JP2001354611A - 共役不飽和カルボニル化合物の製造法 - Google Patents
共役不飽和カルボニル化合物の製造法Info
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 共役不飽和カルボニル化合物を温和な条件で
生産効率よく製造する。 【解決手段】 本発明の共役不飽和カルボニル化合物の
製造法では、下記式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は、水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基などを示し、Ｒ1及びＲ2は互いに結
合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環
を形成してもよい。Ｘは酸素原子又はヒドロキシル基を
示す）で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以下の酸
のコバルト（II）塩とで構成された触媒の存在下、炭素
−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化
合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子にオ
キソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化合
物を生成させる。前記炭素−炭素二重結合の隣接位にメ
チレン基を有する不飽和化合物として、例えば、環に炭
素−炭素二重結合を有する単環又は多環式化合物などが
使用できる。
生産効率よく製造する。 【解決手段】 本発明の共役不飽和カルボニル化合物の
製造法では、下記式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は、水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基などを示し、Ｒ1及びＲ2は互いに結
合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環
を形成してもよい。Ｘは酸素原子又はヒドロキシル基を
示す）で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以下の酸
のコバルト（II）塩とで構成された触媒の存在下、炭素
−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化
合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子にオ
キソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化合
物を生成させる。前記炭素−炭素二重結合の隣接位にメ
チレン基を有する不飽和化合物として、例えば、環に炭
素−炭素二重結合を有する単環又は多環式化合物などが
使用できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は共役不飽和カルボニ
ル化合物の製造法、より詳細には、炭素−炭素二重結合
の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を酸素によ
り酸化して対応する共役不飽和カルボニル化合物を製造
する方法に関する。
ル化合物の製造法、より詳細には、炭素−炭素二重結合
の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を酸素によ
り酸化して対応する共役不飽和カルボニル化合物を製造
する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】共役不飽和カルボニル化合物は香料、医
薬、農薬その他の精密化学品又はそれらの原料などとし
て有用である。例えば、セスキテルペンケトンの１種で
あるヌートカトンは、グレープフルーツの特徴的な香味
を有する天然香料物質として知られている。しかしなが
ら、この化合物は天然にはグレープフルーツ油成分中に
１％以下しか含有されておらず入手が極めて困難であ
る。
薬、農薬その他の精密化学品又はそれらの原料などとし
て有用である。例えば、セスキテルペンケトンの１種で
あるヌートカトンは、グレープフルーツの特徴的な香味
を有する天然香料物質として知られている。しかしなが
ら、この化合物は天然にはグレープフルーツ油成分中に
１％以下しか含有されておらず入手が極めて困難であ
る。
【０００３】上記ヌートカトンの製造法として、柑橘精
製油より単離した（＋）−バレンセンを四塩化炭素、酢
酸及び無水酢酸の混合溶媒中、クロム酸ソーダやクロム
酸ｔ−ブチルで酸化する方法が知られている。しかし、
この方法は、毒性の高いクロム化合物を酸化剤として多
量に用いる必要があるだけでなく、反応時間が長く生産
効率が低いという問題がある。
製油より単離した（＋）−バレンセンを四塩化炭素、酢
酸及び無水酢酸の混合溶媒中、クロム酸ソーダやクロム
酸ｔ−ブチルで酸化する方法が知られている。しかし、
この方法は、毒性の高いクロム化合物を酸化剤として多
量に用いる必要があるだけでなく、反応時間が長く生産
効率が低いという問題がある。
【０００４】特公平２−１６７３９号公報には、バレン
センを、不活性有機溶媒中、周期律表第VIII族金属の有
機酸塩又は錯体の存在下に、酸素又は酸素含有ガスで酸
化することを特徴とするヌートカトンの製造法が開示さ
れている。この方法は、酸素を酸化剤として用いるため
工業的に有利であるが、反応に長時間を要するため、生
産性が低い。
センを、不活性有機溶媒中、周期律表第VIII族金属の有
機酸塩又は錯体の存在下に、酸素又は酸素含有ガスで酸
化することを特徴とするヌートカトンの製造法が開示さ
れている。この方法は、酸素を酸化剤として用いるため
工業的に有利であるが、反応に長時間を要するため、生
産性が低い。
【０００５】特開昭６１−２３８７３３号公報には、バ
レンセンなどの少なくとも１個のアリル性水素原子を有
するイソプレノイドを、不活性ケトン又はエステル中
で、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物触
媒の存在下、酸素により酸化してヒドロペルオキシドを
生成させ、次いでこのヒドロペルオキシドを脱水させる
ことによりヌートカトンなどの共役不飽和カルボニル化
合物を製造する方法が提案されている。しかし、この方
法は、２段階の反応を行わなければならず、しかも上記
と同様、反応に長時間を要するという問題を有する。
レンセンなどの少なくとも１個のアリル性水素原子を有
するイソプレノイドを、不活性ケトン又はエステル中
で、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物触
媒の存在下、酸素により酸化してヒドロペルオキシドを
生成させ、次いでこのヒドロペルオキシドを脱水させる
ことによりヌートカトンなどの共役不飽和カルボニル化
合物を製造する方法が提案されている。しかし、この方
法は、２段階の反応を行わなければならず、しかも上記
と同様、反応に長時間を要するという問題を有する。
【０００６】特開平９−３２７６２６号公報には、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物を触媒と
し、遷移金属化合物等を助触媒として用いて、種々の基
質を酸素で酸化する方法が開示されている。この文献の
実施例では、シクロヘキセンを、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミドとコバルト（II）アセチルアセトナトの存在下、
酸素雰囲気中１００℃で６時間反応させることにより、
２−シクロヘキセン−１−オンを収率６５％、２−シク
ロヘキセン−１−オールを収率１３％で得ている（実施
例C1）。この方法は、有毒な化合物を用いる必要がな
く、酸素により比較的短時間で対応する酸化生成物を得
ることができるため工業的に優れた方法である。しか
し、操作性及びコストダウンの観点から、より温和な条
件で生産効率よく共役不飽和カルボニル化合物を製造で
きる方法が求められている。
ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物を触媒と
し、遷移金属化合物等を助触媒として用いて、種々の基
質を酸素で酸化する方法が開示されている。この文献の
実施例では、シクロヘキセンを、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミドとコバルト（II）アセチルアセトナトの存在下、
酸素雰囲気中１００℃で６時間反応させることにより、
２−シクロヘキセン−１−オンを収率６５％、２−シク
ロヘキセン−１−オールを収率１３％で得ている（実施
例C1）。この方法は、有毒な化合物を用いる必要がな
く、酸素により比較的短時間で対応する酸化生成物を得
ることができるため工業的に優れた方法である。しか
し、操作性及びコストダウンの観点から、より温和な条
件で生産効率よく共役不飽和カルボニル化合物を製造で
きる方法が求められている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、共役不飽和カルボニル化合物を温和な条件で生産効
率よく製造できる方法を提供することにある。
は、共役不飽和カルボニル化合物を温和な条件で生産効
率よく製造できる方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため鋭意検討した結果、特定構造のイミド化
合物と特定の金属化合物とを組み合わせた触媒の存在
下、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する
不飽和化合物を酸素と反応させると、該メチレン基の炭
素原子にオキソ基が導入された対応する共役不飽和カル
ボニル化合物が温和な条件で速やかに生成することを見
出し、本発明を完成した。
を達成するため鋭意検討した結果、特定構造のイミド化
合物と特定の金属化合物とを組み合わせた触媒の存在
下、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する
不飽和化合物を酸素と反応させると、該メチレン基の炭
素原子にオキソ基が導入された対応する共役不飽和カル
ボニル化合物が温和な条件で速やかに生成することを見
出し、本発明を完成した。
【０００９】すなわち、本発明は、下記式（１）
【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
ヒドロキシル基を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2
が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若し
くは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ
−置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていて
もよい）で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以下の
酸のコバルト（II）塩とで構成された触媒の存在下、炭
素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和
化合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子に
オキソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化
合物を生成させる共役不飽和カルボニル化合物の製造法
を提供する。
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
ヒドロキシル基を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2
が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若し
くは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ
−置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていて
もよい）で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以下の
酸のコバルト（II）塩とで構成された触媒の存在下、炭
素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和
化合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子に
オキソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化
合物を生成させる共役不飽和カルボニル化合物の製造法
を提供する。
【００１０】前記炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレ
ン基を有する不飽和化合物として、例えば、環に炭素−
炭素二重結合を有する単環又は多環式化合物などが使用
できる。上記方法において、バレンセンを酸素と反応さ
せてヌートカトンを生成させてもよい。また、式（１）
で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以下の酸のコバ
ルト（II）塩と、さらにその他の遷移金属化合物とで構
成された触媒の存在下で反応を行ってもよい。なお、本
明細書において、「炭素−炭素二重結合の隣接位にメチ
レン基を有する不飽和化合物」を単に「基質」と称する
場合がある。
ン基を有する不飽和化合物として、例えば、環に炭素−
炭素二重結合を有する単環又は多環式化合物などが使用
できる。上記方法において、バレンセンを酸素と反応さ
せてヌートカトンを生成させてもよい。また、式（１）
で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以下の酸のコバ
ルト（II）塩と、さらにその他の遷移金属化合物とで構
成された触媒の存在下で反応を行ってもよい。なお、本
明細書において、「炭素−炭素二重結合の隣接位にメチ
レン基を有する不飽和化合物」を単に「基質」と称する
場合がある。
【００１１】
【発明の実施の形態】［基質］本発明では、基質として
炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽
和化合物を用いる。このような化合物には、環に炭素−
炭素二重結合を有する単環又は多環式不飽和化合物及び
鎖状不飽和化合物が含まれる。なお、前記メチレン基
は、炭素原子に少なくとも２つの水素原子が結合した基
を意味し、メチル基も含まれるものとする。
炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽
和化合物を用いる。このような化合物には、環に炭素−
炭素二重結合を有する単環又は多環式不飽和化合物及び
鎖状不飽和化合物が含まれる。なお、前記メチレン基
は、炭素原子に少なくとも２つの水素原子が結合した基
を意味し、メチル基も含まれるものとする。
【００１２】環に炭素−炭素二重結合を有する単環又は
多環式不飽和化合物には、例えば、シクロプロペン、シ
クロブテン、シクロペンテン、シクロオクテン、シクロ
ヘキセン、イソホロン、シクロヘプテン、シクロドデカ
エン、シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエ
ン、１，５−シクロオクタジエン等のシクロアルケン類
のほか、リモネン、α−テルピネン、β−テルピネン、
γ−テルピネン、テルピノレン、１−ｐ−メンテン、３
−ｐ−メンテン、ｃｉｓ−カルベオール、ｔｒａｎｓ−
カルベオール、ジヒドロミルセン等のテルペン類などの
単環式化合物；α−ピネン、α−セドレン、バレンセ
ン、イソロンギホレン等のテルペン類、コレステロー
ル、コレステロールエステル等のステロイド類などの多
環式化合物が含まれる。
多環式不飽和化合物には、例えば、シクロプロペン、シ
クロブテン、シクロペンテン、シクロオクテン、シクロ
ヘキセン、イソホロン、シクロヘプテン、シクロドデカ
エン、シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエ
ン、１，５−シクロオクタジエン等のシクロアルケン類
のほか、リモネン、α−テルピネン、β−テルピネン、
γ−テルピネン、テルピノレン、１−ｐ−メンテン、３
−ｐ−メンテン、ｃｉｓ−カルベオール、ｔｒａｎｓ−
カルベオール、ジヒドロミルセン等のテルペン類などの
単環式化合物；α−ピネン、α−セドレン、バレンセ
ン、イソロンギホレン等のテルペン類、コレステロー
ル、コレステロールエステル等のステロイド類などの多
環式化合物が含まれる。
【００１３】前記鎖状不飽和化合物としては、例えば、
プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、
イソプレン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、１，５−ヘ
キサジエン、１−オクテン、２−オクテン、３−オクテ
ン、１−ノネン、２−ノネン、デカエン、ドデカエン、
ウンデカトリエン等のアルケン類のほか、ゲラニオー
ル、ゲラニオールエステル、シトロネロール、シトロネ
ロールエステル、ネロール、ネロールエステル、リナロ
オール、リナロオールエステル、シトラール、シトラー
ルエステル、シトロネラール、シトロネラールエステル
等のテルペン類などが例示できる。
プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、
イソプレン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、１，５−ヘ
キサジエン、１−オクテン、２−オクテン、３−オクテ
ン、１−ノネン、２−ノネン、デカエン、ドデカエン、
ウンデカトリエン等のアルケン類のほか、ゲラニオー
ル、ゲラニオールエステル、シトロネロール、シトロネ
ロールエステル、ネロール、ネロールエステル、リナロ
オール、リナロオールエステル、シトラール、シトラー
ルエステル、シトロネラール、シトロネラールエステル
等のテルペン類などが例示できる。
【００１４】これらの化合物は、種々の置換基、例え
ば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、メルカ
プト基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アシルオキシ基など）、置換チオ基、カル
ボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換又は無置換
カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換
アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基
（例えば、フェニル、ナフチル基など）、アラルキル
基、複素環基などを有していてもよい。また、上記化合
物において光学異性体等の異性体が存在する場合、原料
として何れか１つの異性体を用いてもよく、複数の異性
体の混合物を用いてもよい。
ば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、メルカ
プト基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アシルオキシ基など）、置換チオ基、カル
ボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換又は無置換
カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換
アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基
（例えば、フェニル、ナフチル基など）、アラルキル
基、複素環基などを有していてもよい。また、上記化合
物において光学異性体等の異性体が存在する場合、原料
として何れか１つの異性体を用いてもよく、複数の異性
体の混合物を用いてもよい。
【００１５】上記の化合物の中でも環に炭素−炭素二重
結合を有する単環又は多環式化合物が好ましい。また、
反応生成物の有用性等の点からはバレンセンなどのテル
ペン類やステロイド類等のイソプレノイドに属する化合
物が好ましい。
結合を有する単環又は多環式化合物が好ましい。また、
反応生成物の有用性等の点からはバレンセンなどのテル
ペン類やステロイド類等のイソプレノイドに属する化合
物が好ましい。
【００１６】［イミド化合物］本発明の重要な特徴は、
触媒として、前記式（１）で表されるイミド化合物とｐ
Ｋａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩（２価のコバル
ト塩）とを組み合わせて用いる点にある。
触媒として、前記式（１）で表されるイミド化合物とｐ
Ｋａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩（２価のコバル
ト塩）とを組み合わせて用いる点にある。
【００１７】前記式（１）において、置換基Ｒ1及びＲ2
のうちハロゲン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフ
ッ素原子が含まれる。アルキル基には、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル基な
どの炭素数１〜１０程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル
基が含まれる。好ましいアルキル基としては、例えば、
炭素数１〜６程度、特に炭素数１〜４程度の低級アルキ
ル基が挙げられる。
のうちハロゲン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフ
ッ素原子が含まれる。アルキル基には、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル基な
どの炭素数１〜１０程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル
基が含まれる。好ましいアルキル基としては、例えば、
炭素数１〜６程度、特に炭素数１〜４程度の低級アルキ
ル基が挙げられる。
【００１８】アリール基には、フェニル、ナフチル基な
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜
１０程度、好ましくは炭素数１〜６程度、特に炭素数１
〜４程度の低級アルコキシ基が含まれる。
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜
１０程度、好ましくは炭素数１〜６程度、特に炭素数１
〜４程度の低級アルコキシ基が含まれる。
【００１９】アルコキシカルボニル基には、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ
部分の炭素数が１〜１０程度のアルコキシカルボニル基
が含まれる。好ましいカルボニル基にはアルコキシ部分
の炭素数が１〜６程度、特に１〜４程度の低級アルコキ
シカルボニル基が含まれる。アシル基としては、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル基な
どの炭素数１〜６程度のアシル基が例示できる。
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ
部分の炭素数が１〜１０程度のアルコキシカルボニル基
が含まれる。好ましいカルボニル基にはアルコキシ部分
の炭素数が１〜６程度、特に１〜４程度の低級アルコキ
シカルボニル基が含まれる。アシル基としては、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル基な
どの炭素数１〜６程度のアシル基が例示できる。
【００２０】前記置換基Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっ
ていてもよい。また、前記式（１）において、Ｒ1及び
Ｒ2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。前記環は、
芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置
換基を有していてもよい。前記式（１）において、Ｘは
酸素原子又はヒドロキシル基を示し、窒素原子ＮとＸと
の結合は単結合又は二重結合である。
ていてもよい。また、前記式（１）において、Ｒ1及び
Ｒ2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。前記環は、
芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置
換基を有していてもよい。前記式（１）において、Ｘは
酸素原子又はヒドロキシル基を示し、窒素原子ＮとＸと
の結合は単結合又は二重結合である。
【００２１】前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに結
合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香
族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状
イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい。例
えば、Ｒ1又はＲ2が炭素数２以上のアルキル基である場
合、このアルキル基を構成する隣接する２つの炭素原子
を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていても
よい。また、Ｒ1及びＲ2が互いに結合して二重結合を形
成する場合、該二重結合を含んで前記Ｎ−置換環状イミ
ド基が形成されていてもよい。さらに、Ｒ1及びＲ2が互
いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成す
る場合、該環を構成する隣接する２つの炭素原子を含ん
で前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。
合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香
族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状
イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい。例
えば、Ｒ1又はＲ2が炭素数２以上のアルキル基である場
合、このアルキル基を構成する隣接する２つの炭素原子
を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていても
よい。また、Ｒ1及びＲ2が互いに結合して二重結合を形
成する場合、該二重結合を含んで前記Ｎ−置換環状イミ
ド基が形成されていてもよい。さらに、Ｒ1及びＲ2が互
いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成す
る場合、該環を構成する隣接する２つの炭素原子を含ん
で前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。
【００２２】好ましいイミド化合物には、下記式で表さ
れる化合物が含まれる。
れる化合物が含まれる。
【化３】 （式中、Ｒ3〜Ｒ6は、同一又は異なって、水素原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。Ｒ3〜Ｒ6は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式
（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素原子を示す。Ｒ1、
Ｒ2、Ｘは前記に同じ。式（1c）のベンゼン環には、式
（1c）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又
は２個形成されていてもよい）
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。Ｒ3〜Ｒ6は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式
（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素原子を示す。Ｒ1、
Ｒ2、Ｘは前記に同じ。式（1c）のベンゼン環には、式
（1c）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又
は２個形成されていてもよい）
【００２３】置換基Ｒ3〜Ｒ6において、アルキル基に
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシ
カルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が１〜４程
度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、ア
シル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数１
〜６程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基Ｒ3
〜Ｒ6は、通常、水素原子、炭素数１〜４程度の低級ア
ルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子で
ある場合が多い。Ｒ3〜Ｒ6が互いに結合して形成する環
としては、前記Ｒ1及びＲ2が互いに結合して形成する環
と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２
員環が好ましい。
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシ
カルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が１〜４程
度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、ア
シル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数１
〜６程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基Ｒ3
〜Ｒ6は、通常、水素原子、炭素数１〜４程度の低級ア
ルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子で
ある場合が多い。Ｒ3〜Ｒ6が互いに結合して形成する環
としては、前記Ｒ1及びＲ2が互いに結合して形成する環
と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２
員環が好ましい。
【００２４】好ましいイミド化合物の代表的な例とし
て、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒド
ロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロ
フタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ
−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−
ジヒドロキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒド
ロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどが挙げら
れる。
て、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒド
ロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロ
フタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ
−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−
ジヒドロキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒド
ロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどが挙げら
れる。
【００２５】前記イミド化合物は、慣用のイミド化反
応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮ
Ｈ2ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経
てイミド化する方法により調製できる。
応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮ
Ｈ2ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経
てイミド化する方法により調製できる。
【００２６】前記酸無水物には、例えば、無水コハク
酸、無水マレイン酸などの飽和又は不飽和脂肪族ジカル
ボン酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸（１，２−シクロヘキサンジカルボン酸
無水物）、１，２，３，４−シクロヘキサンテトラカル
ボン酸１，２−無水物などの飽和又は不飽和非芳香族性
環状多価カルボン酸無水物（脂環式多価カルボン酸無水
物）、無水ヘット酸、無水ハイミック酸などの橋かけ環
式多価カルボン酸無水物（脂環式多価カルボン酸無水
物）、無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、無水ニトロフタル酸、無水トリ
メリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水
物、無水ピロメリット酸、無水メリト酸、１，８；４，
５−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物などの芳香族
多価カルボン酸無水物が含まれる。
酸、無水マレイン酸などの飽和又は不飽和脂肪族ジカル
ボン酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸（１，２−シクロヘキサンジカルボン酸
無水物）、１，２，３，４−シクロヘキサンテトラカル
ボン酸１，２−無水物などの飽和又は不飽和非芳香族性
環状多価カルボン酸無水物（脂環式多価カルボン酸無水
物）、無水ヘット酸、無水ハイミック酸などの橋かけ環
式多価カルボン酸無水物（脂環式多価カルボン酸無水
物）、無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、無水ニトロフタル酸、無水トリ
メリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水
物、無水ピロメリット酸、無水メリト酸、１，８；４，
５−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物などの芳香族
多価カルボン酸無水物が含まれる。
【００２７】特に好ましいイミド化合物は、脂環式多価
カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、な
かでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−
ヒドロキシイミド化合物、例えばＮ−ヒドロキシフタル
酸イミドなどが含まれる。
カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、な
かでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−
ヒドロキシイミド化合物、例えばＮ−ヒドロキシフタル
酸イミドなどが含まれる。
【００２８】式（１）で表されるイミド化合物は、単独
で又は２種以上組み合わせて使用できる。式（１）で表
されるイミド化合物は、担体に担持した形態で用いても
よい。担体としては、活性炭、ゼオライト、シリカ、シ
リカ−アルミナ、ベントナイトなどの多孔質担体を用い
る場合が多い。
で又は２種以上組み合わせて使用できる。式（１）で表
されるイミド化合物は、担体に担持した形態で用いても
よい。担体としては、活性炭、ゼオライト、シリカ、シ
リカ−アルミナ、ベントナイトなどの多孔質担体を用い
る場合が多い。
【００２９】前記イミド化合物の使用量は、広い範囲で
選択でき、例えば、基質１モルに対して０．０００１〜
１モル、好ましくは０．００１〜０．５モル、さらに好
ましくは０．０１〜０．４モル程度であり、０．０５〜
０．３５モル程度である場合が多い。
選択でき、例えば、基質１モルに対して０．０００１〜
１モル、好ましくは０．００１〜０．５モル、さらに好
ましくは０．０１〜０．４モル程度であり、０．０５〜
０．３５モル程度である場合が多い。
【００３０】［コバルト（II）塩］前記ｐＫａ８．０以
下の酸のコバルト（II）塩におけるｐＫａ８．０以下の
酸には、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、クロ
ロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、２
−エチルヘキサン酸、ステアリン酸、ナフテン酸、乳
酸、シュウ酸、安息香酸などのカルボン酸や、メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸；
塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、リン酸、ホウ酸や、リンモリ
ブデン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸等
のヘテロポリ酸などの無機酸が含まれる。
下の酸のコバルト（II）塩におけるｐＫａ８．０以下の
酸には、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、クロ
ロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、２
−エチルヘキサン酸、ステアリン酸、ナフテン酸、乳
酸、シュウ酸、安息香酸などのカルボン酸や、メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸；
塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、リン酸、ホウ酸や、リンモリ
ブデン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸等
のヘテロポリ酸などの無機酸が含まれる。
【００３１】代表的な前記コバルト（II）塩として、例
えば、酢酸コバルト（II）、プロピオン酸コバルト（I
I）、ステアリン酸コバルト（II）、ナフテン酸コバル
ト（II）、メタンスルホン酸コバルト（II）、ｐ−トル
エンスルホン酸コバルト（II）などの２価のコバルトの
有機酸塩；塩化コバルト（II）、硫酸コバルト（II）、
硝酸コバルト（II）、リン酸コバルト（II）、リンモリ
ブデン酸コバルト（II）などの２価のコバルトの無機酸
塩などが挙げられる。
えば、酢酸コバルト（II）、プロピオン酸コバルト（I
I）、ステアリン酸コバルト（II）、ナフテン酸コバル
ト（II）、メタンスルホン酸コバルト（II）、ｐ−トル
エンスルホン酸コバルト（II）などの２価のコバルトの
有機酸塩；塩化コバルト（II）、硫酸コバルト（II）、
硝酸コバルト（II）、リン酸コバルト（II）、リンモリ
ブデン酸コバルト（II）などの２価のコバルトの無機酸
塩などが挙げられる。
【００３２】これらのコバルト（II）塩の中でも、２価
のコバルトの有機酸塩が好ましく、特に酢酸コバルト
（II）などの２価のコバルトのカルボン酸塩が好まし
い。前記コバルト（II）塩のｐＫａは、好ましくは６．
０以下（例えば、−１２〜６．０）、さらに好ましくは
０〜６．０程度である。前記ｐＫａ８．０以下の酸のコ
バルト（II）塩は単独で又は２種以上組み合わせて使用
できる。
のコバルトの有機酸塩が好ましく、特に酢酸コバルト
（II）などの２価のコバルトのカルボン酸塩が好まし
い。前記コバルト（II）塩のｐＫａは、好ましくは６．
０以下（例えば、−１２〜６．０）、さらに好ましくは
０〜６．０程度である。前記ｐＫａ８．０以下の酸のコ
バルト（II）塩は単独で又は２種以上組み合わせて使用
できる。
【００３３】ｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩
は、必ずしもそのものを系内に添加する必要はなく、系
内で生成させて使用してもよい。例えば、ｐＫａが８．
０を超える酸のコバルト（II）塩（若しくは錯体）［例
えば、コバルト（II）アセチルアセトナトなど］や、そ
の他の２価のコバルト化合物［例えば、酸化コバルト
（II）など］と、ｐＫａ８．０以下の酸（例えば、酢酸
など）とを系内で共存させることによりｐＫａ８．０以
下の酸のコバルト（II）塩を生成させることができる。
は、必ずしもそのものを系内に添加する必要はなく、系
内で生成させて使用してもよい。例えば、ｐＫａが８．
０を超える酸のコバルト（II）塩（若しくは錯体）［例
えば、コバルト（II）アセチルアセトナトなど］や、そ
の他の２価のコバルト化合物［例えば、酸化コバルト
（II）など］と、ｐＫａ８．０以下の酸（例えば、酢酸
など）とを系内で共存させることによりｐＫａ８．０以
下の酸のコバルト（II）塩を生成させることができる。
【００３４】前記ｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（I
I）塩の使用量は、例えば、基質１モルに対して０．０
００１〜０．７モル、好ましくは０．００１〜０．５モ
ル、さらに好ましくは０．００２〜０．１モル程度であ
り、０．００５〜０．０５モル程度である場合が多い。
I）塩の使用量は、例えば、基質１モルに対して０．０
００１〜０．７モル、好ましくは０．００１〜０．５モ
ル、さらに好ましくは０．００２〜０．１モル程度であ
り、０．００５〜０．０５モル程度である場合が多い。
【００３５】なお、ｐＫａ８．０以下の酸のコバルト
（II）塩の代わりに、ｐＫａが８．０を超える酸のコバ
ルト（II）塩を用いた場合には、反応速度が著しく低下
し、温和な条件で目的の共役不飽和カルボニル化合物を
生産効率よく得ることはできない。
（II）塩の代わりに、ｐＫａが８．０を超える酸のコバ
ルト（II）塩を用いた場合には、反応速度が著しく低下
し、温和な条件で目的の共役不飽和カルボニル化合物を
生産効率よく得ることはできない。
【００３６】［その他の遷移金属化合物］本発明では、
前記式（１）で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以
下の酸のコバルト（II）塩に加え、第３の触媒成分とし
て、その他の遷移金属化合物を併用してもよい。なお、
「その他の遷移金属化合物」とは、「ｐＫａ８．０以下
の酸のコバルト（II）塩」以外の遷移金属化合物を意味
する。前記その他の遷移金属化合物を併用すると、反応
開始時の誘導期が短縮され、室温付近の極めて温和な温
度条件下でも、短時間のうちに反応を終了させることが
できる。
前記式（１）で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以
下の酸のコバルト（II）塩に加え、第３の触媒成分とし
て、その他の遷移金属化合物を併用してもよい。なお、
「その他の遷移金属化合物」とは、「ｐＫａ８．０以下
の酸のコバルト（II）塩」以外の遷移金属化合物を意味
する。前記その他の遷移金属化合物を併用すると、反応
開始時の誘導期が短縮され、室温付近の極めて温和な温
度条件下でも、短時間のうちに反応を終了させることが
できる。
【００３７】前記その他の遷移金属化合物における遷移
金属元素には、周期表３族元素（Ｓｃ、ランタノイド元
素、アクチノイド元素など）、４族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、
Ｈｆなど）、５族元素（Ｖなど）、６族元素（Ｃｒ、Ｍ
ｏ、Ｗなど）、７族元素（Ｍｎなど）、８族元素（Ｆ
ｅ、Ｒｕなど）、９族元素（Ｃｏ、Ｒｈなど）、１０族
元素（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔなど）、１１族元素（Ｃｕな
ど）、１２族元素（Ｚｎなど）などが含まれる。これら
の中でもＶ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｕなど
の周期表５族〜９族元素が好ましく、特にＣｏが好まし
い。
金属元素には、周期表３族元素（Ｓｃ、ランタノイド元
素、アクチノイド元素など）、４族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、
Ｈｆなど）、５族元素（Ｖなど）、６族元素（Ｃｒ、Ｍ
ｏ、Ｗなど）、７族元素（Ｍｎなど）、８族元素（Ｆ
ｅ、Ｒｕなど）、９族元素（Ｃｏ、Ｒｈなど）、１０族
元素（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔなど）、１１族元素（Ｃｕな
ど）、１２族元素（Ｚｎなど）などが含まれる。これら
の中でもＶ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｕなど
の周期表５族〜９族元素が好ましく、特にＣｏが好まし
い。
【００３８】前記その他の遷移金属化合物としては、例
えば、前記遷移金属元素の水酸化物、酸化物（複合酸化
物を含む）、ハロゲン化物（フッ化物、塩化物、臭化
物、ヨウ化物）、オキソ酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸
塩、リン酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩など）、イソポリ酸の
塩、ヘテロポリ酸の塩などの無機化合物；有機酸塩（例
えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、青酸塩、ナフテン酸
塩、ステアリン酸塩など）、錯体などの有機化合物が挙
げられる。前記錯体を構成する配位子としては、ＯＨ
（ヒドロキソ）、アルコキシ（メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、ブトキシなど）、アシル（アセチル、プロピ
オニルなど）、アルコキシカルボニル（メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニルなど）、アセチルアセトナ
ト、シクロペンタジエニル基、ハロゲン原子（塩素、臭
素など）、ＣＯ、ＣＮ、酸素原子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホ
スフィン（トリフェニルホスフィンなどのトリアリール
ホスフィンなど）のリン化合物、ＮＨ3（アンミン）、
ＮＯ、ＮＯ2（ニトロ）、ＮＯ3（ニトラト）、エチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン、ピリジン、フェナン
トロリンなどの窒素含有化合物などが挙げられる。
えば、前記遷移金属元素の水酸化物、酸化物（複合酸化
物を含む）、ハロゲン化物（フッ化物、塩化物、臭化
物、ヨウ化物）、オキソ酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸
塩、リン酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩など）、イソポリ酸の
塩、ヘテロポリ酸の塩などの無機化合物；有機酸塩（例
えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、青酸塩、ナフテン酸
塩、ステアリン酸塩など）、錯体などの有機化合物が挙
げられる。前記錯体を構成する配位子としては、ＯＨ
（ヒドロキソ）、アルコキシ（メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、ブトキシなど）、アシル（アセチル、プロピ
オニルなど）、アルコキシカルボニル（メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニルなど）、アセチルアセトナ
ト、シクロペンタジエニル基、ハロゲン原子（塩素、臭
素など）、ＣＯ、ＣＮ、酸素原子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホ
スフィン（トリフェニルホスフィンなどのトリアリール
ホスフィンなど）のリン化合物、ＮＨ3（アンミン）、
ＮＯ、ＮＯ2（ニトロ）、ＮＯ3（ニトラト）、エチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン、ピリジン、フェナン
トロリンなどの窒素含有化合物などが挙げられる。
【００３９】前記その他の遷移金属化合物の具体例とし
ては、例えば、コバルト化合物を例にとると、水酸化コ
バルト（III）、酸化コバルト（III）、塩化コバルト
（III）、臭化コバルト（III）、硝酸コバルト（II
I）、硫酸コバルト（III）、リン酸コバルト（III）な
どの無機化合物；酢酸コバルト（III）、ナフテン酸コ
バルト（III）、ステアリン酸コバルト（III）などの有
機酸塩；コバルト（III）アセチルアセトナトなどの錯
体などが挙げられる。他の遷移金属元素の化合物として
は、前記コバルト化合物に対応する化合物などが例示さ
れる。特に好ましい「その他の遷移金属化合物」は３価
のコバルト又はバナジウムの有機酸塩若しくは錯体など
である。前記その他の遷移金属化合物は単独で又は２種
以上組み合わせて使用できる。
ては、例えば、コバルト化合物を例にとると、水酸化コ
バルト（III）、酸化コバルト（III）、塩化コバルト
（III）、臭化コバルト（III）、硝酸コバルト（II
I）、硫酸コバルト（III）、リン酸コバルト（III）な
どの無機化合物；酢酸コバルト（III）、ナフテン酸コ
バルト（III）、ステアリン酸コバルト（III）などの有
機酸塩；コバルト（III）アセチルアセトナトなどの錯
体などが挙げられる。他の遷移金属元素の化合物として
は、前記コバルト化合物に対応する化合物などが例示さ
れる。特に好ましい「その他の遷移金属化合物」は３価
のコバルト又はバナジウムの有機酸塩若しくは錯体など
である。前記その他の遷移金属化合物は単独で又は２種
以上組み合わせて使用できる。
【００４０】前記その他の遷移金属化合物を用いる場
合、その使用量は、例えば、基質１モルに対して０．０
００１〜０．７モル、好ましくは０．００１〜０．５モ
ル、さらに好ましくは０．００２〜０．１モル程度であ
る。また、前記その他の遷移金属化合物と前記ｐＫａ
８．０以下の酸のコバルト（II）塩の割合は、例えば、
前者／後者＝１／９９〜９９／１、好ましくは１０／９
０〜９０／１０、さらに好ましくは２０／８０〜８０／
２０程度である。
合、その使用量は、例えば、基質１モルに対して０．０
００１〜０．７モル、好ましくは０．００１〜０．５モ
ル、さらに好ましくは０．００２〜０．１モル程度であ
る。また、前記その他の遷移金属化合物と前記ｐＫａ
８．０以下の酸のコバルト（II）塩の割合は、例えば、
前者／後者＝１／９９〜９９／１、好ましくは１０／９
０〜９０／１０、さらに好ましくは２０／８０〜８０／
２０程度である。
【００４１】本発明の方法では、必要に応じて、上記以
外の金属化合物や有機塩などを系内に添加してもよい。
また、系内にラジカル発生剤やラジカル反応促進剤を存
在させてもよい。このような成分として、例えば、ハロ
ゲン（塩素、臭素など）、過酸（過酢酸、ｍ−クロロ過
安息香酸など）、過酸化物（過酸化水素、ｔ−ブチルヒ
ドロペルオキシド（ＴＢＨＰ）等のヒドロペルオキシド
など）などが挙げられる。これらの成分を系内に存在さ
せると、誘導期が短縮されたり、反応が促進される場合
がある。
外の金属化合物や有機塩などを系内に添加してもよい。
また、系内にラジカル発生剤やラジカル反応促進剤を存
在させてもよい。このような成分として、例えば、ハロ
ゲン（塩素、臭素など）、過酸（過酢酸、ｍ−クロロ過
安息香酸など）、過酸化物（過酸化水素、ｔ−ブチルヒ
ドロペルオキシド（ＴＢＨＰ）等のヒドロペルオキシド
など）などが挙げられる。これらの成分を系内に存在さ
せると、誘導期が短縮されたり、反応が促進される場合
がある。
【００４２】［酸素］酸化に利用される酸素としては、
発生期の酸素であってもよいが、分子状酸素を用いるの
が好ましい。分子状酸素は純粋な酸素を用いてもよく、
窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガ
スで希釈した酸素や空気を用いることもできる。酸素の
使用量は、基質１モルに対して０．５モル以上（例え
ば、１モル以上）、好ましくは１〜１００モル、さらに
好ましくは２〜５０モル程度である。基質に対して過剰
モルの酸素を使用する場合が多い。
発生期の酸素であってもよいが、分子状酸素を用いるの
が好ましい。分子状酸素は純粋な酸素を用いてもよく、
窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガ
スで希釈した酸素や空気を用いることもできる。酸素の
使用量は、基質１モルに対して０．５モル以上（例え
ば、１モル以上）、好ましくは１〜１００モル、さらに
好ましくは２〜５０モル程度である。基質に対して過剰
モルの酸素を使用する場合が多い。
【００４３】［反応］反応は溶媒の存在下又は非存在下
で行われる。溶媒としては、基質の種類等に応じて適宜
選択でき、例えば、酢酸、プロピオン酸などの有機酸；
アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルな
どのニトリル類；ホルムアミド、アセトアミド、ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなど
のアミド類；ｔ−ブタノール、ｔ−アミルアルコールな
どのアルコール類；ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭
化水素；ベンゼンなどの芳香族炭化水素；クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリフルオロメチル
ベンゼンなどのハロゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、
ニトロメタン、ニトロエタンなどのニトロ化合物；酢酸
エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル類；アセト
ン、メチルエチルケトンなどのケトン類；水；及びこれ
らの混合溶媒などを使用できる。
で行われる。溶媒としては、基質の種類等に応じて適宜
選択でき、例えば、酢酸、プロピオン酸などの有機酸；
アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルな
どのニトリル類；ホルムアミド、アセトアミド、ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなど
のアミド類；ｔ−ブタノール、ｔ−アミルアルコールな
どのアルコール類；ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭
化水素；ベンゼンなどの芳香族炭化水素；クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリフルオロメチル
ベンゼンなどのハロゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、
ニトロメタン、ニトロエタンなどのニトロ化合物；酢酸
エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル類；アセト
ン、メチルエチルケトンなどのケトン類；水；及びこれ
らの混合溶媒などを使用できる。
【００４４】溶媒として、酢酸などの有機酸、アセトニ
トリルやベンゾニトリルなどのニトリル類、クロロベン
ゼンやトリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素等を用いる場合が多い。
トリルやベンゾニトリルなどのニトリル類、クロロベン
ゼンやトリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素等を用いる場合が多い。
【００４５】反応温度は、基質の種類等に応じて、例え
ば０〜１５０℃、好ましくは１０〜１００℃、さらに好
ましくは１０〜８０℃程度の範囲から適宜選択できる。
本発明の方法では、１０〜６０℃程度の室温に近い温度
であっても、反応が円滑に進行し、短時間で目的化合物
を得ることができる。反応圧力は、常圧、加圧下の何れ
であってもよい。
ば０〜１５０℃、好ましくは１０〜１００℃、さらに好
ましくは１０〜８０℃程度の範囲から適宜選択できる。
本発明の方法では、１０〜６０℃程度の室温に近い温度
であっても、反応が円滑に進行し、短時間で目的化合物
を得ることができる。反応圧力は、常圧、加圧下の何れ
であってもよい。
【００４６】反応は、酸素の存在下又は酸素の流通下、
回分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により行う
ことができる。なお、触媒、特に前記式（１）で表され
るイミド化合物を、反応開始時に一括して添加するので
はなく、逐次的に（連続的又は間欠的に）系内に添加す
ると、原料不飽和化合物のメチレン基の炭素原子にヒド
ロキシル基が導入されたアルコール（反応中間体）の副
生が抑制され、より高い収率で目的の共役不飽和カルボ
ニル化合物を得ることができる。
回分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により行う
ことができる。なお、触媒、特に前記式（１）で表され
るイミド化合物を、反応開始時に一括して添加するので
はなく、逐次的に（連続的又は間欠的に）系内に添加す
ると、原料不飽和化合物のメチレン基の炭素原子にヒド
ロキシル基が導入されたアルコール（反応中間体）の副
生が抑制され、より高い収率で目的の共役不飽和カルボ
ニル化合物を得ることができる。
【００４７】反応終了後、反応生成物は、慣用の分離精
製手段、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結
晶、吸着、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や
これらを組み合わせることにより容易に分離精製でき
る。
製手段、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結
晶、吸着、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や
これらを組み合わせることにより容易に分離精製でき
る。
【００４８】本発明の方法によれば、温和な条件下で酸
素による酸化反応が円滑に進行し、対応する共役不飽和
カルボニル化合物（α，β−不飽和カルボニル化合物）
が高い選択率及び収率で生成する。より具体的には、例
えば、下記式に示されるように、基質として式（２）で
表されるバレンセンを用いる場合には、反応により、式
（３）で表されるヌートカトンが高い収率で得られる。
なお、副生物として、式（４）で表されるヌートカトー
ル及び式（５）で表されるバレンセンオキシドが副生し
うるが、前述のように、触媒を逐次添加することによ
り、式（４）で表されるヌートカトールの副生量を低減
でき、目的のヌートカトンをより高い収率で得ることが
可能である。
素による酸化反応が円滑に進行し、対応する共役不飽和
カルボニル化合物（α，β−不飽和カルボニル化合物）
が高い選択率及び収率で生成する。より具体的には、例
えば、下記式に示されるように、基質として式（２）で
表されるバレンセンを用いる場合には、反応により、式
（３）で表されるヌートカトンが高い収率で得られる。
なお、副生物として、式（４）で表されるヌートカトー
ル及び式（５）で表されるバレンセンオキシドが副生し
うるが、前述のように、触媒を逐次添加することによ
り、式（４）で表されるヌートカトールの副生量を低減
でき、目的のヌートカトンをより高い収率で得ることが
可能である。
【化４】
【００４９】
【発明の効果】本発明の方法によれば、酸化触媒とし
て、特定構造のイミド化合物と特定の金属化合物とを組
み合わせて用いるため、有毒な化合物を用いることな
く、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する
不飽和化合物を酸素により温和な条件下で酸化でき、対
応する共役不飽和カルボニル化合物を高い収率及び選択
率で効率よく製造することができる。
て、特定構造のイミド化合物と特定の金属化合物とを組
み合わせて用いるため、有毒な化合物を用いることな
く、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する
不飽和化合物を酸素により温和な条件下で酸化でき、対
応する共役不飽和カルボニル化合物を高い収率及び選択
率で効率よく製造することができる。
【００５０】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定
されるものではない。なお、反応生成物の分析はガスク
ロマトグラフィーにより行った。
に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定
されるものではない。なお、反応生成物の分析はガスク
ロマトグラフィーにより行った。
【００５１】実施例１ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．２ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト
０．６ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、
酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４０℃
で２時間攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率５８
％、ヌートカトールが収率１１％、バレンセンエポキシ
ドが収率２％で生成していた。バレンセンの転化率は９
８％であった。
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．２ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト
０．６ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、
酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４０℃
で２時間攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率５８
％、ヌートカトールが収率１１％、バレンセンエポキシ
ドが収率２％で生成していた。バレンセンの転化率は９
８％であった。
【００５２】実施例２ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．２ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナー
ト０．６ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入
れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４
０℃で２時間攪拌した後、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
をさらに１ミリモル添加し、４０℃で２時間攪拌した。
その結果、ヌートカトンが収率６２％、ヌートカトール
が収率１％、バレンセンエポキシドが収率３％で生成し
ていた。バレンセンの転化率は９９％であった。
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．２ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナー
ト０．６ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入
れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４
０℃で２時間攪拌した後、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
をさらに１ミリモル添加し、４０℃で２時間攪拌した。
その結果、ヌートカトンが収率６２％、ヌートカトール
が収率１％、バレンセンエポキシドが収率３％で生成し
ていた。バレンセンの転化率は９９％であった。
【００５３】実施例３ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．２ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト
０．６ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、
空気雰囲気下（１０ａｔｍ＝１．０１ＭＰａ）、４０℃
で２時間攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率５１
％、ヌートカトールが収率１８％、バレンセンエポキシ
ドが収率２％で生成していた。バレンセンの転化率は９
４％であった。
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．２ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト
０．６ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、
空気雰囲気下（１０ａｔｍ＝１．０１ＭＰａ）、４０℃
で２時間攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率５１
％、ヌートカトールが収率１８％、バレンセンエポキシ
ドが収率２％で生成していた。バレンセンの転化率は９
４％であった。
【００５４】実施例４ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．２ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト
０．２ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、
酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、２５℃
で１０時間攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率５
６％、ヌートカトールが収率１６％、バレンセンエポキ
シドが収率４％で生成していた。バレンセンの転化率は
９５％であった。
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．２ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト
０．２ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、
酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、２５℃
で１０時間攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率５
６％、ヌートカトールが収率１６％、バレンセンエポキ
シドが収率４％で生成していた。バレンセンの転化率は
９５％であった。
【００５５】実施例５ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．４ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、
酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、２５℃
で１３時間攪拌した。なお、反応開始前に４時間の誘導
期が見られた。その結果、ヌートカトンが収率５０％、
ヌートカトールが収率１２％、バレンセンエポキシドが
収率３％で生成していた。バレンセンの転化率は９７％
であった。
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．４ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、
酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、２５℃
で１３時間攪拌した。なお、反応開始前に４時間の誘導
期が見られた。その結果、ヌートカトンが収率５０％、
ヌートカトールが収率１２％、バレンセンエポキシドが
収率３％で生成していた。バレンセンの転化率は９７％
であった。
【００５６】実施例６ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．１ミリモル、銅（II）アセチルアセトナト０．６ミ
リモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、酸素雰囲
気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４０℃で２時間
攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率４８％、ヌー
トカトールが収率１７％、バレンセンエポキシドが収率
２％で生成していた。バレンセンの転化率は８７％であ
った。
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．１ミリモル、銅（II）アセチルアセトナト０．６ミ
リモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、酸素雰囲
気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４０℃で２時間
攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率４８％、ヌー
トカトールが収率１７％、バレンセンエポキシドが収率
２％で生成していた。バレンセンの転化率は８７％であ
った。
【００５７】実施例７ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．１ミリモル、鉄（III）アセチルアセトナト０．６
ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、酸素雰
囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４０℃で２時
間攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率３８％、ヌ
ートカトールが収率１０％、バレンセンエポキシドが収
率１０％で生成していた。バレンセンの転化率は８６％
であった。
フタルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩
０．１ミリモル、鉄（III）アセチルアセトナト０．６
ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、酸素雰
囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４０℃で２時
間攪拌した。その結果、ヌートカトンが収率３８％、ヌ
ートカトールが収率１０％、バレンセンエポキシドが収
率１０％で生成していた。バレンセンの転化率は８６％
であった。
【００５８】実施例８ フラスコに、セドレン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシフ
タルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩０．
１ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト０．
６ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、酸素
雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４０℃で２
時間攪拌した。その結果、セドレノンが収率５１％、セ
ドレンエポキシドが収率５％で生成していた。セドレン
の転化率は９５％であった。
タルイミド１ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩０．
１ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト０．
６ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを入れ、酸素
雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、４０℃で２
時間攪拌した。その結果、セドレノンが収率５１％、セ
ドレンエポキシドが収率５％で生成していた。セドレン
の転化率は９５％であった。
【００５９】比較例１ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、コバルト（III）アセチルア
セトナト０．１ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌ
を入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰ
ａ）、１００℃で１時間攪拌した。その結果、ヌートカ
トンが収率２１％、ヌートカトールが収率２％、バレン
センエポキシドが収率６％で生成していた。バレンセン
の転化率は８５％であった。
フタルイミド１ミリモル、コバルト（III）アセチルア
セトナト０．１ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌ
を入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰ
ａ）、１００℃で１時間攪拌した。その結果、ヌートカ
トンが収率２１％、ヌートカトールが収率２％、バレン
センエポキシドが収率６％で生成していた。バレンセン
の転化率は８５％であった。
【００６０】比較例２ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、コバルト（III）アセチルア
セトナト０．４ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌ
を入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰ
ａ）、４０℃で８時間攪拌した。その結果、反応は全く
進行しなかった。
フタルイミド１ミリモル、コバルト（III）アセチルア
セトナト０．４ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌ
を入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰ
ａ）、４０℃で８時間攪拌した。その結果、反応は全く
進行しなかった。
【００６１】比較例３ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、酢酸コバルト
（II）４水塩０．２ミリモル、コバルト（III）アセチ
ルアセトナト０．４ミリモル、及びアセトニトリル２０
ｍｌを入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰ
ａ）、４０℃で８時間攪拌した。その結果、反応は全く
進行しなかった。
（II）４水塩０．２ミリモル、コバルト（III）アセチ
ルアセトナト０．４ミリモル、及びアセトニトリル２０
ｍｌを入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰ
ａ）、４０℃で８時間攪拌した。その結果、反応は全く
進行しなかった。
【００６２】比較例４ フラスコに、バレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド１ミリモル、コバルト（II）アセチルアセ
トナト０．４ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを
入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、
４０℃で９時間攪拌した。その結果、反応は全く進行し
なかった。
フタルイミド１ミリモル、コバルト（II）アセチルアセ
トナト０．４ミリモル、及びアセトニトリル２０ｍｌを
入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、
４０℃で９時間攪拌した。その結果、反応は全く進行し
なかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｄ 209/48 Ｃ０７Ｄ 209/48 Ｚ Ｆターム(参考） 4C069 AC30 BC12 CC02 4C204 BB04 CB04 DB30 EB01 FB33 GB01 4G069 AA08 BA21A BA21B BA27A BA27B BC29A BC66B BC67B BE14A BE14B CB07 CB72 4H006 AA02 AC44 AD11 AD15 AD16 AD17 BA05 BA19 BA20 BA45 BA51 BB21 BC10 BC11 BC14 BC19 BC32 BC34 BE30 4H039 CA62 CC50
Claims (4)
- 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
ヒドロキシル基を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2
が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若し
くは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ
−置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていて
もよい）で表されるイミド化合物とｐＫａ８．０以下の
酸のコバルト（II）塩とで構成された触媒の存在下、炭
素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和
化合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子に
オキソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化
合物を生成させる共役不飽和カルボニル化合物の製造
法。 - 【請求項２】 炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン
基を有する不飽和化合物が、環に炭素−炭素二重結合を
有する単環又は多環式化合物である請求項１記載の共役
不飽和カルボニル化合物の製造法。 - 【請求項３】 バレンセンを酸素と反応させてヌートカ
トンを生成させる請求項１記載の共役不飽和カルボニル
化合物の製造法。 - 【請求項４】 式（１）で表されるイミド化合物とｐＫ
ａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩と、さらにその他
の遷移金属化合物とで構成された触媒の存在下で反応を
行う請求項１〜３の何れかの項に記載の共役不飽和カル
ボニル化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000176494A JP2001354611A (ja) | 2000-06-13 | 2000-06-13 | 共役不飽和カルボニル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000176494A JP2001354611A (ja) | 2000-06-13 | 2000-06-13 | 共役不飽和カルボニル化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001354611A true JP2001354611A (ja) | 2001-12-25 |
Family
ID=18678215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000176494A Pending JP2001354611A (ja) | 2000-06-13 | 2000-06-13 | 共役不飽和カルボニル化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001354611A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0216739B2 (ja) * | 1982-08-17 | 1990-04-18 | Hasegawa T Co Ltd | |
| JPH09327626A (ja) * | 1996-02-07 | 1997-12-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 酸化触媒系およびそれを用いた酸化方法 |
-
2000
- 2000-06-13 JP JP2000176494A patent/JP2001354611A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0216739B2 (ja) * | 1982-08-17 | 1990-04-18 | Hasegawa T Co Ltd | |
| JPH09327626A (ja) * | 1996-02-07 | 1997-12-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 酸化触媒系およびそれを用いた酸化方法 |
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