JPH11337913A - 液晶表示装置の製造方法およびその製造装置 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法およびその製造装置Info
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- JPH11337913A JPH11337913A JP14339598A JP14339598A JPH11337913A JP H11337913 A JPH11337913 A JP H11337913A JP 14339598 A JP14339598 A JP 14339598A JP 14339598 A JP14339598 A JP 14339598A JP H11337913 A JPH11337913 A JP H11337913A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 白濁度、飽和電圧の表示品質を均一にできる
液晶表示素子の製造方法および製造装置を提供する。 【解決手段】 紫外線ランプと高分子分散液晶の間に紫
外線透過光量を連続的に可変できるマスクを用いて表示
パネルのギャップムラに対応した強度分布を有する紫外
線を発生させ、それによって高分子分散液晶を層分離さ
せることとした。また、紫外線ランプと高分子分散液晶
の間に紫外線透過光量を連続的に可変できるマスクを紫
外線層分離させる製造装置に設けることとした。このよ
うな方法、及び製造装置によれば、白濁度ムラ、飽和電
圧にムラのない液晶表示素子が提供できる。
液晶表示素子の製造方法および製造装置を提供する。 【解決手段】 紫外線ランプと高分子分散液晶の間に紫
外線透過光量を連続的に可変できるマスクを用いて表示
パネルのギャップムラに対応した強度分布を有する紫外
線を発生させ、それによって高分子分散液晶を層分離さ
せることとした。また、紫外線ランプと高分子分散液晶
の間に紫外線透過光量を連続的に可変できるマスクを紫
外線層分離させる製造装置に設けることとした。このよ
うな方法、及び製造装置によれば、白濁度ムラ、飽和電
圧にムラのない液晶表示素子が提供できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の製
造方法および製造装置に関する。詳しくは、２つの基板
間に液晶と高分子とが均一に分散されて狭持された高分
子分散液晶を備える高分子分散液晶表示装置の製造方法
およびその製造装置に関する。
造方法および製造装置に関する。詳しくは、２つの基板
間に液晶と高分子とが均一に分散されて狭持された高分
子分散液晶を備える高分子分散液晶表示装置の製造方法
およびその製造装置に関する。
【０００２】
【従来技術】従来から、液晶と高分子前駆体とを含む液
晶性混合材料（以後、高分子分散液晶と呼ぶ）を狭持し
た液晶表示素子（すなわち、高分子分散液晶表示素子）
が表示装置に用いられていた。高分子分散液晶のうちポ
リマーネットワーク液晶（以後、ＰＮ−ＬＣと呼ぶ）
は、ポリマーと正の誘電異方性を有するネマティック液
晶のそれぞれの機能を合わせ持った性質があり、ポリマ
ーネットワークとネマティック液晶の屈折率の差を利用
して入射光を散乱させる光散乱モード型の表示素子（以
後、ＰＮ−ＬＣＤと呼ぶ）として用いられている。ＵＶ
光で層分離する高分子分散液晶は注入後均一なＵＶ光を
照射して層分離する。例えば、特開平１０―３０７３号
公報では均一ＵＶ光±１０％以内の強度分布で照射する
ことが開示されている。
晶性混合材料（以後、高分子分散液晶と呼ぶ）を狭持し
た液晶表示素子（すなわち、高分子分散液晶表示素子）
が表示装置に用いられていた。高分子分散液晶のうちポ
リマーネットワーク液晶（以後、ＰＮ−ＬＣと呼ぶ）
は、ポリマーと正の誘電異方性を有するネマティック液
晶のそれぞれの機能を合わせ持った性質があり、ポリマ
ーネットワークとネマティック液晶の屈折率の差を利用
して入射光を散乱させる光散乱モード型の表示素子（以
後、ＰＮ−ＬＣＤと呼ぶ）として用いられている。ＵＶ
光で層分離する高分子分散液晶は注入後均一なＵＶ光を
照射して層分離する。例えば、特開平１０―３０７３号
公報では均一ＵＶ光±１０％以内の強度分布で照射する
ことが開示されている。
【０００３】図３を参照して、この種の高分子分散液晶
表示素子の製造方法を説明する。まず、ＩＴＯ（Ｉｎｄ
ｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）の透明電極２、５がそれぞ
れ形成された上側の透明基板１と下側の透明基板６を互
いに対向させ、基板周囲を図示しないシール材により貼
りあわせて、基板間に液晶を封入するための所定の空隙
４が設けられた空パネルを形成する。
表示素子の製造方法を説明する。まず、ＩＴＯ（Ｉｎｄ
ｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）の透明電極２、５がそれぞ
れ形成された上側の透明基板１と下側の透明基板６を互
いに対向させ、基板周囲を図示しないシール材により貼
りあわせて、基板間に液晶を封入するための所定の空隙
４が設けられた空パネルを形成する。
【０００４】一方では、ネマチィク液晶にアクリルモノ
マーなどの高分子前駆体と紫外線硬化開始剤などを均一
に混合させた混合溶液を作製しておく。そして、この混
合溶液を先に説明した空パネルの所定間隙に真空注入す
る。その後、従来ＳＴＮ、ＴＮの表示パネルの場合は液
晶注入後のプレス封止工程により膨らんだギャップを均
一化している。またその際ギャップの戻りを防ぐため
に、液晶注入口に封止剤としてＵＶ硬化型樹脂を塗布
し、ＵＶ光を用いて封止剤を硬化させている。
マーなどの高分子前駆体と紫外線硬化開始剤などを均一
に混合させた混合溶液を作製しておく。そして、この混
合溶液を先に説明した空パネルの所定間隙に真空注入す
る。その後、従来ＳＴＮ、ＴＮの表示パネルの場合は液
晶注入後のプレス封止工程により膨らんだギャップを均
一化している。またその際ギャップの戻りを防ぐため
に、液晶注入口に封止剤としてＵＶ硬化型樹脂を塗布
し、ＵＶ光を用いて封止剤を硬化させている。
【０００５】しかし、高分子分散液晶では上述のように
ＵＶ光で層分離を起こすのでプレス封止工程時のＵＶ光
によっても反応を起こしてしまう。したがってプレス封
止ができないためこの工程は省かれる。次に、透明基板
１側から均一なＵＶ１０を照射して高分子前駆体を重合
させることにより混合溶液中から高分子を析出させ液晶
と高分子を層分離して白濁した液晶表示素子を作製す
る。ここでは、封止していない状態で均一なＵＶ露光を
行っているので、この後、最終工程として封止剤部分を
局所的にＵＶ照射し封止を完了させ表示素子を完成させ
ている。
ＵＶ光で層分離を起こすのでプレス封止工程時のＵＶ光
によっても反応を起こしてしまう。したがってプレス封
止ができないためこの工程は省かれる。次に、透明基板
１側から均一なＵＶ１０を照射して高分子前駆体を重合
させることにより混合溶液中から高分子を析出させ液晶
と高分子を層分離して白濁した液晶表示素子を作製す
る。ここでは、封止していない状態で均一なＵＶ露光を
行っているので、この後、最終工程として封止剤部分を
局所的にＵＶ照射し封止を完了させ表示素子を完成させ
ている。
【０００６】次に図９を参照して、前記方法にて製造し
た高分子分散液晶表示素子の製造装置を説明する。この
高分子分散液晶を注入した液晶セル９を図９に示すよう
な紫外線照射装置を用いて前記液晶セル９を３７℃の温
度に維持させて紫外線層分離させた。図９では、紫外線
発生光源として４ｋｗのメタルハライドランプ３１と三
方の反射板３０により、下方に置かれた液晶セル９に対
して透明基板１側から効果的に紫外線を照射できるよう
な構造になっている。さらに光源３１と液晶セル９との
間には透明なソーダガラス３２を設置し光源３１から発
生した紫外線が均一に液晶セル９に当たるようになって
いる。その照射ＵＶ強度は１００ｍｗ／ｃｍ2 （波長３
６５ｎｍ）であり、照射強度の均一性は±５％で１分間
照射するようになっている。このようにして混合溶液中
から高分子を析出させることによって図３に示すように
液晶と高分子とを層分離して液晶セル９を完成させる装
置である。
た高分子分散液晶表示素子の製造装置を説明する。この
高分子分散液晶を注入した液晶セル９を図９に示すよう
な紫外線照射装置を用いて前記液晶セル９を３７℃の温
度に維持させて紫外線層分離させた。図９では、紫外線
発生光源として４ｋｗのメタルハライドランプ３１と三
方の反射板３０により、下方に置かれた液晶セル９に対
して透明基板１側から効果的に紫外線を照射できるよう
な構造になっている。さらに光源３１と液晶セル９との
間には透明なソーダガラス３２を設置し光源３１から発
生した紫外線が均一に液晶セル９に当たるようになって
いる。その照射ＵＶ強度は１００ｍｗ／ｃｍ2 （波長３
６５ｎｍ）であり、照射強度の均一性は±５％で１分間
照射するようになっている。このようにして混合溶液中
から高分子を析出させることによって図３に示すように
液晶と高分子とを層分離して液晶セル９を完成させる装
置である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
高分子分散型液晶表示装置の製造方法およびその製造装
置ではＵＶ光を照射するプレス封止工程が実施不可能な
ためギャップを均一化できず中央がふくらんだセルとな
る。このセルをギャップの均一化をせずに均一ＵＶ光に
よって層分離しているでギャツプムラに応じて白濁度Ｔ
（０Ｖ）ムラ、飽和電圧Ｖ（ｓａｔ）ムラが発生し表示
品質が悪くなる。図１にＵＶ光を２５℃において強度３
０ｍｗ／ｃｍ2 で１分間照射したときのセル厚と白濁度
の関係を、図２に同条件下でのセル厚と飽和電圧の関係
を示す。特に、ｄｕｔｙ駆動する場合、特性がばらつく
とクロストークが顕著になるという問題がある。
高分子分散型液晶表示装置の製造方法およびその製造装
置ではＵＶ光を照射するプレス封止工程が実施不可能な
ためギャップを均一化できず中央がふくらんだセルとな
る。このセルをギャップの均一化をせずに均一ＵＶ光に
よって層分離しているでギャツプムラに応じて白濁度Ｔ
（０Ｖ）ムラ、飽和電圧Ｖ（ｓａｔ）ムラが発生し表示
品質が悪くなる。図１にＵＶ光を２５℃において強度３
０ｍｗ／ｃｍ2 で１分間照射したときのセル厚と白濁度
の関係を、図２に同条件下でのセル厚と飽和電圧の関係
を示す。特に、ｄｕｔｙ駆動する場合、特性がばらつく
とクロストークが顕著になるという問題がある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明による高分子分散液晶の表示装置の製造
方法によれば紫外線層分離させる製造方法において紫外
線ランプと高分子分散液晶の間に紫外線透過光量を連続
的に可変できるマスクを用いて表示パネルのギャップム
ラに対応した強度分布を有する紫外線を発生させ、それ
によって該高分子分散液晶を層分離させることとした。
このように製造すれば白濁度Ｔ（０Ｖ）ムラ、飽和電圧
Ｖ（ｓａｔ）にムラのないことを特徴とする液晶表示素
子の製造方法が提供される。
ために、本発明による高分子分散液晶の表示装置の製造
方法によれば紫外線層分離させる製造方法において紫外
線ランプと高分子分散液晶の間に紫外線透過光量を連続
的に可変できるマスクを用いて表示パネルのギャップム
ラに対応した強度分布を有する紫外線を発生させ、それ
によって該高分子分散液晶を層分離させることとした。
このように製造すれば白濁度Ｔ（０Ｖ）ムラ、飽和電圧
Ｖ（ｓａｔ）にムラのないことを特徴とする液晶表示素
子の製造方法が提供される。
【０００９】また、紫外線層分離させる製造装置におい
て紫外線ランプと高分子分散液晶の間に紫外線透過光量
を連続的に可変できるマスクを設けることとした。この
ように製造すれば白濁度Ｔ（０Ｖ）ムラ、飽和電圧Ｖ
（ｓａｔ）ムラのない液晶表示素子の製造装置が提供さ
れる。
て紫外線ランプと高分子分散液晶の間に紫外線透過光量
を連続的に可変できるマスクを設けることとした。この
ように製造すれば白濁度Ｔ（０Ｖ）ムラ、飽和電圧Ｖ
（ｓａｔ）ムラのない液晶表示素子の製造装置が提供さ
れる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の具体的内容を以下に説明
する。図４は従来方法と本発明の方法の両者を比較した
もので、ＰＮ―ＬＣに紫外線を照射したときにポリマー
ネットワークが形成される状態を模式的に示した断面図
である。図３の従来の方法では、均一な紫外線が平行に
透明基板１および透明電極２を通過してＰＮ−ＬＣに照
射されることにより、ＰＮ−ＬＣ層８が紫外線１０を吸
収して重合しポリマーネットワークを形成する。照射さ
れた紫外線１０の強度分布が均一な場合、そのポリマー
ネット粒３の径は、あまりばらつきがなく約１０μｍで
形成される。したがって模式図のように透明基板の中央
がふくらんでいる液晶表示装置においては、表示パネル
ギャップが高い分その中央部の白濁度は強くなり飽和電
圧も高くなる。ギャップの低い周辺部の白濁度は弱くな
り飽和電圧も低くなる。結果として面内均一な白濁度Ｔ
（０Ｖ）を持ち、面内一定のＶ（ｓａｔ）でスイッチン
グできる高分子分散型液晶表示装置が実現できなかっ
た。
する。図４は従来方法と本発明の方法の両者を比較した
もので、ＰＮ―ＬＣに紫外線を照射したときにポリマー
ネットワークが形成される状態を模式的に示した断面図
である。図３の従来の方法では、均一な紫外線が平行に
透明基板１および透明電極２を通過してＰＮ−ＬＣに照
射されることにより、ＰＮ−ＬＣ層８が紫外線１０を吸
収して重合しポリマーネットワークを形成する。照射さ
れた紫外線１０の強度分布が均一な場合、そのポリマー
ネット粒３の径は、あまりばらつきがなく約１０μｍで
形成される。したがって模式図のように透明基板の中央
がふくらんでいる液晶表示装置においては、表示パネル
ギャップが高い分その中央部の白濁度は強くなり飽和電
圧も高くなる。ギャップの低い周辺部の白濁度は弱くな
り飽和電圧も低くなる。結果として面内均一な白濁度Ｔ
（０Ｖ）を持ち、面内一定のＶ（ｓａｔ）でスイッチン
グできる高分子分散型液晶表示装置が実現できなかっ
た。
【００１１】図４は、紫外線透過光量を連続的に可変で
きるマスクにより予め紫外線２３を表示パネルのギャッ
プムラに対応した強度分布にしておきＰＮ−ＬＣに照射
する本発明の方法である。この方法によりセルの中心よ
りセルギャップの低い周辺部に、より強い強度の紫外線
が照射されその部分の白濁度Ｔ（０Ｖ）と飽和電圧Ｖ
（ｓａｔ）がセルの中心と同様になるよう補償される。
これはＰＮ−ＬＣ層２１のうち、強いＵＶ強度の照射を
うけた部位ほどそのポリマーネット粒２０の径が小さく
なり、そのためその白濁度が強くなるとともに飽和電圧
も高くなる特性によるものである。照射に利用するＵＶ
の強度範囲は白濁度Ｔ（０Ｖ）を十分変化させることが
できる範囲である。本発明の場合は白濁度Ｔ（０Ｖ）が
十分変化する範囲内のＵＶ強度として３０ｍｗ／ｃｍ2
から１００ｍｗ／ｃｍ2 を用いた。図５にＵＶ照射時間
１分間、温度２５℃におけるセル厚ごとのＵＶ強度と白
濁度の関係を示す。図６には、ＵＶ照射時間１分間、温
度２５℃におけるセル厚ごとのＵＶ強度と飽和電圧の関
係を示す。結果として、従来にくらべ面内均一な白濁度
Ｔ（０Ｖ）を持ち、面内一定のＶ（ｓａｔ）でスイッチ
ングできる高分子分散型液晶表示装置が実現できるよう
になった。
きるマスクにより予め紫外線２３を表示パネルのギャッ
プムラに対応した強度分布にしておきＰＮ−ＬＣに照射
する本発明の方法である。この方法によりセルの中心よ
りセルギャップの低い周辺部に、より強い強度の紫外線
が照射されその部分の白濁度Ｔ（０Ｖ）と飽和電圧Ｖ
（ｓａｔ）がセルの中心と同様になるよう補償される。
これはＰＮ−ＬＣ層２１のうち、強いＵＶ強度の照射を
うけた部位ほどそのポリマーネット粒２０の径が小さく
なり、そのためその白濁度が強くなるとともに飽和電圧
も高くなる特性によるものである。照射に利用するＵＶ
の強度範囲は白濁度Ｔ（０Ｖ）を十分変化させることが
できる範囲である。本発明の場合は白濁度Ｔ（０Ｖ）が
十分変化する範囲内のＵＶ強度として３０ｍｗ／ｃｍ2
から１００ｍｗ／ｃｍ2 を用いた。図５にＵＶ照射時間
１分間、温度２５℃におけるセル厚ごとのＵＶ強度と白
濁度の関係を示す。図６には、ＵＶ照射時間１分間、温
度２５℃におけるセル厚ごとのＵＶ強度と飽和電圧の関
係を示す。結果として、従来にくらべ面内均一な白濁度
Ｔ（０Ｖ）を持ち、面内一定のＶ（ｓａｔ）でスイッチ
ングできる高分子分散型液晶表示装置が実現できるよう
になった。
【００１２】図９及び図１０に従来の製造装置と本発明
の製造装置を示す。すなわち、前記方法にて作製した高
分子分散液晶表示素子の製造装置の構成を表している。
図９は従来の製造装置で紫外線発生光源として４ｋｗの
メタルハライドランプ３１と三方の反射板３０により、
下方に置かれた液晶セル９に対して透明基板１側から効
果的に紫外線を照射できるような構造になっている。さ
らに光源３１と液晶セル９との間には透明なソーダガラ
ス３２を設置し光源３１から発生した紫外線が均一に液
晶セル９に当たるようになっている。恒温層３３は液晶
セル９の温度を一定に保つために設けられている。照射
ＵＶ強度は１００ｍｗ／ｃｍ2 （波長３６５ｎｍ）であ
り照射強度の均一性は±５％で１分間照射できるように
構成されている。また液晶セル９の下方に白色散乱板７
を設けた。このようにして混合溶液中から高分子を析出
させることによって図３に示すように液晶と高分子とを
層分離して液晶セル９を完成させる構造である。
の製造装置を示す。すなわち、前記方法にて作製した高
分子分散液晶表示素子の製造装置の構成を表している。
図９は従来の製造装置で紫外線発生光源として４ｋｗの
メタルハライドランプ３１と三方の反射板３０により、
下方に置かれた液晶セル９に対して透明基板１側から効
果的に紫外線を照射できるような構造になっている。さ
らに光源３１と液晶セル９との間には透明なソーダガラ
ス３２を設置し光源３１から発生した紫外線が均一に液
晶セル９に当たるようになっている。恒温層３３は液晶
セル９の温度を一定に保つために設けられている。照射
ＵＶ強度は１００ｍｗ／ｃｍ2 （波長３６５ｎｍ）であ
り照射強度の均一性は±５％で１分間照射できるように
構成されている。また液晶セル９の下方に白色散乱板７
を設けた。このようにして混合溶液中から高分子を析出
させることによって図３に示すように液晶と高分子とを
層分離して液晶セル９を完成させる構造である。
【００１３】図１０は本発明の製造装置で紫外線発生光
源として４ｋｗのメタルハライドランプ３１と三方の反
射板３０により、下方に置かれた液晶セル２２に対して
透明基板１側から効果的に紫外線を照射できるような構
造になっている。恒温層３３は液晶セル２２の温度を一
定に保つために設けられている。さらに光源３１と液晶
セル２２との間には紫外線透過光量を連続的に可変でき
るマスク３４が設置され、光源３１から発生した紫外線
を表示パネルのギャップムラに対応した強度分布に切り
替えて液晶セル２２に当たるようになっている。マスク
３４は透明なソーダガラスで構成されており表面に遮蔽
パターンがない状態でその照射ＵＶ強度は１００ｍｗ／
ｃｍ2 （波長３６５ｎｍ）であり照射強度の均一性は±
５％で１分間照射できるように構成されている。また液
晶セル２２の下方に白色散乱板７を設けた。このように
して、混合溶液中から高分子を析出させることによっ
て、図４に示すように液晶と高分子とを層分離して液晶
セル２２を完成させる構造である。
源として４ｋｗのメタルハライドランプ３１と三方の反
射板３０により、下方に置かれた液晶セル２２に対して
透明基板１側から効果的に紫外線を照射できるような構
造になっている。恒温層３３は液晶セル２２の温度を一
定に保つために設けられている。さらに光源３１と液晶
セル２２との間には紫外線透過光量を連続的に可変でき
るマスク３４が設置され、光源３１から発生した紫外線
を表示パネルのギャップムラに対応した強度分布に切り
替えて液晶セル２２に当たるようになっている。マスク
３４は透明なソーダガラスで構成されており表面に遮蔽
パターンがない状態でその照射ＵＶ強度は１００ｍｗ／
ｃｍ2 （波長３６５ｎｍ）であり照射強度の均一性は±
５％で１分間照射できるように構成されている。また液
晶セル２２の下方に白色散乱板７を設けた。このように
して、混合溶液中から高分子を析出させることによっ
て、図４に示すように液晶と高分子とを層分離して液晶
セル２２を完成させる構造である。
【００１４】ここでマスク３４は、図１１のように紫外
線透過光量が連続的に可変されるように透明ガラス上に
スリットがパターニングされている。表示パネルの周辺
へいけばいくほどギャップが低くなっているのでそれに
対応するように周辺へいけばいくほど照射ＵＶ強度が強
くなるようにマスク上にスリットパターンが設けられて
いる。
線透過光量が連続的に可変されるように透明ガラス上に
スリットがパターニングされている。表示パネルの周辺
へいけばいくほどギャップが低くなっているのでそれに
対応するように周辺へいけばいくほど照射ＵＶ強度が強
くなるようにマスク上にスリットパターンが設けられて
いる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。 （実施例１）図４に示すように、下側の透明基板６上、
及び上側の透明基板１上に、ＩＴＯをスパッタリングに
より約４００オングストローム形成後パターニングして
透明電極５を形成する。その後、基板周囲を貼り合わせ
ることにより空隙１０μｍの液晶封入空間４を対向する
透明基板間に設けた空パネルを作製した。
説明する。 （実施例１）図４に示すように、下側の透明基板６上、
及び上側の透明基板１上に、ＩＴＯをスパッタリングに
より約４００オングストローム形成後パターニングして
透明電極５を形成する。その後、基板周囲を貼り合わせ
ることにより空隙１０μｍの液晶封入空間４を対向する
透明基板間に設けた空パネルを作製した。
【００１６】次に、この液晶封入空間４に封入する液晶
及び高分子前駆体混合物について説明する。液晶として
大日本インキ製ＰＮ―ＬＣ（ＰＮＭ１５３）を、高分子
前駆体としてアクリルモノマーを用い、これらを常温で
紫外線硬化開始剤と均一に混合させ混合溶液とした。そ
の後、温度４０℃に加温した空パネルの液晶封入空間４
に、この混合溶液を４０℃に保温して真空注入した。
及び高分子前駆体混合物について説明する。液晶として
大日本インキ製ＰＮ―ＬＣ（ＰＮＭ１５３）を、高分子
前駆体としてアクリルモノマーを用い、これらを常温で
紫外線硬化開始剤と均一に混合させ混合溶液とした。そ
の後、温度４０℃に加温した空パネルの液晶封入空間４
に、この混合溶液を４０℃に保温して真空注入した。
【００１７】図１０に示すような紫外線照射装置を用い
て、このＰＮ−ＬＣを注入した液晶セル２２を３７℃の
温度に維持させて紫外線層分離させた。図１０では、紫
外線発生光源として４ｋｗのメタルハライドランプ３１
と三方の反射板３０により、下方に置かれた液晶セル２
２に対して透明基板１側から効果的に紫外線を照射でき
るようにした。光源３１と液晶セル２２との間に紫外線
透過光量を連続的に可変できるマスク３４を設置するこ
とにより、光源３１から発生した紫外線を表示パネルの
ギャップムラに対応した強度分布に切り替えて液晶セル
２２に照射できるようにした。マスク３４上に遮蔽パタ
ーンがない状態での照射ＵＶ強度は１００ｍｗ／ｃｍ2
（波長３６５ｎｍ）であり、照射強度の均一性は±５
％で１分間照射した。このようにして混合溶液中から高
分子を析出させることによって図４に示すように液晶と
高分子とを層分離して液晶セル２２を完成させた。
て、このＰＮ−ＬＣを注入した液晶セル２２を３７℃の
温度に維持させて紫外線層分離させた。図１０では、紫
外線発生光源として４ｋｗのメタルハライドランプ３１
と三方の反射板３０により、下方に置かれた液晶セル２
２に対して透明基板１側から効果的に紫外線を照射でき
るようにした。光源３１と液晶セル２２との間に紫外線
透過光量を連続的に可変できるマスク３４を設置するこ
とにより、光源３１から発生した紫外線を表示パネルの
ギャップムラに対応した強度分布に切り替えて液晶セル
２２に照射できるようにした。マスク３４上に遮蔽パタ
ーンがない状態での照射ＵＶ強度は１００ｍｗ／ｃｍ2
（波長３６５ｎｍ）であり、照射強度の均一性は±５
％で１分間照射した。このようにして混合溶液中から高
分子を析出させることによって図４に示すように液晶と
高分子とを層分離して液晶セル２２を完成させた。
【００１８】ここでマスク３４は、図１１、図１２のよ
うに紫外線透過光量が連続的に可変されるように透明ガ
ラス上にスリットがパターニングされている。このスリ
ットは次のように形成される。スパッタリングによりＣ
ｒをガラス基板上に約２０００オングストローム形成し
パターニングをしスリットを形成したものである。表示
パネルの周辺へいけばいくほどギャップが低くなってい
るのでそれに対応するように周辺へいけばいくほど照射
ＵＶ強度が強くなるようにマスク上にスリットパターン
が設けられている。
うに紫外線透過光量が連続的に可変されるように透明ガ
ラス上にスリットがパターニングされている。このスリ
ットは次のように形成される。スパッタリングによりＣ
ｒをガラス基板上に約２０００オングストローム形成し
パターニングをしスリットを形成したものである。表示
パネルの周辺へいけばいくほどギャップが低くなってい
るのでそれに対応するように周辺へいけばいくほど照射
ＵＶ強度が強くなるようにマスク上にスリットパターン
が設けられている。
【００１９】図１１は図１０のマスク３４のＡ部の詳細
パターンを示す。そのＵＶ強度はパターンによって３０
ｍｗ／ｃｍ2 に弱められている。同様に、図１２はマス
ク３４のＢ部の詳細パターンを示す。そのＵＶ強度はパ
ターンによって６４ｍｗ／ｃｍ2 に弱められている。Ｃ
部は、この場合は１００ｍｗ／ｃｍ2 が照射される必要
があるので強度を弱めるためのパターンは設けず透明な
ガラスのままである。
パターンを示す。そのＵＶ強度はパターンによって３０
ｍｗ／ｃｍ2 に弱められている。同様に、図１２はマス
ク３４のＢ部の詳細パターンを示す。そのＵＶ強度はパ
ターンによって６４ｍｗ／ｃｍ2 に弱められている。Ｃ
部は、この場合は１００ｍｗ／ｃｍ2 が照射される必要
があるので強度を弱めるためのパターンは設けず透明な
ガラスのままである。
【００２０】この状態でＡ部に対応した部位の液晶セル
内のポリマーネット粒の径は約１０μｍ、Ｂ部に対応し
た液晶セル内のポリマーネット粒の径は約８μｍ、Ｃ部
に対応した液晶セル内のポリマーネット粒の径は約５μ
ｍであり、表示パネルの周辺へいけばいくほど白濁度は
強くなっている。また液晶セル２２の下方に白色散乱板
７を設けた。この白色散乱板７により液晶セル２２を通
過した紫外線が散乱反射されて、ＰＮ−ＬＣ層２１を効
率よく層分離させることができる。
内のポリマーネット粒の径は約１０μｍ、Ｂ部に対応し
た液晶セル内のポリマーネット粒の径は約８μｍ、Ｃ部
に対応した液晶セル内のポリマーネット粒の径は約５μ
ｍであり、表示パネルの周辺へいけばいくほど白濁度は
強くなっている。また液晶セル２２の下方に白色散乱板
７を設けた。この白色散乱板７により液晶セル２２を通
過した紫外線が散乱反射されて、ＰＮ−ＬＣ層２１を効
率よく層分離させることができる。
【００２１】このような方法および装置で作製された液
晶表示装置は、セルギャップのある液晶セル２２におい
ても白濁度Ｔ（０Ｖ）と飽和電圧Ｖ（ｓａｔ）がセルの
中心と同程度になるよう補正された特性を有するもので
ある。図７に従来のＰＮ−ＬＣＤのパネル位置とセル厚
・白濁度・ Ｖｓａｔの各特性との関係を、図８に、本
発明のＰＮ−ＬＣＤのパネル位置とセル厚・白濁度・
Ｖｓａｔの各特性との関係を示す。パネル位置と液晶セ
ル２２の対応は図９、図１０に示した通りである。
晶表示装置は、セルギャップのある液晶セル２２におい
ても白濁度Ｔ（０Ｖ）と飽和電圧Ｖ（ｓａｔ）がセルの
中心と同程度になるよう補正された特性を有するもので
ある。図７に従来のＰＮ−ＬＣＤのパネル位置とセル厚
・白濁度・ Ｖｓａｔの各特性との関係を、図８に、本
発明のＰＮ−ＬＣＤのパネル位置とセル厚・白濁度・
Ｖｓａｔの各特性との関係を示す。パネル位置と液晶セ
ル２２の対応は図９、図１０に示した通りである。
【００２２】この時白濁度は、キャノン製フォトマルチ
メータで測定し、電圧無印加時にＰＮ−ＬＣが白色拡散
状態となったときの透過率をＴｏｆｆとすると、 白濁度Ｔ（０Ｖ）＝透過率Ｔｏｆｆ で表される。この値は小さい方がより白いことを表す特
性値である。また飽和電圧Ｖ（ｓａｔ）は、液晶セルに
電圧を印加できるようにしてキャノン製フォトマルチメ
ータで印加電圧５Ｖで測定し、電圧印加時にＰＮ−ＬＣ
が透明になった状態での透過率をＴｏｎとし、その透過
率の９０％に到達するスイッチング電圧値を飽和電圧Ｖ
（ｓａｔ）と定義する。
メータで測定し、電圧無印加時にＰＮ−ＬＣが白色拡散
状態となったときの透過率をＴｏｆｆとすると、 白濁度Ｔ（０Ｖ）＝透過率Ｔｏｆｆ で表される。この値は小さい方がより白いことを表す特
性値である。また飽和電圧Ｖ（ｓａｔ）は、液晶セルに
電圧を印加できるようにしてキャノン製フォトマルチメ
ータで印加電圧５Ｖで測定し、電圧印加時にＰＮ−ＬＣ
が透明になった状態での透過率をＴｏｎとし、その透過
率の９０％に到達するスイッチング電圧値を飽和電圧Ｖ
（ｓａｔ）と定義する。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、中央が膨らんだ液
晶セルに対しマスク露光でギャップムラを補償すること
ができ白濁度、飽和電圧の表示品質を均一にできる。ま
たｄｕｔｙ駆動をしてもクロストークの発生が抑えられ
る。
晶セルに対しマスク露光でギャップムラを補償すること
ができ白濁度、飽和電圧の表示品質を均一にできる。ま
たｄｕｔｙ駆動をしてもクロストークの発生が抑えられ
る。
【図１】セル厚と白濁度の関係を示す図表。
【図２】セル厚と飽和電圧Ｖｓａｔの関係を示す図表。
【図３】従来のＰＮ―ＬＣＤの断面模式図。
【図４】本発明のＰＮ−ＬＣＤの断面模式図。
【図５】ＵＶ強度と白濁度の関係を示す図表。
【図６】ＵＶ強度と飽和電圧Ｖｓａｔの関係を示す図
表。
表。
【図７】従来のＰＮ―ＬＣＤのパネル位置とセル厚・白
濁度・Ｖｓａｔの関係を示す図表。
濁度・Ｖｓａｔの関係を示す図表。
【図８】本発明のＰＮ―ＬＣＤのパネル位置とセル厚・
白濁度・Ｖｓａｔの関係を示す図表。
白濁度・Ｖｓａｔの関係を示す図表。
【図９】従来の紫外線照射装置の概略図。
【図１０】本発明の紫外線照射装置の概略図。
【図１１】本発明のマスクパターンＡ部のパターン概要
図。
図。
【図１２】本発明のマスクパターンＢ部のパターン概要
図。
図。
１、６ 透明基板 ２、５ 透明電極 ３、２０ ポリマーネット粒 ４ 液晶封入空間 ７ 白色散乱板 ８、２１ ＰＮ−ＬＣ層 ９、２２ 液晶セル １０、２３ 紫外線（ＵＶ） ３０ 反射板 ３１ メタルハライドランプ（光源） ３４ マスク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 物袋 俊一 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 海老原 照夫 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 千本松 茂 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 高野 香 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 坂間 弘 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 福地 高和 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 山本 修平 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 株 式会社エスアイアイ・アールディセンター 内
Claims (3)
- 【請求項１】 透明電極がそれぞれ形成された一対の透
明基板間に液晶と高分子前駆体とを含む高分子分散液晶
を狭持した液晶表示装置の製造方法であって、 前記一対の透明基板間の間隙のムラに対応した強度分布
を有する紫外線を高分子分散型液晶層に照射する工程を
備えることにより、前記高分子分散液晶を層分離させる
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】 前記紫外線は、紫外線ランプと高分子分
散型液晶層の間に設けられた紫外線透過光量を連続的に
可変できるマスクにより、前記間隙のムラに対応した強
度分布を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶
表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 一対の透明基板間に高分子分散液晶を狭
持した液晶表示装置の製造装置において、紫外線ランプ
と、 前記紫外線ランプと前記高分子分散液晶の間に設けられ
た、紫外線透過光量を連続的に可変できるマスクと、を
備え、 前記透明基板間のギャップムラに対応した強度分布を有
する紫外線を発生させることを特徴とする液晶表示装置
の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14339598A JPH11337913A (ja) | 1998-05-25 | 1998-05-25 | 液晶表示装置の製造方法およびその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14339598A JPH11337913A (ja) | 1998-05-25 | 1998-05-25 | 液晶表示装置の製造方法およびその製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11337913A true JPH11337913A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15337776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14339598A Pending JPH11337913A (ja) | 1998-05-25 | 1998-05-25 | 液晶表示装置の製造方法およびその製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11337913A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002131760A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-09 | Nec Kagoshima Ltd | Ｕｖキュアラブル液晶を用いた液晶セルの製造方法 |
-
1998
- 1998-05-25 JP JP14339598A patent/JPH11337913A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002131760A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-09 | Nec Kagoshima Ltd | Ｕｖキュアラブル液晶を用いた液晶セルの製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040302 |