JP4570367B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
1a;開口部
2;気密シール
3;排気ポート
4;排気管
5;パネル構造体
5a;治具
6;ガス導入弁
7;ガスマニホールド
8;排気弁
9;排気マニホールド
10;内部真空ポンプ
10a、10b;排気管
11;搬送ローラー
12;放電ガスボンベ
12a、12b;給気管
13;外部真空ポンプ
14;チャンバー排気弁
15;排気ジョイント
16;T字管
17;配管
21;封着排気装置
22;搬送路
22a;シャフト
23;パネル供給部
24;パネル取出部
25;連続炉
26;ガス導入部
27;チップオフ部
31;排気カート
32;車体
32a、33a;開口部
33;載置板
41、42、43;炉
50;PDP
51;走査ドライバ
52、53;高圧パルス回路
54;データドライバ
55;パネル部位
56;入力信号処理回路
57;モジュール内電源
58;PDPモジュール
61;Y/C分離回路
62;A/D変換回路
63;画像フォーマット変換回路
64;逆γ変換回路
65;アナログインターフェイス
71;プラズマ表示装置
A1〜A3、B1〜B3、C1〜C8;炉室
Claims (1)
- プラズマディスプレイパネルの前面基板と背面基板とを封着し、前記前面基板と背面基板との間に形成される放電空間を排気するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記前面基板と背面基板とをシールフリットを介して重ね合わせたパネル構造体を前記シールフリットの軟化点未満の温度に加熱する第1の炉、この第1の炉に連結され前記パネル構造体を前記シールフリットの軟化点以上の温度に加熱して前記前面基板と背面基板とを前記シールフリットを介して封着する第2の炉、及びこの第2の炉に連結され前記パネル構造体を前記シールフリットの軟化点未満の温度にする第3の炉を備えた連続炉と、
前記パネル構造体の前記放電空間を排気する内部真空ポンプと、
排気後の前記パネル構造体の前記放電空間内に放電ガスを供給する放電ガスボンベと、
複数の前記パネル構造体を搭載する載置板を上部に備え、内部に前記内部真空ポンプ及び前記放電ガスボンベを搭載した排気カートと、
この排気カートを前記第1の炉内を移動させた後前記第2の炉内を移動させその後第3の炉内を移動させる搬送装置と、
前記連続炉の第1の炉内における前記排気カートの移動域の上方に上下動可能に配置され且つ下降位置にあるときに前記載置板に当接して前記載置板との間で前記パネル構造体を収納する気密空間を形成する真空チャンバーと、
前記真空チャンバーが下降位置にあるときに前記気密空間に配管を介して連結され前記気密空間内を排気する外部真空ポンプと、
を有する封着排気装置を使用し、
前記排気カートの載置板の上方に前記パネル構造体を搭載し、前記内部真空ポンプを前記パネル構造体の前記放電空間に連結する工程と、
前記排気カートを前記連続炉の第1の炉内で移動させて前記パネル構造体を前記シールフリットの軟化点未満の温度に加熱する工程と、
前記第1の炉内において前記排気カートに対して前記真空チャンバーを下降させて前記載置板に当接させ前記真空チャンバーと前記載置板とにより前記パネル構造体を収納する気密空間を形成する工程と、
前記第1の炉内において前記外部真空ポンプにより前記配管を介して前記気密空間内を排気することにより前記前面基板及び背面基板表面に脱ガス処理を行う工程と、
前記第1の炉内において前記排気された気密空間の圧力を大気圧まで復圧して前記真空チャンバーを上昇させて前記排気カートから離隔させる工程と、
前記排気カートを前記第1の炉内からこの第1の炉に連結された第2の炉内に移動させる工程と、
前記排気カートを前記第2の炉内で移動させて前記パネル構造体を前記シールフリットの軟化点以上の温度に加熱して前記前面基板と背面基板とを前記シールフリットを介して封着する工程と、
前記排気カートを前記第2の炉内からこの第2の炉に連結された第3の炉内に移動させる工程と、
前記排気カートを前記第3の炉内で移動させて前記パネル構造体を前記シールフリットの軟化点未満の温度にしながら、前記内部真空ポンプにより前記放電空間を排気する工程と、
前記放電空間を排気した後、前記放電ガスボンベにより前記放電空間内に放電ガスを供給する工程と、
を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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