JP2002308861A - エポキシ化合物の製造方法 - Google Patents
エポキシ化合物の製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Epoxy Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸化剤として酸素を用いた触媒的な反応によ
り、３置換オレフィンを選択的にエポキシ化して、対応
するエポキシ化合物を選択的に効率よく製造できる方法
を提供する。 【解決手段】 本発明のエポキシ化合物の製造方法は、
（i）下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（ii）
助触媒としてコバルト化合物を用いて、（Ａ）３置換オ
レフィンと（Ｂ）酸素とを反応させ、３置換オレフィン
部位がエポキシ化されたエポキシ化合物を得ることを特
徴とする。
り、３置換オレフィンを選択的にエポキシ化して、対応
するエポキシ化合物を選択的に効率よく製造できる方法
を提供する。 【解決手段】 本発明のエポキシ化合物の製造方法は、
（i）下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（ii）
助触媒としてコバルト化合物を用いて、（Ａ）３置換オ
レフィンと（Ｂ）酸素とを反応させ、３置換オレフィン
部位がエポキシ化されたエポキシ化合物を得ることを特
徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イミド化合物触媒
を用いたエポキシ化合物の製造方法、より詳細には、特
定のイミド化合物とコバルト化合物の存在下で、３置換
オレフィンと酸素とを反応させてエポキシ化合物を製造
する方法に関する。
を用いたエポキシ化合物の製造方法、より詳細には、特
定のイミド化合物とコバルト化合物の存在下で、３置換
オレフィンと酸素とを反応させてエポキシ化合物を製造
する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】鎖状又は環状のエポキシ化合物は、医
薬、香料、染料、有機合成中間体および高分子樹脂原料
として重要な化合物である。
薬、香料、染料、有機合成中間体および高分子樹脂原料
として重要な化合物である。
【０００３】エポキシ化合物は、アルケンやシクロアル
ケンなどの非芳香族性エチレン結合を有する化合物と過
酢酸や過安息香酸などの過酸との反応により製造されて
いる。しかし、過酸は不安定であり、取り扱いに格別の
注意を要する。また、不飽和化合物に次亜ハロゲン酸を
作用させて得られるハロヒドリンをアルカリで処理する
ことによりエポキシ化合物を得る方法も知られている。
しかし、この方法は複雑な構造を有するオレフィン類に
適用することが困難である。さらに、不飽和化合物に、
酸素の存在下、微生物を作用させて対応するエポキシ化
合物を製造する方法も知られている。しかし、微生物を
用いる方法は、一般に基質濃度を高くできないため、生
産性の点で不利である。
ケンなどの非芳香族性エチレン結合を有する化合物と過
酢酸や過安息香酸などの過酸との反応により製造されて
いる。しかし、過酸は不安定であり、取り扱いに格別の
注意を要する。また、不飽和化合物に次亜ハロゲン酸を
作用させて得られるハロヒドリンをアルカリで処理する
ことによりエポキシ化合物を得る方法も知られている。
しかし、この方法は複雑な構造を有するオレフィン類に
適用することが困難である。さらに、不飽和化合物に、
酸素の存在下、微生物を作用させて対応するエポキシ化
合物を製造する方法も知られている。しかし、微生物を
用いる方法は、一般に基質濃度を高くできないため、生
産性の点で不利である。
【０００４】これら従来法の問題点を克服するため、近
年、触媒あるいは溶媒を工夫するなどの検討がなされて
いる。
年、触媒あるいは溶媒を工夫するなどの検討がなされて
いる。
【０００５】日本エネルギー学会関西支部第４３回研究
発表会要旨集（１９９８年）、第７頁には、イミド化合
物の存在下、バナジウム錯体［ＶＯ（ａｃａｃ）2］又
はコバルト化合物を添加して、シクロヘキセンと酸素と
を反応させることにより、２，３−エポキシシクロヘキ
サノールが良好な収率で生成される方法が開示されてい
る。このとき、２，３−エポキシシクロヘキサノールの
他に、２−シクロヘキセン−１−オール、２−シクロヘ
キセン−１−オン及びシクロヘキセンオキシドが副生物
として生成されることが示されている。つまり、この反
応は多くの副生物を伴う反応であり、この反応中、シク
ロヘキセンオキシドは副生物としてわずかに生成される
にすぎない。
発表会要旨集（１９９８年）、第７頁には、イミド化合
物の存在下、バナジウム錯体［ＶＯ（ａｃａｃ）2］又
はコバルト化合物を添加して、シクロヘキセンと酸素と
を反応させることにより、２，３−エポキシシクロヘキ
サノールが良好な収率で生成される方法が開示されてい
る。このとき、２，３−エポキシシクロヘキサノールの
他に、２−シクロヘキセン−１−オール、２−シクロヘ
キセン−１−オン及びシクロヘキセンオキシドが副生物
として生成されることが示されている。つまり、この反
応は多くの副生物を伴う反応であり、この反応中、シク
ロヘキセンオキシドは副生物としてわずかに生成される
にすぎない。
【０００６】ＷＯ９９／５０２０４には、イミド化合物
の存在下、芳香族性環の隣接位にメチル基又はメチレン
基を有する芳香族化合物などの共酸化剤を用いてオレフ
ィンを酸化すると、対応するエポキシ化合物が生成する
ことが記載されている。しかし、この方法では、共酸化
剤を用いなければならない。
の存在下、芳香族性環の隣接位にメチル基又はメチレン
基を有する芳香族化合物などの共酸化剤を用いてオレフ
ィンを酸化すると、対応するエポキシ化合物が生成する
ことが記載されている。しかし、この方法では、共酸化
剤を用いなければならない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、酸化
剤として酸素を用いた触媒的な反応により、３置換オレ
フィンを選択的にエポキシ化して、対応するエポキシ化
合物を効率よく製造できる方法を提供することにある。
剤として酸素を用いた触媒的な反応により、３置換オレ
フィンを選択的にエポキシ化して、対応するエポキシ化
合物を効率よく製造できる方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討した結果、イミド化合物にコバ
ルト化合物を共存させた触媒の存在下において３置換オ
レフィンを酸素で酸化すると、３置換オレフィン部位が
選択的に酸化されて対応するエポキシ化合物が収率よく
生成することを見いだし、本発明を完成した。
を達成するため鋭意検討した結果、イミド化合物にコバ
ルト化合物を共存させた触媒の存在下において３置換オ
レフィンを酸素で酸化すると、３置換オレフィン部位が
選択的に酸化されて対応するエポキシ化合物が収率よく
生成することを見いだし、本発明を完成した。
【０００９】すなわち、本発明は、（i）下記式（Ｉ）
【化３】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（ii）
助触媒としてコバルト化合物を用いて、（Ａ）３置換オ
レフィンと（Ｂ）酸素とを反応させ、３置換オレフィン
部位がエポキシ化されたエポキシ化合物を得るエポキシ
化合物の製造方法を提供する。
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（ii）
助触媒としてコバルト化合物を用いて、（Ａ）３置換オ
レフィンと（Ｂ）酸素とを反応させ、３置換オレフィン
部位がエポキシ化されたエポキシ化合物を得るエポキシ
化合物の製造方法を提供する。
【００１０】前記イミド化合物には、下記式（１）
【化４】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を
示す）を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに
結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳
香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環
状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい］
で表される化合物が含まれる。
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を
示す）を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに
結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳
香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環
状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい］
で表される化合物が含まれる。
【００１１】助触媒（ii）として、例えば、コバルトの
有機酸塩又はアセチルアセトン錯体などが好ましく用い
られる。
有機酸塩又はアセチルアセトン錯体などが好ましく用い
られる。
【００１２】また、本発明において、分子内に３置換オ
レフィン部位と１又は２置換オレフィン部位とを有する
化合物は、３置換オレフィン部位が選択的にエポキシ化
され、対応するエポキシ化合物が生成する。また、分子
内に３置換オレフィン部位を複数個有する化合物は、１
つの３置換オレフィン部位のみがエポキシ化され、対応
するエポキシ化合物が生成する。
レフィン部位と１又は２置換オレフィン部位とを有する
化合物は、３置換オレフィン部位が選択的にエポキシ化
され、対応するエポキシ化合物が生成する。また、分子
内に３置換オレフィン部位を複数個有する化合物は、１
つの３置換オレフィン部位のみがエポキシ化され、対応
するエポキシ化合物が生成する。
【００１３】
【発明の実施の形態】［（i）イミド化合物触媒］式
（Ｉ）において、窒素原子とＸとの結合は単結合又は二
重結合である。前記イミド化合物は、分子中に、式
（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨格を複数個有し
ていてもよい。また、このイミド化合物は、前記Ｘが−
ＯＲ基であり、且つＲがヒドロキシル基の保護基である
場合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ
−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合し
ていてもよい。
（Ｉ）において、窒素原子とＸとの結合は単結合又は二
重結合である。前記イミド化合物は、分子中に、式
（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨格を複数個有し
ていてもよい。また、このイミド化合物は、前記Ｘが−
ＯＲ基であり、且つＲがヒドロキシル基の保護基である
場合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ
−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合し
ていてもよい。
【００１４】式（Ｉ）中、Ｒで示されるヒドロキシル基
の保護基としては、有機合成の分野で慣用のヒドロキシ
ル基の保護基を用いることができる。このような保護基
として、例えば、アルキル基（例えば、メチル、ｔ−ブ
チル基などのＣ1-4アルキル基など）、アルケニル基
（例えば、アリル基など）、シクロアルキル基（例え
ば、シクロヘキシル基など）、アリール基（例えば、
２，４−ジニトロフェニル基など）、アラルキル基（例
えば、ベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３−ブロ
モベンジル、２−ニトロベンジル、トリフェニルメチル
基など）；置換メチル基（例えば、メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ−ブトキシ
メチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−ト
リクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）
メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基な
ど）、置換エチル基（例えば、１−エトキシエチル、１
−メチル−１−メトキシエチル、１−イソプロポキシエ
チル、２，２，２−トリクロロエチル基など）、テトラ
ヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−ヒド
ロキシアルキル基（例えば、１−ヒドロキシエチル、１
−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシデシル、１−ヒ
ドロキシヘキサデシル、１−ヒドロキシ−１−フェニル
メチル基など）等のヒドロキシル基とアセタール又はヘ
ミアセタール基を形成可能な基など；アシル基（例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、ピバロイル基などのＣ1-6脂肪
族アシル基；アセトアセチル基；ベンゾイル、ナフトイ
ル基などの芳香族アシル基など）、スルホニル基（メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタン
スルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホ
ニル、ナフタレンスルホニル基など）、アルコキシカル
ボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ1-4アルコ
キシ−カルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニ
ル基（例えば、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル基など）、置換又は無置
換カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカル
バモイル、フェニルカルバモイル基など）、無機酸（硫
酸、硝酸、リン酸、ホウ酸など）からＯＨ基を除した
基、ジアルキルホスフィノチオイル基（例えば、ジメチ
ルホスフィノチオイル基など）、ジアリールホスフィノ
チオイル基（例えば、ジフェニルホスフィノチオイル基
など）、置換シリル基（例えば、トリメチルシリル、ｔ
−ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフ
ェニルシリル基など）などが挙げられる。
の保護基としては、有機合成の分野で慣用のヒドロキシ
ル基の保護基を用いることができる。このような保護基
として、例えば、アルキル基（例えば、メチル、ｔ−ブ
チル基などのＣ1-4アルキル基など）、アルケニル基
（例えば、アリル基など）、シクロアルキル基（例え
ば、シクロヘキシル基など）、アリール基（例えば、
２，４−ジニトロフェニル基など）、アラルキル基（例
えば、ベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３−ブロ
モベンジル、２−ニトロベンジル、トリフェニルメチル
基など）；置換メチル基（例えば、メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ−ブトキシ
メチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−ト
リクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）
メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基な
ど）、置換エチル基（例えば、１−エトキシエチル、１
−メチル−１−メトキシエチル、１−イソプロポキシエ
チル、２，２，２−トリクロロエチル基など）、テトラ
ヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−ヒド
ロキシアルキル基（例えば、１−ヒドロキシエチル、１
−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシデシル、１−ヒ
ドロキシヘキサデシル、１−ヒドロキシ−１−フェニル
メチル基など）等のヒドロキシル基とアセタール又はヘ
ミアセタール基を形成可能な基など；アシル基（例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、ピバロイル基などのＣ1-6脂肪
族アシル基；アセトアセチル基；ベンゾイル、ナフトイ
ル基などの芳香族アシル基など）、スルホニル基（メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタン
スルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホ
ニル、ナフタレンスルホニル基など）、アルコキシカル
ボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ1-4アルコ
キシ−カルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニ
ル基（例えば、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル基など）、置換又は無置
換カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカル
バモイル、フェニルカルバモイル基など）、無機酸（硫
酸、硝酸、リン酸、ホウ酸など）からＯＨ基を除した
基、ジアルキルホスフィノチオイル基（例えば、ジメチ
ルホスフィノチオイル基など）、ジアリールホスフィノ
チオイル基（例えば、ジフェニルホスフィノチオイル基
など）、置換シリル基（例えば、トリメチルシリル、ｔ
−ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフ
ェニルシリル基など）などが挙げられる。
【００１５】また、Ｘが−ＯＲ基である場合において、
Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキ
シ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場
合、該Ｒとして、例えば、オキサリル、マロニル、スク
シニル、グルタリル、フタロイル、イソフタロイル、テ
レフタロイル基などのポリカルボン酸アシル基；カルボ
ニル基；メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、シ
クロペンチリデン、シクロヘキシリデン、ベンジリデン
基などの多価の炭化水素基（特に、２つのヒドロキシル
基とアセタール結合を形成する基）などが挙げられる。
Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキ
シ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場
合、該Ｒとして、例えば、オキサリル、マロニル、スク
シニル、グルタリル、フタロイル、イソフタロイル、テ
レフタロイル基などのポリカルボン酸アシル基；カルボ
ニル基；メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、シ
クロペンチリデン、シクロヘキシリデン、ベンジリデン
基などの多価の炭化水素基（特に、２つのヒドロキシル
基とアセタール結合を形成する基）などが挙げられる。
【００１６】Ｒとしては、アルキル基（メチル基など）
以外の保護基がより好ましい。特に好ましいＲには、例
えば、水素原子；ヒドロキシル基とアセタール又はヘミ
アセタール基を形成可能な基；カルボン酸、スルホン
酸、炭酸、カルバミン酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの
酸からＯＨ基を除した基（アシル基、スルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基等）などの加水
分解により脱離可能な加水分解性保護基などが含まれ
る。
以外の保護基がより好ましい。特に好ましいＲには、例
えば、水素原子；ヒドロキシル基とアセタール又はヘミ
アセタール基を形成可能な基；カルボン酸、スルホン
酸、炭酸、カルバミン酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの
酸からＯＨ基を除した基（アシル基、スルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基等）などの加水
分解により脱離可能な加水分解性保護基などが含まれ
る。
【００１７】前記イミド化合物の代表的な例として、前
記式（１）で表されるイミド化合物が挙げられる。この
イミド化合物において、置換基Ｒ1及びＲ2のうちハロゲ
ン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフッ素原子が含
まれる。アルキル基には、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル基などの炭素数１〜
１０程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が含まれる。
好ましいアルキル基としては、例えば、炭素数１〜６程
度、特に炭素数１〜４程度の低級アルキル基が挙げられ
る。
記式（１）で表されるイミド化合物が挙げられる。この
イミド化合物において、置換基Ｒ1及びＲ2のうちハロゲ
ン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフッ素原子が含
まれる。アルキル基には、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル基などの炭素数１〜
１０程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が含まれる。
好ましいアルキル基としては、例えば、炭素数１〜６程
度、特に炭素数１〜４程度の低級アルキル基が挙げられ
る。
【００１８】アリール基には、フェニル、ナフチル基な
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜
１０程度、好ましくは炭素数１〜６程度、特に炭素数１
〜４程度の低級アルコキシ基が含まれる。
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜
１０程度、好ましくは炭素数１〜６程度、特に炭素数１
〜４程度の低級アルコキシ基が含まれる。
【００１９】アルコキシカルボニル基には、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ
部分の炭素数が１〜１０程度のアルコキシカルボニル基
が含まれる。好ましいカルボニル基にはアルコキシ部分
の炭素数が１〜６程度、特に１〜４程度の低級アルコキ
シカルボニル基が含まれる。アシル基としては、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル基な
どの炭素数１〜６程度のアシル基が例示できる。
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ
部分の炭素数が１〜１０程度のアルコキシカルボニル基
が含まれる。好ましいカルボニル基にはアルコキシ部分
の炭素数が１〜６程度、特に１〜４程度の低級アルコキ
シカルボニル基が含まれる。アシル基としては、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル基な
どの炭素数１〜６程度のアシル基が例示できる。
【００２０】前記置換基Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっ
ていてもよい。また、前記式（１）において、Ｒ1及び
Ｒ2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。前記環は、
芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置
換基を有していてもよい。
ていてもよい。また、前記式（１）において、Ｒ1及び
Ｒ2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。前記環は、
芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置
換基を有していてもよい。
【００２１】前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに結
合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香
族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状
イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい。例
えば、Ｒ1又はＲ2が炭素数２以上のアルキル基である場
合、このアルキル基を構成する隣接する２つの炭素原子
を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていても
よい。また、Ｒ1及びＲ2が互いに結合して二重結合を形
成する場合、該二重結合を含んで前記Ｎ−置換環状イミ
ド基が形成されていてもよい。さらに、Ｒ1及びＲ2が互
いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成す
る場合、該環を構成する隣接する２つの炭素原子を含ん
で前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。
合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香
族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状
イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい。例
えば、Ｒ1又はＲ2が炭素数２以上のアルキル基である場
合、このアルキル基を構成する隣接する２つの炭素原子
を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていても
よい。また、Ｒ1及びＲ2が互いに結合して二重結合を形
成する場合、該二重結合を含んで前記Ｎ−置換環状イミ
ド基が形成されていてもよい。さらに、Ｒ1及びＲ2が互
いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成す
る場合、該環を構成する隣接する２つの炭素原子を含ん
で前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。
【００２２】好ましいイミド化合物には、下記式で表さ
れる化合物が含まれる。
れる化合物が含まれる。
【化５】 （式中、Ｒ3〜Ｒ6は、同一又は異なって、水素原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。Ｒ3〜Ｒ6は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式
（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素原子を示す。Ｒ1、
Ｒ2、Ｘは前記に同じ。式（1c）のベンゼン環には、式
（1c）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又
は２個形成されていてもよい）
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。Ｒ3〜Ｒ6は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式
（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素原子を示す。Ｒ1、
Ｒ2、Ｘは前記に同じ。式（1c）のベンゼン環には、式
（1c）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又
は２個形成されていてもよい）
【００２３】置換基Ｒ3〜Ｒ6において、アルキル基に
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシ
カルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が１〜４程
度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、ア
シル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数１
〜６程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基Ｒ3
〜Ｒ6は、通常、水素原子、炭素数１〜４程度の低級ア
ルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子で
ある場合が多い。Ｒ3〜Ｒ6が互いに結合して形成する環
としては、前記Ｒ1及びＲ2が互いに結合して形成する環
と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２
員環が好ましい。
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシ
カルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が１〜４程
度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、ア
シル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数１
〜６程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基Ｒ3
〜Ｒ6は、通常、水素原子、炭素数１〜４程度の低級ア
ルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子で
ある場合が多い。Ｒ3〜Ｒ6が互いに結合して形成する環
としては、前記Ｒ1及びＲ2が互いに結合して形成する環
と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２
員環が好ましい。
【００２４】好ましいイミド化合物の代表的な例とし
て、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒド
ロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロ
フタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ
−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−
ジヒドロキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒド
ロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどのＸが−
ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；Ｎ−アセトキ
シコハク酸イミド、Ｎ−アセトキシマレイン酸イミド、
Ｎ−アセトキシヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′
−ジアセトキシシクロヘキサンテトラカルボン酸イミ
ド、Ｎ−アセトキシフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテ
トラブロモフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラクロ
ロフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシヘット酸イミド、Ｎ
−アセトキシハイミック酸イミド、Ｎ−アセトキシトリ
メリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシピロメリッ
ト酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシナフタレンテトラ
カルボン酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがアセチ
ル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メトキシメチルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（２−メトキシエトキシメチ
ルオキシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲ
がヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール結合
を形成可能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがス
ルホニル基である化合物；Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミ
ドの硫酸エステル、硝酸エステル、リン酸エステル又は
ホウ酸エステルなどのＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸か
らＯＨ基を除した基である化合物などが挙げられる。
て、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒド
ロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロ
フタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ
−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−
ジヒドロキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒド
ロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどのＸが−
ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；Ｎ−アセトキ
シコハク酸イミド、Ｎ−アセトキシマレイン酸イミド、
Ｎ−アセトキシヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′
−ジアセトキシシクロヘキサンテトラカルボン酸イミ
ド、Ｎ−アセトキシフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテ
トラブロモフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラクロ
ロフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシヘット酸イミド、Ｎ
−アセトキシハイミック酸イミド、Ｎ−アセトキシトリ
メリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシピロメリッ
ト酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシナフタレンテトラ
カルボン酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがアセチ
ル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メトキシメチルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（２−メトキシエトキシメチ
ルオキシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲ
がヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール結合
を形成可能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがス
ルホニル基である化合物；Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミ
ドの硫酸エステル、硝酸エステル、リン酸エステル又は
ホウ酸エステルなどのＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸か
らＯＨ基を除した基である化合物などが挙げられる。
【００２５】前記イミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で
且つＲが水素原子である化合物は、慣用のイミド化反
応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮ
Ｈ2ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経
てイミド化する方法により調製できる。前記酸無水物に
は、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸などの飽和
又は不飽和脂肪族ジカルボン酸無水物、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸（１，２−シク
ロヘキサンジカルボン酸無水物）、１，２，３，４−シ
クロヘキサンテトラカルボン酸１，２−無水物などの飽
和又は不飽和非芳香族性環状多価カルボン酸無水物（脂
環式多価カルボン酸無水物）、無水ヘット酸、無水ハイ
ミック酸などの橋かけ環式多価カルボン酸無水物（脂環
式多価カルボン酸無水物）、無水フタル酸、テトラブロ
モ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水ニト
ロフタル酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセ
ントリカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物が含まれ
る。
且つＲが水素原子である化合物は、慣用のイミド化反
応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮ
Ｈ2ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経
てイミド化する方法により調製できる。前記酸無水物に
は、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸などの飽和
又は不飽和脂肪族ジカルボン酸無水物、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸（１，２−シク
ロヘキサンジカルボン酸無水物）、１，２，３，４−シ
クロヘキサンテトラカルボン酸１，２−無水物などの飽
和又は不飽和非芳香族性環状多価カルボン酸無水物（脂
環式多価カルボン酸無水物）、無水ヘット酸、無水ハイ
ミック酸などの橋かけ環式多価カルボン酸無水物（脂環
式多価カルボン酸無水物）、無水フタル酸、テトラブロ
モ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水ニト
ロフタル酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセ
ントリカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物が含まれ
る。
【００２６】前記イミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で
且つＲがヒドロキシル基の保護基である化合物は、対応
するＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロキシ環状イ
ミド化合物）に、慣用の保護基導入反応を利用して、所
望の保護基を導入することにより調製することができ
る。例えば、Ｎ−アセトキシフタル酸イミドは、Ｎ−ヒ
ドロキシフタル酸イミドに無水酢酸を反応させたり、塩
基の存在下でアセチルハライドを反応させることにより
得ることができる。
且つＲがヒドロキシル基の保護基である化合物は、対応
するＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロキシ環状イ
ミド化合物）に、慣用の保護基導入反応を利用して、所
望の保護基を導入することにより調製することができ
る。例えば、Ｎ−アセトキシフタル酸イミドは、Ｎ−ヒ
ドロキシフタル酸イミドに無水酢酸を反応させたり、塩
基の存在下でアセチルハライドを反応させることにより
得ることができる。
【００２７】特に好ましいイミド化合物は、脂環式多価
カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、な
かでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−
ヒドロキシイミド化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシフタ
ル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシピロメリット酸イ
ミド）；及び該Ｎ−ヒドロキシイミド化合物のヒドロキ
シル基に保護基を導入することにより得られる化合物な
どが含まれる。
カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、な
かでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−
ヒドロキシイミド化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシフタ
ル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシピロメリット酸イ
ミド）；及び該Ｎ−ヒドロキシイミド化合物のヒドロキ
シル基に保護基を導入することにより得られる化合物な
どが含まれる。
【００２８】式（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨
格を有するイミド化合物は、反応において、単独で又は
２種以上組合せて使用できる。前記イミド化合物は反応
系内で生成させてもよい。
格を有するイミド化合物は、反応において、単独で又は
２種以上組合せて使用できる。前記イミド化合物は反応
系内で生成させてもよい。
【００２９】前記イミド化合物の使用量は、広い範囲で
選択でき、例えば、３置換オレフィン１モルに対して
０．００００００１〜１モル、好ましくは０．００００
１〜０．５モル、さらに好ましくは０．０００１〜０．
４モル程度であり、０．００１〜０．３５モル程度であ
る場合が多い。
選択でき、例えば、３置換オレフィン１モルに対して
０．００００００１〜１モル、好ましくは０．００００
１〜０．５モル、さらに好ましくは０．０００１〜０．
４モル程度であり、０．００１〜０．３５モル程度であ
る場合が多い。
【００３０】［（ii）助触媒］本発明では、助触媒（i
i）を前記イミド化合物（i）と組合せて用いることによ
り、穏やかな反応条件においても、速やかに反応を進行
させることができる。
i）を前記イミド化合物（i）と組合せて用いることによ
り、穏やかな反応条件においても、速やかに反応を進行
させることができる。
【００３１】本発明では、助触媒（ii）としてコバルト
化合物を用いる。コバルト化合物としては、コバルトの
単体、水酸化物、酸化物（複合酸化物を含む）、ハロゲ
ン化物（フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物）、オキ
ソ酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸
塩、炭酸塩など）、イソポリ酸の塩、ヘテロポリ酸の塩
などの無機化合物；有機酸塩（例えば、酢酸塩、プロピ
オン酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩な
ど）、錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を
構成する配位子としては、ＯＨ（ヒドロキソ）、アルコ
キシ（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシな
ど）、アシル（アセチル、プロピオニルなど）、アルコ
キシカルボニル（メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニルなど）、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニ
ル基、ハロゲン原子（塩素、臭素など）、ＣＯ、ＣＮ、
酸素原子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホスフィン（トリフェニル
ホスフィンなどのトリアリールホスフィンなど）のリン
化合物、ＮＨ3（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ2（ニトロ）、
ＮＯ3（ニトラト）、エチレンジアミン、ジエチレント
リアミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有
化合物などが挙げられる。
化合物を用いる。コバルト化合物としては、コバルトの
単体、水酸化物、酸化物（複合酸化物を含む）、ハロゲ
ン化物（フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物）、オキ
ソ酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸
塩、炭酸塩など）、イソポリ酸の塩、ヘテロポリ酸の塩
などの無機化合物；有機酸塩（例えば、酢酸塩、プロピ
オン酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩な
ど）、錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を
構成する配位子としては、ＯＨ（ヒドロキソ）、アルコ
キシ（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシな
ど）、アシル（アセチル、プロピオニルなど）、アルコ
キシカルボニル（メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニルなど）、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニ
ル基、ハロゲン原子（塩素、臭素など）、ＣＯ、ＣＮ、
酸素原子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホスフィン（トリフェニル
ホスフィンなどのトリアリールホスフィンなど）のリン
化合物、ＮＨ3（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ2（ニトロ）、
ＮＯ3（ニトラト）、エチレンジアミン、ジエチレント
リアミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有
化合物などが挙げられる。
【００３２】コバルト化合物の具体例としては、例え
ば、水酸化コバルト、酸化コバルト、塩化コバルト、塩
化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫酸コバル
ト、リン酸コバルトなどの無機化合物；酢酸コバルト、
ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトなどの有機
酸塩；ビスアセチルアセトナトコバルト、トリスアセチ
ルアセトナトコバルトなどの錯体等の２価又は３価のコ
バルト化合物などが挙げられる。コバルト化合物は、単
独で又は２以上を混合して使用することができる。
ば、水酸化コバルト、酸化コバルト、塩化コバルト、塩
化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫酸コバル
ト、リン酸コバルトなどの無機化合物；酢酸コバルト、
ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトなどの有機
酸塩；ビスアセチルアセトナトコバルト、トリスアセチ
ルアセトナトコバルトなどの錯体等の２価又は３価のコ
バルト化合物などが挙げられる。コバルト化合物は、単
独で又は２以上を混合して使用することができる。
【００３３】好ましいコバルト化合物には、例えば、有
機酸塩又はアセチルアセトン錯体などが含まれる。より
好ましくは、例えば、酢酸コバルト又はトリスアセチル
アセトナトコバルトなどが用いられる。
機酸塩又はアセチルアセトン錯体などが含まれる。より
好ましくは、例えば、酢酸コバルト又はトリスアセチル
アセトナトコバルトなどが用いられる。
【００３４】コバルト化合物の使用量は、例えば、３置
換オレフィン１モルに対して０．０００００１〜１モ
ル、好ましくは０．００００１〜０．５モル、さらに好
ましくは０．０００１〜０．１モル程度であり、特に
０．００１〜０．０７モル程度である場合が多い。
換オレフィン１モルに対して０．０００００１〜１モ
ル、好ましくは０．００００１〜０．５モル、さらに好
ましくは０．０００１〜０．１モル程度であり、特に
０．００１〜０．０７モル程度である場合が多い。
【００３５】［（Ａ）３置換オレフィン］基質として用
いる３置換オレフィン（Ａ）には、下記式（２）
いる３置換オレフィン（Ａ）には、下記式（２）
【化６】 （式中、Ｒa、Ｒb及びＲcは、同一又は異なって、隣接
する炭素原子との結合部位に炭素原子を有する有機基を
示し、Ｒa、Ｒb及びＲcのうち少なくとも２つの基は、
互いに結合して、二重結合又は隣接する炭素原子と共に
環を形成していてもよい）で表される３置換オレフィン
が含まれる。なお、分子中に複数の３置換オレフィン部
位を有していてもよい。
する炭素原子との結合部位に炭素原子を有する有機基を
示し、Ｒa、Ｒb及びＲcのうち少なくとも２つの基は、
互いに結合して、二重結合又は隣接する炭素原子と共に
環を形成していてもよい）で表される３置換オレフィン
が含まれる。なお、分子中に複数の３置換オレフィン部
位を有していてもよい。
【００３６】前記式中Ｒa、Ｒb及びＲcで示される、隣
接する炭素原子との結合部位に炭素原子を有する有機基
には、炭化水素基及び複素環基が含まれる。炭化水素基
としては、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素
基、芳香族炭化水素基及びこれらの結合した基が挙げら
れる。
接する炭素原子との結合部位に炭素原子を有する有機基
には、炭化水素基及び複素環基が含まれる。炭化水素基
としては、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素
基、芳香族炭化水素基及びこれらの結合した基が挙げら
れる。
【００３７】脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
デシル、ドデシル基などの炭素数１〜２０（好ましくは
１〜１０）程度のアルキル基；ビニル、アリル、１−ブ
テニル、３−メチル−４−ペンテニル基などの炭素数２
〜２０（好ましくは２〜１０）程度のアルケニル基；エ
チニル、プロピニル基などの炭素数２〜２０（好ましく
は２〜１０）程度のアルキニル基などが挙げられる。
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
デシル、ドデシル基などの炭素数１〜２０（好ましくは
１〜１０）程度のアルキル基；ビニル、アリル、１−ブ
テニル、３−メチル−４−ペンテニル基などの炭素数２
〜２０（好ましくは２〜１０）程度のアルケニル基；エ
チニル、プロピニル基などの炭素数２〜２０（好ましく
は２〜１０）程度のアルキニル基などが挙げられる。
【００３８】脂環式炭化水素基としては、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロオクチル基などの３〜２０員（好ましくは３〜１
５員、さらに好ましくは５〜８員）程度のシクロアルキ
ル基；シクロペンテニル、シクロヘキセニル基などの３
〜２０員（好ましくは３〜１５員、さらに好ましくは５
〜８員）程度のシクロアルケニル基などが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチル基など
の炭素数６〜１４（好ましくは６〜１０）程度の芳香族
炭化水素基が挙げられる。
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロオクチル基などの３〜２０員（好ましくは３〜１
５員、さらに好ましくは５〜８員）程度のシクロアルキ
ル基；シクロペンテニル、シクロヘキセニル基などの３
〜２０員（好ましくは３〜１５員、さらに好ましくは５
〜８員）程度のシクロアルケニル基などが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチル基など
の炭素数６〜１４（好ましくは６〜１０）程度の芳香族
炭化水素基が挙げられる。
【００３９】脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とが
結合した炭化水素基には、シクロペンチルメチル、シク
ロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル基などの
シクロアルキル−アルキル基（例えば、Ｃ3-20シクロア
ルキル−Ｃ1-4アルキル基など）などが含まれる。ま
た、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合した
炭化水素基には、アラルキル基（例えば、Ｃ7-18アラル
キル基など）、アルキル置換アリール基（例えば、１〜
４個程度のＣ1-4アルキル基が置換したフェニル基又は
ナフチル基など）などが含まれる。
結合した炭化水素基には、シクロペンチルメチル、シク
ロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル基などの
シクロアルキル−アルキル基（例えば、Ｃ3-20シクロア
ルキル−Ｃ1-4アルキル基など）などが含まれる。ま
た、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合した
炭化水素基には、アラルキル基（例えば、Ｃ7-18アラル
キル基など）、アルキル置換アリール基（例えば、１〜
４個程度のＣ1-4アルキル基が置換したフェニル基又は
ナフチル基など）などが含まれる。
【００４０】前記複素環基を構成する複素環には、芳香
族性複素環及び非芳香族性複素環が含まれる。このよう
な複素環としては、例えば、ヘテロ原子として酸素原子
を含む複素環（例えば、フラン、テトラヒドロフラン、
オキサゾール、イソオキサゾールなどの５員環、４−オ
キソ−４Ｈ−ピラン、テトラヒドロピラン、モルホリン
などの６員環、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、４−
オキソ−４Ｈ−クロメン、クロマン、イソクロマンなど
の縮合環など）、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複
素環（例えば、チオフェン、チアゾール、イソチアゾー
ル、チアジアゾール等の５員環、４−オキソ−４Ｈ−チ
オピランなどの６員環、ベンゾチオフェンなどの縮合環
など）、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環（例え
ば、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、イミダゾー
ル、トリアゾールなどの５員環、ピリジン、ピリダジ
ン、ピリミジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジンな
どの６員環、インドール、インドリン、キノリン、アク
リジン、ナフチリジン、キナゾリン、プリンなどの縮合
環など）などが挙げられる。
族性複素環及び非芳香族性複素環が含まれる。このよう
な複素環としては、例えば、ヘテロ原子として酸素原子
を含む複素環（例えば、フラン、テトラヒドロフラン、
オキサゾール、イソオキサゾールなどの５員環、４−オ
キソ−４Ｈ−ピラン、テトラヒドロピラン、モルホリン
などの６員環、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、４−
オキソ−４Ｈ−クロメン、クロマン、イソクロマンなど
の縮合環など）、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複
素環（例えば、チオフェン、チアゾール、イソチアゾー
ル、チアジアゾール等の５員環、４−オキソ−４Ｈ−チ
オピランなどの６員環、ベンゾチオフェンなどの縮合環
など）、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環（例え
ば、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、イミダゾー
ル、トリアゾールなどの５員環、ピリジン、ピリダジ
ン、ピリミジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジンな
どの６員環、インドール、インドリン、キノリン、アク
リジン、ナフチリジン、キナゾリン、プリンなどの縮合
環など）などが挙げられる。
【００４１】Ｒa、Ｒb及びＲcのうち少なくとも２つの
基が互いに結合して隣接する炭素原子と共に形成しても
よい環としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタ
ン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロヘキセ
ン、シクロオクタン、シクロオクテン、シクロオクタジ
エン、シクロドデカン、シクロドデセン、シクロドデカ
トリエン環などの３〜２０員（好ましくは３〜１５員、
さらに好ましくは５〜１２員）程度の非芳香族性炭素環
（シクロアルカン環、シクロアルケン環又は橋かけ炭素
環）；オキソラン、オキサン、アゾリジン、ペルヒドロ
アジン、チオラン、チアン環などの３〜２０員（好まし
くは３〜１２員、さらに好ましくは３〜８員）程度の非
芳香族性複素環（特に、酸素原子、窒素原子又は硫黄原
子を含む非芳香族性複素環）が挙げられる。
基が互いに結合して隣接する炭素原子と共に形成しても
よい環としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタ
ン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロヘキセ
ン、シクロオクタン、シクロオクテン、シクロオクタジ
エン、シクロドデカン、シクロドデセン、シクロドデカ
トリエン環などの３〜２０員（好ましくは３〜１５員、
さらに好ましくは５〜１２員）程度の非芳香族性炭素環
（シクロアルカン環、シクロアルケン環又は橋かけ炭素
環）；オキソラン、オキサン、アゾリジン、ペルヒドロ
アジン、チオラン、チアン環などの３〜２０員（好まし
くは３〜１２員、さらに好ましくは３〜８員）程度の非
芳香族性複素環（特に、酸素原子、窒素原子又は硫黄原
子を含む非芳香族性複素環）が挙げられる。
【００４２】前記有機基、並びにＲa、Ｒb及びＲcのう
ち少なくとも２つの基が互いに結合して隣接する炭素原
子と共に形成してもよい環は、置換基を有していてもよ
い。このような置換基として、例えば、ハロゲン原子、
ヒドロキシル基、メルカプト基、オキソ基、置換オキシ
基（例えばアルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、ア
リールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基な
ど）、置換チオ基（例えば、アルキルチオ基、シクロア
ルキルチオ基、アリールチオ基など）、カルボキシル
基、置換オキシカルボニル基（例えば、アルキルオキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基など）、置
換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置
換又は無置換アミノ基、スルホ基、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化
水素基、複素環基などが挙げられる。また、前記環に
は、芳香族性又は非芳香族性炭化水素環、芳香族性又は
非芳香族性複素環が縮合していてもよい。
ち少なくとも２つの基が互いに結合して隣接する炭素原
子と共に形成してもよい環は、置換基を有していてもよ
い。このような置換基として、例えば、ハロゲン原子、
ヒドロキシル基、メルカプト基、オキソ基、置換オキシ
基（例えばアルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、ア
リールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基な
ど）、置換チオ基（例えば、アルキルチオ基、シクロア
ルキルチオ基、アリールチオ基など）、カルボキシル
基、置換オキシカルボニル基（例えば、アルキルオキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基など）、置
換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置
換又は無置換アミノ基、スルホ基、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化
水素基、複素環基などが挙げられる。また、前記環に
は、芳香族性又は非芳香族性炭化水素環、芳香族性又は
非芳香族性複素環が縮合していてもよい。
【００４３】本発明では、Ｒa及びＲbのうち少なくとも
一方がメチル基等のＣ1-4アルキル基であるのが好まし
い。
一方がメチル基等のＣ1-4アルキル基であるのが好まし
い。
【００４４】３置換オレフィンの具体的な例として、例
えば、オシメン、ミルセン、ジヒドロミルセン等の脂肪
族炭化水素；３−メチル−３−ヘキセン−１−オール、
２−メチル−２−ヘキセン−１−オール、ゲラニオール
などのヒドロキシル基及びエチレン結合を有する化合
物、１−アセトキシ−３，７−ジメチル−２，６−オク
タジエンなどのアシルオキシ基及びエチレン結合を有す
る化合物等の置換基を有する脂肪族炭化水素；リモネ
ン、テルピネン、テルピノレン、フェランドレン、１−
ｐ−メンテン、３−ｐ−メンテン、１，５，１０−トリ
メチルドデカ−１，５，９−トリエン等の脂環式化合
物；ラパコール、ガルビノキシル、イソアネトール等の
芳香環を有する化合物；アンチピリン、コウジ酸、チミ
ン等の複素環式化合物などが挙げられる。好ましい３置
換オレフィンには、例えば、脂肪族炭化水素、脂環式化
合物などが含まれる。
えば、オシメン、ミルセン、ジヒドロミルセン等の脂肪
族炭化水素；３−メチル−３−ヘキセン−１−オール、
２−メチル−２−ヘキセン−１−オール、ゲラニオール
などのヒドロキシル基及びエチレン結合を有する化合
物、１−アセトキシ−３，７−ジメチル−２，６−オク
タジエンなどのアシルオキシ基及びエチレン結合を有す
る化合物等の置換基を有する脂肪族炭化水素；リモネ
ン、テルピネン、テルピノレン、フェランドレン、１−
ｐ−メンテン、３−ｐ−メンテン、１，５，１０−トリ
メチルドデカ−１，５，９−トリエン等の脂環式化合
物；ラパコール、ガルビノキシル、イソアネトール等の
芳香環を有する化合物；アンチピリン、コウジ酸、チミ
ン等の複素環式化合物などが挙げられる。好ましい３置
換オレフィンには、例えば、脂肪族炭化水素、脂環式化
合物などが含まれる。
【００４５】［（Ｂ）酸素］酸素は、分子状酸素、活性
酸素の何れであってもよい。分子状酸素は、特に制限さ
れず、純粋な酸素を用いてもよく、窒素、ヘリウム、ア
ルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈した酸素や
空気を使用してもよい。酸素として分子状酸素を用いる
場合が多い。
酸素の何れであってもよい。分子状酸素は、特に制限さ
れず、純粋な酸素を用いてもよく、窒素、ヘリウム、ア
ルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈した酸素や
空気を使用してもよい。酸素として分子状酸素を用いる
場合が多い。
【００４６】［反応］反応は溶媒の存在下又は非存在下
で行われる。溶媒としては、例えば、酢酸、プロピオン
酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸；アセトニトリル、
プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類；
ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ヘ
キサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、ニトロメタン、ニト
ロエタンなどのニトロ化合物；酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類；水；これらの混合溶媒などが挙げら
れる。溶媒としては、酢酸、トリフルオロ酢酸などの有
機酸類、アセトニトリルやベンゾニトリルなどのニトリ
ル類、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素、酢酸エチルなどのエステル類などを用いる場合
が多い。
で行われる。溶媒としては、例えば、酢酸、プロピオン
酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸；アセトニトリル、
プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類；
ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ヘ
キサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、ニトロメタン、ニト
ロエタンなどのニトロ化合物；酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類；水；これらの混合溶媒などが挙げら
れる。溶媒としては、酢酸、トリフルオロ酢酸などの有
機酸類、アセトニトリルやベンゾニトリルなどのニトリ
ル類、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素、酢酸エチルなどのエステル類などを用いる場合
が多い。
【００４７】酸素の使用量は、反応性や操作性等を考慮
して適宜選択でき、例えば、３置換オレフィン１モルに
対して０．５モル以上（例えば、１モル以上）、好まし
くは１〜１００モル、さらに好ましくは２〜５０モル程
度である。３置換オレフィンに対して過剰モルの酸素を
使用する場合が多い。
して適宜選択でき、例えば、３置換オレフィン１モルに
対して０．５モル以上（例えば、１モル以上）、好まし
くは１〜１００モル、さらに好ましくは２〜５０モル程
度である。３置換オレフィンに対して過剰モルの酸素を
使用する場合が多い。
【００４８】反応温度は、３置換オレフィン（Ａ）の種
類等に応じて適当に選択できる。反応温度は、例えば、
−１００〜２００℃、好ましくは−２０〜１５０℃、さ
らに好ましくは０〜１００℃程度であり、室温付近でも
円滑に反応が進行する。
類等に応じて適当に選択できる。反応温度は、例えば、
−１００〜２００℃、好ましくは−２０〜１５０℃、さ
らに好ましくは０〜１００℃程度であり、室温付近でも
円滑に反応が進行する。
【００４９】反応圧力は、常圧、加圧下の何れであって
もよい。加圧下で行う場合には、通常、０．１〜１０Ｍ
Ｐａ、好ましくは０．１〜７ＭＰａ程度であり、室温付
近でも円滑に反応が進行する。反応は、回分式、半回分
式、連続式などの慣用の方法により行うことができる。
もよい。加圧下で行う場合には、通常、０．１〜１０Ｍ
Ｐａ、好ましくは０．１〜７ＭＰａ程度であり、室温付
近でも円滑に反応が進行する。反応は、回分式、半回分
式、連続式などの慣用の方法により行うことができる。
【００５０】反応により、３置換オレフィン部位が選択
的にエポキシ化され、対応するエポキシ化合物が生成す
る。例えば、式（２）で表される３置換オレフィンから
は下記式（３）
的にエポキシ化され、対応するエポキシ化合物が生成す
る。例えば、式（２）で表される３置換オレフィンから
は下記式（３）
【化７】 （式中Ｒa、Ｒb及びＲcは前記に同じ）で表されるエポ
キシ化合物が生成する。なお、分子内に３置換オレフィ
ン部位と１又は２置換オレフィン部位とを有する化合物
は、３置換オレフィン部位が選択的にエポキシ化され、
対応するエポキシ化合物が生成する。また、分子内に３
置換オレフィン部位を複数個有する化合物は、１つの３
置換オレフィン部位のみがエポキシ化され、対応するエ
ポキシ化合物が生成する。
キシ化合物が生成する。なお、分子内に３置換オレフィ
ン部位と１又は２置換オレフィン部位とを有する化合物
は、３置換オレフィン部位が選択的にエポキシ化され、
対応するエポキシ化合物が生成する。また、分子内に３
置換オレフィン部位を複数個有する化合物は、１つの３
置換オレフィン部位のみがエポキシ化され、対応するエ
ポキシ化合物が生成する。
【００５１】反応終了後、反応生成物は、例えば、濾
過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、吸着、カラムク
ロマトグラフィーなどの分離手段やこれらを組合せるこ
とにより分離精製できる。
過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、吸着、カラムク
ロマトグラフィーなどの分離手段やこれらを組合せるこ
とにより分離精製できる。
【００５２】この方法によれば、温和な条件下で、３置
換オレフィンを選択的にエポキシ化でき、対応するエポ
キシ化合物を効率よく製造することができる。特に、イ
ミド化合物触媒と助触媒としてコバルト化合物を組み合
わせて用い、酸素により酸化させるため、金属の使用量
を少量に抑えられることから環境上の観点からも好まし
い。
換オレフィンを選択的にエポキシ化でき、対応するエポ
キシ化合物を効率よく製造することができる。特に、イ
ミド化合物触媒と助触媒としてコバルト化合物を組み合
わせて用い、酸素により酸化させるため、金属の使用量
を少量に抑えられることから環境上の観点からも好まし
い。
【００５３】また、３置換オレフィンから対応するエポ
キシ化合物に容易に変換できるため、香料や医薬品など
の精密化学品やその原料の合成に極めて有用である。
キシ化合物に容易に変換できるため、香料や医薬品など
の精密化学品やその原料の合成に極めて有用である。
【００５４】
【発明の効果】本発明の方法によれば、特定構造のイミ
ド化合物触媒と助触媒としてコバルト化合物とを組合
せ、酸化剤として酸素を用いることにより、共酸化剤を
用いることなく、３置換オレフィンが選択的にエポキシ
化されるため、対応するエポキシ化合物を工業的に効率
よく製造できる。また、エポキシアルコールやヒドロキ
シオレフィンなどの反応副生物が生成しにくいため、目
的のエポキシ化合物を収率よく得ることができる。
ド化合物触媒と助触媒としてコバルト化合物とを組合
せ、酸化剤として酸素を用いることにより、共酸化剤を
用いることなく、３置換オレフィンが選択的にエポキシ
化されるため、対応するエポキシ化合物を工業的に効率
よく製造できる。また、エポキシアルコールやヒドロキ
シオレフィンなどの反応副生物が生成しにくいため、目
的のエポキシ化合物を収率よく得ることができる。
【００５５】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。 実施例１ ジヒドロミルセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）・４水和物０．
５ミリモル及びアセトニトリル１５ｍＬの混合物を、酸
素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、２０℃で８時間攪拌し
た。反応液中の生成物をガスクロマトグラフィーで分析
により調べたところ、６，７−エポキシ−３，７−ジメ
チル−１−オクテンが収率５０％で生成していた。ジヒ
ドロミルセンの転化率は９９％であった。
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。 実施例１ ジヒドロミルセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）・４水和物０．
５ミリモル及びアセトニトリル１５ｍＬの混合物を、酸
素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、２０℃で８時間攪拌し
た。反応液中の生成物をガスクロマトグラフィーで分析
により調べたところ、６，７−エポキシ−３，７−ジメ
チル−１−オクテンが収率５０％で生成していた。ジヒ
ドロミルセンの転化率は９９％であった。
【００５６】実施例２ 下記式（４）
【化８】 で表される１，５，１０−トリメチル−１，５，９−シ
クロドデカトリエン２０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシフタ
ルイミド２ミリモル、トリスアセチルアセトナトコバル
ト（III）０．８ミリモル、酢酸コバルト（II）・４水
和物０．１６ミリモル及びアセトニトリル３０ｍＬの混
合物を、酸素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、２５℃で４時
間攪拌した。反応液中の生成物をガスクロマトグラフィ
ーで分析により調べたところ、下記式（５）
クロドデカトリエン２０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシフタ
ルイミド２ミリモル、トリスアセチルアセトナトコバル
ト（III）０．８ミリモル、酢酸コバルト（II）・４水
和物０．１６ミリモル及びアセトニトリル３０ｍＬの混
合物を、酸素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、２５℃で４時
間攪拌した。反応液中の生成物をガスクロマトグラフィ
ーで分析により調べたところ、下記式（５）
【化９】 で表される９，１０−エポキシ−１，６，９−トリメチ
ル−１，５−シクロドデカジエン、９，１０−エポキシ
−１，５，１０−トリメチル−１，５−シクロドデカジ
エン及び９，１０−エポキシ−２，５，１０−トリメチ
ル−１，５−シクロドデカジエンの３種の位置異性体混
合物が収率５０％で生成していた。１，５，１０−トリ
メチル−１，５，９−シクロドデカトリエンの転化率は
９９％であった。
ル−１，５−シクロドデカジエン、９，１０−エポキシ
−１，５，１０−トリメチル−１，５−シクロドデカジ
エン及び９，１０−エポキシ−２，５，１０−トリメチ
ル−１，５−シクロドデカジエンの３種の位置異性体混
合物が収率５０％で生成していた。１，５，１０−トリ
メチル−１，５，９−シクロドデカトリエンの転化率は
９９％であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C048 AA01 AA02 BB02 BC01 CC01 UU03 UU04 XX02 XX05 4G069 AA06 BA21A BA21B BA27A BA27B BB04A BB05A BB08A BB10A BB12A BB14A BC67A BC67B BD12A BD13A BE08A BE08B BE11A BE11B BE19A BE19B CB07 CB73
Claims (5)
- 【請求項１】 （i）下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（ii）
助触媒としてコバルト化合物を用いて、（Ａ）３置換オ
レフィンと（Ｂ）酸素とを反応させ、３置換オレフィン
部位がエポキシ化されたエポキシ化合物を得るエポキシ
化合物の製造方法。 - 【請求項２】 イミド化合物（i）が、下記式（１） 【化２】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を
示す）を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに
結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳
香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環
状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい］
で表される化合物である請求項１記載のエポキシ化合物
の製造方法。 - 【請求項３】 助触媒（ii）がコバルトの有機酸塩又は
アセチルアセトン錯体である請求項１記載のエポキシ化
合物の製造方法。 - 【請求項４】 分子内に３置換オレフィン部位と１又は
２置換オレフィン部位とを有する化合物（Ａ１）と酸素
（Ｂ）とを反応させて、３置換オレフィン部位のみが選
択的にエポキシ化されたエポキシ化合物を得る請求項１
記載のエポキシ化合物の製造方法。 - 【請求項５】 分子内に３置換オレフィン部位を複数個
有する化合物（Ａ２）と酸素（Ｂ）とを反応させて、１
つの３置換オレフィン部位のみがエポキシ化されたエポ
キシ化合物を得る請求項１記載のエポキシ化合物の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001113456A JP2002308861A (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | エポキシ化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001113456A JP2002308861A (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | エポキシ化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002308861A true JP2002308861A (ja) | 2002-10-23 |
Family
ID=18964671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001113456A Pending JP2002308861A (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | エポキシ化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002308861A (ja) |
-
2001
- 2001-04-12 JP JP2001113456A patent/JP2002308861A/ja active Pending
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