JP2002131760A - Ｕｖキュアラブル液晶を用いた液晶セルの製造方法 - Google Patents
Ｕｖキュアラブル液晶を用いた液晶セルの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＵＶキュアラブル液晶を硬化させる工程を追
加せずに、高分子分散型液晶を利用した液晶セルを製造
できる液晶セルの製造方法を提供する。 【解決手段】 第１基板１０の内面に、紫外線硬化性の
シール材１１と、ＵＶキュアラブル液晶を含む高分子分
散型液晶を配置する。その後、両基板１０、２０を貼り
合わせてその隙間に高分子分散型液晶を充填する。貼り
合わされた基板１０、２０を介して、シール材１１と高
分子分散型液晶１２に紫外線を照射し、シール材１１と
高分子分散型液晶１２に含まれるＵＶキュアラブル液晶
とを同時に硬化させる。
加せずに、高分子分散型液晶を利用した液晶セルを製造
できる液晶セルの製造方法を提供する。 【解決手段】 第１基板１０の内面に、紫外線硬化性の
シール材１１と、ＵＶキュアラブル液晶を含む高分子分
散型液晶を配置する。その後、両基板１０、２０を貼り
合わせてその隙間に高分子分散型液晶を充填する。貼り
合わされた基板１０、２０を介して、シール材１１と高
分子分散型液晶１２に紫外線を照射し、シール材１１と
高分子分散型液晶１２に含まれるＵＶキュアラブル液晶
とを同時に硬化させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セルの製造方
法に関し、さらに言えば、紫外線（ultravioletrays、
ＵＶ線）の照射により硬化する液晶（以下、ＵＶキュア
ラブル液晶という）を添加剤として用いた液晶セルの製
造方法に関する。
法に関し、さらに言えば、紫外線（ultravioletrays、
ＵＶ線）の照射により硬化する液晶（以下、ＵＶキュア
ラブル液晶という）を添加剤として用いた液晶セルの製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、反射形の液晶表示装置（Liquid C
rystal Display、ＬＣＤ）の一つとして、高分子分散型
液晶を用いたＬＣＤが開発されてきている。「高分子分
散型液晶」とは、従来からＬＣＤに使用されてきた表示
用の液晶の中に特定の高分子を分散させたものである。
その高分子の相は液晶相から分離している。したがっ
て、「高分子分散型液晶」は、液晶相と高分子相の複合
相となっている。この高分子は、表示用液晶の配向性を
改善する添加剤として機能する。
rystal Display、ＬＣＤ）の一つとして、高分子分散型
液晶を用いたＬＣＤが開発されてきている。「高分子分
散型液晶」とは、従来からＬＣＤに使用されてきた表示
用の液晶の中に特定の高分子を分散させたものである。
その高分子の相は液晶相から分離している。したがっ
て、「高分子分散型液晶」は、液晶相と高分子相の複合
相となっている。この高分子は、表示用液晶の配向性を
改善する添加剤として機能する。
【０００３】このような高分子分散型液晶に対して電界
を印加しあるいは電界の印加を停止することにより、高
分子相と液晶相の屈折率を一致させると、高分子分散型
液晶は光を透過する透明状態となる。高分子相と液晶相
の屈折率を相違させると、光を散乱する白濁状態とな
る。高分子分散型液晶は、このような原理を利用してＬ
ＣＤに適用されるのである。
を印加しあるいは電界の印加を停止することにより、高
分子相と液晶相の屈折率を一致させると、高分子分散型
液晶は光を透過する透明状態となる。高分子相と液晶相
の屈折率を相違させると、光を散乱する白濁状態とな
る。高分子分散型液晶は、このような原理を利用してＬ
ＣＤに適用されるのである。
【０００４】上述したような高分子分散型液晶は、一般
に、従来からＬＣＤに使用されてきた液晶（すなわち表
示用液晶）にＵＶキュアラブル液晶を混合し、その後、
当該混合物に紫外線を照射してＵＶキュアラブル液晶の
みを選択的に硬化させることにより生成される。「ＵＶ
キュアラブル液晶」は、室温では表示用液晶と同様に液
晶相を示すが、紫外線の照射によって硬化して高分子と
なる。以下、こうして生成された高分子を「キュアド高
分子」と称する。
に、従来からＬＣＤに使用されてきた液晶（すなわち表
示用液晶）にＵＶキュアラブル液晶を混合し、その後、
当該混合物に紫外線を照射してＵＶキュアラブル液晶の
みを選択的に硬化させることにより生成される。「ＵＶ
キュアラブル液晶」は、室温では表示用液晶と同様に液
晶相を示すが、紫外線の照射によって硬化して高分子と
なる。以下、こうして生成された高分子を「キュアド高
分子」と称する。
【０００５】ＵＶキュアラブル液晶の硬化により生成さ
れたキュアド高分子の相は、表示用液晶相とは分離した
状態で存在する。換言すれば、高分子分散型液晶では、
キュアド高分子相と表示用液晶相は複合相を形成してい
るのである。ＵＶキュアラブル液晶は、室温で液晶相を
示すため、電界を印加することにより表示用液晶と同様
に配向する。しかし、紫外線照射によって硬化してキュ
アド高分子となった後は、その配向状態が固定される。
その結果、高分子分散型液晶に電界を印加すると、表示
用液晶のみが電界方向に配向する。
れたキュアド高分子の相は、表示用液晶相とは分離した
状態で存在する。換言すれば、高分子分散型液晶では、
キュアド高分子相と表示用液晶相は複合相を形成してい
るのである。ＵＶキュアラブル液晶は、室温で液晶相を
示すため、電界を印加することにより表示用液晶と同様
に配向する。しかし、紫外線照射によって硬化してキュ
アド高分子となった後は、その配向状態が固定される。
その結果、高分子分散型液晶に電界を印加すると、表示
用液晶のみが電界方向に配向する。
【０００６】上述したように、高分子分散型液晶は、表
示用液晶の配向性を補助する機能を持つキュアド高分子
を含んでいるため、キュアド高分子がない場合よりも配
向状態が改善される利点がある。また、偏光板が不要と
なる利点もある。そこで、高分子分散型液晶を利用した
ＬＣＤは今後、ＬＣＤの主流となる可能性が高い、と期
待されている。
示用液晶の配向性を補助する機能を持つキュアド高分子
を含んでいるため、キュアド高分子がない場合よりも配
向状態が改善される利点がある。また、偏光板が不要と
なる利点もある。そこで、高分子分散型液晶を利用した
ＬＣＤは今後、ＬＣＤの主流となる可能性が高い、と期
待されている。
【０００７】高分子分散型液晶を利用したＬＣＤの従来
例としては、例えば、特開平１１−９５１９５号公報に
開示されたものが挙げられる。
例としては、例えば、特開平１１−９５１９５号公報に
開示されたものが挙げられる。
【０００８】他方、ＬＣＤセルは一般に、一対の透明基
板を隙間をあけて対向させ、その隙間に形成した空間内
に液晶を充填して構成される。その空間内には、一対の
透明基板を一定間隔に保つためにスペーサが配置され
る。また、その空間内に充填された液晶を封止するため
に、その空間を囲むようにシール材が配置される。
板を隙間をあけて対向させ、その隙間に形成した空間内
に液晶を充填して構成される。その空間内には、一対の
透明基板を一定間隔に保つためにスペーサが配置され
る。また、その空間内に充填された液晶を封止するため
に、その空間を囲むようにシール材が配置される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述した利点があるこ
とから、高分子分散型液晶を利用したＬＣＤに対しては
多くの期待が寄せられているが、その製造工程には一つ
の問題がある。それは、表示用液晶とＵＶキュアラブル
液晶の混合体に紫外線を照射してＵＶキュアラブル液晶
のみを選択的に硬化させる工程が新たに必要となること
である。ＬＣＤの製造工程では、低価格化のために可能
な限りの効率化が要請されている現況を鑑みると、新た
な工程の追加は避けることが好ましい。
とから、高分子分散型液晶を利用したＬＣＤに対しては
多くの期待が寄せられているが、その製造工程には一つ
の問題がある。それは、表示用液晶とＵＶキュアラブル
液晶の混合体に紫外線を照射してＵＶキュアラブル液晶
のみを選択的に硬化させる工程が新たに必要となること
である。ＬＣＤの製造工程では、低価格化のために可能
な限りの効率化が要請されている現況を鑑みると、新た
な工程の追加は避けることが好ましい。
【００１０】そこで、本発明の目的は、ＵＶキュアラブ
ル液晶を硬化させるために新たな工程を追加せずに、高
分子分散型液晶を利用した液晶セルを製造できる液晶セ
ルの製造方法を提供することにある。
ル液晶を硬化させるために新たな工程を追加せずに、高
分子分散型液晶を利用した液晶セルを製造できる液晶セ
ルの製造方法を提供することにある。
【００１１】本発明の他の目的は、ＵＶキュアラブル液
晶に対する紫外線の照射光量を最適化できる、高分子分
散型液晶を利用した液晶セルの製造方法を提供すること
にある。
晶に対する紫外線の照射光量を最適化できる、高分子分
散型液晶を利用した液晶セルの製造方法を提供すること
にある。
【００１２】上記以外の本発明の目的は、以下の説明に
よって明らかにされる。
よって明らかにされる。
【００１３】
【課題を解決するための手段】（１） 本発明の液晶セ
ルの製造方法は、所定の隙間をあけて互いに対向して貼
り付けられた第１基板および第２基板と、前記隙間内に
充填された高分子分散型液晶とを備えてなる液晶セルの
製造方法において、前記第１基板の内面に紫外線硬化性
のシール材を、前記液晶セルの表示部を囲むように形成
する工程と、前記第１基板または前記第２基板の内面
に、ＵＶキュアラブル液晶を含む前記高分子分散型液晶
を所定量滴下する工程と、前記第１基板の内面と前記第
２基板の内面とを対向させた状態で前記第１基板と前記
第２基板とを貼り合わせ、もって前記第１基板と前記第
２基板と前記シール材とで囲まれた空間の内部に前記高
分子分散型液晶を充填する工程と、貼り合わされた前記
第１基板および前記第２基板の少なくとも一方を介し
て、前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線
を照射し、前記シール材と前記高分子分散型液晶に含ま
れるＵＶキュアラブル液晶とを硬化させる工程とを有す
ることを特徴とするものである。
ルの製造方法は、所定の隙間をあけて互いに対向して貼
り付けられた第１基板および第２基板と、前記隙間内に
充填された高分子分散型液晶とを備えてなる液晶セルの
製造方法において、前記第１基板の内面に紫外線硬化性
のシール材を、前記液晶セルの表示部を囲むように形成
する工程と、前記第１基板または前記第２基板の内面
に、ＵＶキュアラブル液晶を含む前記高分子分散型液晶
を所定量滴下する工程と、前記第１基板の内面と前記第
２基板の内面とを対向させた状態で前記第１基板と前記
第２基板とを貼り合わせ、もって前記第１基板と前記第
２基板と前記シール材とで囲まれた空間の内部に前記高
分子分散型液晶を充填する工程と、貼り合わされた前記
第１基板および前記第２基板の少なくとも一方を介し
て、前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線
を照射し、前記シール材と前記高分子分散型液晶に含ま
れるＵＶキュアラブル液晶とを硬化させる工程とを有す
ることを特徴とするものである。
【００１４】（２） 本発明の液晶セルの製造方法で
は、ＵＶキュアラブル液晶を含む高分子分散型液晶を封
止するためのシール材として、紫外線硬化性のシール材
が使用される。そして、高分子分散型液晶を挟んで第１
基板と第２基板とを貼り合わせた後に紫外線が照射さ
れ、シール材と共に高分子分散型液晶に含まれるＵＶキ
ュアラブル液晶を同じ工程で硬化させている。このた
め、ＵＶキュアラブル液晶を硬化させるための新たな工
程を追加せずに、高分子分散型液晶を利用した液晶セル
を製造することができる。
は、ＵＶキュアラブル液晶を含む高分子分散型液晶を封
止するためのシール材として、紫外線硬化性のシール材
が使用される。そして、高分子分散型液晶を挟んで第１
基板と第２基板とを貼り合わせた後に紫外線が照射さ
れ、シール材と共に高分子分散型液晶に含まれるＵＶキ
ュアラブル液晶を同じ工程で硬化させている。このた
め、ＵＶキュアラブル液晶を硬化させるための新たな工
程を追加せずに、高分子分散型液晶を利用した液晶セル
を製造することができる。
【００１５】紫外線硬化性のシール材とＵＶキュアラブ
ル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量の差があまり大
きくなければ、紫外線の強度や照射時間を調整すること
により、一回の紫外線照射工程でシール材およびＵＶキ
ュアラブル液晶の双方を完全に硬化させることが可能で
ある。
ル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量の差があまり大
きくなければ、紫外線の強度や照射時間を調整すること
により、一回の紫外線照射工程でシール材およびＵＶキ
ュアラブル液晶の双方を完全に硬化させることが可能で
ある。
【００１６】紫外線硬化性のシール材とＵＶキュアラブ
ル液晶の完全硬化に要する紫外線の積算光量が大きく異
なる場合には、一回の紫外線照射工程でシール材および
ＵＶキュアラブル液晶のいずれか一方を完全に硬化させ
る。その後に二回目の紫外線照射工程を実行し、部分的
に硬化しているシール材またはＵＶキュアラブル液晶を
完全に硬化させるようにすればよい。この場合には、紫
外線照射工程が２回になる難点があるが、紫外線の強度
や照射時間を調整するだけであるので、あまり問題には
ならない。
ル液晶の完全硬化に要する紫外線の積算光量が大きく異
なる場合には、一回の紫外線照射工程でシール材および
ＵＶキュアラブル液晶のいずれか一方を完全に硬化させ
る。その後に二回目の紫外線照射工程を実行し、部分的
に硬化しているシール材またはＵＶキュアラブル液晶を
完全に硬化させるようにすればよい。この場合には、紫
外線照射工程が２回になる難点があるが、紫外線の強度
や照射時間を調整するだけであるので、あまり問題には
ならない。
【００１７】紫外線硬化性のシール材とＵＶキュアラブ
ル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量が大きく異なる
場合にも、一回の紫外線照射工程でシール材およびＵＶ
キュアラブル液晶の双方を完全に硬化させるには、マス
クを使用すればよい。この場合、マスクによって紫外線
の透過率が調整できるため、シール材およびＵＶキュア
ラブル液晶のそれぞれに照射される紫外線の積算光量を
最適化できる利点が得られる。
ル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量が大きく異なる
場合にも、一回の紫外線照射工程でシール材およびＵＶ
キュアラブル液晶の双方を完全に硬化させるには、マス
クを使用すればよい。この場合、マスクによって紫外線
の透過率が調整できるため、シール材およびＵＶキュア
ラブル液晶のそれぞれに照射される紫外線の積算光量を
最適化できる利点が得られる。
【００１８】（３） 本発明の液晶セルの製造方法の好
ましい例では、前記シール材および前記高分子分散型液
晶に紫外線を照射する前記工程において、前記シール材
が完全に硬化すると共に前記ＵＶキュアラブル液晶が部
分的に硬化し、部分的に硬化した前記ＵＶキュアラブル
液晶を完全に硬化させるために、前記ＵＶキュアラブル
液晶に再度、紫外線を選択的に照射する。
ましい例では、前記シール材および前記高分子分散型液
晶に紫外線を照射する前記工程において、前記シール材
が完全に硬化すると共に前記ＵＶキュアラブル液晶が部
分的に硬化し、部分的に硬化した前記ＵＶキュアラブル
液晶を完全に硬化させるために、前記ＵＶキュアラブル
液晶に再度、紫外線を選択的に照射する。
【００１９】本発明の液晶セルの製造方法の他の好まし
い例では、部分的に硬化した前記ＵＶキュアラブル液晶
を完全に硬化させるために、前記シール材に対する紫外
線を遮断するマスクを介して紫外線が照射される。
い例では、部分的に硬化した前記ＵＶキュアラブル液晶
を完全に硬化させるために、前記シール材に対する紫外
線を遮断するマスクを介して紫外線が照射される。
【００２０】本発明の液晶セルの製造方法のさらに他の
好ましい例では、前記シール材および前記高分子分散型
液晶に紫外線を照射する前記工程において、前記シール
材が部分的に硬化すると共に前記ＵＶキュアラブル液晶
が完全に硬化し、部分的に硬化した前記シール材を完全
に硬化させるために、前記シール材に再度、紫外線を選
択的に照射する。
好ましい例では、前記シール材および前記高分子分散型
液晶に紫外線を照射する前記工程において、前記シール
材が部分的に硬化すると共に前記ＵＶキュアラブル液晶
が完全に硬化し、部分的に硬化した前記シール材を完全
に硬化させるために、前記シール材に再度、紫外線を選
択的に照射する。
【００２１】本発明の液晶セルの製造方法のさらに他の
好ましい例では、部分的に硬化した前記シール材を完全
に硬化させるために、前記高分子分散型液晶に対する紫
外線を遮断するマスクを介して紫外線が照射される。
好ましい例では、部分的に硬化した前記シール材を完全
に硬化させるために、前記高分子分散型液晶に対する紫
外線を遮断するマスクを介して紫外線が照射される。
【００２２】本発明の液晶セルの製造方法のさらに他の
好ましい例では、前記シール材および前記高分子分散型
液晶に紫外線を照射する前記工程において、紫外線の透
過率が異なる第１領域と第２領域を持つマスクが使用さ
れ、前記ＵＶキュアラブル液晶に対しては前記マスクの
第１領域を介して紫外線が照射され、前記シール材に対
しては前記マスクの第２領域を介して紫外線が照射され
る。
好ましい例では、前記シール材および前記高分子分散型
液晶に紫外線を照射する前記工程において、紫外線の透
過率が異なる第１領域と第２領域を持つマスクが使用さ
れ、前記ＵＶキュアラブル液晶に対しては前記マスクの
第１領域を介して紫外線が照射され、前記シール材に対
しては前記マスクの第２領域を介して紫外線が照射され
る。
【００２３】この場合、好ましくは、前記シール材およ
び前記高分子分散型液晶に紫外線を照射する前記工程に
おいて、前記マスクの第１領域を介して照射される紫外
線により前記ＵＶキュアラブル液晶が完全に硬化し、前
記マスクの第２領域を介して照射される紫外線により前
記シール材が完全に硬化するようにする。
び前記高分子分散型液晶に紫外線を照射する前記工程に
おいて、前記マスクの第１領域を介して照射される紫外
線により前記ＵＶキュアラブル液晶が完全に硬化し、前
記マスクの第２領域を介して照射される紫外線により前
記シール材が完全に硬化するようにする。
【００２４】（４） 本発明に関連する技術が、特開平
６−３６３５号公報に開示されている。当該公報に開示
された「液晶パネルの製造法」は、「対向する電極基板
の少なくとも一方にシール材を配置し、少なくとも一方
の上記電極基板上に１種以上の液晶を一定量のせ、その
後少なくとも２枚の上記電極基板を真空中で貼り合わせ
る液晶パネルの製造法であって、上記結晶に添加物を混
入させたことを特徴とする」ものである。この方法によ
れば、真空注入法において生じる液晶の注入ムラを解消
できる。液晶としては、例えば強誘電性液晶が使用され
る。添加物としては、例えば塩基性または酸性で極性を
持つ添加材が使用される。シール材としては、例えば紫
外線硬化性シール材が使用される。
６−３６３５号公報に開示されている。当該公報に開示
された「液晶パネルの製造法」は、「対向する電極基板
の少なくとも一方にシール材を配置し、少なくとも一方
の上記電極基板上に１種以上の液晶を一定量のせ、その
後少なくとも２枚の上記電極基板を真空中で貼り合わせ
る液晶パネルの製造法であって、上記結晶に添加物を混
入させたことを特徴とする」ものである。この方法によ
れば、真空注入法において生じる液晶の注入ムラを解消
できる。液晶としては、例えば強誘電性液晶が使用され
る。添加物としては、例えば塩基性または酸性で極性を
持つ添加材が使用される。シール材としては、例えば紫
外線硬化性シール材が使用される。
【００２５】特開平６−３６３５号公報に開示された液
晶パネルの製造法は、本発明の液晶セルの製造方法とは
以下の点で異なっている。すなわち、特開平６−３６３
５号公報に開示された方法では、まず、一方の基板に一
定量の液晶をのせると共に、他方の基板に紫外線硬化性
シール材を印刷する。その後、それら２枚の基板を真空
中で貼り合わせてから、シール材に対して選択的に紫外
線を照射し、硬化させる。こうして、２枚の基板の間の
液晶空間は封止される。
晶パネルの製造法は、本発明の液晶セルの製造方法とは
以下の点で異なっている。すなわち、特開平６−３６３
５号公報に開示された方法では、まず、一方の基板に一
定量の液晶をのせると共に、他方の基板に紫外線硬化性
シール材を印刷する。その後、それら２枚の基板を真空
中で貼り合わせてから、シール材に対して選択的に紫外
線を照射し、硬化させる。こうして、２枚の基板の間の
液晶空間は封止される。
【００２６】しかし、特開平６−３６３５号公報に開示
された方法では、使用する液晶は通常の表示用液晶（例
えば強誘電性液晶）であるから、ＵＶキュアラブル液晶
を含む高分子分散型液晶の使用はまったく考慮していな
いことが明らかである。このため、ＵＶキュアラブル液
晶の硬化のために紫外線照射工程が追加される問題点を
解消する本発明とは非常に異なっている。
された方法では、使用する液晶は通常の表示用液晶（例
えば強誘電性液晶）であるから、ＵＶキュアラブル液晶
を含む高分子分散型液晶の使用はまったく考慮していな
いことが明らかである。このため、ＵＶキュアラブル液
晶の硬化のために紫外線照射工程が追加される問題点を
解消する本発明とは非常に異なっている。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について添付図面を参照しながら説明する。
について添付図面を参照しながら説明する。
【００２８】（第１実施形態）図１は、本発明の第１実
施形態の液晶セルの製造方法を示す。
施形態の液晶セルの製造方法を示す。
【００２９】まず、公知の方法により、第１基板１０と
第２基板２０を製作する。ここでは、第１基板１０は、
薄膜トランジスタ（Thin-Film Transistor、ＴＦＴ）を
備えていて、いわゆるＴＦＴ基板である。第２基板２０
は、カラーフィルター（Color Filter、ＣＦ）を備えて
いて、いわゆるＣＦ基板である。しかし、第１基板１０
と第２基板２０は、これらに限定されるものではなく、
ＬＣＤを構成する一対の基板であれば任意のものが使用
できる。
第２基板２０を製作する。ここでは、第１基板１０は、
薄膜トランジスタ（Thin-Film Transistor、ＴＦＴ）を
備えていて、いわゆるＴＦＴ基板である。第２基板２０
は、カラーフィルター（Color Filter、ＣＦ）を備えて
いて、いわゆるＣＦ基板である。しかし、第１基板１０
と第２基板２０は、これらに限定されるものではなく、
ＬＣＤを構成する一対の基板であれば任意のものが使用
できる。
【００３０】第１基板１０は透明なガラス製であり、そ
の内側に、インジウム・スズの酸化物（Indium Tin Oxi
de、ＩＴＯ）により所定形状に形成された透明電極（図
示せず）と、所定数の薄膜トランジスタ（Thin-Film Tr
ansistor、ＴＦＴ）（図示せず）とを有している。第１
基板１０の最も内側には、ポリイミドからなる配向膜
（図示せず）が形成されている。この配向膜には、当該
配向膜に接触する液晶の分子が所定の一方向に配向する
ように、ラビング処理が施されている。
の内側に、インジウム・スズの酸化物（Indium Tin Oxi
de、ＩＴＯ）により所定形状に形成された透明電極（図
示せず）と、所定数の薄膜トランジスタ（Thin-Film Tr
ansistor、ＴＦＴ）（図示せず）とを有している。第１
基板１０の最も内側には、ポリイミドからなる配向膜
（図示せず）が形成されている。この配向膜には、当該
配向膜に接触する液晶の分子が所定の一方向に配向する
ように、ラビング処理が施されている。
【００３１】第２基板２０も透明なガラス製であり、そ
の内側に、ＩＴＯにより所定形状に形成された透明電極
（図示せず）と、カラーフィルター（図示せず）とを有
している。第２基板２０の最も内側には、ポリイミドか
らなる配向膜（図示せず）が形成されている。この配向
膜にも、当該配向膜に接触する液晶の分子が所定の一方
向に配向するように、ラビング処理が施されている。
の内側に、ＩＴＯにより所定形状に形成された透明電極
（図示せず）と、カラーフィルター（図示せず）とを有
している。第２基板２０の最も内側には、ポリイミドか
らなる配向膜（図示せず）が形成されている。この配向
膜にも、当該配向膜に接触する液晶の分子が所定の一方
向に配向するように、ラビング処理が施されている。
【００３２】第１基板１０と第２基板２０の構成と製作
法は一般的なものであるから、それらの詳細な構成と製
作法についての説明は省略する。
法は一般的なものであるから、それらの詳細な構成と製
作法についての説明は省略する。
【００３３】次に、第１基板１０の配向膜上に、図１
（ａ）に示すように、スクリーン印刷法などにより、紫
外線硬化樹脂よりなるシール材１１を印刷・形成する。
シール材１１は、矩形の第１基板１０の周縁に沿って延
在する矩形状のパターンを持っている。シール材１１
は、液晶セルの表示部を取り囲んでいる。
（ａ）に示すように、スクリーン印刷法などにより、紫
外線硬化樹脂よりなるシール材１１を印刷・形成する。
シール材１１は、矩形の第１基板１０の周縁に沿って延
在する矩形状のパターンを持っている。シール材１１
は、液晶セルの表示部を取り囲んでいる。
【００３４】その後、公知のディスペンサー（例えばマ
イクロシリンジ）を用いて、所定量の高分子分散型液晶
１２を第１基板１０の内面に滴下する。この時の状態は
図１（ａ）に示す通りである。高分子分散型液晶１２の
量は、液晶が充填される空間の容積にほぼ等しく設定す
る。
イクロシリンジ）を用いて、所定量の高分子分散型液晶
１２を第１基板１０の内面に滴下する。この時の状態は
図１（ａ）に示す通りである。高分子分散型液晶１２の
量は、液晶が充填される空間の容積にほぼ等しく設定す
る。
【００３５】シール材１１と高分子分散型液晶１２は、
同じ基板１０または２０に配置する必要はない。一方の
基板１０（または２０）にシール材１１を配置し、他方
の基板２０（または１０）に高分子分散型液晶１２を配
置してもよい。
同じ基板１０または２０に配置する必要はない。一方の
基板１０（または２０）にシール材１１を配置し、他方
の基板２０（または１０）に高分子分散型液晶１２を配
置してもよい。
【００３６】続いて、図１（ｂ）に示すように、第１基
板１０の内面に対して第２基板２０の内面を重ね合わ
せ、所定の隙間（通常は数μｍ）をあけて両基板１０と
２０を対向させ、固定する。この時の状態は図１（ｃ）
に示すようになる。この貼り合わせ工程は、常温、常圧
の雰囲気で行えばよく、わざわざ真空の雰囲気を生成す
る必要はない。
板１０の内面に対して第２基板２０の内面を重ね合わ
せ、所定の隙間（通常は数μｍ）をあけて両基板１０と
２０を対向させ、固定する。この時の状態は図１（ｃ）
に示すようになる。この貼り合わせ工程は、常温、常圧
の雰囲気で行えばよく、わざわざ真空の雰囲気を生成す
る必要はない。
【００３７】なお、両基板１０と２０の間に所定の隙間
を保持するために、その隙間には球状スペーサ（図示せ
ず）を分散させておく。この時、高分子分散型液晶１２
はその隙間の内部で広がるが、この隙間はシール材１１
により周囲が限定されているので、高分子分散型液晶１
２が基板１０と２０の外に押し出されることはない。こ
うして、高分子分散型液晶１２は基板１０と２０の間の
隙間に充填されることになる。
を保持するために、その隙間には球状スペーサ（図示せ
ず）を分散させておく。この時、高分子分散型液晶１２
はその隙間の内部で広がるが、この隙間はシール材１１
により周囲が限定されているので、高分子分散型液晶１
２が基板１０と２０の外に押し出されることはない。こ
うして、高分子分散型液晶１２は基板１０と２０の間の
隙間に充填されることになる。
【００３８】続いて、図１（ｃ）に示すように、ＵＶラ
ンプ１３を使用して、基板１０と２０の結合体に紫外線
を照射する。すると、その紫外線は基板１０または２０
を通って、高分子分散型液晶１２と紫外線硬化樹脂製の
シール材１１とに照射される。その結果、シール材１１
が硬化すると同時に、高分子分散型液晶１２に含まれて
いるＵＶキュアラブル液晶も硬化する。シール材１１と
ＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量
の差があまり大きくなければ、紫外線の強度や照射時間
を調整することにより、この紫外線照射工程でシール材
１１およびＵＶキュアラブル液晶の双方が完全に硬化す
る。
ンプ１３を使用して、基板１０と２０の結合体に紫外線
を照射する。すると、その紫外線は基板１０または２０
を通って、高分子分散型液晶１２と紫外線硬化樹脂製の
シール材１１とに照射される。その結果、シール材１１
が硬化すると同時に、高分子分散型液晶１２に含まれて
いるＵＶキュアラブル液晶も硬化する。シール材１１と
ＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量
の差があまり大きくなければ、紫外線の強度や照射時間
を調整することにより、この紫外線照射工程でシール材
１１およびＵＶキュアラブル液晶の双方が完全に硬化す
る。
【００３９】その後、第１および第２の基板１０と２０
の結合体を所定形状に切断し、さらに所定の偏光板を第
１、第２の基板１０と２０の外面にそれぞれ貼り付け
る。こうして、液晶セルが形成される。
の結合体を所定形状に切断し、さらに所定の偏光板を第
１、第２の基板１０と２０の外面にそれぞれ貼り付け
る。こうして、液晶セルが形成される。
【００４０】その後、液晶セルには所定の駆動用ＩＣ
（集積回路）などが接続され、液晶パネルとなる。
（集積回路）などが接続され、液晶パネルとなる。
【００４１】以上述べたように、本発明の第１実施形態
の液晶セルの製造方法では、シール材１１を紫外線硬化
樹脂で製作し、１回の紫外線照射工程で、高分子分散型
液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶とシール
材１１とを同時に硬化させるので、ＵＶキュアラブル液
晶を硬化するための新たな工程を追加せずに、高分子分
散型液晶１２を利用した液晶セルを製造することができ
る。
の液晶セルの製造方法では、シール材１１を紫外線硬化
樹脂で製作し、１回の紫外線照射工程で、高分子分散型
液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶とシール
材１１とを同時に硬化させるので、ＵＶキュアラブル液
晶を硬化するための新たな工程を追加せずに、高分子分
散型液晶１２を利用した液晶セルを製造することができ
る。
【００４２】第１実施形態の液晶セルの製造方法では、
シール材１１に照射される紫外線の積算光量が、ＵＶキ
ュアラブル液晶に照射される紫外線の積算光量とほぼ同
じとなるため、シール材１１の硬化に要する紫外線の積
算光量とＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の
積算光量とがほぼ等しい場合に好適である。両者の積算
光量が異なる場合には、後述する他の実施形態の液晶セ
ルの製造方法を使用するのが好ましい。
シール材１１に照射される紫外線の積算光量が、ＵＶキ
ュアラブル液晶に照射される紫外線の積算光量とほぼ同
じとなるため、シール材１１の硬化に要する紫外線の積
算光量とＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の
積算光量とがほぼ等しい場合に好適である。両者の積算
光量が異なる場合には、後述する他の実施形態の液晶セ
ルの製造方法を使用するのが好ましい。
【００４３】（第２実施形態）図２は、本発明の第２実
施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、紫外
線硬化樹脂製のシール材１１の硬化に要する紫外線の積
算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキ
ュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量よりも
かなり大きい場合に適用される。
施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、紫外
線硬化樹脂製のシール材１１の硬化に要する紫外線の積
算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキ
ュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量よりも
かなり大きい場合に適用される。
【００４４】第２実施形態の液晶セルの製造方法におけ
る図２（ａ）〜図２（ｃ）の工程は、第１実施形態の図
１（ａ）〜図１（ｃ）の工程と同じであるから、その説
明は省略する。
る図２（ａ）〜図２（ｃ）の工程は、第１実施形態の図
１（ａ）〜図１（ｃ）の工程と同じであるから、その説
明は省略する。
【００４５】なお、図２（ｃ）の紫外線照射工程では、
ＵＶランプ１３を使用して、シール材１１と、高分子分
散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶に紫
外線を照射するが、この工程では、ＵＶキュアラブル液
晶のみが完全に硬化する。そのために、紫外線の強度と
照射時間は、ＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外
線の積算光量に適合するように設定する。
ＵＶランプ１３を使用して、シール材１１と、高分子分
散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶に紫
外線を照射するが、この工程では、ＵＶキュアラブル液
晶のみが完全に硬化する。そのために、紫外線の強度と
照射時間は、ＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外
線の積算光量に適合するように設定する。
【００４６】その後、図２（ｄ）と図４に示すように、
シール材１１のみに紫外線が照射されるように、略矩形
のマスク３０を第２基板２０の上に載せ、その後、ＵＶ
ランプ１３を使用して、部分的に硬化しているシール材
１１に紫外線を再度、選択的に照射する。こうしてシー
ル材１１を完全に硬化させる。この時の紫外線の強度と
照射時間は、部分的に硬化しているシール材１１を完全
に硬化させるのに要する紫外線の積算光量に適合するよ
うに設定する。
シール材１１のみに紫外線が照射されるように、略矩形
のマスク３０を第２基板２０の上に載せ、その後、ＵＶ
ランプ１３を使用して、部分的に硬化しているシール材
１１に紫外線を再度、選択的に照射する。こうしてシー
ル材１１を完全に硬化させる。この時の紫外線の強度と
照射時間は、部分的に硬化しているシール材１１を完全
に硬化させるのに要する紫外線の積算光量に適合するよ
うに設定する。
【００４７】以上のようにして液晶セルが形成される。
その後の工程は、第１実施形態の場合と同じである。
その後の工程は、第１実施形態の場合と同じである。
【００４８】以上述べたように、本発明の第２実施形態
の液晶セルの製造方法では、第１実施形態の液晶セルの
製造方法と同様に、高分子分散型液晶１２に含まれてい
るＵＶキュアラブル液晶を硬化するための新たな工程を
追加せずに、高分子分散型液晶１２を利用した液晶セル
を製造することができる。また、シール材１１の硬化に
要する紫外線の積算光量が、ＵＶキュアラブル液晶の硬
化に要する紫外線の積算光量よりも大きい場合にも、紫
外線の積算光量を最適化でき、シール材１１とＵＶキュ
アラブル液晶の双方を完全に硬化させることができる利
点がある。これは液晶パネルの品質の向上につながる。
の液晶セルの製造方法では、第１実施形態の液晶セルの
製造方法と同様に、高分子分散型液晶１２に含まれてい
るＵＶキュアラブル液晶を硬化するための新たな工程を
追加せずに、高分子分散型液晶１２を利用した液晶セル
を製造することができる。また、シール材１１の硬化に
要する紫外線の積算光量が、ＵＶキュアラブル液晶の硬
化に要する紫外線の積算光量よりも大きい場合にも、紫
外線の積算光量を最適化でき、シール材１１とＵＶキュ
アラブル液晶の双方を完全に硬化させることができる利
点がある。これは液晶パネルの品質の向上につながる。
【００４９】（第３実施形態）図３は、本発明の第３実
施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、シー
ル材１１の硬化に要する紫外線の積算光量が、高分子分
散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬
化に要する紫外線の積算光量よりも小さい場合に適用さ
れる。
施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、シー
ル材１１の硬化に要する紫外線の積算光量が、高分子分
散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬
化に要する紫外線の積算光量よりも小さい場合に適用さ
れる。
【００５０】第３実施形態の液晶セルの製造方法におけ
る図３（ａ）〜図３（ｃ）の工程は、第１実施形態の図
１（ａ）〜図１（ｃ）の工程と同じであるから、その詳
細な説明は省略する。
る図３（ａ）〜図３（ｃ）の工程は、第１実施形態の図
１（ａ）〜図１（ｃ）の工程と同じであるから、その詳
細な説明は省略する。
【００５１】なお、図３（ｃ）の紫外線照射工程では、
ＵＶランプ１３を使用して、シール材１１と高分子分散
型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶とに紫
外線を照射するが、この工程ではシール材１１のみを完
全に硬化させる。そのために、紫外線の強度と照射時間
は、シール材１１の完全硬化に要する紫外線の積算光量
に適合するように設定する。
ＵＶランプ１３を使用して、シール材１１と高分子分散
型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶とに紫
外線を照射するが、この工程ではシール材１１のみを完
全に硬化させる。そのために、紫外線の強度と照射時間
は、シール材１１の完全硬化に要する紫外線の積算光量
に適合するように設定する。
【００５２】その後、図３（ｄ）と図５に示すように、
高分子分散型液晶１２のみに紫外線が照射されるように
矩形枠状のマスク４０を第２基板２０の上に載せ、その
後、高分子分散型液晶１２に紫外線を再度、選択的に照
射する。こうして、高分子分散型液晶１２に含まれてい
るＵＶキュアラブル液晶を完全に硬化させる。この時の
紫外線の強度と照射時間は、部分的に硬化しているＵＶ
キュアラブル液晶を完全に硬化させるのに要する紫外線
の積算光量に適合するように設定する。
高分子分散型液晶１２のみに紫外線が照射されるように
矩形枠状のマスク４０を第２基板２０の上に載せ、その
後、高分子分散型液晶１２に紫外線を再度、選択的に照
射する。こうして、高分子分散型液晶１２に含まれてい
るＵＶキュアラブル液晶を完全に硬化させる。この時の
紫外線の強度と照射時間は、部分的に硬化しているＵＶ
キュアラブル液晶を完全に硬化させるのに要する紫外線
の積算光量に適合するように設定する。
【００５３】以上のようにして液晶セルが形成される。
その後の工程は、第１実施形態の場合と同じである。
その後の工程は、第１実施形態の場合と同じである。
【００５４】以上述べたように、本発明の第３実施形態
の液晶セルの製造方法では、第１実施形態の液晶セルの
製造方法と同様に、高分子分散型液晶１２に含まれてい
るＵＶキュアラブル液晶を硬化するための新たな工程を
追加せずに、高分子分散型液晶１２を利用した液晶セル
を製造することができる。また、高分子分散型液晶１２
に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫
外線の積算光量が、シール材１１の硬化に要する紫外線
の積算光量よりも大きい場合にも、シール材１１とＵＶ
キュアラブル液晶の双方を完全に硬化させることができ
る利点がある。これは液晶パネルの品質の向上につなが
る。
の液晶セルの製造方法では、第１実施形態の液晶セルの
製造方法と同様に、高分子分散型液晶１２に含まれてい
るＵＶキュアラブル液晶を硬化するための新たな工程を
追加せずに、高分子分散型液晶１２を利用した液晶セル
を製造することができる。また、高分子分散型液晶１２
に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫
外線の積算光量が、シール材１１の硬化に要する紫外線
の積算光量よりも大きい場合にも、シール材１１とＵＶ
キュアラブル液晶の双方を完全に硬化させることができ
る利点がある。これは液晶パネルの品質の向上につなが
る。
【００５５】（第４実施形態）図６は、本発明の第４実
施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、第１
実施形態の製造方法における紫外線照射工程（図１
（ｃ））において、図６に示すマスク５０を使用する点
を除いて、第１実施形態の方法と同じである。よって、
その詳細な説明は省略する。
施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、第１
実施形態の製造方法における紫外線照射工程（図１
（ｃ））において、図６に示すマスク５０を使用する点
を除いて、第１実施形態の方法と同じである。よって、
その詳細な説明は省略する。
【００５６】図６に示すように、マスク５０は、紫外線
の透過率が相対的に低い第１領域５０ａと、紫外線の透
過率が相対的に高い第２領域５０ｂに分かれている。第
１領域５０ａは、矩形状で、液晶セルの表示部全体を覆
っている。第２領域５０ｂは、矩形枠状で、液晶セルの
表示部の外側の領域を覆っている。
の透過率が相対的に低い第１領域５０ａと、紫外線の透
過率が相対的に高い第２領域５０ｂに分かれている。第
１領域５０ａは、矩形状で、液晶セルの表示部全体を覆
っている。第２領域５０ｂは、矩形枠状で、液晶セルの
表示部の外側の領域を覆っている。
【００５７】図６に示すように、第２基板２０の上にマ
スク５０を載せてから、紫外線ランプ１３により紫外線
を照射すると、紫外線の透過率が相対的に低い第１領域
５０ａの下方にある高分子分散型液晶１２に対しては、
紫外線照射量が少なくなる。これに対し、紫外線の透過
率が相対的に高い第２領域５０ｂの下方にあるシール材
１１に対しては、高分子分散型液晶１２よりも紫外線照
射量が多くなる。その結果、シール材１１の硬化に要す
る紫外線の積算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれ
ているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積
算光量よりも大きい場合であっても、第２実施形態のよ
うに２回目の紫外線照射工程を設ける必要がない。この
ため、１回の紫外線照射で紫外線照射を最適化できる利
点が得られる。
スク５０を載せてから、紫外線ランプ１３により紫外線
を照射すると、紫外線の透過率が相対的に低い第１領域
５０ａの下方にある高分子分散型液晶１２に対しては、
紫外線照射量が少なくなる。これに対し、紫外線の透過
率が相対的に高い第２領域５０ｂの下方にあるシール材
１１に対しては、高分子分散型液晶１２よりも紫外線照
射量が多くなる。その結果、シール材１１の硬化に要す
る紫外線の積算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれ
ているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積
算光量よりも大きい場合であっても、第２実施形態のよ
うに２回目の紫外線照射工程を設ける必要がない。この
ため、１回の紫外線照射で紫外線照射を最適化できる利
点が得られる。
【００５８】（第５実施形態）図７は、本発明の第５実
施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、第１
実施形態の製造方法における紫外線照射工程（図１
（ｃ））において、図７に示すマスク５０を使用する点
を除いて、第１実施形態の方法と同じである。よって、
その詳細な説明は省略する。
施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、第１
実施形態の製造方法における紫外線照射工程（図１
（ｃ））において、図７に示すマスク５０を使用する点
を除いて、第１実施形態の方法と同じである。よって、
その詳細な説明は省略する。
【００５９】図７に示すように、マスク６０は、紫外線
の透過率が相対的に高い第１領域６０ａと、紫外線の透
過率が相対的に低い第２領域６０ｂに分かれている。第
１領域６０ａは、矩形状で、液晶セルの表示部全体を覆
っている。第２領域６０ｂは、矩形枠状で、液晶セルの
表示部の外側の領域を覆っている。
の透過率が相対的に高い第１領域６０ａと、紫外線の透
過率が相対的に低い第２領域６０ｂに分かれている。第
１領域６０ａは、矩形状で、液晶セルの表示部全体を覆
っている。第２領域６０ｂは、矩形枠状で、液晶セルの
表示部の外側の領域を覆っている。
【００６０】図７に示すように、第２基板２０の上にマ
スク６０を載せてから、紫外線ランプ１３により紫外線
を照射すると、紫外線の透過率が相対的に高い第１領域
６０ａの下方にある高分子分散型液晶１２に対しては、
紫外線照射量が多くなる。これに対し、紫外線の透過率
が相対的に低い第２領域６０ｂの下方にあるシール材１
１に対しては、高分子分散型液晶１２よりも紫外線照射
量が少なくなる。その結果、シール材１１の硬化に要す
る紫外線の積算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれ
ているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積
算光量よりも小さい場合であっても、第３実施形態のよ
うに２回目の紫外線照射工程を設ける必要がない。この
ため、１回の紫外線照射で紫外線照射を最適化できる利
点が得られる。
スク６０を載せてから、紫外線ランプ１３により紫外線
を照射すると、紫外線の透過率が相対的に高い第１領域
６０ａの下方にある高分子分散型液晶１２に対しては、
紫外線照射量が多くなる。これに対し、紫外線の透過率
が相対的に低い第２領域６０ｂの下方にあるシール材１
１に対しては、高分子分散型液晶１２よりも紫外線照射
量が少なくなる。その結果、シール材１１の硬化に要す
る紫外線の積算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれ
ているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積
算光量よりも小さい場合であっても、第３実施形態のよ
うに２回目の紫外線照射工程を設ける必要がない。この
ため、１回の紫外線照射で紫外線照射を最適化できる利
点が得られる。
【００６１】（変形例）本発明において、第１基板１０
と第２基板２０の構成と材料は、上述したものに限定さ
れず、任意に変更が可能である。また、マスクの構成と
材料も、紫外線の照射を遮断ないし抑制できるものであ
れば、任意に使用可能である。
と第２基板２０の構成と材料は、上述したものに限定さ
れず、任意に変更が可能である。また、マスクの構成と
材料も、紫外線の照射を遮断ないし抑制できるものであ
れば、任意に使用可能である。
【００６２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶セル
の製造方法によれば、新たな工程を追加せずに、高分子
分散型液晶を利用した液晶セルを製造できる。また、一
回の紫外線照射工程でシール材およびＵＶキュアラブル
液晶の双方を完全に硬化させるためにマスクを使用した
場合には、ＵＶキュアラブル液晶に対する紫外線の照射
光量を最適化できる。
の製造方法によれば、新たな工程を追加せずに、高分子
分散型液晶を利用した液晶セルを製造できる。また、一
回の紫外線照射工程でシール材およびＵＶキュアラブル
液晶の双方を完全に硬化させるためにマスクを使用した
場合には、ＵＶキュアラブル液晶に対する紫外線の照射
光量を最適化できる。
【図１】本発明の第１実施形態の液晶セルの製造方法を
示す概略斜視図である。
示す概略斜視図である。
【図２】本発明の第２実施形態の液晶セルの製造方法を
示す概略斜視図である。
示す概略斜視図である。
【図３】本発明の第３実施形態の液晶セルの製造方法を
示す概略斜視図である。
示す概略斜視図である。
【図４】本発明の第２実施形態の液晶セルの製造方法に
おいて、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示
す概略断面図である。
おいて、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示
す概略断面図である。
【図５】本発明の第３実施形態の液晶セルの製造方法に
おいて、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示
す概略断面図である。
おいて、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示
す概略断面図である。
【図６】本発明の第４実施形態の液晶セルの製造方法に
おいて、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示
す概略断面図である。
おいて、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示
す概略断面図である。
【図７】本発明の第５実施形態の液晶セルの製造方法に
おいて、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示
す概略断面図である。
おいて、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示
す概略断面図である。
１０ 第１基板 １１ シール材 １２ 高分子分散型液晶 １３ 紫外線ランプ ２０ 第２基板 ３０、４０、５０、６０ マスク
Claims (7)
- 【請求項１】 所定の隙間をあけて互いに対向して貼り
付けられた第１基板および第２基板と、前記隙間内に充
填された高分子分散型液晶とを備えてなる液晶セルの製
造方法において、 前記第１基板の内面に紫外線硬化性のシール材を、前記
液晶セルの表示部を囲むように形成する工程と、 前記第１基板または前記第２基板の内面に、ＵＶキュア
ラブル液晶を含む前記高分子分散型液晶を所定量滴下す
る工程と、 前記第１基板の内面と前記第２基板の内面とを対向させ
た状態で前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせ、
もって前記第１基板と前記第２基板と前記シール材とで
囲まれた空間の内部に前記高分子分散型液晶を充填する
工程と、 貼り合わされた前記第１基板および前記第２基板の少な
くとも一方を介して、前記シール材および前記高分子分
散型液晶に紫外線を照射し、前記シール材と前記高分子
分散型液晶に含まれるＵＶキュアラブル液晶とを硬化さ
せる工程とを有することを特徴とする液晶セルの製造方
法。 - 【請求項２】 前記シール材および前記高分子分散型液
晶に紫外線を照射する前記工程において、前記シール材
が完全に硬化すると共に前記ＵＶキュアラブル液晶が部
分的に硬化し、 部分的に硬化した前記ＵＶキュアラブル液晶を完全に硬
化させるために、前記ＵＶキュアラブル液晶に再度、紫
外線を選択的に照射する請求項１に記載の液晶セルの製
造方法。 - 【請求項３】 部分的に硬化した前記ＵＶキュアラブル
液晶を完全に硬化させるために、前記シール材に対する
紫外線を遮断するマスクを介して紫外線が照射される請
求項２に記載の液晶セルの製造方法。 - 【請求項４】 前記シール材および前記高分子分散型液
晶に紫外線を照射する前記工程において、前記シール材
が部分的に硬化すると共に前記ＵＶキュアラブル液晶が
完全に硬化し、 部分的に硬化した前記シール材を完全に硬化させるため
に、前記シール材に再度、紫外線を選択的に照射する請
求項１に記載の液晶セルの製造方法。 - 【請求項５】 部分的に硬化した前記シール材を完全に
硬化させるために、前記高分子分散型液晶に対する紫外
線を遮断するマスクを介して紫外線が照射される請求項
４に記載の液晶セルの製造方法。 - 【請求項６】 前記シール材および前記高分子分散型液
晶に紫外線を照射する前記工程において、紫外線の透過
率が異なる第１領域と第２領域を持つマスクが使用さ
れ、 前記ＵＶキュアラブル液晶に対しては前記マスクの第１
領域を介して紫外線が照射され、前記シール材に対して
は前記マスクの第２領域を介して紫外線が照射される請
求項１に記載の液晶セルの製造方法。 - 【請求項７】 前記シール材および前記高分子分散型液
晶に紫外線を照射する前記工程において、前記マスクの
第１領域を介して照射される紫外線により前記ＵＶキュ
アラブル液晶が完全に硬化し、前記マスクの第２領域を
介して照射される紫外線により前記シール材が完全に硬
化する請求項６に記載の液晶セルの製造方法。
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