JP4265652B2 - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
実施例として、次のようにして液晶パネルを作製した。まず、TFT、15μm幅のゲート線、12μm幅のデータ線、20μm幅の蓄積キャパシタおよび画素電極を有するアレイ基板、カラーフィルタ、共通電極および4μmのスペーサ突起物を有するカラーフィルタ基板、それぞれに対して垂直配向膜を塗布し、光硬化性モノマーを添加した液晶組成物を滴下注入後、前述2枚の基板を貼り合わせ、シールの硬化を行った。次に、基板片側にマスクを形成し、磁場下において印加方向とパネル法線方向が20度の角度をなすように配置した。2分程度磁場下放置し、その後液晶パネルに10Vの電圧を印加して、磁場下からパネルを取り出した。マスクを形成した基板側から紫外線を照射し、液晶組成物中に含有される光硬化性モノマーを重合させた。続いて、マスクを基板から取り除き、印加方向と基板法線方向が20度の角度をなすように再度磁場下において2分程度放置した。同様に10Vの電圧を印加して、磁場下からパネルを取り出し、紫外線照射を行うことで、前工程とは異なる領域の光硬化性モノマーを重合させた。このようにして、配向方向の異なる領域を1画素内に2つ形成した。
Claims (2)
- 負の誘電率異方性を有すると共に硬化性材料を含む液晶層を、電極がそれぞれ形成されて対向配置された一対の基板間に封止する工程と、
前記一対の基板間に封止された液晶層に、前記基板の法線に対して所定の角度を有する方向に磁場を印加する第1の磁場印加工程と、
前記第1の磁場印加工程の後、前記液晶層のうち各画素内の一の領域を露光して、前記一の領域の前記硬化性材料を硬化させる第1の硬化工程と、
前記一対の基板間に封止された液晶層に、前記基板の法線に対して前記方向とは異なる方向に磁場を印加する第2の磁場印加工程と、
前記第2の磁場印加工程の後、前記液晶層のうち各画素内の他の領域を露光して、前記他の領域の前記硬化性材料を硬化させる第2の硬化工程と、
前記第2の硬化工程の後、磁場無印加状態で各画素の全面を露光する工程と
を含む液晶表示素子の製造方法。 - 前記第1および第2の硬化工程のそれぞれにおいて、前記一対の基板の電極間に電圧を印加した状態で、マスクを用いた選択露光により前記硬化性材料を選択的に硬化させる
請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
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