにあたって、このフレキソ印刷
に用いるアニロックスローラのメッシュのピッチ、およ
び凸版の凸部の表面に形成されているピッチのピッチを
カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの同色ピ
ッチＰ１に等しくしてモワレの発生を防止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フレキソ印刷工程
を有する電気光学装置の製造方法に関するものである。
さらに詳しくは、この製造方法におけるフレキソ印刷技
術に関するものである。
を有する電気光学装置の製造方法に関するものである。
さらに詳しくは、この製造方法におけるフレキソ印刷技
術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】携帯電話機などといった電子機器におい
ては、電気光学装置によって表示部が構成されている。
電気光学装置としては、電気光学物質として液晶を用い
た液晶装置が最も一般的である。
ては、電気光学装置によって表示部が構成されている。
電気光学装置としては、電気光学物質として液晶を用い
た液晶装置が最も一般的である。
【０００３】図２および図３（Ａ）に示すように、液晶
装置４００は、表面に形成された電極パターン４４０、
４５０が対向するように配置された第１の透明基板４１
０と第２の透明基板４２０との間に電気光学物質として
の液晶４０４が保持されている。
装置４００は、表面に形成された電極パターン４４０、
４５０が対向するように配置された第１の透明基板４１
０と第２の透明基板４２０との間に電気光学物質として
の液晶４０４が保持されている。
【０００４】このような液晶装置４００を形成するに
は、第２の透明基板４２０に対して、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂを印刷した後、これらのカラーフィルタ４
０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側に、平坦化膜４２
７、第２の電極パターン４５０、絶縁性のオーバーコー
ト膜４２９、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１
６をこの順に形成していく。また、第１の透明基板４１
０に対しては、第１の電極パターン４４０、およびポリ
イミド樹脂からなる配向膜４１２をこの順に形成してい
く。
は、第２の透明基板４２０に対して、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂを印刷した後、これらのカラーフィルタ４
０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側に、平坦化膜４２
７、第２の電極パターン４５０、絶縁性のオーバーコー
ト膜４２９、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１
６をこの順に形成していく。また、第１の透明基板４１
０に対しては、第１の電極パターン４４０、およびポリ
イミド樹脂からなる配向膜４１２をこの順に形成してい
く。
【０００５】但し、第１の透明基板４１０および第２の
透明基板４２０には、図２に示すように、基板辺４１
８、４２８に沿って第１の端子領域４１１および第２の
端子領域４２１が形成され、これらの端子領域では、基
板間の導通やフレキシブル基板７０の接続が行われる。
従って、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４
２０の表面のうち、第１の端子領域４１１および第２の
端子領域４２１は、配向膜４１２、４１６やオーバーコ
ート膜４２９は形成されていない。
透明基板４２０には、図２に示すように、基板辺４１
８、４２８に沿って第１の端子領域４１１および第２の
端子領域４２１が形成され、これらの端子領域では、基
板間の導通やフレキシブル基板７０の接続が行われる。
従って、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４
２０の表面のうち、第１の端子領域４１１および第２の
端子領域４２１は、配向膜４１２、４１６やオーバーコ
ート膜４２９は形成されていない。
【０００６】このため、第１の透明基板４１０および第
２の透明基板４２０の表面のうち、長さ方向（図２に矢
印Ｌで示す方向）において、第１の端子領域４１１およ
び第２の端子領域４２１が形成されている側は、配向膜
４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が
不要な塗膜不要領域１２であり、液晶封入領域４３５が
形成されている側は、配向膜４１２、４１６やオーバー
コート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１で
ある。それ故、配向膜４１２、４１６およびオーバーコ
ート膜４２９は、第１の透明基板４１０および第２の透
明基板４２０の表面に対して選択的に形成する必要があ
る。
２の透明基板４２０の表面のうち、長さ方向（図２に矢
印Ｌで示す方向）において、第１の端子領域４１１およ
び第２の端子領域４２１が形成されている側は、配向膜
４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が
不要な塗膜不要領域１２であり、液晶封入領域４３５が
形成されている側は、配向膜４１２、４１６やオーバー
コート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１で
ある。それ故、配向膜４１２、４１６およびオーバーコ
ート膜４２９は、第１の透明基板４１０および第２の透
明基板４２０の表面に対して選択的に形成する必要があ
る。
【０００７】従って、配向膜４１２、４１６やオーバー
コート膜４２９などを形成するにあたってはフレキソ印
刷が行われ、このフレキソ印刷に用いるコーティング装
置１００では、図５に示すように、ブラン胴１２０の周
囲に装備されている凸版１１０に対してアニロックスロ
ーラ１３０から塗液が転写されるとともに、凸版１１０
の表面のうち、凸部１１１に転写された塗液が基板に転
写される。
コート膜４２９などを形成するにあたってはフレキソ印
刷が行われ、このフレキソ印刷に用いるコーティング装
置１００では、図５に示すように、ブラン胴１２０の周
囲に装備されている凸版１１０に対してアニロックスロ
ーラ１３０から塗液が転写されるとともに、凸版１１０
の表面のうち、凸部１１１に転写された塗液が基板に転
写される。
【０００８】ここで、アニロックスローラ１３０の表面
には、塗液の保持能力を高めることを目的に、図６
（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ピッチＰ２でメッシュ１
３９が形成されている。また、凸版１１０の凸部１１１
の表面にも、塗液の保持能力を高めることを目的に、図
７（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ピッチＰ３でメッシュ
１１９が形成されている。
には、塗液の保持能力を高めることを目的に、図６
（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ピッチＰ２でメッシュ１
３９が形成されている。また、凸版１１０の凸部１１１
の表面にも、塗液の保持能力を高めることを目的に、図
７（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ピッチＰ３でメッシュ
１１９が形成されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このようなフレキソ印
刷が施される第２の透明基板４２０の表面には、図３
（Ｂ）に示すように、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂが所定の繰り返しパターンをもって形成さ
れているため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４
０７Ｂにおいて同色のカラーフィルタは、所定のピッチ
Ｐ１（同色ピッチ）で形成されている。
刷が施される第２の透明基板４２０の表面には、図３
（Ｂ）に示すように、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂが所定の繰り返しパターンをもって形成さ
れているため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４
０７Ｂにおいて同色のカラーフィルタは、所定のピッチ
Ｐ１（同色ピッチ）で形成されている。
【００１０】また、図５、図６および図７を参照して説
明したコーティング装置１００において、配向膜４１６
を形成するための塗膜を凸版１１０から第２の透明基板
４２０に転写したとき、転写された塗膜の表面には、ア
ニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、凸版
１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１
１９の跡とが転写される。
明したコーティング装置１００において、配向膜４１６
を形成するための塗膜を凸版１１０から第２の透明基板
４２０に転写したとき、転写された塗膜の表面には、ア
ニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、凸版
１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１
１９の跡とが転写される。
【００１１】従って、第２の透明基板膜４２０におい
て、配向膜４１６には、アニロックスローラ１３０のメ
ッシュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に
形成されていたメッシュ１１９の跡とが転写され、か
つ、その下層側では、同色のカラーフィルタ４０７Ｒ、
４０７Ｇ、４０７Ｂが所定の同色ピッチＰ１をもって形
成されている。しかも、アニロックスローラ１３０のメ
ッシュ１３９のピッチＰ２、凸版１１０の凸部１１１の
表面に形成されているメッシュ１１９のピッチＰ３、お
よび同色のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７
ＢのピッチＰ１は、略等しい寸法であるが、互いにわず
かずつ異なっている。
て、配向膜４１６には、アニロックスローラ１３０のメ
ッシュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に
形成されていたメッシュ１１９の跡とが転写され、か
つ、その下層側では、同色のカラーフィルタ４０７Ｒ、
４０７Ｇ、４０７Ｂが所定の同色ピッチＰ１をもって形
成されている。しかも、アニロックスローラ１３０のメ
ッシュ１３９のピッチＰ２、凸版１１０の凸部１１１の
表面に形成されているメッシュ１１９のピッチＰ３、お
よび同色のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７
ＢのピッチＰ１は、略等しい寸法であるが、互いにわず
かずつ異なっている。
【００１２】このため、第２の透明基板４２０におい
て、同色ピッチＰ１をもつカラーフィルタ４０７Ｒ、４
０７Ｇ、４０７Ｂ、アニロックスローラ１３０のメッシ
ュ１３０の跡、および凸版１１０の凸部１１１のメッシ
ュ１１９の跡が互いに干渉しあってモワレが発生し、液
晶装置４１０が形成した画像の品位が低下するという問
題点がある。
て、同色ピッチＰ１をもつカラーフィルタ４０７Ｒ、４
０７Ｇ、４０７Ｂ、アニロックスローラ１３０のメッシ
ュ１３０の跡、および凸版１１０の凸部１１１のメッシ
ュ１１９の跡が互いに干渉しあってモワレが発生し、液
晶装置４１０が形成した画像の品位が低下するという問
題点がある。
【００１３】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
カラーフィルタの表面側にフレキソ印刷を利用して塗膜
を形成したときでも、モワレの発生を防止することので
きる電気光学装置の製造方法を提供することにある。
カラーフィルタの表面側にフレキソ印刷を利用して塗膜
を形成したときでも、モワレの発生を防止することので
きる電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、複数色のカラーフィルタが所定の同色
ピッチをもって形成された基板の表面側に対してフレキ
ソ印刷により塗膜を形成するフレキソ印刷工程を有する
電気光学装置の製造方法において、前記フレキソ印刷工
程で用いたアニロックスローラの表面に形成されている
メッシュのピッチ、当該アニロックスローラから転写さ
れた塗液を前記基板に転写する凸版において凸部表面に
形成されているメッシュのピッチ、および前記カラーフ
ィルタにおける同色のカラーフィルタのピッチのうち、
少なくとも２つのピッチが同一寸法に設定されているこ
とを特徴とする。
め、本発明では、複数色のカラーフィルタが所定の同色
ピッチをもって形成された基板の表面側に対してフレキ
ソ印刷により塗膜を形成するフレキソ印刷工程を有する
電気光学装置の製造方法において、前記フレキソ印刷工
程で用いたアニロックスローラの表面に形成されている
メッシュのピッチ、当該アニロックスローラから転写さ
れた塗液を前記基板に転写する凸版において凸部表面に
形成されているメッシュのピッチ、および前記カラーフ
ィルタにおける同色のカラーフィルタのピッチのうち、
少なくとも２つのピッチが同一寸法に設定されているこ
とを特徴とする。
【００１５】本発明では、所定の同色ピッチをもつカラ
ーフィルタが形成された基板の表面側に、フレキソ印刷
によって配向膜やオーバーコート膜などの塗膜が形成さ
れ、この塗膜の表面には、アニロックスローラの所定ピ
ッチのメッシュ跡と、凸版の凸部の表面に形成されてい
た所定ピッチのメッシュ跡とが転写されているが、これ
ら３つのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが等し
いため、モワレの発生要因を除去することができる。そ
れ故、モワレが発生しないので、画像の品位が高い電気
光学装置を製造することができる。
ーフィルタが形成された基板の表面側に、フレキソ印刷
によって配向膜やオーバーコート膜などの塗膜が形成さ
れ、この塗膜の表面には、アニロックスローラの所定ピ
ッチのメッシュ跡と、凸版の凸部の表面に形成されてい
た所定ピッチのメッシュ跡とが転写されているが、これ
ら３つのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが等し
いため、モワレの発生要因を除去することができる。そ
れ故、モワレが発生しないので、画像の品位が高い電気
光学装置を製造することができる。
【００１６】本発明において、前記アニロックスローラ
のメッシュのピッチ、前記凸版の前記凸部表面に形成さ
れているメッシュのピッチ、および前記の同色のカラー
フィルタのピッチのいずれもが略同一寸法であってもよ
い。
のメッシュのピッチ、前記凸版の前記凸部表面に形成さ
れているメッシュのピッチ、および前記の同色のカラー
フィルタのピッチのいずれもが略同一寸法であってもよ
い。
【００１７】本発明において、前記塗膜は、前記基板を
前記電気光学装置に用いたとき、電気光学物質の配向状
態を制御する配向膜である。
前記電気光学装置に用いたとき、電気光学物質の配向状
態を制御する配向膜である。
【００１８】保温発明において、前記電気光学装置に用
いる前記基板の表面側にフレキソ印刷により前記塗膜を
形成する前に、ダミー基板に対して前記塗膜をフレキソ
印刷によって形成することが好ましい。このように構成
すると、前記電気光学装置に用いる基板にフレキソ印刷
を行うときの条件を安定化しておくことができる。
いる前記基板の表面側にフレキソ印刷により前記塗膜を
形成する前に、ダミー基板に対して前記塗膜をフレキソ
印刷によって形成することが好ましい。このように構成
すると、前記電気光学装置に用いる基板にフレキソ印刷
を行うときの条件を安定化しておくことができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】添付図面を参照して、本発明の実
施の形態を説明する。
施の形態を説明する。
【００２０】（液晶装置の構成）図１および図２はそれ
ぞれ、携帯電話機などの電子機器に使用されている電気
光学装置としての液晶装置を斜め下方からみたときの斜
視図、および分解斜視図である。図３（Ａ）、（Ｂ）は
それぞれ、この液晶装置の断面図、およびこの液晶装置
に構成されているカラーフィルタの配列を示す説明図で
ある。
ぞれ、携帯電話機などの電子機器に使用されている電気
光学装置としての液晶装置を斜め下方からみたときの斜
視図、および分解斜視図である。図３（Ａ）、（Ｂ）は
それぞれ、この液晶装置の断面図、およびこの液晶装置
に構成されているカラーフィルタの配列を示す説明図で
ある。
【００２１】図１、図２および図３（Ａ）に示す電気光
学装置は、カラー対応のパッシブマトリクス型の液晶装
置４００であり、所定の間隙を介してシール材４３０に
よって貼り合わされた矩形のガラスなどからなる一対の
透明基板間にシール材４３０によって液晶封入領域４３
５が区画されているとともに、この液晶封入領域４３５
内に液晶４０４が封入されている。ここでは、前記一対
の透明基板のうち、液晶封入領域４３５内で縦方向に延
びる複数列の第１の電極パターン４４０が形成されてい
る方の基板を第１の透明基板４１０とし、液晶封入領域
４３５内で横方向に延びる複数列の第２の電極パターン
４５０が形成されている方の基板を第２の透明基板４２
０とする。
学装置は、カラー対応のパッシブマトリクス型の液晶装
置４００であり、所定の間隙を介してシール材４３０に
よって貼り合わされた矩形のガラスなどからなる一対の
透明基板間にシール材４３０によって液晶封入領域４３
５が区画されているとともに、この液晶封入領域４３５
内に液晶４０４が封入されている。ここでは、前記一対
の透明基板のうち、液晶封入領域４３５内で縦方向に延
びる複数列の第１の電極パターン４４０が形成されてい
る方の基板を第１の透明基板４１０とし、液晶封入領域
４３５内で横方向に延びる複数列の第２の電極パターン
４５０が形成されている方の基板を第２の透明基板４２
０とする。
【００２２】第２の透明基板４２０には、図３（Ａ）に
示すように、第１の電極パターン４４０と第２の電極パ
ターン４５０との交点に相当する領域に、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂが形成されている。
示すように、第１の電極パターン４４０と第２の電極パ
ターン４５０との交点に相当する領域に、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂが形成されている。
【００２３】このようなカラーフィルタ４０７Ｒ、４０
７Ｇ、４０７Ｂは、第２の透明基板４２０の表面に所定
の繰り返しパターンをもって形成され、図３（Ｂ）に例
示したカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂで
は、第２の透明基板４２０の幅方向Ｗに向かって同色の
カラーフィルタがピッチＰ１（同色ピッチ）をもってス
トライプ状に形成されている。
７Ｇ、４０７Ｂは、第２の透明基板４２０の表面に所定
の繰り返しパターンをもって形成され、図３（Ｂ）に例
示したカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂで
は、第２の透明基板４２０の幅方向Ｗに向かって同色の
カラーフィルタがピッチＰ１（同色ピッチ）をもってス
トライプ状に形成されている。
【００２４】また、第２の透明基板４２０では、カラー
フィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側に、ア
クリル樹脂系の絶縁性の平坦化膜４２７、第２の電極パ
ターン４５０、および膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎｍのポリ
イミド樹脂からなる配向膜４１６がこの順に形成されて
いる。これに対して、第１の透明基板４１０には、第１
の電極パターン４４０、および膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎ
ｍのポリイミド樹脂からなる配向膜４１２がこの順に形
成されている。さらに、第１の透明基板４１０および第
２の透明基板４２０のうちの少なくとも一方の基板の電
極パターン上には、基板間の短絡を防止するための絶縁
性の薄いオーバーコート膜が形成されるが、図３（Ａ）
に示す例では、第２の透明基板４２０の第２の電極パタ
ーン４５０上に絶縁性のオーバーコート膜４２９が形成
されている。
フィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側に、ア
クリル樹脂系の絶縁性の平坦化膜４２７、第２の電極パ
ターン４５０、および膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎｍのポリ
イミド樹脂からなる配向膜４１６がこの順に形成されて
いる。これに対して、第１の透明基板４１０には、第１
の電極パターン４４０、および膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎ
ｍのポリイミド樹脂からなる配向膜４１２がこの順に形
成されている。さらに、第１の透明基板４１０および第
２の透明基板４２０のうちの少なくとも一方の基板の電
極パターン上には、基板間の短絡を防止するための絶縁
性の薄いオーバーコート膜が形成されるが、図３（Ａ）
に示す例では、第２の透明基板４２０の第２の電極パタ
ーン４５０上に絶縁性のオーバーコート膜４２９が形成
されている。
【００２５】この液晶装置４００において、第２の電極
パターン４５０はＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏ
ｘｉｄｅ／透明導電膜）によって形成されている。第１
の電極パターン４４０は、ＩＴＯ膜によって形成される
こともあるが、本形態では、薄いアルミニウム膜によっ
て構成されている。このため、薄いアルミニウム膜から
なる第１の電極パターン４４０に届いた光は、一部が第
１の電極パターン４４０を透過し、一部は第１の電極パ
ターン４４０で反射する。従って、液晶装置４００は、
透過型の液晶装置としての機能と、反射型の液晶装置と
しての機能とを併せもつ半透過・半反射型の液晶装置で
ある。なお、第２の透明基板４２０の外側表面には偏光
板４６１が貼られ、第１の透明基板４１０の外側表面に
は偏光板４６２が貼られている。
パターン４５０はＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏ
ｘｉｄｅ／透明導電膜）によって形成されている。第１
の電極パターン４４０は、ＩＴＯ膜によって形成される
こともあるが、本形態では、薄いアルミニウム膜によっ
て構成されている。このため、薄いアルミニウム膜から
なる第１の電極パターン４４０に届いた光は、一部が第
１の電極パターン４４０を透過し、一部は第１の電極パ
ターン４４０で反射する。従って、液晶装置４００は、
透過型の液晶装置としての機能と、反射型の液晶装置と
しての機能とを併せもつ半透過・半反射型の液晶装置で
ある。なお、第２の透明基板４２０の外側表面には偏光
板４６１が貼られ、第１の透明基板４１０の外側表面に
は偏光板４６２が貼られている。
【００２６】このような半透過・半反射型の液晶装置４
００を構成するにあたっては、光を完全反射するような
膜厚のアルミニウム膜などによって第１の電極パターン
４４０を形成し、第１の電極パターン４４０のうち、第
２の電極パターン４５０と交差する部分に小さな光透過
孔を形成してもよい。
００を構成するにあたっては、光を完全反射するような
膜厚のアルミニウム膜などによって第１の電極パターン
４４０を形成し、第１の電極パターン４４０のうち、第
２の電極パターン４５０と交差する部分に小さな光透過
孔を形成してもよい。
【００２７】再び図１および図２において、液晶装置４
００では、外部との間での信号の入出力および基板間の
導通のいずれを行うにも、第１の透明基板４１０および
第２の透明基板４２０の同一方向に位置する各基板辺４
１８、４２８付近において第１の透明基板４１０および
第２の透明基板４２０のそれぞれに形成されている第１
の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が用いら
れる。ここで、第２の透明基板４２０としては、第１の
透明基板４１０よりも大きな基板が用いられ、第１の透
明基板４１０と第２の透明基板４２０とを貼り合わせた
ときに第１の透明基板４１０の基板辺４１８から第２の
透明基板４２０が張り出す部分４２５に駆動用ＩＣ４９
０がＣＯＧ実装されている。また、第２の透明基板４２
０の第２の端子領域４２１は、駆動用ＩＣ４９０より基
板辺４２８の側に位置する部分に入出力端子４８１が形
成され、これらの入出力端子４８１に対してフレキシブ
ル基板７０が接続されている。
００では、外部との間での信号の入出力および基板間の
導通のいずれを行うにも、第１の透明基板４１０および
第２の透明基板４２０の同一方向に位置する各基板辺４
１８、４２８付近において第１の透明基板４１０および
第２の透明基板４２０のそれぞれに形成されている第１
の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が用いら
れる。ここで、第２の透明基板４２０としては、第１の
透明基板４１０よりも大きな基板が用いられ、第１の透
明基板４１０と第２の透明基板４２０とを貼り合わせた
ときに第１の透明基板４１０の基板辺４１８から第２の
透明基板４２０が張り出す部分４２５に駆動用ＩＣ４９
０がＣＯＧ実装されている。また、第２の透明基板４２
０の第２の端子領域４２１は、駆動用ＩＣ４９０より基
板辺４２８の側に位置する部分に入出力端子４８１が形
成され、これらの入出力端子４８１に対してフレキシブ
ル基板７０が接続されている。
【００２８】第２の端子領域４２１において、駆動用Ｉ
Ｃ４９０より液晶封入領域４３５の側に位置する部分
は、第１の透明基板４１０の側との基板間導通用に用い
られるので、第１の透明基板４１０との重なり部分に形
成されている。また、第１の透明基板４１０において、
第１の端子領域４１１は、第２の透明基板４２０の側と
の基板間導通に用いられるので、第２の透明基板４２０
との重なり部分に形成されている。
Ｃ４９０より液晶封入領域４３５の側に位置する部分
は、第１の透明基板４１０の側との基板間導通用に用い
られるので、第１の透明基板４１０との重なり部分に形
成されている。また、第１の透明基板４１０において、
第１の端子領域４１１は、第２の透明基板４２０の側と
の基板間導通に用いられるので、第２の透明基板４２０
との重なり部分に形成されている。
【００２９】従って、第１の透明基板４１０と第２の透
明基板４２０とを基板間導通剤を含有するシール材４３
０で貼り合わせて基板間で基板間導通用端子同士を導通
させて、第２の透明基板４２０の入出力端子４８１から
駆動用ＩＣ４９０に信号入力すれば、駆動用ＩＣ４９０
から出力された信号は、第１の電極パターン４４０およ
び第２の電極パターン４５０に供給されるので、第１の
電極パターン４４０と第２の電極パターン４５０との交
点に相当する画素を各々駆動することができる。
明基板４２０とを基板間導通剤を含有するシール材４３
０で貼り合わせて基板間で基板間導通用端子同士を導通
させて、第２の透明基板４２０の入出力端子４８１から
駆動用ＩＣ４９０に信号入力すれば、駆動用ＩＣ４９０
から出力された信号は、第１の電極パターン４４０およ
び第２の電極パターン４５０に供給されるので、第１の
電極パターン４４０と第２の電極パターン４５０との交
点に相当する画素を各々駆動することができる。
【００３０】なお、第１の透明基板４１０および第２の
透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域４１１お
よび第２の端子領域４２１には、配向膜４１２、４１６
およびオーバーコート膜４２９は形成されていない。
透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域４１１お
よび第２の端子領域４２１には、配向膜４１２、４１６
およびオーバーコート膜４２９は形成されていない。
【００３１】（液晶装置４００の製造方法）図４および
図５はそれぞれ、フレキソ印刷工程を示す説明図、およ
びこのフレキソ印刷工程で用いるコーティング装置の説
明図である。図６（Ａ）、（Ｂ）ははそれぞれ、図５に
示すアニロックスローラに形成されているメッシュの説
明図、およびこのメッシュの断面図である。図７（Ａ）
（Ｂ）はそれぞれ、図５に示す凸版に形成されているメ
ッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。
図５はそれぞれ、フレキソ印刷工程を示す説明図、およ
びこのフレキソ印刷工程で用いるコーティング装置の説
明図である。図６（Ａ）、（Ｂ）ははそれぞれ、図５に
示すアニロックスローラに形成されているメッシュの説
明図、およびこのメッシュの断面図である。図７（Ａ）
（Ｂ）はそれぞれ、図５に示す凸版に形成されているメ
ッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。
【００３２】図３（Ａ）、（Ｂ）に示す液晶装置４００
を形成するには、第２の透明基板４２０に対して赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７
Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂを印刷した後、これらのカラー
フィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側にアク
リル樹脂系の平坦化膜４２７、第２の電極パターン４５
０、オーバーコート膜４２９、およびポリイミド樹脂か
らなる配向膜４１６をこの順に形成していく。また、第
１の透明基板４１０には、ＩＴＯ膜からなる第１の電極
パターン４４０、およびポリイミド樹脂からなる配向膜
４１２をこの順に形成していく。
を形成するには、第２の透明基板４２０に対して赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７
Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂを印刷した後、これらのカラー
フィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側にアク
リル樹脂系の平坦化膜４２７、第２の電極パターン４５
０、オーバーコート膜４２９、およびポリイミド樹脂か
らなる配向膜４１６をこの順に形成していく。また、第
１の透明基板４１０には、ＩＴＯ膜からなる第１の電極
パターン４４０、およびポリイミド樹脂からなる配向膜
４１２をこの順に形成していく。
【００３３】但し、液晶装置４００では、図２に示すよ
うに、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２
０の基板辺４１８、４２８に沿って、第１の端子領域４
１１および第２の端子領域４２１が形成され、これらの
端子領域において、基板間導通やフレキシブル基板７０
の接続が行われる。従って、第１の透明基板４１０およ
び第２の透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域
４１１および第２の端子領域４２１は、配向膜４１２、
４１６やオーバーコート膜４２９を形成すると支障があ
る。
うに、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２
０の基板辺４１８、４２８に沿って、第１の端子領域４
１１および第２の端子領域４２１が形成され、これらの
端子領域において、基板間導通やフレキシブル基板７０
の接続が行われる。従って、第１の透明基板４１０およ
び第２の透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域
４１１および第２の端子領域４２１は、配向膜４１２、
４１６やオーバーコート膜４２９を形成すると支障があ
る。
【００３４】このため、第１の透明基板４１０および第
２の透明基板４２０の表面のうち、長さ方向（図２に矢
印Ｌで示す方向）において、第１の端子領域４１１およ
び第２の端子領域４２１が形成されている領域は、配向
膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜
が不要な塗膜不要領域１２であり、液晶封入領域４３５
が形成されている領域は、配向膜４１２、４１６やオー
バーコート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１
１である。それ故、配向膜４１２、４１６およびオーバ
ーコート膜４２９は、第１の透明基板４１０および第２
の透明基板４２０の表面に対して選択的に形成する必要
がある。
２の透明基板４２０の表面のうち、長さ方向（図２に矢
印Ｌで示す方向）において、第１の端子領域４１１およ
び第２の端子領域４２１が形成されている領域は、配向
膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜
が不要な塗膜不要領域１２であり、液晶封入領域４３５
が形成されている領域は、配向膜４１２、４１６やオー
バーコート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１
１である。それ故、配向膜４１２、４１６およびオーバ
ーコート膜４２９は、第１の透明基板４１０および第２
の透明基板４２０の表面に対して選択的に形成する必要
がある。
【００３５】また、第１の透明基板４１０や第２の透明
基板４２０は、図４に示すように、これらの基板を単品
基板１０として複数、切り出すことのできる大型基板１
の状態でフレキソ印刷工程までの工程が行われ、本形態
では、これらの工程を行った以降、大型基板１の状態で
ラビング工程を行い、しかる後に、大型基板１から単品
基板形成領域２を切り出して、第１の透明基板４１０お
よび第２の透明基板４２０を単品基板１０を得る。従っ
て、大型基板１の表面では、単品基板形成領域２が周り
を切り捨て領域３で囲まれた状態で長さ方向Ｌおよび幅
方向Ｗに複数、配置され、これらの単品基板形成領域２
の各々が、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４
２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１と、これらの
塗膜を形成してはいけない塗膜不要領域１２とを備えて
いる。
基板４２０は、図４に示すように、これらの基板を単品
基板１０として複数、切り出すことのできる大型基板１
の状態でフレキソ印刷工程までの工程が行われ、本形態
では、これらの工程を行った以降、大型基板１の状態で
ラビング工程を行い、しかる後に、大型基板１から単品
基板形成領域２を切り出して、第１の透明基板４１０お
よび第２の透明基板４２０を単品基板１０を得る。従っ
て、大型基板１の表面では、単品基板形成領域２が周り
を切り捨て領域３で囲まれた状態で長さ方向Ｌおよび幅
方向Ｗに複数、配置され、これらの単品基板形成領域２
の各々が、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４
２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１と、これらの
塗膜を形成してはいけない塗膜不要領域１２とを備えて
いる。
【００３６】それ故、本形態では、大型基板１に対し
て、ブラン胴１２０の周囲に凸版１１０が装備されたコ
ーティング装置１００を用いてフレキソ印刷を行い、こ
のフレキソ印刷によって形成した塗膜に焼成などの処理
を行って、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４
２９などを形成する。
て、ブラン胴１２０の周囲に凸版１１０が装備されたコ
ーティング装置１００を用いてフレキソ印刷を行い、こ
のフレキソ印刷によって形成した塗膜に焼成などの処理
を行って、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４
２９などを形成する。
【００３７】このようなフレキソ印刷に用いられるコー
ティング装置１００では、図５に示すように、アニロッ
クスローラ１３０とドクターローラ１４０の間に、配向
膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成する
ための塗液１５０を充填し、一定速度でアニロックスロ
ーラ１３０とドクターローラ１４０を回転させる。この
とき、アニロックスローラ１３０とドクターローラ１４
０の間には、均一な厚さの塗液１５０の層が形成され
る。一方、ブラン胴５の周囲には、大型基板１の長さに
対応した凸版１１０が装備されており、ブラン胴１２０
をアニロックスローラ１３０に接触させると、凸版１１
０の表面に塗液１５０が均一の厚さで転写される。ここ
で、凸版１１０には、大型基板１に塗液１５０を転写す
る凸部１１１と、塗液１５０の転写を行わない凹部１１
２とが所定のパターンで形成されている。従って、回転
するブラン胴１２０に対して大型基板１が凸版１１０に
接触しながら移動していくと、大型基板１の表面では、
凸版１１０の凸部１１１が当たった領域に塗液１５０が
選択的に転写されることになる。
ティング装置１００では、図５に示すように、アニロッ
クスローラ１３０とドクターローラ１４０の間に、配向
膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成する
ための塗液１５０を充填し、一定速度でアニロックスロ
ーラ１３０とドクターローラ１４０を回転させる。この
とき、アニロックスローラ１３０とドクターローラ１４
０の間には、均一な厚さの塗液１５０の層が形成され
る。一方、ブラン胴５の周囲には、大型基板１の長さに
対応した凸版１１０が装備されており、ブラン胴１２０
をアニロックスローラ１３０に接触させると、凸版１１
０の表面に塗液１５０が均一の厚さで転写される。ここ
で、凸版１１０には、大型基板１に塗液１５０を転写す
る凸部１１１と、塗液１５０の転写を行わない凹部１１
２とが所定のパターンで形成されている。従って、回転
するブラン胴１２０に対して大型基板１が凸版１１０に
接触しながら移動していくと、大型基板１の表面では、
凸版１１０の凸部１１１が当たった領域に塗液１５０が
選択的に転写されることになる。
【００３８】ここで、アニロックスローラ１３０の表面
には、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、塗液の保持能
力を高めることを目的に筋状のメッシュ１３９が斜めに
形成され、このメッシュ１３９の幅方向Ｗにおけるピッ
チはＰ２である。また、図７（Ａ）、（Ｂ）に示すよう
に、凸版１１０の凸部１１１の表面にも、塗液の保持能
力を高めることを目的に筋状のメッシュ１１９が斜めに
形成され、このメッシュ１１９の幅方向Ｗにおけるピッ
チはＰ３である。
には、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、塗液の保持能
力を高めることを目的に筋状のメッシュ１３９が斜めに
形成され、このメッシュ１３９の幅方向Ｗにおけるピッ
チはＰ２である。また、図７（Ａ）、（Ｂ）に示すよう
に、凸版１１０の凸部１１１の表面にも、塗液の保持能
力を高めることを目的に筋状のメッシュ１１９が斜めに
形成され、このメッシュ１１９の幅方向Ｗにおけるピッ
チはＰ３である。
【００３９】このため、アニロックスローラ１３０から
凸版１１０の表面に転写された塗液１５０の表面には、
アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡が転写
され、このようなメッシュ１３９の跡がついた塗液１５
０が、凸版１１０の凸部１１１から大型基板１に転写さ
れる。このため、大型基板１に転写された塗液を焼成し
て、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を
形成すると、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜
４２９の表面には、アニロックスローラ１３０のメッシ
ュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成
されているメッシュ１１９の跡が転写される。
凸版１１０の表面に転写された塗液１５０の表面には、
アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡が転写
され、このようなメッシュ１３９の跡がついた塗液１５
０が、凸版１１０の凸部１１１から大型基板１に転写さ
れる。このため、大型基板１に転写された塗液を焼成し
て、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を
形成すると、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜
４２９の表面には、アニロックスローラ１３０のメッシ
ュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成
されているメッシュ１１９の跡が転写される。
【００４０】なお、大型基板１に対して配向膜４１２、
４１６やオーバーコート膜４２９を形成した後は、大型
基板１の表面にラビング処理を行い、しかる後に、大型
基板１から単品基板形成領域２を切り出せば、第１の透
明基板４１０や第２の透明基板４２０を単品基板１０と
して得ることができる。なお、このような切断工程によ
って大型基板１の切り捨て領域３に相当する部分は廃棄
される。
４１６やオーバーコート膜４２９を形成した後は、大型
基板１の表面にラビング処理を行い、しかる後に、大型
基板１から単品基板形成領域２を切り出せば、第１の透
明基板４１０や第２の透明基板４２０を単品基板１０と
して得ることができる。なお、このような切断工程によ
って大型基板１の切り捨て領域３に相当する部分は廃棄
される。
【００４１】（フレキソ印刷工程の特徴点）このように
して、第２の透明基板４２０の表面にオーバーコート膜
４２９や配向膜４１６を形成するにあたって、本形態で
は、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにお
ける幅方向の同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３
０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、およ
び凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されているメッ
シュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３を、いずれも等
しい寸法に設定してある。
して、第２の透明基板４２０の表面にオーバーコート膜
４２９や配向膜４１６を形成するにあたって、本形態で
は、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにお
ける幅方向の同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３
０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、およ
び凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されているメッ
シュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３を、いずれも等
しい寸法に設定してある。
【００４２】このため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０
７Ｇ、４０７Ｂの表面側にオーバーコート膜４２９や配
向膜４１６を形成した状態において、第２の透明基板４
２０の表面側には、幅方向における同色ピッチがＰ１で
あるカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが形
成されているとともに、その表面側に形成されたオーバ
ーコート膜４２９や配向膜４１６には、幅方向のピッチ
がＰ２のアニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の
跡と、幅方向のピッチがＰ２のアニロックスローラ１３
０のメッシュ１３９の跡とが転写されている。それで
も、本形態では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、
４０７Ｂにおける幅方向の同色ピッチＰ１、アニロック
スローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッ
チＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成さ
れていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３が
いずれも等しい寸法であるため、カラーフィルタ４０７
Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの同色パターン、アニロックス
ローラ１３０のメッシュ１３９の跡、および凸版１１０
の凸部１１１のメッシュ１１９の跡が互いに干渉し合う
ことがない。よって、画像の品位が高い液晶装置４００
を製造することができる。
７Ｇ、４０７Ｂの表面側にオーバーコート膜４２９や配
向膜４１６を形成した状態において、第２の透明基板４
２０の表面側には、幅方向における同色ピッチがＰ１で
あるカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが形
成されているとともに、その表面側に形成されたオーバ
ーコート膜４２９や配向膜４１６には、幅方向のピッチ
がＰ２のアニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の
跡と、幅方向のピッチがＰ２のアニロックスローラ１３
０のメッシュ１３９の跡とが転写されている。それで
も、本形態では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、
４０７Ｂにおける幅方向の同色ピッチＰ１、アニロック
スローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッ
チＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成さ
れていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３が
いずれも等しい寸法であるため、カラーフィルタ４０７
Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの同色パターン、アニロックス
ローラ１３０のメッシュ１３９の跡、および凸版１１０
の凸部１１１のメッシュ１１９の跡が互いに干渉し合う
ことがない。よって、画像の品位が高い液晶装置４００
を製造することができる。
【００４３】また、液晶装置４００に用いる第２の透明
基板４２０の表面側にフレキソ印刷により、配向膜４１
６やオーバーコート膜４２９を形成するための塗膜を形
成する前には、ダミー基板に対して前記の塗膜をフレキ
ソ印刷によって形成し、液晶装置４００に実際に組み込
む第２の透明基板４２０にフレキソ印刷を行うときの条
件を前もって安定化しておくことが好ましい。
基板４２０の表面側にフレキソ印刷により、配向膜４１
６やオーバーコート膜４２９を形成するための塗膜を形
成する前には、ダミー基板に対して前記の塗膜をフレキ
ソ印刷によって形成し、液晶装置４００に実際に組み込
む第２の透明基板４２０にフレキソ印刷を行うときの条
件を前もって安定化しておくことが好ましい。
【００４４】［その他の実施の形態］上記形態では、カ
ラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向に
おける同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメ
ッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、および凸版
１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１
１９の幅方向におけるピッチＰ３がいずれも等しい寸法
になっている例であったが、これらのピッチＰ１、Ｐ
２、Ｐ３のいずれか２つが等しい寸法であれば、モワレ
の発生要因を除去することができる。従って、カラーフ
ィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向における
同色ピッチＰ１とアニロックスローラ１３０のメッシュ
１３１の幅方向におけるピッチＰ２とが等しい構成、ア
ニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向にお
けるピッチＰ２と凸版１１０の凸部１１１の表面に形成
されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３
が等しい構成、あるいは、凸版１１０の凸部１１１の表
面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピ
ッチＰ３とカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７
Ｂの幅方向における同色ピッチＰ１が等しい構成であっ
てもよい。
ラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向に
おける同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメ
ッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、および凸版
１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１
１９の幅方向におけるピッチＰ３がいずれも等しい寸法
になっている例であったが、これらのピッチＰ１、Ｐ
２、Ｐ３のいずれか２つが等しい寸法であれば、モワレ
の発生要因を除去することができる。従って、カラーフ
ィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向における
同色ピッチＰ１とアニロックスローラ１３０のメッシュ
１３１の幅方向におけるピッチＰ２とが等しい構成、ア
ニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向にお
けるピッチＰ２と凸版１１０の凸部１１１の表面に形成
されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３
が等しい構成、あるいは、凸版１１０の凸部１１１の表
面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピ
ッチＰ３とカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７
Ｂの幅方向における同色ピッチＰ１が等しい構成であっ
てもよい。
【００４５】また、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７
Ｇ、４０７Ｂの配列、アニロックスローラ１３０のメッ
シュ１３９の配列や形状、凸版１１０のメッシュ１１９
の配列や形状としては、種々の形態が採用されるが、カ
ラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおいて同
色のカラーフィルタが繰り返し出現する方向において、
その同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッ
シュ１３１のピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１
１の表面に形成されていたメッシュ１１９のピッチＰ３
のうちの２つのピッチが等しければ、モワレの発生要因
を除去することができので、モワレの発生を防止するこ
とができる。
Ｇ、４０７Ｂの配列、アニロックスローラ１３０のメッ
シュ１３９の配列や形状、凸版１１０のメッシュ１１９
の配列や形状としては、種々の形態が採用されるが、カ
ラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおいて同
色のカラーフィルタが繰り返し出現する方向において、
その同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッ
シュ１３１のピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１
１の表面に形成されていたメッシュ１１９のピッチＰ３
のうちの２つのピッチが等しければ、モワレの発生要因
を除去することができので、モワレの発生を防止するこ
とができる。
【００４６】なお、上記形態では、パッシブマトリクス
型の液晶装置を例に説明したが、アクティブマトリクス
型の液晶装置でも、カラーフィルタが形成された基板の
表面側に、配向膜やオーバーコート膜をフレキソ印刷に
よって形成するので、アクティブマトリクス型の液晶装
置、その他の電気光学装置を製造するのに本発明を適用
してもよい。
型の液晶装置を例に説明したが、アクティブマトリクス
型の液晶装置でも、カラーフィルタが形成された基板の
表面側に、配向膜やオーバーコート膜をフレキソ印刷に
よって形成するので、アクティブマトリクス型の液晶装
置、その他の電気光学装置を製造するのに本発明を適用
してもよい。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、所定
の同色ピッチをもつカラーフィルタが形成された基板の
表面側に、フレキソ印刷によって配向膜やオーバーコー
ト膜などの塗膜が形成され、この塗膜の表面には、アニ
ロックスローラの所定ピッチのメッシュ跡と、凸版の凸
部の表面に形成されていたメ所定ピッチのメッシュ跡と
が転写されるが、これらのピッチは、少なくとも２つの
ピッチが等しいため、モワレの発生要因を除去すること
ができる。それ故、モワレが発生しないので、画像の品
位が高い電気光学装置を製造することができる。
の同色ピッチをもつカラーフィルタが形成された基板の
表面側に、フレキソ印刷によって配向膜やオーバーコー
ト膜などの塗膜が形成され、この塗膜の表面には、アニ
ロックスローラの所定ピッチのメッシュ跡と、凸版の凸
部の表面に形成されていたメ所定ピッチのメッシュ跡と
が転写されるが、これらのピッチは、少なくとも２つの
ピッチが等しいため、モワレの発生要因を除去すること
ができる。それ故、モワレが発生しないので、画像の品
位が高い電気光学装置を製造することができる。
【図１】携帯電話機などに用いられる液晶装置を斜め下
方から見た斜視図である。
方から見た斜視図である。
【図２】図１に示す液晶装置を斜め下方から見た分解斜
視図である。
視図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１および図２に
示す液晶装置の断面図、およびこの液晶装置に形成され
ているカラーフィルタの平面的な配置構造を示す平面図
である。
示す液晶装置の断面図、およびこの液晶装置に形成され
ているカラーフィルタの平面的な配置構造を示す平面図
である。
【図４】フレキソ印刷工程を示す説明図である。
【図５】フレキソ印刷工程で用いるコーティング装置の
説明図である。
説明図である。
【図６】（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ、図５に示すアニロッ
クスローラに形成されているメッシュの説明図、および
このメッシュの断面図である。
クスローラに形成されているメッシュの説明図、および
このメッシュの断面図である。
【図７】（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ、図５に示す凸版に形
成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの
断面図である。
成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの
断面図である。
１ 大型基板 ２ 単品基板形成領域 ３ 切り捨て領域 １０ 単品基板 １１ 塗膜必要領域 １２ 塗膜不要領域 １００ コーティング装置 １１０ 凸版 １１１ 凸版の凸部 １１２ 凸版の凹部 １１９ 凸版に形成したメッシュ １２０ ブラン胴 １３０ アニロックスローラ １３９ アニロックスローラに形成したメッシュ １４０ ドクターローラ １５０ 塗液 ４００ 液晶装置（電気光学装置） ４０４ 液晶（電気光学物質） ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂ カラーフィルタ ４１０ 第１の透明基板 ４１１ 第１の端子領域 ４１２、４１６ 配向膜 ４２０ 第２の透明基板 ４２１ 第２の端子領域 ４２７ 平坦化膜 ４２９ オーバーコート膜 ４３０ シール材 ４３５ 液晶封入領域 ４４０ 第１の電極パターン ４５０ 第２の電極パターン ４６１、４６２ 偏光板
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA55 BB02 BB22 BB37 BB43 2H090 HB07X HB08Y HC06 HC15 HD05 HD14 JA07 JB02 JC07 JC17 JD14 LA15 MB02 2H091 FA02Y FC12 FC25 FC29 FD04 FD24 GA06 GA07 GA17 LA15 5C094 AA03 AA42 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA05 EB02 EC02 EC03 ED03 GA10
Claims (4)
- 【請求項１】 複数色のカラーフィルタが所定のピッチ
をもって形成された基板の表面側に対してフレキソ印刷
により塗膜を形成するフレキソ印刷工程を有する電気光
学装置の製造方法において、 前記フレキソ印刷工程で用いたアニロックスローラの表
面に形成されているメッシュのピッチ、当該アニロック
スローラから転写された塗液を前記基板に転写する凸版
において凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、
および前記カラーフィルタにおける同色のカラーフィル
タのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが略略同一
寸法であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において、前記アニロックスロ
ーラのメッシュのピッチ、前記凸版の前記凸部表面に形
成されているメッシュのピッチ、および前記の同色のカ
ラーフィルタのピッチのいずれもが略同一寸法であるこ
とを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１または２において、前記塗膜
は、前記基板を前記電気光学装置に用いたとき、電気光
学物質の配向状態を制御する配向膜であることを特徴と
する電気光学装置の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記電気光学装置に用いる前記基板の表面側にフレキソ
印刷により前記塗膜を形成する前に、ダミー基板に対し
て前記塗膜をフレキソ印刷によって形成することを特徴
とする電気光学装置の製造方法。
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|---|---|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2012059562A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 凸版印刷法によるパターン形成方法および有機ｅｌ表示装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| KR20030094654A (ko) * | 2002-06-07 | 2003-12-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 고분자 유기발광소자의 유기발광층 코팅용 인쇄장비 |
| JP2004237545A (ja) * | 2003-02-05 | 2004-08-26 | Komuratekku:Kk | 層形成用凸版 |
| KR101097538B1 (ko) * | 2004-06-30 | 2011-12-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치의 컬러필터 제조장치 및 제조방법 |
| KR101100892B1 (ko) * | 2004-08-27 | 2012-01-02 | 삼성전자주식회사 | 표시 장치 |
| US7554637B2 (en) | 2004-08-27 | 2009-06-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display panel and display apparatus having the same |
| JP4795127B2 (ja) * | 2006-06-06 | 2011-10-19 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
| KR101597288B1 (ko) * | 2008-11-19 | 2016-03-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법 |
| JP5454508B2 (ja) * | 2011-04-06 | 2014-03-26 | 株式会社ニコン | 光学機器 |
| KR102323241B1 (ko) * | 2015-04-29 | 2021-11-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 배향막 제조 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법 |
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|---|---|---|---|---|
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| KR870001483A (ko) * | 1985-07-05 | 1987-03-14 | 허신구 | 액정표시소자용 배향막의 제조방법 |
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| JPH10268311A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-09 | Denso Corp | 液晶セルおよびその配向処理方法 |
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- 2001-09-28 CN CNB011411279A patent/CN1160590C/zh not_active Expired - Fee Related
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