JPH03198029A - 液晶表示素子の製造装置 - Google Patents
液晶表示素子の製造装置Info
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- JPH03198029A JPH03198029A JP1341027A JP34102789A JPH03198029A JP H03198029 A JPH03198029 A JP H03198029A JP 1341027 A JP1341027 A JP 1341027A JP 34102789 A JP34102789 A JP 34102789A JP H03198029 A JPH03198029 A JP H03198029A
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- Japan
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- transfer plate
- transfer roller
- transfer
- liquid crystal
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 20
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶テレビ、時計およびパーソナルコンピュ
ータ等に用いられる液晶表示素子の製造に供され、転写
版により透明基板上に印刷膜を形成する液晶表示素子の
製造装置に関するものである。
ータ等に用いられる液晶表示素子の製造に供され、転写
版により透明基板上に印刷膜を形成する液晶表示素子の
製造装置に関するものである。
従来、液晶表示素子の製造工程において、透明基板上へ
の配向膜あるいは絶縁膜の形成には、作業性およびコス
ト面より、配向膜あるいは絶縁膜を形成するためのイン
クを転写版によりガラス基板上に転写する、印刷転写方
式の製造装置が多用されている。
の配向膜あるいは絶縁膜の形成には、作業性およびコス
ト面より、配向膜あるいは絶縁膜を形成するためのイン
クを転写版によりガラス基板上に転写する、印刷転写方
式の製造装置が多用されている。
上記印刷転写方式の製造装置は、第５図（ａ）に示すよ
うに、外周面が平坦なインク転写ローラ５１から転写版
に、配向膜あるいは絶縁膜等の印刷膜を形成するための
インクを転写して、次に、転写版に転写されたインクを
透明基板としてのガラス基板に転写するものである。ま
た、上記インク転写ローラ５１の代わりに、第６図（ａ
）に示すように、外周面にストライプ状の加工が施され
たインク転写ローラ６１を用いる印刷転写方式の製造装
置もある。
うに、外周面が平坦なインク転写ローラ５１から転写版
に、配向膜あるいは絶縁膜等の印刷膜を形成するための
インクを転写して、次に、転写版に転写されたインクを
透明基板としてのガラス基板に転写するものである。ま
た、上記インク転写ローラ５１の代わりに、第６図（ａ
）に示すように、外周面にストライプ状の加工が施され
たインク転写ローラ６１を用いる印刷転写方式の製造装
置もある。
ところが、上記従来の製造装置では、インク転写ローラ
から転写版の表面にインクを均一に転写することが困難
であり、ガラス基板上に均一な厚みの印刷膜を得ること
ができないという問題点を有している。
から転写版の表面にインクを均一に転写することが困難
であり、ガラス基板上に均一な厚みの印刷膜を得ること
ができないという問題点を有している。
即ち、第５図（ａ）に示す外周面が平坦なインク転写ロ
ーラ５１を用いた場合には、転写版に転写されるインク
の量が少なくなり、第５図（ｂ）に示すように、転写版
の表面に形成されたインク層の凹凸がそのままガラス基
板５３に転写されて、インクによって形成される例えば
配向膜５２に膜厚のムラが生じる。一方、第６図（ａ）
に示す表面にストライプ状の加工が施されたインク転写
ローラ６１を用いた場合には、転写版に転写されるイン
クがストライプ状にバラツキ、第６図（ｂ）に示すよう
に、そのままの状態でインクがガラス基板６３に転写さ
れるため、同様に、配向膜６２に膜厚のムラが生じる。
ーラ５１を用いた場合には、転写版に転写されるインク
の量が少なくなり、第５図（ｂ）に示すように、転写版
の表面に形成されたインク層の凹凸がそのままガラス基
板５３に転写されて、インクによって形成される例えば
配向膜５２に膜厚のムラが生じる。一方、第６図（ａ）
に示す表面にストライプ状の加工が施されたインク転写
ローラ６１を用いた場合には、転写版に転写されるイン
クがストライプ状にバラツキ、第６図（ｂ）に示すよう
に、そのままの状態でインクがガラス基板６３に転写さ
れるため、同様に、配向膜６２に膜厚のムラが生じる。
尚、上記配向膜の膜厚のムラは、インク転写ローラの外
周面に塗布されるインクの量を調整するか、または、転
写版の表面に形成された凹凸の深さを変更することで、
若干低減することができるが、これらによって完全に無
くすることは不可能である。
周面に塗布されるインクの量を調整するか、または、転
写版の表面に形成された凹凸の深さを変更することで、
若干低減することができるが、これらによって完全に無
くすることは不可能である。
本発明に係る液晶表示素子の製造装置は、上記の課題を
解決するために、表面に凸部が並設され、透明基板上に
印刷膜、例えば配向膜あるいは絶縁膜を形成するための
インクを転写する転写版と、外周面が転写版の表面と接
することにより転写版に上記のインクを転写するインク
転写ローラとを備えた液晶表示素子の製造装置において
、以下の手段を講じている。
解決するために、表面に凸部が並設され、透明基板上に
印刷膜、例えば配向膜あるいは絶縁膜を形成するための
インクを転写する転写版と、外周面が転写版の表面と接
することにより転写版に上記のインクを転写するインク
転写ローラとを備えた液晶表示素子の製造装置において
、以下の手段を講じている。
即ち、上記のインク転写ローラの外周面には、転写版の
凸部と対応する凹部が並設されている。
凸部と対応する凹部が並設されている。
上記の構成によれば、インク転写ローラの外周面に塗布
されたインクは、インク転写ローラの外周面に形成され
た凹部に塗着される。次に、凹部のインクは、インク転
写ローラの外周面と転写版の表面とが接することにより
、転写版における凸部間の凹部に転写される。その後、
転写版上のインクは転写版から透明基板に転写され、透
明基板上にインクによって印刷膜が形成される。
されたインクは、インク転写ローラの外周面に形成され
た凹部に塗着される。次に、凹部のインクは、インク転
写ローラの外周面と転写版の表面とが接することにより
、転写版における凸部間の凹部に転写される。その後、
転写版上のインクは転写版から透明基板に転写され、透
明基板上にインクによって印刷膜が形成される。
ここで、インク転写ローラの凹部は転写版の凸部と対応
して形成されているので、インク転写ローラから転写版
へのインクの転写は確実に行われ、透明基板上に形成さ
れる印刷膜は、むらのない均一な膜厚のものとなる。
して形成されているので、インク転写ローラから転写版
へのインクの転写は確実に行われ、透明基板上に形成さ
れる印刷膜は、むらのない均一な膜厚のものとなる。
本発明の一実施例を第１図ないし第４図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
本発明に係る液晶表示素子の製造装置は、第１図に示す
ように、透明基板であるガラス基板５に後述の配向膜４
０を形成するためのインク（以下、単にインクと称する
）を転写する転写版２と、この転写版２にインクを転写
するインク転写ローラｌと、このインク転写ローラ１に
インクを塗布するスキージ３と、転写版２を回転させる
印刷ローラ４と、ガラス基板５の搬送台となるステージ
６とを備えている。
ように、透明基板であるガラス基板５に後述の配向膜４
０を形成するためのインク（以下、単にインクと称する
）を転写する転写版２と、この転写版２にインクを転写
するインク転写ローラｌと、このインク転写ローラ１に
インクを塗布するスキージ３と、転写版２を回転させる
印刷ローラ４と、ガラス基板５の搬送台となるステージ
６とを備えている。
上記の転写版２は、印刷ローラ４の外周に捲着され、印
刷ローラ４の回転に伴いＣ方向へ回転するようになって
いる。インク転写ローラ１は外周面が転写版２の表面と
接するように配され、Ｂ方向へ回転するようになってい
る。インク転写ローラ１の外周面には、スキージ３が当
接されている。また、ステージ６は印刷ローラ４の下方
に設けられ、ガラス基板５が載置された状態で入方向へ
移動可能となっている。
刷ローラ４の回転に伴いＣ方向へ回転するようになって
いる。インク転写ローラ１は外周面が転写版２の表面と
接するように配され、Ｂ方向へ回転するようになってい
る。インク転写ローラ１の外周面には、スキージ３が当
接されている。また、ステージ６は印刷ローラ４の下方
に設けられ、ガラス基板５が載置された状態で入方向へ
移動可能となっている。
上記転写版２の表面には、第２図（ａ）（ｂ）に示すよ
うに、はぼ円錐形をなす多数の凸部２０・・・が形成さ
れ、これら凸部２０・・・の間は凹部２１・・・となっ
ている、また、上記凸部２０・・・は、転写版２の回転
方向であるＣ方向に対して４５・の角度で並設されてい
る。
うに、はぼ円錐形をなす多数の凸部２０・・・が形成さ
れ、これら凸部２０・・・の間は凹部２１・・・となっ
ている、また、上記凸部２０・・・は、転写版２の回転
方向であるＣ方向に対して４５・の角度で並設されてい
る。
一方、上記インク転写ローラ１の外周面の全周には、第
３図（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、四角錐の凹部３
０・・・が形成されている。これら凹部３０・・・は、
インク転写ローラ１の回転方向であるＢ方向に対して４
５・の角度、かつ転写版２の凸部２０・・・と同一ピッ
チで並設され、転写版２の凸部２０と個々に対応するよ
うになっている。
３図（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、四角錐の凹部３
０・・・が形成されている。これら凹部３０・・・は、
インク転写ローラ１の回転方向であるＢ方向に対して４
５・の角度、かつ転写版２の凸部２０・・・と同一ピッ
チで並設され、転写版２の凸部２０と個々に対応するよ
うになっている。
上記の構成において、本製造装置により、ガラス基板５
上に印刷膜としての配向膜を形成するときには、先ず、
スキージ３によりＢ方向に回転するインク転写ローラ１
の外周面にインクが塗布される。このインクはインク転
写ローラ１の外周面の凹部３０・・・に塗着される。
上に印刷膜としての配向膜を形成するときには、先ず、
スキージ３によりＢ方向に回転するインク転写ローラ１
の外周面にインクが塗布される。このインクはインク転
写ローラ１の外周面の凹部３０・・・に塗着される。
次に、上記の凹部３０・・・に塗着されたインクは、Ｂ
方向に回転するインク転写ローラ１の外周面とＣ方向に
回転する転写版２の表面とが接して、インク転写ローラ
１の外周面の凹部３０・・・に、転写版２の表面の凸部
２０・・・が嵌入されることにより、転写版２の凸部２
０・・・間の凹部２１に転写される。
方向に回転するインク転写ローラ１の外周面とＣ方向に
回転する転写版２の表面とが接して、インク転写ローラ
１の外周面の凹部３０・・・に、転写版２の表面の凸部
２０・・・が嵌入されることにより、転写版２の凸部２
０・・・間の凹部２１に転写される。
次に、転写版２の凹部２１に転写されたインクは、Ｃ方
向へ回転する転写版２の表面とＡ方向へ移動するステー
ジ６上のガラス基板５の表面とが接することにより、ガ
ラス基板５上に転写される、これにより、ガラス基板５
上には、第４図に示すように、膜厚が均一な配向膜４０
が形成される。
向へ回転する転写版２の表面とＡ方向へ移動するステー
ジ６上のガラス基板５の表面とが接することにより、ガ
ラス基板５上に転写される、これにより、ガラス基板５
上には、第４図に示すように、膜厚が均一な配向膜４０
が形成される。
尚、本実施例においては、インク転写ローラ１の凹部３
０・・・と転写版２の凸部２０・・・との並設方向とピ
ッチとを揃えて、上記の凹部３ｏ・・・と凸部２０・・
・とを個々に対応させているが、これに加えて、凹部３
０・・・と凸部２０・・・との凹凸深度を合わせること
により、インク転写ローラｌから転写版２へのインクの
転写をさらに均一に行わせることができ、ガラス基板５
上に形成される配向膜４０の膜厚をより均一にすること
ができる。さらに、上記の凹部３０・・・と凸部２０・
・・とのピッチをより微細なものにすることにより、配
向膜４０の膜厚の均一性をより一層向上することができ
る。
０・・・と転写版２の凸部２０・・・との並設方向とピ
ッチとを揃えて、上記の凹部３ｏ・・・と凸部２０・・
・とを個々に対応させているが、これに加えて、凹部３
０・・・と凸部２０・・・との凹凸深度を合わせること
により、インク転写ローラｌから転写版２へのインクの
転写をさらに均一に行わせることができ、ガラス基板５
上に形成される配向膜４０の膜厚をより均一にすること
ができる。さらに、上記の凹部３０・・・と凸部２０・
・・とのピッチをより微細なものにすることにより、配
向膜４０の膜厚の均一性をより一層向上することができ
る。
また、本実施例においては、インク転写ローラ１の凹部
３０が四角錐をなし、転写版２の凸部２０がほぼ円錐形
をなしているが、両者の凹凸形状は上記の形状に限定さ
れるものではなく、凹部に凸部が嵌入してインクを転写
し得るものであればよい。
３０が四角錐をなし、転写版２の凸部２０がほぼ円錐形
をなしているが、両者の凹凸形状は上記の形状に限定さ
れるものではなく、凹部に凸部が嵌入してインクを転写
し得るものであればよい。
本発明に係る液晶表示素子の製造装置は、以上のように
、転写版に印刷膜を形成するためのインクを転写するイ
ンク転写ローラの外周面に、転写版の凸部と対応する凹
部が並設されている構成である。
、転写版に印刷膜を形成するためのインクを転写するイ
ンク転写ローラの外周面に、転写版の凸部と対応する凹
部が並設されている構成である。
これにより、インク転写ローラから転写版への均一なイ
ンクの転写が可能となり、ガラス基板上に形成される印
刷膜の膜厚を均一化することができる。これにより、例
えば配向膜の膜厚に高い均一性が要求されるＳＴＮ、Ｄ
ＳＴ等の機種においても配向膜を容易に形成し得ると共
に、液晶表示素子の品質を向上することができるという
効果を奏する。
ンクの転写が可能となり、ガラス基板上に形成される印
刷膜の膜厚を均一化することができる。これにより、例
えば配向膜の膜厚に高い均一性が要求されるＳＴＮ、Ｄ
ＳＴ等の機種においても配向膜を容易に形成し得ると共
に、液晶表示素子の品質を向上することができるという
効果を奏する。
第１図ないし第４図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第１図は液晶表示素子の製造装置を示す概略の正面図で
ある。 第２図（ａ）は転写版を示す平面図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）におけるＤ−Ｄ矢視断面図であ
る。 第３図（ａ）はインク転写ローラを示す斜視図である。 同図（ｂ）はインク転写ローラの凹部を示す平面図であ
る。 同図（Ｃ）はインク転写ローラの凹部を示す斜視図であ
る。 第４図は配向膜が形成されたガラス基板を示す斜視図で
ある。 第５図は従来例を示すものである。 第５図（ａ）は外周面が平坦なインク転写ローラを示す
斜視図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）に示したインク転写ローうによ
り配向膜が形成されたガラス基板を示す斜視図である。 第６図は他の従来例を示すものである。 第６図（ａ）は表面にストライプ状の加工が施されたイ
ンク転写ローラを示す斜視図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）に示したインク転写ローラによ
り配向膜が形成されたガラス基板を示す斜視図である。 ｌはインク転写ローラ、２は転写版、５はガラス基板（
透明基板）、２０は凸部、２１は凹部、３０は凹部、４
０は配向膜（印刷膜）である。
る。 第１図は液晶表示素子の製造装置を示す概略の正面図で
ある。 第２図（ａ）は転写版を示す平面図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）におけるＤ−Ｄ矢視断面図であ
る。 第３図（ａ）はインク転写ローラを示す斜視図である。 同図（ｂ）はインク転写ローラの凹部を示す平面図であ
る。 同図（Ｃ）はインク転写ローラの凹部を示す斜視図であ
る。 第４図は配向膜が形成されたガラス基板を示す斜視図で
ある。 第５図は従来例を示すものである。 第５図（ａ）は外周面が平坦なインク転写ローラを示す
斜視図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）に示したインク転写ローうによ
り配向膜が形成されたガラス基板を示す斜視図である。 第６図は他の従来例を示すものである。 第６図（ａ）は表面にストライプ状の加工が施されたイ
ンク転写ローラを示す斜視図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）に示したインク転写ローラによ
り配向膜が形成されたガラス基板を示す斜視図である。 ｌはインク転写ローラ、２は転写版、５はガラス基板（
透明基板）、２０は凸部、２１は凹部、３０は凹部、４
０は配向膜（印刷膜）である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面に凸部が並設され、透明基板上に印刷膜を形成
するためのインクを転写する転写版と、外周面が転写版
の表面と接することにより転写版に上記のインクを転写
するインク転写ローラとを備えた液晶表示素子の製造装
置において、 上記のインク転写ローラの外周面には、転写版の凸部と
対応する凹部が並設されていることを特徴とする液晶表
示素子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1341027A JPH03198029A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 液晶表示素子の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1341027A JPH03198029A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 液晶表示素子の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03198029A true JPH03198029A (ja) | 1991-08-29 |
Family
ID=18342547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1341027A Pending JPH03198029A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 液晶表示素子の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03198029A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030094654A (ko) * | 2002-06-07 | 2003-12-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 고분자 유기발광소자의 유기발광층 코팅용 인쇄장비 |
| KR100462693B1 (ko) * | 2000-09-29 | 2004-12-20 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 전기 광학 장치의 제조 방법 |
| KR101041616B1 (ko) * | 2004-08-18 | 2011-06-15 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 기판 상의 배향막 형성 방법 |
| CN102211441A (zh) * | 2010-02-23 | 2011-10-12 | 乐金显示有限公司 | 辊模、制造辊模的方法及采用辊模形成薄膜图案的方法 |
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-
1989
- 1989-12-27 JP JP1341027A patent/JPH03198029A/ja active Pending
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| CN102371748A (zh) * | 2010-08-13 | 2012-03-14 | 乐金显示有限公司 | 辊模、其制造方法以及利用其制造薄膜图案的方法 |
| US9126356B2 (en) | 2010-08-13 | 2015-09-08 | Lg Display Co., Ltd. | Roll mold, method for fabricating the same and method for fabricating thin film pattern using the same |
| US9616461B2 (en) | 2010-08-13 | 2017-04-11 | Lg Display Co., Ltd. | Roll mold, method for fabricating the same and method for fabricating thin film pattern using the same |
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