JP2002173331A - ガラスパネルのカート式処理設備 - Google Patents
ガラスパネルのカート式処理設備Info
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- C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
- C03B29/04—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way
- C03B29/06—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way with horizontal displacement of the products
- C03B29/08—Glass sheets
- C03B29/10—Glass sheets being in a vertical position
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- C03B25/06—Annealing glass products in a continuous way with horizontal displacement of the glass products
- C03B25/08—Annealing glass products in a continuous way with horizontal displacement of the glass products of glass sheets
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Abstract
つ、生産性を高めて製造することのできるガラスパネル
のカート式処理設備を提供する。 【解決手段】 少なくとも排気手段14を搭載した排気
カート10に複数のガラスパネル組立体P1を保持し、
このガラスパネル組立体を排気手段に開閉弁16a,1
7を介して連通して炉内に位置させて排気カートを移動
させながら前記ガラスパネル組立体に所定の処理を施す
カート式連続炉Tと、このカート式連続炉から抽出され
た特定の排気カートのガラスパネルP2を炉内に位置さ
せて再処理するカート式バッチ炉TAとから構成したガ
ラスパネルのカート式処理設備。
Description
レイパネル(PDP)等を構成するガラスパネル組立体
を排気カート上に搭載して封着、排気処理等を行うガラ
スパネルのカート式処理設備に関するものである。
式処理設備として特開平11−79768号公報に開示
されたものがある。
は、封着・排気炉Tで、図2〜5に示すように、炉床に
開口部7を全長にわたって有するとともに各々複数の室
からなる封着処理ゾーンA、排気ゾーンBおよび冷却ゾ
ーンCとからなる。
は、図3に示すように、炉内に循環バッフル1が設けら
れるとともに、循環通路2にラジアントチューブバーナ
または電熱ヒータ等の熱源3が配置され、炉内の雰囲気
は循環ファン4により吸入口5から吸引され、前記熱源
3により加熱され、吐出口6から吐出することにより炉
内を循環し、下記するガラスパネル組立体P1を加熱す
る。
A,排気ゾーンBにおける熱源3に加えて外気導入開口
あるいは冷却チューブ等の冷却源(図示せず)を有する
もので、他の構成は前記封着処理ゾーンA(排気ゾーン
B)と同一である。
すように、表面ガラス基板W1とチップ管Pa付裏面ガ
ラス基板W2とのいずれか一方の対向する外縁部に、融
着用ガラスペーストからなる封着剤Sを塗布して重ね合
わせ、クリップ等の治具Kにより一体に固定したもので
ある。
適用するもので、チップ管Pa側の一片aにチップ管P
aの径より少し巾の広い長溝bを設け、この長溝b内に
チップ管Paを位置させた状態で、貫通孔cを有する保
持部材dを嵌合させることでチップ管Paを支持するよ
うにしたものである。なお、チップ管Paの支持方法は
前記保持部材dに限らず、他の構成としてもよい。
ガラス基板W1,W2のいずれかに、あらかじめリブ等を
形成してある。
るクリップには前記長溝bは不必要である。
に、前記カート式連続炉Tの炉床下に敷設したレールR
上をプッシャ(図示せず)により移動するもので、排気
カート10の上面には前記カート式連続炉Tの開口部7
を貫通して炉内に位置する支柱11aと下記するガラス
パネル組立体P1をほぼ垂直状態で炉巾方向に保持する
保持部材11bとからなる取付部材11が複数配設され
ている。また、この取付部材11の支柱11aには開口
部7と若干の間隙をもって開口部7を遮蔽する断熱部材
12を排気カート10の全長にわたって備えている。
プ14を有する真空排気系と放電ガスボンベ15を有す
る放電ガス供給系とが搭載されており、両者は電磁式開
閉弁16a,16bと電磁式開閉弁17を介して接管金
具18に接続されているとともに、真空排気系に真空計
19が取付けられている。さらにまた、排気カート10
には下記するガラスパネル組立体P1のチップ管Paを
溶断する封止ヒータ20を備えている。
カート式連続炉Tの下方と、炉の側方(リターンライン
部)にも設けられ、両端は装入,抽出トランスファーカ
ーTf1,Tf2で接続され、前記排気カート10は循環
使用できるようになっているとともに、前記冷却ゾーン
Cと抽出トランスファーカーTf2との間に、放電ガス
封入・封止ゾーンZgが設けてある。
ず、前記ガラスパネル組立体P1を積込み・積卸しゾー
ンZで排気カート10に積込む。この場合、前記ガラス
パネル組立体P1は図3、図4に示すように、チップ管
Paを断熱部材12に設けた貫通孔13に挿通し、たと
えば、図示しないクリップ等の適宜手段により取付部材
11に固定して排気カート10上にほぼ垂直状態でカー
ト巾方向に載置固定するとともに、前記チップ管Paは
前記接管金具18に接続される。また、封止ヒータ20
がチップ管Pa部に取り付けられる。
P1を載積した排気カート10は適宜手段で装入トラン
スファーカーTf1に至り、ここで、カート式連続炉T
の装入側に移動し、プッシャ等により図4で示すように
連結状態で順次カート式連続炉T内に装入される。した
がって、前記開口部7は殆ど各排気カート10の断熱部
材12で閉鎖され、外気が炉内へ侵入することを防止す
る。
と、図6に示すヒートカーブにもとづいて、まず、ガラ
スパネル組立体P1は封着処理ゾーンAで封着剤Sが溶
融して両ガラス基板W1,W2を封着してガラスパネルP
2とする。そして、排気ゾーンBに至ると、前記開閉弁
16aを開、前記開閉弁17を開として各ガラスパネル
P2内を真空排気ポンプ14に連通する。
を通過する間に前記ヒートカーブにもとづいて加熱さ
れ、ガラスパネルP2内は10-4〜10-7Torrまで
排気されながら冷却ゾーンCを経て炉外に搬出され、放
電ガス封入・封止ゾーンZgに至ると、真空排気ポンプ
14を停止するとともに前記開閉弁16aを閉、16b
を開にすることにより放電ガスボンベ15からたとえ
ば、ネオン(Ne)、アルゴル(Ar)あるいはキセノ
ン(Xe)等の放電ガスをガラスパネルP2内に規定圧
力(400〜760Torr)まで封入する。
と、封止ヒータ20に通電してチップ管Paを封じ切
り、所定のPDPとする。
ァーカーTf2を通って積込み・積卸しゾーンZに移行
し、ここで前記処理済PDPを積卸すとともに新規なガ
ラスパネル組立体P1を積込み、前述の工程を繰り返
す。
法においては、カート式連続炉T内で各ガラスパネル組
立体は封着されるが、1台の排気カートに搭載した複数
のガラスパネル組立体は1台の排気手段(真空ポンプ1
4)により同時に排気処理されるため、一部のガラスパ
ネルに封着不良、接管金具(排気ヘッド)とチップ管と
の接続不良あるいはチップ管に破損箇所があれば当該排
気カートの全ガラスパネルが排気不良となる。
なった不良ガラスパネルの排気系開閉弁17を閉とし
て、再度、排気カートをカート式連続炉に装入して残り
のガラスパネルを再処理、たとえば、排気処理すること
が考えられるが、所定の枚数未満のガラスパネル、たと
えば、既に封着工程を完了しているガラスパネルは再度
封着処理工程を経ることになり、生産効率が低下すると
いう問題を生じる。
いて、不良ガラスパネルを除去して、その分、新規のガ
ラスパネル組立体を排気カートに積込んで再度、カート
式連続炉に装入する方法も考えられるが、前記問題点の
他にガラスパネルとガラスパネル組立体の積込み・積卸
し作業を自動装置(ロボット)で行う場合、そのハンド
リングが複雑であるという問題を生じる。
れたもので、不良ガラスパネルを搭載している排気カー
トを前記カート式連続炉の搬出ラインから一旦オフライ
ンに移してカート式バッチ炉にて再処理を行うようにし
たガラスパネルのカート式処理設備を提供することを目
的とする。
成するために、少なくとも排気手段を搭載した排気カー
トに複数のガラスパネル組立体を保持し、このガラスパ
ネル組立体を排気手段に連通して炉内に位置させて排気
カートを移動させながら前記ガラスパネル組立体に所定
の処理を施すカート式連続炉と、このカート式連続炉か
ら抽出された特定の排気カートのガラスパネルを炉内に
位置させて再処理するカート式バッチ炉とからなるガラ
スパネルのカート式処理設備である。
排気処理するものであり、かつ、再処理が排気処理であ
ってもよい。
体にチップ管を封着処理するものであってもよい。
いて図1にしたがって説明する。なお、図1は基本的に
図2と同一構成を有するため、同一部分には同一符号を
付し、また、排気カートの具体的構成も同一であるため
詳細は省略する。
側のオフライン部には、治具取外し・封止ゾーンZc、
積卸しゾーンZd、排気カートメンテナンス用引出しゾ
ーンZeおよびチップ管取付け・積込みゾーンZhが設
けられるとともに、抽出側トランスファーカーTf2の
外側にはオフライン用トランスファーカーTf3とカー
ト式バッチ炉TAが配設されている。前記カート式バッ
チ炉TAは前記カート式連続炉Tの冷却ゾーンBと基本
的構造と同一であり、熱源と冷却源が配置されるもので
ある。
付け・積込みゾーンZhで、前記従来と同様、表面ガラ
ス基板W1とチップ管Pa付裏面ガラス基板Wとをクリ
ップ等の治具Kにより一体化した複数のガラスパネル組
立体P1を排気カート10に搭載し、チップ管Paを接
管金具18に接続する。
装入側に搬送され、装入側トランスファーカーTf1に
より往路レールRに移動され、カート式連続炉T内を通
過する間に従来同様、両ガラス基板W1,W2の封着処理
とガラスパネルP2内の排気処理が行われる。
排気カート10は放電ガス封入ゾーンZgaに至るが、
ここで排気カート10の真空排気系に取付けた真空計1
9によりガラスパネルP2内の真空度を検査する。
電ガスがガラスパネルP2内に封入されたのち、抽出側
トランスファーカーTf2により復路レールRに移動さ
れ、治具取外し・封止ゾーンZcでクリップKの取外し
とチップ管Paの封止切り処理が行われてガラスパネル
P2はPDPとなり、その後、積卸しゾーンZdでPD
Pを積卸す。
ラスパネルP2内が所定の真空度に達していないと、排
気不良の原因となった不良ガラスパネルP2'(チップ管
Paの破損、チップ管Paと排気ヘッド18との接続不
良あるいは封着処理の不良等)を目視により特定し、こ
の不良ガラスパネルP2'のチップ管Paに接続している
前記開閉弁17を閉とし、当該排気カート10はオフラ
イン用トランスファーカーTf3によりカート式バッチ
炉TAに装入され、ここで再び加熱および冷却され残り
のガラスパネルP2は再処理が行われる。
Paの破損であれば、排気処理が行われるものであり、
また、封着不良で再封着可能であれば、封着処理と排気
処理が行われることになる。
式バッチ炉TAから抽出され、放電ガスが封入されたの
ち前述の正常な良品のガラスパネルP2と同様、治具取
外し・封止ゾーンZcを経て積卸しゾーンZdですべて
の製品が積卸され、良品PDPと不良PDPに区別され
たのち、不良PDPは廃棄処分となる。
・積込みゾーンZhへと移動する。
ネルとして内部に放電ガスを封入するPDPの処理方法
について述べたが、放電ガス封入Zgaを設けることな
く排気ゾーンBにて内部を所定圧まで排気したのち真空
排気ポンプ14を停止し、封止ヒータ20に通電してチ
ップ管Paを封じ切り、所定の真空断熱ガラスパネルと
する場合にも適用することができる。
基板W1とチップ管付裏面ガラス基板W2とを封着し、そ
の後、排気する場合について述べたが、ガラスパネル組
立体P1は既に封着された2枚のガラス基板W1,W2に
チップ管Paを封着するとともに排気するものであって
もよい。また、封着処理が2枚のガラス基板W1,W2の
封着処理とチップ管Paの封着処理とを同時に行うよう
にしてもよい。
裏面ガラス基板W2とを予め封着したガラスパネルP2を
排気カート10に搭載し、排気あるいはさらに放電ガス
の封入をしてもよい。
ず、複数基配設してもよい。
ガラスパネルのカート式処理設備は、少なくとも排気手
段を搭載した排気カートに複数のガラスパネル組立体を
保持し、このガラスパネル組立体を排気手段に開閉弁を
介して連通して炉内に位置させて排気カートを移動させ
ながらガラスパネル組立体に少なくとも排気処理を施す
カート式連続炉と、このカート式連続炉とは別に排気カ
ートのガラスパネルを炉内に位置させて再処理するカー
ト式バッチ炉とで構成したものである。
ート上のガラスパネルが所定の真空度に達していない場
合、排気不良の原因となった不良ガラスパネルと接続す
る開閉弁を閉じて、別設したカート式バッチ炉で再処理
を行うため、カート式連続炉には全て新規なガラスパネ
ル組立体を搭載した排気カートが在炉することとなり、
また、カート式バッチ炉で再処理されたガラスパネル
は、カート式バッチ炉を経由しない正常なガラスパネル
を搭載した排気カートと同様に以後取扱われるため、カ
ート式連続炉の生産性の低下を防止することができる。
設備の概略平面図。
略平面図。
図。
の断面図。
ーン、B〜排気ゾーン、C〜冷却ゾーン、Pa〜チップ
管、P1〜ガラスパネル組立体、P2〜ガラスパネル、W
1〜表面ガラス基板、W2〜裏面ガラス基板、7〜開口
部、10〜排気カート、14〜真空排気ポンプ、15〜
放電ガスボンベ、16a,16b,17〜開閉弁、19
〜真空計、20〜封止ヒータ。
Claims (3)
- 【請求項1】 少なくとも排気手段を搭載した排気カー
トに複数のガラスパネル組立体を保持し、このガラスパ
ネル組立体を排気手段に開閉弁を介して連通して炉内に
位置させて排気カートを移動させながら前記ガラスパネ
ル組立体に所定の処理を施すカート式連続炉と、このカ
ート式連続炉から抽出された特定の排気カートのガラス
パネルを炉内に位置させて再処理するカート式バッチ炉
とからなることを特徴とするガラスパネルのカート式処
理設備。 - 【請求項2】 前記所定の処理が封着処理に引続き排気
処理するものであり、かつ、再処理が排気処理であるこ
とを特徴とする前記請求項1に記載のガラスパネルのカ
ート式処理設備。 - 【請求項3】 前記封着処理がガラスパネル組立体にチ
ップ管を封着処理するものであることを特徴とする前記
請求項1または2のいずれかに記載のガラスパネルのカ
ート式処理設備。
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---|---|---|---|
JP2000371437A JP4787402B2 (ja) | 2000-12-06 | 2000-12-06 | ガラスパネルのカート式処理設備 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2000
- 2000-12-06 JP JP2000371437A patent/JP4787402B2/ja not_active Expired - Fee Related
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