JP2002179599A - アルケンおよびカルボン酸を製造するための酸化方法 - Google Patents
アルケンおよびカルボン酸を製造するための酸化方法Info
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Abstract
うな一体的方法に使用できるアルケン及びカルボン酸を
製造するための酸化方法を提供する。 【解決手段】 対応するアルケンおよびカルボン酸を製
造するC2〜C4アルカンの酸化方法において、アルカ
ンと分子状酸素含有ガスと必要に応じ対応アルケンおよ
び水の少なくとも一方をそれぞれアルカンから対応アル
ケンおよびカルボン酸まで酸化するのに活性で異なる選
択性を有する2種以上の触媒の存在下に酸化反応帯域に
て接触させてアルケンとカルボン酸と水とからなる生成
物流を生成させることからなり、酸化反応帯域にて生成
されるアルケンとカルボン酸とのモル比を帯域における
2種以上の触媒の相対比率の調節により所定値に調整も
しくは維持する。
Description
およびカルボン酸を製造するC2〜C4アルカンの酸化
方法、並びにアルケンおよびカルボン酸をさらに反応体
として使用する一体的方法に関するものである。
トを製造するための有用な供給原料である。たとえば、
一般にエチレンおよび酢酸を酢酸ビニルの生成につき活
性な触媒の存在下に分子状酸素と接触させることにより
産業的に作成される酢酸ビニルを製造するには酢酸が使
用される。好適には触媒はパラジウムとアルカリ金属酢
酸塩促進剤と必要に応じ補助促進剤(たとえば金もしく
はカドミウム)とを触媒支持体上に含むことができる。
ための一体的方法が当業界にて公知である。EP−A−
0 877 727号は、酢酸および/または酢酸ビニ
ルを任意の所定かつ可変の比率にてエチレンおよび/ま
たはエタンからなるガス供給原料から製造するための一
体的方法を開示している。この一体的方法は、エチレン
および/またはエタンを第1反応帯域で接触酸化して、
酢酸と水とエチレンと必要に応じエタン、一酸化炭素、
二酸化炭素および/または窒素とからなる第1生成物流
を生成させる第1工程を含む。次いで、この第1反応帯
域で生成された酢酸およびエチレンを第2反応帯域にて
触媒の存在下に分子状酸素含有ガスと接触させて、酢酸
ビニルと水と酢酸と必要に応じエチレンとからなる第2
生成物流を生成させる。エタンおよび/またはエチレン
の接触酸化からのエチレンと酢酸との生成比の調節につ
いては言及されていない。
は酢酸を製造するためのエタンおよび/またはエチレン
の酸化方法を記載しており、副生物の一酸化炭素を二酸
化炭素まで酸化させる。この刊行物によれば、酢酸と未
反応エタン(存在する場合)とエチレンとを二酸化炭素
および水の除去と共に或いはそれなしに酢酸エチルを製
造するのに適する触媒を有する反応器に移送し、或いは
酢酸ビニルを製造すべく酸素を添加する。この刊行物
は、酸化工程で生成されるエチレンと酢酸との比の調節
については記載していない。
造において、新鮮供給エチレンと酢酸とのモル比はたと
えばエタンを酸化反応帯域で酸化してエチレンと酢酸を
生成させ、これらを酢酸ビニルの製造につき第2反応帯
域で使用して、全体的な一体化方法の効率および酢酸ビ
ニル生産量を最大化させる一体的方法において、酸化反
応帯域で生成されるエチレンと酢酸とのモル比は望まし
くは第2反応帯域における選択率/収率に応じユニティ
ーまたはほぼユニティーである。
は、生成されるアルケンとカルボン酸とのモル比を所定
値に調整または維持する、対応アルケンおよびカルボン
酸を製造するためのC2〜C4アルカンの酸化方法を提
供することにある。
るアルケンおよびカルボン酸を製造するためC2〜C 4
アルカンを酸化する方法において、前記アルケンと分子
状酸素含有ガスと必要に応じ対応するアルケンおよび水
の少なくとも1種と水とを、アルカンから対応アルケン
およびカルボン酸まで酸化するのにそれぞれ活性である
と共に異なる選択性を有する少なくとも2種の触媒の存
在下に酸化反応帯域にて接触させてアルケンとカルボン
酸と水とからなる生成物流を生成させることからなり、
前記酸化反応帯域にて生成されるアルケンとカルボン酸
とのモル比を前記酸化反応帯域における少なくとも2種
の触媒の相対比率を調節することにより所定値に調整も
しくは維持することを特徴とするC2〜C4アルカンの
酸化方法を提供する。
および水のそれぞれは、新鮮供給物および/または循環
成分として酸化反応帯域に導入することができる。
択性は、その触媒によりアルケンもしくはカルボン酸ま
で変換される反応体の比率として規定される。
それ以上が使用に際し失活すると共にプロセスに際し触
媒を交換する必要があれば、生成されるアルケンとカル
ボン酸とのモル比を酸化反応帯域における触媒の相対比
率を調節することにより一定の所定値に維持することが
できる。たとえば酸化反応帯域における触媒の活性およ
び/または選択性がプロセスに際し独立して変化すれ
ば、これは酸化反応帯域に既に存在する触媒の比率とは
異なる比率にて触媒を酸化反応帯域に導入することによ
り、酸化反応帯域における触媒の少なくとも1部を交換
して、生成されるアルケンとカルボン酸とのモル比を維
持することを含みうる。逆に反応器における触媒が失活
してその個々の選択性が変化しなければ、酸化反応帯域
における触媒の交換につき酸化反応帯域におけると同じ
比率で触媒を使用することにより、生成されるアルケン
とカルボン酸とのモル比を維持することもできる。
おける需要もしくは要求の変化に呼応して、酸化反応帯
域における少なくとも2種の触媒の相対比率を調節する
ことにより、生成されるアルケンとカルボン酸とのモル
比を調整する方法をも提供する。
カルボン酸生成物を少なくとも部分的に一体的下流プロ
セスで、たとえば(a)カルボン酸をアルケンもしくは
アルコールと反応させてエステルを製造すべく或いは
(b)分子状酸素含有ガスとカルボン酸およびアルケン
との反応によりアルケニルカルボキシレートを製造すべ
く使用する際に特に有用である。アルケンおよび/また
はカルボン酸は酸化反応帯域の生成物から回収すること
ができ或いは、追加アルケンおよび/またはカルボン酸
を下流プロセスにて使用することができる。
は、たとえば(a)カルボン酸をアルケンと反応させる
ことによりエステルを製造するため、または(b)分子
状酸素含有ガスとカルボン酸およびアルケンとの反応に
よりアルケニルカルボキシレートを製造するため、一体
的下流プロセスにて使用するのに適するモル比にてアル
ケンおよびカルボン酸を生成させることができる。アル
ケンおよび/またはカルボン酸は反応生成物から別々に
回収もされなければ下流プロセスに別々に添加もされな
い場合、酸化反応帯域にて生成されるアルケンとカルボ
ン酸とのモル比は好適には約1:1、たとえば0.8:
1〜1.4:1である。アルケンおよび/またはカルボ
ン酸を酸化反応生成物から別々に回収し或いは下流プロ
セスに別々に添加する場合は、異なる比を用いることも
できる。次いでアルケンとカルボン酸とのモル比は、酸
化反応帯域における少なくとも2種の触媒の相対比率を
調節することにより調整して、たとえばマーケット需要
もしくは供給原料入手性の変化に合わせることができ
る。好適には、酸化反応帯域にて生成されるアルケンと
カルボン酸とのモル比は1:10〜10:1の範囲であ
る。
ンと分子状酸素含有ガスと必要に応じ対応アルケンの少
なくとも1種と水とを、それぞれアルカンから対応アル
ケンおよびカルボン酸への酸化につき活性であると共に
異なる選択性を有する少なくとも2種の触媒の存在下に
酸化反応帯域で接触させてアルケンとカルボン酸と水と
からなる生成物流を生成させ;(b)第1反応帯域にて
生成された前記アルケンとカルボン酸とのそれぞれの少
なくとも1部をアルキルカルボキシレートの生成につき
活性な少なくとも1種の触媒の存在下に第2反応帯域で
接触させて前記アルキルカルボキシレートを生成させ、
酸化反応帯域にて生成されるアルケンとカルボン酸との
モル比を前記酸化反応帯域における少なくとも2種の触
媒の相対比率を調節することにより所定値に調整または
維持することを特徴とするアルキルカルボキシレートの
一体的製造方法を提供する。
(a)C2〜C4アルカンと分子状酸素含有ガスと必要
に応じ対応アルケンおよび水の少なくとも1種とを、ア
ルカンから対応アルケンおよびカルボン酸への酸化につ
きそれぞれ活性であると共に異なる選択性を有する少な
とも2種の触媒の存在下に酸化反応帯域で接触させてア
ルケンとカルボン酸との水とからなる生成物流を生成さ
せ;(b)第1反応帯域にて生成された前記アルケンお
よびカルボン酸のそれぞれの少なくとも1部と分子状酸
素含有ガスとを、アルケニルカルボキシレートの生成に
つき活性な少なくとも1種の触媒の存在下に第2反応帯
域で接触させてアルケニルカルボキシレートを生成さ
せ、酸化反応帯域にて生成されるアルケンとカルボン酸
とのモル比を前記酸化反応帯域における少なくとも2種
の触媒の相対比率を調節することにより所定値に調整ま
たは維持することを特徴とするアルケニルカルボキシレ
ートの一体的製造方法をも提供する。
ルケン:カルボン酸のモル比は、アルキルカルボキシレ
ートもしくはアルケニルカルボキシレートの生成につき
第2反応帯域にてその後に使用すべく約1:1、たとえ
ば0.8:1〜1.4:1に維持される。
ルカンはエタンであり、対応アルケンはエチレンであ
り、対応カルボン酸は酢酸である。これら生成物を下流
プロセスで反応させて、酢酸エチルを生成させることが
でき或いは分子状酸素含有ガスと反応させて酢酸ビニル
を生成させることができる。
体触媒および各反応体を用いて不均質で行うことができ
る。
の酸化につき活性な触媒はたとえばUS 459687
号、EP−A−0407091号、DE 196205
42号、WO 99/20592号、DE 1963
0832号、WO 98/47850号、WO 99/
51339号、EP−A−01043064号、WO9
9/13980号、US 5300682号およびUS
5300684号(その内容を参考のためここに引用
する)に記載されたようにエタンからエチレンおよび酢
酸への酸化につき当業界で公知の任意適する触媒で構成
することができる。
たように実験式MoaVbNbcSbdXe(各元素は
酸素と組み合わせて存在する)を有する触媒を用いるエ
タンからエチレンへの低温オキシ脱水素化方法に関する
ものである。
ン、レニウムおよびタングステンからなる酸化触媒の存
在下にエタンおよび/またはエチレンを酸化することに
よりエチレンおよび/または酢酸を製造するための方法
および触媒に関するものである。
び/またはエチレンから酢酸を製造するためのモリブデ
ン系、パラジウム系、レニウム系の酸化触媒に関するも
のである。
チレンもしくはその混合物と酸素とから高温度にて式M
oaPdbXcYd(ここでXはCr、Mn、Nb、T
a、Ti、V、TeおよびWの1種もしくは数種を示
し;YはB、Al、Ga、In、Pt、Zn、Cd、B
i、Ce、Co、Rh、Ir、Cu、Ag、Au、F
e、Ru、Os、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、
Ba、Nb、Zr、Hf、Ni、P、Pb、Sb、S
i、Sn、TlおよびUの1種もしくは数種を示し、a
=1、b=0.0001〜0.01、c=0.4〜1お
よびd=0.005〜1である)を有する触媒の存在下
に酢酸を選択的に製造する方法に関するものである。
2A1号はa=1、b>0、c>0およびd=0〜2で
ある同様な触媒組成物に関するものである。好ましくは
a=1、b=0.0001〜0.5、c=0.1〜1.
0およびd=0〜1.0である。
ンもしくはその混合物と式WaXbYcZd(ここでX
はPd、Pt、AgおよびAuの1種もしくは数種を示
し;YはV、Nb、Cr、Mn、Fe、Sn、Sb、C
u、Zn、U、NiもしくはBiの1種もしくは数種を
示し;ZはLi、Na、K、Rb、Cs、Be、Mg、
Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ti、Zr、H
f、Ru、Os、Co、Rh、Ir、B、Al、Ga、
In、Tl、Si、Ge、Pb、P、AsおよびTeの
1種もしくは数種を示し、a=1、b>0、c>0、d
=0〜2である)を有する触媒とを用いる酢酸の製造方
法に関するものである。
/またはエチレンを酢酸まで選択酸化するための触媒組
成物に関するものであり、この組成物は酸素と組み合わ
せて元素MoaWbAgcIrdXeYf(式中、Xは
元素NbおよびVであり;YはCr、Mn、Ta、T
i、B、Al、Ga、In、Pt、Zn、Cd、Bi、
Ce、Co、Rh、Cu、Au、Fe、Ru、Os、
K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Zr、H
f、Ni、P、Pb、Sb、Si、Sn、Tl、U、R
eおよびPdよりなる群から選択される1種もしくはそ
れ以上の元素であり;a、b、c、d、eおよびfは0
<a≦1、0≦b<1およびa+b=1;0<(c+
d)≦0.1;0<e≦2;および0≦f≦2となるよ
うな各元素のグラム原子比を示す)を含む。
エチレンおよび/または酢酸まで酸化し或いはエチレン
を酢酸まで酸化するための触媒組成物に関するものであ
り、この触媒は酸素と組み合わせて元素モリブデン、バ
ナジウム、ニオブおよび金を実験式MoaWbAucV
dNbeYf(式中、YはCr、Mn、Ta、Ti、
B、Al、Ga、In、Pt、Zn、Cd、Bi、C
e、Co、Rh、Ir、Cu、Ag、Fe、Ru、O
s、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Zr、
Hf、Ni、P、Pb、Sb、Si、Sn、Tl、U、
Re、Te、LaおよびPdよりなる群から選択される
1種もしくはそれ以上の元素であり;a、b、c、d、
eおよびfは0<a≦1、0≦b<1およびa+b=
1;10〜5<c<0.02;0<d<2;0<e≦
1;および0≦f≦2となるような各元素のグラム原子
比を示す)に従うパラジウムの不存在下に含む。
酸への選択酸化のための式MoaV bNbcXd(式
中、XはP、B、Hf、TeおよびAsよりなる群から
選択される少なくとも1種の促進剤元素であり;aは約
1〜約5の範囲の数であり;bは1であり;cは約0.
01〜約0.5の範囲の数であり;dは0より大〜約
0.1の範囲の数である)の触媒に関するものである。
(式中、MはCo、Cu、Re、Fe、Ni、Nb、C
r、W、U、Ta、Ti、Zr、Hf、Mn、Pt、P
d、Sn、Sb、Bi、Ce、As、AgおよびAuの
1種もしくはそれ以上であり、aは0.5〜3であり、
bは0.1であり、xは原子価要求を満たす)の実験式
を有する酸化触媒の使用に関するものである。
0.37Re0.25V0.26Nb0.07Sb
0.03Ca0.02Oxを用いる流動床酸化反応に関
するものである。
媒は、酸素と組み合わせてMoaV bNbcXd(式
中、X=P、B、Hf、TeもしくはAsである)の相
対グラム原子比における各元素を有する触媒の使用に関
するWO 99/13980号;酸素と組み合わせてM
oaVbNbcXdの相対グラム原子比における各元素
を有する触媒の使用に関するUS 6030920号;
酸素と組み合わせてMo aVbNbcXdおよび/また
はMoaVbLacPddの相対グラム原子比における
各元素を有する触媒の使用に関するWO 00/002
84号;酸素と組み合わせてMoaVbPdcLadの
相対グラム原子比における各元素を有する触媒の使用に
関するUS 6087297号;酸素と組み合わせてM
oaVbLacPddNbeXf(式中、X=Cuもし
くはCrであり、eおよびfは0としうる)の相対グラ
ム原子比における各元素を有する触媒の使用に関するW
O00/09260号;酸素と組み合わせてMoaVb
GacPddNbeXf(式中、X=La、Te、G
e、Zn、Si、InもしくはWである)の相対グラム
原子比における各元素を有する触媒の使用に関するWO
00/29106号およびWO 00/29105
号;並びに酸素と組み合わせてMoaVbLacPdd
NbeXf(式中、X=Al、Ga、GeもしくはSi
である)の相対グラム原子比における各元素を有する触
媒の使用に関するWO 00/38833号(これらの
内容を参考のためここに引用する)に記載されている。
体触媒は支持もしくは未支持とすることができる。適す
る支持体の例はシリカ、珪藻土、モンモリロナイト、ア
ルミナ、シリカアルミナ、ジルコニア、チタニア、炭化
珪素、活性炭およびその混合物を包含する。
体触媒は固定床もしくは流動床の形態で使用することが
できる。
ルケンの少なくとも1部をたとえば対応カルボン酸まで
酸化すると予想される。
ルボン酸とのモル比は、最初に単一触媒での反応を開始
させると共に次いで触媒の少なくとも1部の代わりにア
ルケンおよびカルボン酸に対し異なる選択性を有する少
なくとも1種の他の触媒を用いることにより、所定値に
調整もしくは維持することができる。
反応帯域における触媒の少なくとも1部の代わりに酸化
反応帯域に既に存在する触媒とは異なる選択性を有する
1種もしくはそれ以上の触媒を用いて調整もしくは維持
することができる。たとえば酸化反応帯域に最初に存在
する触媒はアルケンの製造につき一層選択性とすること
ができ、酸化反応帯域にて生成されるアルケンとカルボ
ン酸とのモル比を次いで酸化反応帯域に既に存在する触
媒の少なくとも1部の代わりにカルボン酸に対し一層高
い選択性を有する触媒を用いて調整することができる。
の酸化につき活性な触媒は当業界で知られた方法により
代替ことができる。すなわち流動床で操作する場合、触
媒は連行により或いは随意に公知手段により除去すると
共に公知手段により代替することができる。
ガスは空気または空気よりも分子状酸素の豊富もしくは
貧弱なガスとすることができる。適するガスは、たとえ
ば適する希釈剤(たとえば窒素もしくは二酸化炭素)で
希釈された酸素とすることができる。好ましくは分子状
酸素含有ガスは酸素である。好ましくは分子状酸素含有
ガスの少なくとも幾分かを、アルカンおよび適宜のアル
ケン供給物および任意の循環流とは独立して酸化反応帯
域に供給する。
れるアルカンおよび使用する場合はアルケンは実質的に
純粋とすることができ、或いはたとえば窒素、メタン、
二酸化炭素、一酸化炭素、水素および低レベルのC3/
C4アルケン/アルカンの1種もしくはそれ以上と混合
することもできる。
び循環成分として)の濃度は、酸化反応帯域への循環流
を含む全供給物の0〜50モル%、好ましくは1〜20
モル%、より好ましくは1〜15モル%である。
成分として)の濃度は、酸化反応帯域への循環流を含む
全供給物の0〜50モル%、好ましくは0〜25モル%
である。
は、アルカンと適宜のアルケンと分子状酸素含有ガスと
任意の循環ガスとを好ましくは500〜10,000h
r− 1の混合ガス空時速度(GHSV)に対応する滞留
時間にて酸化反応帯域に通過させ、ここでGHSVは沈
降触媒の嵩容積により割り算した反応器を通過するガス
の容積(STPとして計算)として規定される。
0℃の範囲、典型的には140〜350℃の範囲の温度
にて行うことができる。
80〜400psigの範囲の加圧下で行うことができ
る。
換率が本発明の酸化反応にて達成される。
本発明の酸化反応にて達成されうる。
媒1kg当たり毎時10〜10000gのカルボン酸
(たとえば酢酸)の範囲の生産性を有する。
質に応じ、たとえば酢酸ビニルのようなアルケニルカル
ボキシレートの製造につき使用する場合、望ましくは第
1ガス生成物流は一酸化炭素副生物の低濃度を持たねば
ならない。何故なら、これはアルケニルカルボキシレー
ト(たとえば酢酸ビニル)を生成させる或る種の触媒に
悪影響を及ぼしうるからである。すなわち、無視しうる
一酸化炭素副生物を与える触媒を酸化反応帯域にて使用
することが好ましい。酸化反応帯域における追加触媒成
分を用いて、一酸化炭素を二酸化炭素まで酸化すること
ができる。これは酸化触媒または第2反応帯域に存在さ
せることができる。
用する場合、生成物流は酢酸とエチレンと水とを含むこ
とができ、エタンおよび酸素と、たとえばアルゴンおよ
び窒素のような不活性ガス成分と、副生物アセトアルデ
ヒド、一酸化炭素および二酸化炭素とを含有する。アセ
トアルデヒドおよび一酸化炭素は分子状炭素含有ガスに
より変換されて、それぞれ酢酸および二酸化炭素を下流
プロセスにて或いは酸化反応にて循環後に生成させるこ
とができる。エチレンは、エチレンが供給物に存在すれ
ば未変換反応体として或いはエタン反応体の酸化生成物
として酸化反応の生成物流に存在する。
それ以上の分離段階の後に適宜の追加分子状酸素含有ガ
ス、適宜の追加アルケンおよび適宜の追加カルボン酸と
一緒に第2反応帯域に直接的もしくは間接的に供給し
て、たとえば酢酸ビニルのようなアルケニルカルボキシ
レートを生成することができる。カルボン酸および/ま
たはアルケンは酸化プロセスの生成物から必要に応じ回
収することができる。
は、一緒に或いは下流プロセスからの少なくとも部分的
分離の後に、酸化反応帯域まで直接的または間接的に1
つもしくはそれ以上の分離段階の後に循環させることが
できる。
当業界で公知の触媒を本発明の方法に使用することがで
きる。すなわち本発明の第2反応帯域にて使用しうる酢
酸ビニルの製造につき活性な触媒は、たとえばGB 1
559 540号;US5,185,308号および
EP−A−0672453号(これらの内容を参考のた
めここに引用する)に記載されたような触媒で構成する
ことができる。
酢酸と酸素との反応による酢酸ビニルの製造につき活性
な触媒を記載しており、この触媒は実質的に(1)3〜
7mmの粒子直径と0.2〜1.5ml/gの気孔容積
とを有する触媒支持体、すなわち3.0〜9.0のpH
を有する触媒支持体の10重量%水懸濁物、(2)触媒
支持体の表面層に分配されたパラジウム/金の合金(表
面層は支持体の表面から0.5mm未満にて延び、合金
におけるパラジウムは触媒1リットル当たり1.5〜
0.0gの量にて存在し、金は触媒1リットル当たり
0.5〜2.25gの量にて存在する)、および(3)
触媒1リットル当たり5〜60gのアルカリ金属酢酸塩
で構成される。
酢酸と酸素含有ガスとから酢酸ビニルを製造するのに活
性なシェル含浸触媒を記載しており、この触媒は実質的
に(1)約3〜約7mmの粒子直径および1g当たり
0.2〜1.5mlの気孔容積を有する触媒支持体と、
(2)触媒支持体粒子の最外1.0mm厚さの相に分配
されたパラジウムおよび金と、(3)約3.5〜約9.
5重量%の酢酸カリウムとで構成され、ここで前記触媒
における金とパラジウムとの重量比は0.6〜1.25
の範囲である。
ム含有触媒および流動床酢酸ビニルプロセスのためのそ
の作成につき記載している。
1反応帯域にて生成される一酸化炭素が第2反応帯域に
おける酸素およびパラジウム含有触媒の存在下に消費さ
れることにより、別途の一酸化炭素除去反応器の要求を
排除する点である。
ニルカルボキシレート(たとえば酢酸ビニル)の製造は
不均質に行われると共に、各反応体を気相で存在させ
る。
キシレートの製造のための第2反応帯域に供給しうると
共に、アルケンは酸化生成物および/または未消費のア
ルケン反応体として酸化反応帯域から供給することがで
きる。
第2反応帯域に導入される追加アルケンは実質的に純粋
とすることができ、或いはたとえば窒素、メタン、二酸
化炭素、一酸化炭素、水素および低レベルのC3/C4
アルケン/アルカンの1種もしくはそれ以上と混合する
こともできる。
2反応帯域で使用される分子状酸素含有ガスは、工程
(a)からの未反応分子状酸素含有ガスおよび/または
追加分子状酸素含有ガスを含むことができる。
空気または空気よりも分子状酸素の豊富もしくは貧弱な
ガスとすることができる。適する追加分子状酸素含有ガ
スはたとえば適する希釈剤(たとえば窒素もしくは二酸
化炭素)で希釈された酸素とすることができる。好まし
くは追加分子状酸素含有ガスは酸素である。好ましくは
分子状酸素含有ガスの少なくとも幾分かをアルケンおよ
びカルボン酸反応体とは独立して第2反応帯域に供給す
る。第2反応帯域に供給されるカルボン酸の少なくとも
1部は液体とすることができる。
なくとも1部は液体とすることができる。
製造につき第2反応帯域で使用する場合、好ましくは酸
化反応帯域からの生成物と追加アルケンもしくはカルボ
ン酸反応体と循環流と分子状酸素含有ガスとを1000
〜10,000hr−1の混合ガス空時速度(GHS
V)にて第2反応帯域に通過させる。
めの第2反応帯域は好適には140〜200℃の範囲の
温度で操作することができる。
めの第2反応帯域は好適には50〜300psigの範
囲の圧力で操作することができる。
第2反応帯域は好適には固体床もしくは流動床法のいず
れかで操作することができる。
アルケニルカルボキシレートの製造につき第2反応帯域
にて達成することができる。
ケニルカルボキシレートの製造につき第2反応帯域にて
達成することができる。
ルケニルカルボキシレートの製造につき第2反応帯域に
て達成することができる。
めの第2反応帯域にて、触媒は好適には触媒1kg当た
り毎時10〜10000gのアルケニルカルボキシレー
トの範囲の生産性を有する。
ンであれば、アルケニルカルボキシレートを製造する第
2反応帯域からの生成物流は酢酸ビニルと水と酢酸と必
要に応じさらに未反応エチレンとエタンとアルデビトと
窒素とアルゴンと一酸化炭素と二酸化炭素とを含みう
る。この種の生成物流は共沸蒸留により、酢酸ビニルと
水とからなる頭上フラクションおよび酢酸と水とからな
る底部フラクションに分離することができる。底部フラ
クションはカラムの底部から液体として或いはカラムの
底部の上方から1つもしくはそれ以上の段階で蒸気とし
て蒸留カラムより除去することができる。この種の蒸留
工程に先立ち、存在すればエチレンとエタンとアルデヒ
ドと一酸化炭素と二酸化炭素とを好適には洗浄カラムか
ら頭上ガスフラクションとして第2生成物流より除去す
ることができ、ここで酢酸ビニルと水と酢酸とからなる
液体フラクションを底部から除去する。エチレンおよび
/またはエタンは工程(a)および/または工程(b)
に循環することができる。
ションにより頭上フラクションから回収され。。回収酢
酸ビニルは所望に応じ公知方法でさらに精製することが
できる。
さらに精製して或いは好ましくは精製なしに、プロセス
の工程(b)に循環させることができる。代案として、
酢酸を底部フラクションから回収すると共に所望に応じ
公知方法(たとえば蒸留)によりさらに精製することも
できる。
テルの適する製造方法はEP−A−0926126号
(その内容を参考のためここに引用する)に記載されて
おり、これは低級オレフィンと飽和低級脂肪族モノカル
ボン酸とを付加反応にてヘテロポリ酸触媒の存在下に蒸
気相で反応させることからなり、反応を直列で設立され
た複数の反応器にて行い、第1反応器から流出する未反
応ガスおよび生成物からなるガスを第2反応器へ供給ガ
スとして供給すると共に、第2反応器から流出するもの
を第3反応器へ供給ガスとして供給し、さらにその後の
反応器についても行い、さらに反応体モノカルボン酸の
1部を第2およびその後の反応器のそれぞれに対する供
給ガスに導入して第2およびその後の反応器のそれぞれ
に対する供給ガスにおけるオレフィンとモノカルボン酸
との比を所定範囲内に維持することを特徴とするエステ
ル化方法に関するものである。
により例示の目的で説明する。
供給部(3)と、分子状酸素含有ガスの供給部(4)
と、エタンおよび必要に応じエチレンからなる循環ガス
の供給部(5)と、第1生成物流のための出口(18)
とが設けられた酸化反応帯域(1)を備える。プロセス
の規模に応じ、酸化反応帯域(1)は単一反応器または
並列もしくは直列の数個の反応器を含むことができる。
セトキシル化するための第2反応帯域(2)をも備え、
これには第1反応帯域から第2反応帯域まで生成物の少
なくとも1部を搬送するための手段(17)と、分子状
酸素含有ガスの供給部(9)と、循環酢酸の供給部(1
0)と、エチレンおよび/または酢酸の適宜の供給部
(8)とが設けられる。プロセスの規模に応じ、第2反
応体(3)は単一反応器または並列もしくは直列の数個
の反応器を含むことができる。
宜のスクラバー(6)と;第2反応帯域からの生成物の
スクラバー(12)と;第2反応帯域の生成物から酢酸
を分離するための手段(13)と;酢酸ビニル精製手段
(14)と;適宜の酢酸精製手段(15)と、二酸化炭
素を第2反応帯域からの循環ガスより分離すると共に必
要に応じエチレン生成物を回収するための1つもしくは
それ以上の分離手段(16)とを備える。
ぞれエタンを酸化して酢酸およびエチレンを生成させる
ための活性であるが異なる選択性を有する少なくとも2
種の触媒を与える。好適には酸化触媒は固体触媒であ
る。分子状酸素含有ガスは、1つもしくはそれ以上の入
口を介し供給部(4)から酸化反応帯域(1)に供給さ
れる。エタンと必要に応じエチレンとを含むガス供給原
料は供給部(3)から酸化反応帯域(1)に供給され
る。エタンとエチレンとを含む循環ガスも供給部(5)
から酸化反応器に供給される。分子状酸素含有ガスとエ
タンと循環ガスとは1つもしくはそれ以上の入口を介し
別々に或いは部分的もしくは完全に組み合わせて酸化反
応帯域に導入される。必要に応じ酸化反応器に供給され
る流れの少なくとも1種は水をも含む。
よび/または未反応供給物として)と酢酸と水と必要に
応じ未消費分子状酸素含有ガスと副生物(たとえば一酸
化炭素、二酸化炭素、不活性物質およびアセトアルデヒ
ド)とからなる第1生成物流が生成される。これは、必
要に応じガスおよび液体を除去するスクラバー(16)
に移送することができる。ガスは、たとえば二酸化炭素
のような副生物を分離すると共に必要に応じエチレン生
成物を回収した後に、当業界で公知の方法により循環さ
せることができる。酢酸はたとえば蒸留により液体から
回収することができる。
7)により、アセトキシル化触媒(好適には固体触媒)
が与えられた第2反応帯域に供給される。
2反応帯域に供給される。酢酸は循環供給部(10)か
ら第2反応帯域に供給される。必要に応じ、追加エチレ
ンおよび/または酢酸を供給部(8)から第2反応帯域
に供給することができる。第1生成物流と分子状酸素含
有ガスと循環酢酸と必要に応じエチレンおよび/または
酢酸の適宜の追加供給物とを別々に或いは部分もしくは
完全組合せにて1つもしくはそれ以上の入口を介し第2
反応帯域に供給する。
酸素とが反応して、酢酸ビニルからなる第2生成物流を
生成する。
送し、そこからガスおよび液体を分離する。二酸化炭素
をガスから分離すると共に必要に応じエチレン生成物を
当業界で公知の方法により1つもしくはそれ以上の分離
段階(16)にて回収する。残留エタンおよび/または
エチレンは第1および/または第2反応器に循環するこ
とができる。酢酸はスクラバー液から分離されて第2反
応帯域に循環される。必要に応じ、酢酸生成物は手段
(15)(たとえば蒸留)により循環流から回収するこ
とができる。酢酸ビニル生成物は手段(14)(たとえ
ば蒸留)によりスクラバー液から回収される。
種もしくはそれ以上が失活すると共にこの触媒をプロセ
スに際し置換する必要があれば、生成されるエチレンと
酢酸とのモル比を酸化反応帯域における触媒の相対比率
を調節して一定の所定値に維持することができる。たと
えば酸化反応帯域における触媒の活性および/または選
択性がプロセスに際し独立して変化すれば、これは酸化
反応帯域における触媒の少なくとも1部を置換すること
を含み、これには酸化反応帯域における触媒の比率とは
異なる比率にて触媒を酸化反応帯域に導入して、生成さ
れるエチレンと酢酸とのモル比を維持することができ
る。逆に、反応器における触媒がその個々の選択性が変
化しなうよう失活すれば、酸化反応帯域における触媒の
代わりに酸化反応帯域におけると同じ比率の触媒を用い
て、生成エチレンと酢酸とのモル比を維持することがで
きる。
エチレンと酢酸とのモル比は、その後に酢酸ビニルを製
造すべく第2反応帯域にて使用するため約1:1、たと
えば0.8:1〜1.4:1に維持される。エチレンお
よび/または酢酸が酸化反応生成物から別々に回収され
或いは酢酸ビニルを製造すべく第2反応帯域に別々に添
加される場合は、異なる比を維持することもできる。次
いでエチレンと酢酸とのモル比を酸化反応帯域における
少なくとも2種の触媒の相対比率を調節して調整し、た
とえばマーケット需要または供給原料入手性の変化に合
わせることができる。
作成 17.66gのモリブデン酸アンモニウムと2.92g
のバナジウム酸アンモニウムと3.24gの塩化ニオブ
と2.70gの蓚酸とを、70℃まで撹拌しながら加熱
された400mlの水に溶解して溶液を作成した。この
溶液に24.6mgのテトラクロル金酸アンモニウムと
15.5mgの酢酸パラジウムとを添加した。15分間
の後、溶液の水を沸点まで加熱した後、2時間にわたり
蒸発乾固させた。得られた触媒ケーキを磨砕すると共に
400℃のオーブン内の静止空気にて5時間にわたり焼
成した。触媒の名目実験式は次の通りであった: Mo1.00V0.25Nb0.12Au0.0007
Pd0.0008Ox
成分の代わりに金、銅、銀および銀よりなる群から選択
される下表に示した成分を用いて、実験式Mo1.00
V0.25Nb0.125Oxを有するが種々異なる促
進剤を含むベース組成に基づく広範囲の触媒組成物を得
た。
の15mlのガラス球と混合して、20mlの容積にお
ける希釈触媒を生成させた。次いで希釈触媒を内径12
mmおよび長さ40cmの寸法のハステロイで作成され
た固定床反応器に充填した。触媒を、触媒床の上方およ
び下方における不活性充填材料と一緒に石英壁部プラグ
を用いて反応器の中心における所定位置に維持した。次
いで装置をヘリウムにより20バールで圧力試験して漏
れにつき点検した。次いで触媒をヘリウム中で5℃/m
inにて220℃まで4時間にわたり加熱することによ
り活性化させて、触媒先駆体の完全分解を確保した。
水との所要の流れを反応器に導入して、所要の入口組成
を確保した。この組成は42%v/vのエタンと、6.
7%の酸素と、25%v/vの水と、残部のヘリウムと
であった。全供給流量を、2000〜9000/hの供
給物GHSVを確保するレベルに維持した。60分間に
わたり平衡化させた後、ガス試料を出口流からGCシス
テム(モデル・ユニカム4400)まで採取して、エタ
ンとエチレンと酸素とヘリウムとを定量した。
の計算レベルで示される50〜75%酸素変換率が達成
されるまで上昇させた。さらに60分間の平衡時間の
後、触媒を定常状態の条件下で典型的には4〜5時間に
わたり評価した。出口ガス容積を水/ガスメータにより
試験時間にわたり測定した。液体生成物を集め、試験時
間の後に秤量した。ガスおよび液体生成物の組成をGC
分析(TCDおよびFID検出器がそれぞれ取り付けら
れたユニカム4400および4200)を用いて測定し
た。
析から、次のパラメータが計算された: エタン変換率=(入口モルエタン−出口モルエタン)/
入口モルエタン*100 酸素変換率=(入口モル酸素−出口モル酸素)/入口モ
ル酸素*100 酢酸への選択率(C−モル%)=(出口モル酢酸*2)
/(変換モルエタン*2)*100 エタンへの選択率(C−モル%)=((出口モルエチレ
ン−入口モルエチレン) *2)/(変換モルエタン
*2)*100 COへの選択率(C−モル%)=(出口モルCO)/
(変換モルエタン*2)*100 CO2への選択率(C−モル%)=(出口モルCO2)
/(変換モルエタン*2)*100 エチレン/AcOH比=(出口モルエチレン−入口エチ
レンモル)/(モル酢酸)*100 STY(空時収率)%=(g酢酸)/kg触媒床/hr 典型的には、反応のための質量バランスおよび炭素バラ
ンスは100+/−5%であると判明した。
を下表IIに示す。
ける種々異なる触媒のエチレンおよび酢酸への選択率が
異なることを示す。従って触媒の少なくとも2種を酸化
反応帯域にて本発明の方法により使用すれば、エチレン
と酢酸とのモル比を酸化反応帯域における少なくとも2
種の触媒の相対比率を調節することにより所定値に調整
もしくは維持することができる。
の作成 107.70gのモリブデン酸アンモニウムを70℃ま
で撹拌しながら加熱された300mlの蒸留水に溶解し
て溶液「A」を作成した。30.41gのバナジウム酸
アンモニウを70℃まで撹拌しながら加熱された300
mlの蒸留水に溶解して溶液「B」を作成した。18.
91gの塩化ニオブと11.96gの酸化アンチモンと
2.76gの炭酸カリウムと15.75gの蓚酸とを7
0℃まで撹拌しながら加熱された300mlの蒸留水に
溶解して溶液「C」を作成した。溶液A、BおよびCの
それぞれを15分間にわたり静置子、各反応成分の最大
溶解を可能にした。次いで溶解Cを迅速に70℃にて撹
拌しながら溶液Bに添加した。溶液B/Cを79℃にて
15分間撹拌し、次いで迅速に溶液Aに添加した。15
分間後に溶液A/B/Cを沸点まで加熱した後、2.5
時間にわたり蒸発乾固させた。得られた乾燥触媒を次い
でオーブンに移送して、さらに120℃にて2時間にわ
たり乾燥させた。乾燥の後、触媒ケーキを微細粉末まで
磨砕した。次いで得られた粉末を0.2mmメッシュの
シーブで篩分した。篩分した粉末触媒を次いでオーブン
内の静止空気中で400℃にて4時間にわたり焼成し
た。触媒の名目実験式は次の通りであった: Mo1.000V0.426Nb0.115Sb
0.066K0.033Ox
70℃まで加熱された100mlの蒸留水に溶解して溶
液「A」を作成した。11.4gのバナジウム酸アンモ
ニウムを70℃まで撹拌しながら加熱された120ml
の蒸留水に溶解して溶液「B」を作成した。16.18
gの蓚酸アンモニウムニオブおよび2.5gの蓚酸を撹
拌しながら70℃まで加熱された100mlの蒸留水に
溶解して溶液「C」を作成した。溶液A、BおよびCの
それぞれを15分間にわたり静置して各反応成分の最大
溶解を可能にした。次いで溶液Cを70℃にて撹拌しな
がら溶液Bに迅速に添加した。溶液B/Cを70℃にて
15分間にわたり撹拌した後、溶液Aをこれに迅速に添
加した。15分間の後、溶液「D」(20mlの水に溶
解された2.57gの燐酸アンモニウ)を撹拌しながら
添加した。A/B/C/Dの溶液を沸点まで加熱した
後、1.5時間にわたり蒸発乾固させた。次いで、得ら
れた乾燥触媒ケーキをオーブンに移して、さらに16時
間にわたり120℃にて乾燥した。乾燥の後、触媒ケー
キを微細粉末まで磨砕した。次いで、得られた粉末を
0.2mmメッシュのシーブで篩分した。篩分した粉末
触媒を次いでオーブン内の静止空気中で350℃にて4
時間にわたり焼成した。触媒の名目実験式は次の通りで
あった: Mo1.000V0.400Nb0.128P
0.080Ox
57gの塩化アンモニウム金とを撹拌しながら70℃ま
で加熱された100mlの蒸留水に溶解して溶液「A」
を作成した。6.434gのバナジウム酸アンモニウム
を撹拌しながら70℃まで加熱された150mlの蒸留
水に溶解して溶液「B」を作成した。7.785gの蓚
酸アンモニウムニオブを撹拌しながら70℃まで加熱さ
れた100mlの蒸留水に溶解して溶液「C」を作成し
た。溶液A、BおよびCのそれぞれを15分間にわたり
静置して、反応成分の最大溶解を可能にした。溶液Cを
次いで70℃にて撹拌しながら溶液Bに迅速添加した。
次いで溶液B/Cを70℃にて15分間撹拌し、次いで
溶液Aに迅速添加した。15分間後にA/B/C/Dの
溶液を沸点まで加熱した後、1.5時間にわたり蒸発乾
固させた。次いで得られた乾燥触媒ケーキをオーブンに
移して、さらに2時間にわたり120℃にて乾燥させ
た。乾燥の後、触媒ケーキを微細粉末まで磨砕した。次
いで、得られた粉末を0.2mmメッシュのシーブで篩
分した。篩分した粉末触媒を次いでオーブン内の静止空
気中で400℃にて4時間にわたり焼成した。触媒の名
目実験式は次の通りであった: Mo1.000V0.423Nb0.115Au
0.008Ox
7gの酢酸パラジウムとを撹拌しながら70℃まで加熱
された100mlの蒸留水に溶解して溶液「A」を作成
した。7.749gのバナジウム酸アンモニウムを撹拌
しながら70℃まで加熱された200mlの蒸留水に溶
解して溶液「B」を作成した。5.626gの蓚酸アン
モニウムニオブと0.598gの酢酸アンチモンと0.
472gの硝酸カルシウムとを撹拌しながら70℃まで
加熱された200mlの蒸留水に溶解して溶液「C」を
作成した。溶液A、BおよびCのそれぞれを15分間に
わたり静置して、各反応成分の最大溶解を可能にした。
次いで溶液Cを70℃にて撹拌しながら溶液Bに添加し
た。溶液B/Cを70℃にて15分間撹拌した後、溶液
Aをこれに急速添加した。15分間の後にA/B/C溶
液を沸点まで加熱した後1.5時間にわたり蒸発乾固さ
せた。次いで、得られた乾燥触媒ケーキをオーブンに移
して、さらに120℃にて2時間乾燥させた。乾燥の
後、触媒ケーキを微細粉末まで磨砕した。次いで、得ら
れた粉末を0.2mmメッシュのシーブで篩分した。篩
分した粉末触媒を次いでオーブン内の静止空気中で35
0℃にて4時間にわたり焼成した。触媒の名目実験式は
次の通りであった: Mo1.000V0.5577Nb0.0913Sb
0.0168Ca0.0 168Pd0.0013Ox
がら80℃まで加熱された100mlの蒸留水に溶解し
て溶液「A」を作成した。5.594gのバナジウム酸
アンモニウムと6.00gの蓚酸とをを撹拌しながら8
0℃まで加熱された150mlの蒸留水に溶解して溶液
「B」を作成した。溶液AおよびBのそれぞれを15分
間にわたり静置させて各反応成分の最大溶解をを可能に
した。溶液Aを80℃にて撹拌しながら溶液Bに迅速添
加した。溶液A/Bを80℃にて15分間撹拌した後、
0.0053gの酢酸パラジウムと0.0004gの硝
酸ランタンとを撹拌しながら添加した。15分間の後に
溶液を沸点まで加熱し、次いで1.5時間にわたり蒸発
乾固させた。得られた乾燥触媒ケーキを次いでオーブン
に移して、さらに120℃にて2時間にわたり乾燥させ
た。乾燥の後、触媒ケーキを微細粉末まで磨砕した。得
られた粉末を次いで0.2mmメッシュのシーブで篩分
した。篩分した粉末触媒を次いでオーブン内の静止空気
中で350℃にて4時間にわたり焼成した。触媒の名目
実験式は次の通りであった: Mo1.000V0.584Pd0.000267La
0.00001Ox
づく)とを一緒に磨砕して触媒K〜Nを作成した。触媒
K〜Nのそれぞれを作成すべく使用した触媒HおよびI
の相対量を表IIIに示す。
15mlのガラス球と混合して、容積20mlの希釈触
媒床を生成させた。次いで希釈触媒を、内径12mmお
よび長さ40cmの寸法のハステロイで作成された固定
床反応器に充填した。触媒を、触媒床の上方および下方
における不活性充填材料と一緒に石英壁部プラグを用い
て反応器の中心における所定位置に維持した。次いで装
置をヘリウムにより20バールで圧力試験して漏れを点
検した。次いでヘリウム内で16バールにて1時間にわ
たり5℃/minにて220℃まで加熱することにより
触媒を活性化させて、触媒先駆体の完全分解を確保し
た。
よび水の所要の流れを反応器に導入して、所要の入口組
成を確保した。この組成は52%v/vのエタンと6.
7%酸素と10%v/vのエチレンと5%v/vの水と
残部のヘリウムとであった。全供給流量を2000〜9
000/h(特に3200/h)の供給物GHSVを確
保するレベルに維持した。60分間にわたり平衡化させ
た後、ガス試料を出口流からGC系(モデル・ユニカム
4400)まで採取して、エタンとエチレンと酸素とヘ
リウムとを定量した。
て触媒F〜Jのそれぞれにつき299〜301℃の同様
な反応器温度を達成し、直接比較を容易化させた。さら
に60分間にわたり平衡化させた後、液体生成物回収を
開始すると共に典型的には18時間にわたり継続させ
た。試験時間に際し、流出ガス組成をGC分析(プロG
C、ユニカム社)を用いて測定した。出口ガス容積は試
験時間にわたり水−ガスメータにより測定した。試験時
間にわたり集められた液体生成物を回収すると共に秤量
した。液体生成物の組成をGC分析(それぞれTCDお
よびFID検出器が装着されたユニカム4400および
4200)を用いて測定した。
析から供給物変換率、生成物選択率、空時収率(ST
Y)およびエチレンと酢酸とのモル比を触媒A〜Eに関
するエタン酸化反応法で示したと同じ方程式を用いて計
算した。
使用した。その結果を下表IVに示す。
での種々異なる触媒のエチレンおよび酢酸に対する選択
率が異なると共にエチレンと酢酸とのモル比を酸化反応
帯域における2種の異なる触媒を調節比率にて使用する
ことにより所定値に調整もしくは維持しうることを示
す。
用いた。その結果を下表Vに示す。
異なる触媒HおよびIの相対比率を調節することにより
エチレンと酢酸とのモル比を所定値に調整しうることが
明らかに示される。
の略ブロック図である。
Claims (16)
- 【請求項1】 対応するアルケンおよびカルボン酸を生
成させるためC2〜C4アルカンを酸化する方法におい
て、前記アルカンと分子状酸素含有ガスと必要に応じ対
応するアルケンおよび水の少なくとも一方とを、それぞ
れアルカンから対応アルケンおよびカルボン酸まで酸化
するのに活性であると共に異なる選択性を有する少なく
とも2種の触媒の存在下に酸化反応帯域にて接触させる
ことからなり、前記酸化反応帯域にて生成されるアルケ
ンとカルボン酸とのモル比を前記酸化反応帯域における
少なくとも2種の触媒の相対比率を調節することにより
所定値に調整もしくは維持することを特徴とするC2〜
C4アルカンの酸化方法。 - 【請求項2】 (a)C2〜C4アルカンと分子状酸素
含有ガスと必要に応じ対応アルケンよび水の少なくとも
一方とを、それぞれアルカンから対応アルケンおよびカ
ルボン酸への酸化につき活性であると共に異なる選択性
を有する少なくとも2種の触媒の存在下に酸化反応帯域
で接触させて、アルケンとカルボン酸と水とからなる生
成物流を生成させ; (b)第1反応帯域にて生成された前記アルケンとカル
ボン酸とのそれぞれの少なくとも1部をアルキルカルボ
キシレートの生成につき活性な少なくとも1種の触媒の
存在下に第2反応帯域で接触させて前記アルキルカルボ
キシレートを生成させ、酸化反応帯域にて生成されるア
ルケンとカルボン酸とのモル比を前記酸化反応帯域にお
ける少なくとも2種の触媒の相対比率を調節することに
より所定値に調整または維持することを特徴とするアル
キルカルボキシレートの一体的製造方法。 - 【請求項3】 (a)C2〜C4アルカンと分子状酸素
含有ガスと必要に応じ対応アルケンおよび水の少なくと
も一方とを、それぞれアルカンから対応アルケンおよび
カルボン酸への酸化につき活性であると共に異なる選択
性を有する少なくとも2種の触媒の存在下に酸化反応帯
域で接触させて、アルケンとカルボン酸と水とからなる
生成物流を生成させ; (b)第1反応帯域にて生成された前記アルケンおよび
カルボン酸のそれぞれ少なくとも1部と分子状酸素含有
ガスとを、アルケニルカルボキシレートの製造につき活
性な少なくとも1種の触媒の存在下に第2反応帯域で接
触させて前記アルケニルカルボキシレートを生成させ、
酸化反応帯域にて生成されるアルケンとカルボン酸との
モル比を前記酸化反応帯域における少なくとも2種の触
媒の相対比率を調節することにより所定値に調整または
維持することを特徴とするアルケニルカルボキシレート
の一体的製造方法。 - 【請求項4】 酸化反応帯域にて生成されるアルケンと
カルボン酸とのモル比が1:10〜10:1の範囲であ
る請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項5】 酸化反応帯域にて生成されるアルケンと
カルボン酸とのモル比が0.8:1〜1.4:1の範囲
である請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 アルケンおよび/またはカルボン酸を酸
化反応生成物から別々に回収し、または第2反応帯域に
別々に添加する請求項2または3に記載の方法。 - 【請求項7】 アルカンがエタンであり、対応アルケン
がエチレンであり、対応カルボン酸が酢酸である請求項
1〜6のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項8】 アルキルカルボキシレートが酢酸エチル
である請求項2に記載の方法。 - 【請求項9】 アルケニルカルボキシレートが酢酸ビニ
ルである請求項3に記載の方法。 - 【請求項10】 酸化反応帯域にて生成されるアルケン
とカルボン酸とのモル比が0.8:1〜1.4:1の範
囲である請求項8または9に記載の方法。 - 【請求項11】 酸化反応帯域にて生成されるアルケン
とカルボン酸とのモル比を、酸化反応帯域に存在する触
媒の少なくとも1部の代わりに酸化反応帯域に存在する
触媒とは異なる選択性を有する1種もしくはそれ以上の
触媒を用いることにより所定値に調整または維持する請
求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項12】 酸化反応帯域における少なくとも2種
の触媒の少なくとも一方がモリブデンからなる請求項1
〜11のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項13】 酸化反応帯域における各触媒がモリブ
デンからなる請求項12に記載の方法。 - 【請求項14】 第2反応帯域に存在する触媒がパラジ
ウムからなる請求項3〜7または9〜13のいずれか一
項に記載の方法。 - 【請求項15】 追加アルケンを第2反応帯域に供給す
ると共に、アルケンを酸化反応帯域から供給する請求項
3〜7または9〜14のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項16】 追加分子状酸素含有ガスを第2反応帯
域に供給すると共に、未反応分子状酸素含有ガスを酸化
反応帯域から供給する請求項3〜7または9〜15のい
ずれか一項に記載の方法。
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