CN1346998A - 电光装置的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于提供即使在利用胶印法在滤色片的表面一侧形成涂层时,也能够防止波纹产生的电光装置的制造方法。在液晶装置400的制造工序中,当用胶印法在形成了保持有设定的同色间距P1的滤色片407R、407G、407B的第2透明基板420的表面一侧,形成取向膜416和涂覆膜429时,使在该胶印中使用的传墨辊的网格的间距和在凸版的凸部表面上形成的网格的间距与滤色片407R、407G、407B的同色间距P1相等,以防止波纹的产生。

Description

电光装置的制造方法
[发明的详细说明]
[发明所属的技术领域]
本发明涉及包括胶印工序的电光装置制造方法。更详细地说,涉及该制造方法中的胶印技术。
[现有技术]
在移动电话机等电子装置中,显示部由电光装置构成。作为电光装置,最普通的是使用液晶作为电光物质的液晶装置。
如图2和图3(A)所示,在液晶装置400中,在其表面上形成的电极图形440、450呈相向配置的第1透明基板410和第2透明基板420之间,夹持有作为电光物质的液晶404。
为形成这种液晶装置400,在对第2透明基板420印制红(R)、绿(G)、蓝(B)滤色片407R、407G、407B后,在这些滤色片407R、407G、407B的表面依序形成平坦化膜427、第2电极图形450、绝缘性涂覆膜429以及由聚酰亚胺树脂构成的取向膜416。另外,对第1透明基板410,依序形成第1电极图形440和由聚酰亚胺树脂构成的取向膜412。
但是,如图2所示,在第1透明基板410和第2透明基板420上,沿基板边418、428形成第1端点区域411和第2端点区域421,并在这些端点区域,进行基板间的导通以及与柔性基板70的连接。因此,在第1透明基板410和第2透明基板420的表面上的第1端点区域411和第2端点区域421没有形成取向膜412、416和涂覆膜429。
为此,在第1透明基板410和第2透明基板420的表面上的长度方向(图2中箭头L所示方向)上,形成第1端点区域411和第2端点区域421的一侧是不要取向膜412、416和涂覆膜429等涂层的无涂层区域12,而形成液晶封入区域435的一侧是必须有取向膜412、416和涂覆膜429等涂层的涂层必须区域11。因此,取向膜412、416和涂覆膜429必须在第1透明基板410和第2透明基板420的表面上选择形成。
因此,为形成取向膜412、416和涂覆膜429等,施行了胶印,在该胶印中使用的涂覆装置100中,如图5所示,对安装在布兰辊120周围的凸版110,移印来自传墨辊130的涂液的同时,移印在凸版110表面上的凸部111的涂液被移印到了基板上。
这里,为了提高涂液的保持能力,在传墨辊130的表面上,如图6(A)、(B)所示,形成了具有间距P2的网格139。另外,在凸版110的凸部111的表面上,为提高其对涂液的保持能力,如图7(A)、(B)所示,也形成了具有间距P3的网格119。
[发明所要解决的问题]
在实施这种胶印的第2透明基板420的表面上,如图3(B)所示,为形成具有设定的重复图形的滤色片407R、407G、407B,滤色片407R、407G、407B中的同色滤色片以设定的间距P1(同色间距)形成。
另外,在参照图5、图6和图7进行了说明的涂覆装置100中,将用于形成取向膜416的涂层从凸版110移印到第2透明基板420上时,在移印了的涂层的表面上,移印了传墨辊130的网格139的印迹和在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119的印迹。
因此,在第2透明基板420的取向膜416上,移印了传墨辊130的网格139的印迹和在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119的印迹,而且在其下层,形成了具有一定的同色间距P1的同色滤色片407R、407G、407B。但是,传墨辊130的网格139的间距P2、在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119的间距P3和同色滤色片407R、407G、407B的间距P1虽具有大致相同的尺寸,但相互略有差异。
因此,在第2透明基板420上,具有同色间距P1的滤色片407R、407G、407B、传墨辊130的网格139的印迹和凸版110的凸部111的网格119的印迹相互干扰,引起波纹,从而使在液晶装置410上形成的图像品质降低的问题。
鉴于以上问题,本发明的课题是,即使应用胶印法在滤色片的表面一侧形成涂层时,也能提供防止波纹产生的电光装置的制造方法。
[解决问题的手段]
为解决上述问题,本发明涉及包括通过对其上形成了保持有设定同色间距的多色滤色片的基板表面一侧进行胶印,以形成涂层的胶印工序的电光装置的制造方法,该制造方法的特征在于:在上述胶印工序中使用的传墨辊的表面上形成的网格的间距、在将由该传墨辊移印而来的涂液移印到上述基板上的凸版时在凸部表面上形成的网格的间距、以及上述滤色片中的同色滤色片的间距之中,至少两种间距被设定成相同的尺寸。
在本发明中,虽然利用胶印法,在形成了保持有设定的同色间距的滤色片的基板的表面一侧形成了取向膜和涂覆膜等涂层,并在该涂层的表面移印了传墨辊的具有设定间距的网格印迹和在凸版的凸部表面上形成的具有设定间距的网格印迹,但因在这3种间距之中,至少有2种间距是相等的,所以能够除去波纹发生的根源。因此,由于不产生波纹,所以能够制造图像品质高的电光装置。
在本发明中,上述传墨辊的网格间距、在上述凸版的上述凸部表面形成的网格间距以及上述同色滤色片的间距中的任何一种,也都可以有大致相同的尺寸。
在本发明中,上述涂层是在将上述基板用于上述电光装置时,控制电光物质的取向状态的取向膜。
在本发明中,最好是在用胶印法在上述电光装置中使用的上述基板的表面一侧形成上述涂层之前,利用胶印法对空基板形成上述涂层。如这样进行构成,能够使用于上述电光装置的基板进行胶印时的条件稳定。
[附图的简单说明]
图1是从斜下方观察在移动电话机等中使用的液晶装置时所见到的斜视图。
图2是从斜下方观察图1所示的液晶装置时所见到的分解斜视图。
图3(A)、(B)分别是图1和图2所示的液晶装置的剖面图和示出在该液晶装置上形成的滤色片的平面配置结构的平面图。
图4是示出胶印工序的说明图
图5是在胶印工序中使用的涂覆装置的说明图。
图6(A)、(B)分别是在图5所示的传墨辊上形成的网格的说明图和该网格的剖面图。
图7(A)、(B)分别是在图5所示的凸版上形成的网格的说明图和该网格的剖面图。
[发明的实施例]
参照附图,对本发明的实施例进行说明。
(液晶装置的结构)
图1和图2分别是对作为移动电话机等电子装置中使用的电光装置的液晶装置,从斜下方观察时所见的斜视图和分解斜视图。图3(A)、(B)分别是该液晶装置的剖面图和示出构成该液晶装置的滤色片的排列的说明图。
图1、图2和图3(A)所示的电光装置是对应的彩色无源矩阵型液晶装置400,它是在由经设定的间隙,用密封材料430贴合的矩形玻璃板等构成的一对透明基板之间,用密封材料430划出液晶封入区域435的同时,对该液晶封入区域435封入液晶404。这里,将在上述一对透明基板之中的、有在液晶封入区域435内沿纵方向延伸的多列第1电极图形440形成的基板作为第1透明基板410,而将有在液晶封入区域435内沿横方向延伸的多列第2电极图形450形成的基板作为第2透明基板420。
在第2透明基板420上,如图3(A)所示,在相当于第1电极图形440和第2电极图形450的交点的区域,形成红(R)、绿(G)、蓝(B)滤色片407R、407G、407B。
这样的滤色片407R、407G、407B以设定的重复图形在第2透明基板420的表面上形成,在图3(B)所示的滤色片407R、407G、407B中,同色滤色片在第2透明电极420的宽度方向W具有间距P1(同色间距),形成条状。
另外,在第2透明基板420上有滤色片407R、407G、407B的表面一侧,依次形成丙烯酸树脂类的绝缘性平坦化膜427、第2电极图形450和膜厚为10nm~50nm的由聚酰亚胺树脂构成的取向膜416。与此相对照,在第1透明基板410上,依次形成第1电极图形440和膜厚为10nm~50nm的由聚酰亚胺树脂构成的取向膜412。进而,在第1透明基板410和第2透明基板420之中的至少一片基板的电极图形上,形成为防止基板间短路的、薄的绝缘性涂覆膜,但在图3(A)所示的例中,是在第2透明基板420的第2电极图形450上形成了绝缘性涂覆膜429。
在该液晶装置400中,第2电极图形450由ITO膜(氧化铟锡透明导电膜)形成。第1电极图形440,虽然也有用ITO膜形成的,但在本实施例中则由薄铝膜构成。因此,到达由薄铝膜构成的第1电极图形440上的光,一部分透过第1电极图形440,一部分被第1电极图形440反射。因此,液晶装置400是兼具作为透射型液晶装置的功能和作为反射型液晶装置的功能的半透射-半反射型液晶装置。还有,在第2透明基板420的外侧表面粘贴了偏光片461,在第1透明基板410的外侧表面粘贴了偏光片462。
在构成这样的半透射-半反射型液晶装置400时,也可以用膜厚可使光完全反射的铝膜等形成第1电极图形440,在第1电极图形440之中、与第2电极图形450交叉的部分形成小的透光孔。
再次参看图1和图2,在液晶装置400中,为了进行与外部之间的信号输入、输出以及基板间的导通中的任何一项,利用了在位于第1透明基板410和第2透明基板420的同一方向上的各基板的边418、428附近、在第1透明基板410和第2透明基板420中的每一片上形成的第1端点区域411和第2端点区域421。这里,使用比第1透明基板410大的基板作为第2透明基板420,并在使第1透明基板410和第2透明基板420贴合在一起时,第2透明基板420从第1透明基板410的边418伸出的部分425上进行驱动用IC490的COG安装。另外,在第2透明基板420的第2端点区域421的、位于比驱动用IC更靠近基板边428一侧的部分上形成输入、输出端点481,柔性基板70与这些输入、输出端点481相连接。
由于第2端点区域421中的位于比驱动用IC490更靠近液晶封入区域435侧的部分用于与第1透明基板410侧进行基板间导通,所以它形成了与第1透明基板410的重叠部分。另外,由于第1透明基板410上的第1端点区域411,用于与第2透明基板420一侧进行基板间导通,所以形成了与第2透明基板420的重叠部分。
因此,用含有基板间导通剂的密封材料430,使第1透明基板410和第2透明基板420贴合在一起,并使基板间导通用端点在基板之间导通,由于当信号从第2透明基板420的输入、输出端点481输入至驱动用IC490时,由驱动用IC490输出的信号提供给第1电极图形440和第2电极图形450,因而能够分别驱动相当于第1电极图形440和第2电极图形450的交点的像素。
另外,在第1透明基板410和第2透明基板420的表面之中的第1端点区域411和第2端点区域421上没有形成取向膜412、416和涂覆膜429。
(液晶装置400的制造方法)
图4和图5分别是关于胶印工序的说明图和在该胶印工序中使用的涂覆装置的说明图。图6(A)、(B)分别是在图5所示的传墨辊上形成的网格的说明图和该网格的剖面图。图7(A)、(B)分别是在图5所示的凸版上形成的网格的说明图和该网格的剖面图。
为形成图3(A)、(B)所示的液晶装置400,在对第2透明基板420上印制红(R)、绿(G)、蓝(B)滤色片407R、407G、407B后,在这些滤色片407R、407G、407B的表面上,依次形成丙烯酸树脂类的平坦化膜427、第2电极图形450,涂覆膜429和由聚酰亚胺树脂构成的取向膜416。此外,在第1透明基板410上,依次形成由ITO膜构成的第1电极图形440和由聚酰亚胺树脂构成的取向膜412。
但是,在液晶装置400中,如图2所示,沿第1透明基板410和第2透明基板420的各基板边418、428,形成了第1端点区域411和第2端点区域421,基板间导通和与柔性基板70的连接均在这些端点区域进行。因此,要防止在第1透明基板410和第2透明基板420的表面之中的第1端点区域411和第2端点区域421形成取向膜412、416和涂覆膜429。
为此,在第1透明基板410和第2透明基板420的表面之中的长度方向(图2中箭头L所示方向)上,有第1端点区域411和第2端点区域421形成的区域是不需要取向膜412、416和涂覆膜429等涂层的无涂层区域12,而有液晶封入区域435所形成的区域是必须有取向膜412、416和涂覆膜429等涂层的涂层必须区域11。因此,取向膜412、416和涂覆膜429必须在第1透明基板410和第2透明基板420的表面有选择地形成。
另外,对第1透明基板410和第2透明基板420,如图4所示,在能将这样的基板切割成多片单个基板10的大型基板1的状态下,实施直至胶印工序的各工序,在本实施例中,在进行了这些工序以后,在大型基板1的状态下进行摩擦工序,然后从大型基板1上切出单个基板形成区域2,就得到了由第1透明基板410和第2透明基板420构成的单个基板10。因此,在大型基板1的表面上,单个基板形成区域2,以有切割舍弃区域3围住其周围的状态下,在长度方向L和宽度方向W配置了多个,这些单个基板形成区域2的每一个,都具有必须有取向膜412、416和涂覆膜429等涂层的涂层必须区域11和没有形成这些涂层的无涂层区域12。
因此,在本实施例中,对大型基板1,使用在布兰辊120周围安装有凸版110的涂覆装置100进行胶印,并对由此胶印形成的涂层进行烘烤等处理,以形成取向膜412、416和涂覆膜429。
在这样的胶印中使用的涂覆装置100内,如图5所示,在传墨辊130和上墨辊140之间,充填用于形成取向膜412、416和涂覆膜429的涂液150,使传墨辊130和上墨辊140以恒定的速度旋转。这时,在传墨辊130和上墨辊140之间就形成厚度均匀的涂液150的层。另一方面,在布兰辊120周围,安装了与大型基板1的长度对应的凸版110,只要使布兰辊120与传墨辊130接触,涂液150就以均匀的厚度移印在凸版110的表面上。这里,在凸版110上,向大型基板1移印涂液150的凸部111和不进行涂液150移印的凹部112以设定的花纹形成。因此,当大型基板1一边与凸版110接触一边相对于旋转的布兰辊120移动时,在大型基板1的表面上,在凸版110的凸部111所接触的区域,就有选择地移印了涂液150。
这里,在传墨辊130的表面,如图6(A)、(B)所示,为提高其对涂液的保持能力,倾斜地形成了条状网格139,该网格139在宽度方向W的间距为P2。另外,如图7(A)、(B)所示,在凸版110的凸部111的表面上,为提高其对涂液的保持能力,也倾斜地形成了条状网格119,该网格119在宽度方向W的间距为P3。
因此,在从传墨辊130移印到凸版110的表面上的涂液150的表面上,移印了传墨辊130的网格139的印迹,带有该网格139之印迹的涂液150,又从凸版110的凸部111移印到大型基板1上。因此,当烘烤移印到大型基板1上的涂液,形成取向膜412、416和涂覆膜429时,在取向膜412、416和涂覆膜429的表面上,就移印了传墨辊130的网格139的印迹和在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119的印迹。
另外,在对大型基板1形成取向膜412、416和涂覆膜429后,对大型基板1的表面进行摩擦处理,然后从大型基板1上切割出单个基板形成区域2,就能得到由第1透明基板410和第2透明基板420构成的单个基板10。还有,相当于大型基板1的切割舍弃区域3的部分,通过这样的切割工序就被舍弃掉了。
(胶印工序的特点)
这样一来,当在第2透明基板420的表面形成涂覆膜429和取向膜416时,在本实施例中,按如下方式进行了设定:滤色片407R、407G、407B在宽度方向的同色间距P1、传墨辊130的网格131在宽度方向的间距P2以及在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119在宽度方向的间距P3都有相等的尺寸。
因此,以在滤色片407R、407G、407B表面一侧形成涂覆膜429和取向膜416的状态下,在第2透明基板420的表面一侧形成宽度方向的同色间距为P1的滤色片407R、407G、407B的同时,在其表面一侧所形成的涂覆膜429和取向膜416上,移印了宽度方向的间距为P2的传墨辊130的网格139的印迹和宽度方向的间距为P3的在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119的印迹。尽管如此,在本实施例中,由于滤色片407R、407G、407B的宽度方向的同色间距P1、传墨辊130的网格131在宽度方向的间距P2以及在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119在宽度方向的间距P3都具相等的尺寸,所以滤色片407R、407G、407B的同色图形、传墨辊130的网格139的印迹和凸版110的凸部111的网格119的印迹不相互干扰。于是,可以制造图像品质高的液晶装置400。
另外,最好是在用胶印法在液晶装置400中使用的第2透明基板420的表面一侧形成供取向膜416和涂覆膜429形成用的涂层之前,利用胶印法对空基板形成上述涂层,事先使在实际装入到液晶装置400中的第2透明基板420上进行胶印时的条件稳定。
[其他实施例]
上述实施例是滤色片407R、407G、407B在宽度方向的同色间距P1、传墨辊130的网格131在宽度方向的间距P2以及在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119在宽度方向的间距P3都具相等尺寸的例子,但是只要这些间距P1、P2、P3中的任何两种具相等尺寸,就能够除去波纹的产生根源。因此,滤色片407R、407G、407B在宽度方向的同色间距P1和传墨辊130的网格131在宽度方向的间距P2相等的结构、传墨辊130的网格131在宽度方向的间距P2和在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119在宽度方向的间距P3相等的结构、或者在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119在宽度方向的间距P3和滤色片407R、407G、407B在宽度方向的同色间距P1相等的结构都可以。
另外,滤色片407R、407G、407B的排列、传墨辊130的网格139的排列和形状以及凸版110的网格119的排列和形状可以采取种种形式,因为只要是在滤色片407R、407G、407B中的同色滤色片重复出现的方向,该同色间距P1、传墨辊130的网格131的间距P2以及在凸版110的凸部111的表面上形成的网格119的间距P3之中的两种间距相等,就能够除去波纹的产生根源,所以能够防止波纹的产生。
此外,在上述实施例中,虽然以无源矩阵型液晶装置为例作了说明,但由于在有源矩阵型液晶装置中,也用胶印法在有滤色片形成的基板表面一侧形成取向膜或涂覆膜,所以在有源矩阵型液晶装置和其他电光装置的制造中,也可以应用本发明。
[发明的效果]
如以上说明过的那样,在本发明中,在形成了保持有设定的同色间距的滤色片的基板的表面一侧,用胶印法形成了取向膜、涂覆膜等涂层,并在该涂层的表面移印了传墨辊的具有设定间距的网格印迹和在凸版的凸部的表面上形成的有设定间距的网格印迹,由于这些间距中的至少两种间距是相等的,所以能够除去波纹的产生根源。因此,由于不产生纹波,故而能够制造图像品质高的电光装置。

Claims (4)

1.一种电光装置的制造方法,该制造方法包括通过对其上形成具有设定间距的多种颜色的滤色片的基板表面进行胶印,以形成涂层的胶印工序,其特征在于:
在上述胶印工序中使用的传墨辊的表面上形成的网格的间距、在将从该传墨辊移印而来的涂液移印到上述基板上的凸版的凸部表面所形成的网格的间距、以及上述滤色片之中的同色滤色片的间距之中,至少两种间距具有大致相同的尺寸。
2.如权利要求1所述的电光装置的制造方法,其特征在于:
上述传墨辊的网格间距、在上述凸版的上述凸部表面形成的网格的间距、以及上述的同色滤色片的间距之中的任何一种,都有大致相同的尺寸。
3.如权利要求1或2所述的电光装置的制造方法,其特征在于:
上述涂层是在将上述基板用于上述电光装置时,控制电光物质的取向状态的取向膜。
4.如权利要求1至3中的任何一项所述的电光装置的制造方法,其特征在于:
在用胶印法在上述电光装置中使用的上述基板表面形成上述涂层之前,利用胶印法对空基板形成上述涂层。
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