JP2002155047A - 有機過酸化物の製造方法 - Google Patents

有機過酸化物の製造方法

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JP2002155047A JP2000345824A JP2000345824A JP2002155047A JP 2002155047 A JP2002155047 A JP 2002155047A JP 2000345824 A JP2000345824 A JP 2000345824A JP 2000345824 A JP2000345824 A JP 2000345824A JP 2002155047 A JP2002155047 A JP 2002155047A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビス(1−ヒドロキシシクロヘキシル)ペル
オキシドを安価な原料から簡易に製造できる方法を提供
する。 【解決手段】 N−ヒドロキシ(又はN−オキソ)環状
イミド骨格を有するイミド化合物触媒の存在下、シクロ
アルカンと酸素とを反応させて、対応するビス(1−ヒ
ドロキシシクロアルキル)ペルオキシドを得る。前記イ
ミド化合物触媒には、例えば、下記式(1) 【化1】 (式中、R1及びR2は、水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基、シクロアルキル基などを示し、R
1及びR2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若し
くは非芳香族性の環を形成してもよい。Xは酸素原子又
はヒドロキシル基を示す)で表される化合物が含まれ
る。また、前記シクロアルカンには、例えば、5〜15
員のシクロアルカンが含まれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ラクトンやラクタ
ムの原料等として有用なビス(1−ヒドロキシシクロア
ルキル)ペルオキシドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ビス(1−ヒドロキシシクロアルキル)
ペルオキシドは、ラクトンやラクタムの原料等として有
用な化合物である。例えば、ビス(1−ヒドロキシシク
ロヘキシル)ペルオキシドを酸などで処理すると、ポリ
エステルの原料等として重要なε−カプロラクトンが良
好な収率で生成する(米国特許第4183863)。ま
た、ビス(1−ヒドロキシシクロヘキシル)ペルオキシ
ドにアンモニアを作用させると、ポリアミド原料として
有用なε−カプロラクタムが得られる(特公昭46−2
5742号公報)。
【0003】リービッヒ アナーレン デア ケミー、
第565巻、第7頁(1949年)には、シクロヘキサ
ノンと過酸化水素とを反応させることによりビス(1−
ヒドロキシシクロアルキル)ペルオキシドを製造する方
法が開示されている。しかし、この方法では、原料であ
る過酸化水素が高価であるため、工業的な方法としては
好ましくない。また、WO99/50204には、シク
ロヘキサノールを、シクロヘキサノンとN−ヒドロキシ
フタルイミドの存在下で酸素と反応させ、次いで塩化イ
ンジウムを作用させると、ε−カプロラクトンに加えて
ビス(1−ヒドロキシシクロヘキシル)ペルオキシドが
生成することが記載されている。しかし、この方法で
は、原料であるシクロヘキサノールが比較的高価である
上、シクロヘキサノンが必要である等の点で不利であ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ビス(1−ヒドロキシシクロヘキシル)ペルオキシ
ドを安価な原料から簡易に製造できる方法を提供するこ
とにある。本発明の他の目的は、ビス(1−ヒドロキシ
シクロヘキシル)ペルオキシドを、シクロアルカンと酸
素から直接製造できる方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため鋭意検討した結果、特定の触媒を用いる
と、シクロアルカンと酸素から直接ビス(1−ヒドロキ
シシクロヘキシル)ペルオキシドが生成することを見出
し、本発明を完成した。
【0006】すなわち、本発明は、N−ヒドロキシ(又
はN−オキソ)環状イミド骨格を有するイミド化合物触
媒の存在下、シクロアルカンと酸素とを反応させて、対
応するビス(1−ヒドロキシシクロアルキル)ペルオキ
シドを得る有機過酸化物の製造方法を提供する。
【0007】前記イミド化合物触媒には、例えば、下記
式(1)
【化2】 (式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、R1
びR2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Xは酸素原子又は
ヒドロキシル基を示す。前記R1、R2、又はR1及びR2
が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若し
くは非芳香族性の環には、上記式中に示されるN−置換
環状イミド基がさらに1又は2個形成されていてもよ
い)で表される化合物が含まれる。また、前記シクロア
ルカンには、例えば、5〜15員のシクロアルカンが含
まれる。
【0008】
【発明の実施の形態】[シクロアルカン]本発明におい
て原料化合物として用いるシクロアルカンとしては、例
えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタ
ン、シクロノナン、シクロデカン、シクロドデカン、シ
クロテトラデカン、シクロヘキサデカン、シクロオクタ
デカン、シクロイコサン、シクロドコサン、シクロトリ
アコンタン等の3〜30員程度のシクロアルカンなどが
挙げられる。なかでも、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、シクロオクタン、シクロドデカン等の5〜15員程
度のシクロアルカンが好ましく、特に、シクロヘキサン
及びシクロドデカンなどが好ましい。
【0009】前記シクロアルカンは反応を阻害しない範
囲で置換基を有していてもよい。このような置換基とし
て、例えば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル
基、メルカプト基、置換オキシ基(例えば、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシルオキシ基など)、置換チ
オ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換
又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換
又は無置換アミノ基、アルキル基(例えば、メチル、エ
チル、イソプロピル、t−ブチル、ヘキシル、オクチ
ル、デシル基等のC1-20アルキル基など、特にC1-4
ルキル基)、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、シクロアルケニル基、アリール基(例えば、フ
ェニル、ナフチル基など)、アラルキル基(例えば、ベ
ンジル基など)、複素環基などが挙げられる。また、シ
クロアルカンは、シクロアルカン環に反応を阻害しない
範囲で芳香族性又は非芳香族性の炭素環や複素環が縮合
していてもよい。
【0010】[酸素]酸素としては、分子状酸素及び発
生期の酸素の何れを使用してもよい。分子状酸素は特に
制限されず、純粋な酸素を用いてもよく、窒素、ヘリウ
ム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈した
酸素や空気を使用してもよい。酸素は系内で発生させて
もよい。酸素の使用量は、基質であるシクロアルカン1
モルに対して、通常0.5モル以上(例えば、1モル以
上)、好ましくは1〜100モル、さらに好ましくは2
〜50モル程度である。基質に対して過剰モルの酸素を
使用する場合が多い。
【0011】[イミド化合物触媒]本発明では、触媒と
して、N−ヒドロキシ(又はN−オキソ)環状イミド骨
格を有するイミド化合物を使用する。このようなイミド
化合物には、例えば、前記式(1)で表される化合物な
どが含まれる。
【0012】前記式(1)で表されるイミド化合物にお
いて、置換基R1及びR2のうちハロゲン原子には、ヨウ
素、臭素、塩素およびフッ素が含まれる。アルキル基に
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル基など
の炭素数1〜10程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基
が含まれる。好ましいアルキル基としては、例えば、炭
素数1〜6程度、特に炭素数1〜4程度の低級アルキル
基が挙げられる。
【0013】アリール基には、フェニル、ナフチル基な
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ、イソブトキシ、t−ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数1〜10程
度、好ましくは炭素数1〜6程度、特に炭素数1〜4程
度の低級アルコキシ基が含まれる。
【0014】アルコキシカルボニル基には、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、イソブトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボ
ニル基などのアルコキシ部分の炭素数が1〜10程度の
アルコキシカルボニル基が含まれる。好ましいアルコキ
シカルボニル基にはアルコキシ部分の炭素数が1〜6程
度、特に1〜4程度の低級アルコキシカルボニル基が含
まれる。
【0015】アシル基としては、例えば、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、イソバレリル、ピバロイル基などの炭素数1〜6
程度のアシル基が例示できる。
【0016】前記置換基R1及びR2は、同一又は異なっ
ていてもよい。また、前記式(1)において、R1及び
2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は5〜12員環、特に6〜10員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環(シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど)、非芳香族性橋かけ環(5−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など)、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環(縮合環を含む)が含まれる。前記環は、
芳香族性環で構成される場合が多い。前記環は、アルキ
ル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル
基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子など
の置換基を有していてもよい。
【0017】前記一般式(1)において、Xは酸素原子
又はヒドロキシル基を示し、窒素原子NとXとの結合は
単結合又は二重結合である。
【0018】前記R1、R2、又はR1及びR2が互いに結
合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香
族性の環には、上記式(1)中に示されるN−置換環状
イミド基がさらに1又は2個形成されていてもよい。例
えば、R1又はR2が炭素数2以上のアルキル基である場
合、このアルキル基を構成する隣接する2つの炭素原子
を含んで前記N−置換環状イミド基が形成されていても
よい。また、R1及びR2が互いに結合して二重結合を形
成する場合、該二重結合を含んで前記N−置換環状イミ
ド基が形成されていてもよい。さらに、R1及びR2が互
いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成す
る場合、該環を構成する隣接する2つの炭素原子を含ん
で前記N−置換環状イミド基が形成されていてもよい。
【0019】好ましいイミド化合物には、下記式で表さ
れる化合物が含まれる。
【化3】 (式中、R3〜R6は、同一又は異なって、水素原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。R3〜R6は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式
(1f)中、Aはメチレン基又は酸素原子を示す。R1
2、Xは前記に同じ。式(1c)のベンゼン環には、式
(1c)中に示されるN−置換環状イミド基がさらに1又
は2個形成されていてもよい)
【0020】置換基R3〜R6において、アルキル基に
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数1〜6程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数1〜4程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数1〜4程度の低級アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシ
カルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が1〜4程
度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、ア
シル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数1
〜6程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基R3
〜R6は、通常、水素原子、炭素数1〜4程度の低級ア
ルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子で
ある場合が多い。R3〜R6が互いに結合して形成する環
としては、前記R1及びR2が互いに結合して形成する環
と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の5〜12
員環が好ましい。
【0021】好ましいイミド化合物の代表的な例とし
て、例えば、N−ヒドロキシコハク酸イミド、N−ヒド
ロキシマレイン酸イミド、N−ヒドロキシヘキサヒドロ
フタル酸イミド、N,N′−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンテトラカルボン酸イミド、N−ヒドロキシフタル酸イ
ミド、N−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、N
−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、N−ヒドロ
キシヘット酸イミド、N−ヒドロキシハイミック酸イミ
ド、N−ヒドロキシトリメリット酸イミド、N,N′−
ジヒドロキシピロメリット酸イミド、N,N′−ジヒド
ロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどが挙げら
れる。式(1)で表されるイミド化合物は、慣用のイミ
ド化反応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルア
ミンNH2OHとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉
環を経てイミド化する方法により調製できる。
【0022】前記酸無水物には、例えば、無水コハク
酸、無水マレイン酸などの飽和又は不飽和脂肪族ジカル
ボン酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸(1,2−シクロヘキサンジカルボン酸
無水物)、1,2,3,4−シクロヘキサンテトラカル
ボン酸1,2−無水物などの飽和又は不飽和非芳香族性
環状多価カルボン酸無水物(脂環式多価カルボン酸無水
物)、無水ヘット酸、無水ハイミック酸などの橋かけ環
式多価カルボン酸無水物(脂環式多価カルボン酸無水
物)、無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、無水ニトロフタル酸、無水トリ
メリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水
物、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、1,8;
4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物などの芳
香族多価カルボン酸無水物が含まれる。
【0023】特に好ましいイミド化合物は、脂環式多価
カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、な
かでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるN−
ヒドロキシイミド化合物、例えば、N−ヒドロキシフタ
ル酸イミド等が含まれる。
【0024】N−ヒドロキシ(又はN−オキソ)環状イ
ミド骨格を有するイミド化合物は一種又は二種以上使用
できる。前記イミド化合物は、担体に担持した形態で用
いてもよい。担体としては、活性炭、ゼオライト、シリ
カ、シリカ−アルミナ、ベントナイトなどの多孔質担体
を用いる場合が多い。前記イミド化合物の担体への担持
量は、担体100重量部に対して、例えば0.1〜50
重量部、好ましくは0.5〜30重量部、さらに好まし
くは1〜20重量部程度である。前記イミド化合物の使
用量は、広い範囲で選択でき、例えば、シクロアルカン
1モルに対して、0.000001〜1モル、好ましく
は0.00001〜0.5モル、さらに好ましくは0.
0001〜0.4モル程度である。
【0025】[助触媒]本発明では、前記イミド化合物
触媒に加えて助触媒を用いることもできる。助触媒とし
て金属化合物が挙げられる。前記イミド化合物触媒と金
属化合物とを併用することにより反応速度や反応の選択
性を向上させることができる。
【0026】金属化合物を構成する金属元素としては、
特に限定されないが、周期表2〜15族の金属元素を用
いる場合が多い。なお、本明細書では、ホウ素Bも金属
元素に含まれるものとする。例えば、前記金属元素とし
て、周期表2族元素(Mg、Ca、Sr、Baなど)、
3族元素(Sc、ランタノイド元素、アクチノイド元素
など)、4族元素(Ti、Zr、Hfなど)、5族元素
(Vなど)、6族元素(Cr、Mo、Wなど)、7族元
素(Mnなど)、8族元素(Fe、Ruなど)、9族元
素(Co、Rhなど)、10族元素(Ni、Pd、Pt
など)、11族元素(Cuなど)、12族元素(Znな
ど)、13族元素(B、Al、Inなど)、14族元素
(Sn、Pbなど)、15族元素(Sb、Biなど)な
どが挙げられる。好ましい金属元素には、遷移金属元素
(周期表3〜12族元素)及び周期表13族元素が含ま
れる。なかでも、周期表5〜11族元素及び13族元
素、特に5族〜9族元素及び13族元素が好ましく、と
りわけV、Mo、Mn、Co、In(特に、Mn、C
o、In等)などが好ましい。金属元素の原子価は特に
制限されず、例えば0〜6価程度である。
【0027】金属化合物としては、前記金属元素の単
体、水酸化物、酸化物(複合酸化物を含む)、ハロゲン
化物(フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物)、オキソ
酸塩(例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、
炭酸塩など)、イソポリ酸の塩、ヘテロポリ酸の塩など
の無機化合物;有機酸塩(例えば、酢酸塩、プロピオン
酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩など)、
錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を構成す
る配位子としては、OH(ヒドロキソ)、アルコキシ
(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど)、
アシル(アセチル、プロピオニルなど)、アルコキシカ
ルボニル(メトキシカルボニル、エトキシカルボニルな
ど)、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニル基、
ハロゲン原子(塩素、臭素など)、CO、CN、酸素原
子、H2O(アコ)、ホスフィン(トリフェニルホスフ
ィンなどのトリアリールホスフィンなど)のリン化合
物、NH 3(アンミン)、NO、NO2(ニトロ)、NO
3(ニトラト)、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有化合
物などが挙げられる。
【0028】金属化合物の具体例としては、例えば、コ
バルト化合物を例にとると、水酸化コバルト、酸化コバ
ルト、塩化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫
酸コバルト、リン酸コバルトなどの無機化合物;酢酸コ
バルト、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトな
どの有機酸塩;コバルトアセチルアセトナトなどの錯体
等の2価又は3価のコバルト化合物などが挙げられる。
また、バナジウム化合物の例としては、水酸化バナジウ
ム、酸化バナジウム、塩化バナジウム、塩化バナジル、
硫酸バナジウム、硫酸バナジル、バナジン酸ナトリウム
などの無機化合物;バナジウムアセチルアセトナト、バ
ナジルアセチルアセトナトなどの錯体等の2〜5価のバ
ナジウム化合物などが挙げられる。他の金属元素の化合
物としては、前記コバルト又はバナジウム化合物に対応
する化合物などが例示される。金属化合物は単独で又は
2種以上組み合わせて使用できる。
【0029】前記金属化合物の使用量は、例えば、前記
イミド化合物1モルに対して、0.001〜0.1モル
程度、好ましくは0.005〜0.08モル程度であ
る。
【0030】本発明では、また、助触媒として、少なく
とも1つの有機基が結合した周期表15族又は16族元
素を含む多原子陽イオン又は多原子陰イオンとカウンタ
ーイオンとで構成された有機塩を用いることもできる。
助触媒として前記有機塩を用いることにより、反応速度
や反応の選択性を向上させることができる。
【0031】前記有機塩において、周期表15族元素に
は、N、P、As、Sb、Biが含まれる。周期表16
族元素には、O、S、Se、Teなどが含まれる。好ま
しい元素としては、N、P、As、Sb、Sが挙げら
れ、特に、N、P、Sなどが好ましい。
【0032】前記元素の原子に結合する有機基には、置
換基を有していてもよい炭化水素基、置換オキシ基など
が含まれる。炭化水素基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、アリ
ルなどの炭素数1〜30程度(好ましくは炭素数1〜2
0程度)の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基(ア
ルキル基、アルケニル基及びアルキニル基);シクロペ
ンチル、シクロヘキシルなどの炭素数3〜8程度の脂環
式炭化水素基;フェニル、ナフチルなどの炭素数6〜1
4程度の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭化水素
基が有していてもよい置換基として、例えば、ハロゲン
原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基(例え
ば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基
など)、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置
換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置
換又は無置換アミノ基、アルキル基(例えば、メチル、
エチル基などのC1-4アルキル基など)、シクロアルキ
ル基、アリール基(例えば、フェニル、ナフチル基な
ど)、複素環基などが例示できる。好ましい炭化水素基
には、炭素数1〜30程度のアルキル基、炭素数6〜1
4程度の芳香族炭化水素基(特に、フェニル基又はナフ
チル基)などが含まれる。前記置換オキシ基には、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など
が含まれる。
【0033】前記有機塩の代表的な例として、有機アン
モニウム塩、有機ホスホニウム塩、有機スルホニウム塩
などの有機オニウム塩が挙げられる。有機アンモニウム
塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロリ
ド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムク
ロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ト
リエチルフェニルアンモニウムクロリド、トリブチル
(ヘキサデシル)アンモニウムクロリド、ジ(オクタデ
シル)ジメチルアンモニウムクロリドなどの第4級アン
モニウムクロリド、及び対応する第4級アンモニウムブ
ロミドなどの、窒素原子に4つの炭化水素基が結合した
第4級アンモニウム塩;ジメチルピペリジニウムクロリ
ド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、メチルキノリ
ニウムクロリドなどの環状第4級アンモニウム塩などが
挙げられる。また、有機ホスホニウム塩の具体例として
は、テトラメチルホスホニウムクロリド、テトラブチル
ホスホニウムクロリド、トリブチル(ヘキサデシル)ホ
スホニウムクロリド、トリエチルフェニルホスホニウム
クロリドなどの第4級ホスホニウムクロリド、及び対応
する第4級ホスホニウムブロミドなどの、リン原子に4
つの炭化水素基が結合した第4級ホスホニウム塩などが
挙げられる。有機スルホニウム塩の具体例としては、ト
リエチルスルホニウムイオジド、エチルジフェニルスル
ホニウムイオジドなどの、イオウ原子に3つの炭化水素
基が結合したスルホニウム塩などが挙げられる。
【0034】また、前記有機塩には、メタンスルホン酸
塩、エタンスルホン酸塩、オクタンスルホン酸塩、ドデ
カンスルホン酸塩などのアルキルスルホン酸塩(例え
ば、C 6-18アルキルスルホン酸塩);ベンゼンスルホン
酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン
酸塩、デシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシルベンゼン
スルホン酸塩などのアルキル基で置換されていてもよい
アリールスルホン酸塩(例えば、C6-18アルキル−アリ
ールスルホン酸塩);スルホン酸型イオン交換樹脂(イ
オン交換体);ホスホン酸型イオン交換樹脂(イオン交
換体)なども含まれる。
【0035】前記有機塩の使用量は、例えば、前記イミ
ド化合物1モルに対して、0.001〜0.1モル程
度、好ましくは0.005〜0.08モル程度である。
【0036】また、本発明の方法では、系内に、ラジカ
ル発生剤やラジカル反応促進剤を存在させてもよい。こ
のような成分として、例えば、ハロゲン(塩素、臭素な
ど)、過酸(過酢酸、m−クロロ過安息香酸など)、過
酸化物(過酸化水素、t−ブチルヒドロペルオキシド
(TBHP)等のヒドロペルオキシドなど)などが挙げ
られる。また、硝酸や亜硝酸又はそれらの塩を添加して
もよい。これらの成分を系内に存在させると、反応が促
進される場合がある。前記成分の使用量は、前記イミド
化合物1モルに対して、例えば0.001〜0.1モル
程度である。
【0037】[反応]反応は、溶媒の存在下又は非存在
下で行うことができる。溶媒としては、例えば、ベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホ
ルム、1,2−ジクロロエタン、ジクロロベンゼンなど
のハロゲン化炭化水素類;t−ブタノール、t−アミル
アルコールなどのアルコール類;アセトニトリル、ベン
ゾニトリルなどのニトリル類;酢酸、プロピオン酸など
の有機酸;ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホル
ムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド類などが例示でき、これらの溶媒は混合して使用して
もよい。
【0038】反応温度は、反応原料の種類などに応じ
て、例えば、40〜200℃、好ましくは60〜150
℃、さらに好ましくは70〜100℃程度の範囲から選
択できる。反応圧力は、常圧、加圧下の何れであっても
よい。反応は、酸素の存在下又は酸素の流通下、回分
式、半回分式、連続式などの慣用の方法により行うこと
ができる。
【0039】本発明では、反応により、下記反応工程式
に従い、原料として用いた式(2)で表されるシクロア
ルカンに対応する式(3)で表されるビス(1−ヒドロ
キシシクロアルキル)ペルオキシドが生成する。例え
ば、シクロヘキサンからはビス(1−ヒドロキシシクロ
ヘキシル)ペルオキシドが生成し、シクロドデカンから
はビス(1−ヒドロキシシクロドデシル)ペルオキシド
が生成する。
【化4】 (式中、環Zはシクロアルカン環を示す)
【0040】反応終了後、反応生成物は、例えば、濾
過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、吸着、カラムク
ロマトグラフィーなどの分離手段やこれらを組み合わせ
た分離手段により分離精製できる。例えば、反応液にメ
タノールやシクロヘキサノンなどの貧溶媒を添加して晶
析させることにより、ビス(1−ヒドロキシシクロアル
キル)ペルオキシドを単離することができる。
【0041】なお、生成したビス(1−ヒドロキシシク
ロアルキル)ペルオキシドの定量は、酸化還元滴定によ
り行うことができ、例えばヨードメトリー法などを採用
できる。また、高速液体クロマトグラフィーなどにより
定量することもできる。
【0042】
【発明の効果】本発明によれば、ビス(1−ヒドロキシ
シクロアルキル)ペルオキシドを安価な原料から簡易に
製造することができる。また、ビス(1−ヒドロキシシ
クロアルキル)ペルオキシドを、シクロアルカンと酸素
とから直接製造することができる。
【0043】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
【0044】実施例1 シクロヘキサン16.0g(190ミリモル)、N−ヒ
ドロキシフタルイミド3.1g(19ミリモル)、酢酸
コバルト(II)四水和物0.048g(0.19ミリモ
ル)及びアセトニトリル34.0gを100mlフラス
コに仕込み、常圧の酸素雰囲気下、90℃で攪拌しなが
ら1時間反応を行った。生成物を分析したところ、下記
式(4)で表されるビス(1−ヒドロキシシクロヘキシ
ル)ペルオキシドが収率20%(シクロヘキサン基準)
で生成していた。
【化5】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 N−ヒドロキシ(又はN−オキソ)環状
    イミド骨格を有するイミド化合物触媒の存在下、シクロ
    アルカンと酸素とを反応させて、対応するビス(1−ヒ
    ドロキシシクロアルキル)ペルオキシドを得る有機過酸
    化物の製造方法。
  2. 【請求項2】 イミド化合物触媒が下記式(1) 【化1】 (式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、
    ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
    ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
    基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、R1
    びR2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
    は非芳香族性の環を形成してもよい。Xは酸素原子又は
    ヒドロキシル基を示す。前記R1、R2、又はR1及びR2
    が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若し
    くは非芳香族性の環には、上記式中に示されるN−置換
    環状イミド基がさらに1又は2個形成されていてもよ
    い)で表される化合物である請求項1記載の有機過酸化
    物の製造方法。
  3. 【請求項3】 シクロアルカンが5〜15員のシクロア
    ルカンである請求項1記載の有機過酸化物の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100317869A1 (en) * 2007-03-08 2010-12-16 Yasutaka Ishii Immobilized cyclic imide catalyst and process for oxidation of organic compounds with the same
EP2098505A1 (en) * 2008-03-06 2009-09-09 ExxonMobil Chemical Patents Inc. Oxidation of hydrocarbons

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01226871A (ja) * 1988-03-08 1989-09-11 Nippon Oil & Fats Co Ltd モノおよびビスペルオキシケタールの製造方法
JPH01228957A (ja) * 1988-03-10 1989-09-12 Nippon Oil & Fats Co Ltd 環式モノペルオキシケタール
JPH01229020A (ja) * 1988-03-10 1989-09-12 Nippon Oil & Fats Co Ltd 不飽和単量体の重合開始剤および不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化剤
WO1999050204A1 (fr) * 1998-03-27 1999-10-07 Daicel Chemical Industries, Ltd. Procede permettant de co-oxyder des composes organiques, procede permettant de produire des composes epoxy et procede permettant de produire des esters ou des lactones
JP2000239200A (ja) * 1999-02-19 2000-09-05 Daicel Chem Ind Ltd 酸化方法
JP2000239211A (ja) * 1999-02-19 2000-09-05 Daicel Chem Ind Ltd シクロアルカノンの製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01226871A (ja) * 1988-03-08 1989-09-11 Nippon Oil & Fats Co Ltd モノおよびビスペルオキシケタールの製造方法
JPH01228957A (ja) * 1988-03-10 1989-09-12 Nippon Oil & Fats Co Ltd 環式モノペルオキシケタール
JPH01229020A (ja) * 1988-03-10 1989-09-12 Nippon Oil & Fats Co Ltd 不飽和単量体の重合開始剤および不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化剤
WO1999050204A1 (fr) * 1998-03-27 1999-10-07 Daicel Chemical Industries, Ltd. Procede permettant de co-oxyder des composes organiques, procede permettant de produire des composes epoxy et procede permettant de produire des esters ou des lactones
JP2000239200A (ja) * 1999-02-19 2000-09-05 Daicel Chem Ind Ltd 酸化方法
JP2000239211A (ja) * 1999-02-19 2000-09-05 Daicel Chem Ind Ltd シクロアルカノンの製造方法

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