JPH11125808A - 液晶光学素子とその製造方法 - Google Patents
液晶光学素子とその製造方法Info
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- JPH11125808A JPH11125808A JP29063197A JP29063197A JPH11125808A JP H11125808 A JPH11125808 A JP H11125808A JP 29063197 A JP29063197 A JP 29063197A JP 29063197 A JP29063197 A JP 29063197A JP H11125808 A JPH11125808 A JP H11125808A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高分子分散型液晶を利用した液晶光学素子の
耐光信頼性を改善する。 【解決手段】 紫外線吸収剤１８を混合した絶縁膜１４
と透明電極層１３を設けた上下一対の基板１１、１２中
に高分子マトリクス１６中に液晶１７が分散保持された
高分子分散型液晶をスペーサ兼シール樹脂１５を介して
挟持し、液晶光学素子を構成する。
耐光信頼性を改善する。 【解決手段】 紫外線吸収剤１８を混合した絶縁膜１４
と透明電極層１３を設けた上下一対の基板１１、１２中
に高分子マトリクス１６中に液晶１７が分散保持された
高分子分散型液晶をスペーサ兼シール樹脂１５を介して
挟持し、液晶光学素子を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶が高分子マト
リクス中に分散保持された高分子分散型液晶を用いた液
晶光学素子とその製造方法に関するものである。
リクス中に分散保持された高分子分散型液晶を用いた液
晶光学素子とその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶分子の屈折率とほぼ同じ屈折
率を有する高分子にネマチック液晶を分散保持させた高
分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）を液晶ディスプレイに応用
しようとする研究が盛んに行われている。
率を有する高分子にネマチック液晶を分散保持させた高
分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）を液晶ディスプレイに応用
しようとする研究が盛んに行われている。
【０００３】図２は、ＰＤＬＣを液晶ディスプレイに応
用した場合の表示原理を示す概略図である。電圧無印加
状態（同図−（ａ））では、液晶２４の分子軸がランダ
ムな方向を向くため液晶領域の屈折率が周囲の高分子相
２５の屈折率と異なり、液晶ディスプレイに入った入射
光２２は散乱光２３となり、その結果、散乱状態（白濁
状態）が得られる。一方、透明電極層２１に電界を印加
する（同図−（ｂ））と、液晶２４の分子軸が電界方向
に配列し、基板に垂直に入射した光に対しては、液晶領
域の屈折率が周囲の高分子相２５の屈折率とほぼ一致す
るため、光の散乱が生じず透過光２６となり、その結
果、透明状態が得られる。
用した場合の表示原理を示す概略図である。電圧無印加
状態（同図−（ａ））では、液晶２４の分子軸がランダ
ムな方向を向くため液晶領域の屈折率が周囲の高分子相
２５の屈折率と異なり、液晶ディスプレイに入った入射
光２２は散乱光２３となり、その結果、散乱状態（白濁
状態）が得られる。一方、透明電極層２１に電界を印加
する（同図−（ｂ））と、液晶２４の分子軸が電界方向
に配列し、基板に垂直に入射した光に対しては、液晶領
域の屈折率が周囲の高分子相２５の屈折率とほぼ一致す
るため、光の散乱が生じず透過光２６となり、その結
果、透明状態が得られる。
【０００４】このＰＤＬＣを液晶ディスプレイに利用し
た場合、光の散乱を利用するため、偏光板を使用する必
要がなく、従来のツイステッドネマチック（ＴＮ）型の
液晶ディスプレイのように、直線偏光を得るために、偏
光板を使用しなければならない液晶ディスプレイに比
べ、明るく、視野角の広い表示が可能になり、表示品位
が格段に向上した液晶ディスプレイが実現できることに
なる。
た場合、光の散乱を利用するため、偏光板を使用する必
要がなく、従来のツイステッドネマチック（ＴＮ）型の
液晶ディスプレイのように、直線偏光を得るために、偏
光板を使用しなければならない液晶ディスプレイに比
べ、明るく、視野角の広い表示が可能になり、表示品位
が格段に向上した液晶ディスプレイが実現できることに
なる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ＰＤＬＣを用いた液晶
ディスプレイは信頼性、特に耐光性の面で課題を有して
いる。耐光性に関しては、ＰＤＬＣ中に残存した重合開
始剤が関与していることが指摘されている。つまり、Ｐ
ＤＬＣ中に残存した重合開始剤が光を吸収し、ラジカル
開裂を起こしラジカル種を発生する。こうして発生した
ラジカル種が液晶材料を分解することによりＰＤＬＣ材
料の劣化が進行する。
ディスプレイは信頼性、特に耐光性の面で課題を有して
いる。耐光性に関しては、ＰＤＬＣ中に残存した重合開
始剤が関与していることが指摘されている。つまり、Ｐ
ＤＬＣ中に残存した重合開始剤が光を吸収し、ラジカル
開裂を起こしラジカル種を発生する。こうして発生した
ラジカル種が液晶材料を分解することによりＰＤＬＣ材
料の劣化が進行する。
【０００６】従って、ＰＤＬＣの耐光性を確保するに
は、重合開始剤の光吸収を抑えることが重要であり、具
体的には光カットフィルター等の光遮光手段をパネルに
設けることが提案されている。しかし、光カットフィル
ター等の手段を設けることはコストの面、またシステム
全体で考えた場合、サイズ、重量等の面での不利に働
く。
は、重合開始剤の光吸収を抑えることが重要であり、具
体的には光カットフィルター等の光遮光手段をパネルに
設けることが提案されている。しかし、光カットフィル
ター等の手段を設けることはコストの面、またシステム
全体で考えた場合、サイズ、重量等の面での不利に働
く。
【０００７】本発明は、前記課題に鑑みてなされたもの
であり、主たる目的は低コストで、サイズ、重量等の面
でも問題なく、かつ耐光性の良好な液晶光学素子を提供
することである。
であり、主たる目的は低コストで、サイズ、重量等の面
でも問題なく、かつ耐光性の良好な液晶光学素子を提供
することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
ための本発明の請求項１にかかる液晶光学素子は、液晶
が高分子マトリクス中に分散保持された高分子分散型液
晶を電極を設けた上下一対の液晶支持板間に挟持した液
晶光学素子であって、該液晶支持板の電極上に重合開始
剤の光吸収領域の光を遮断し得る紫外線吸収剤を混合し
た絶縁膜を有することを特徴とする液晶光学素子であ
る。
ための本発明の請求項１にかかる液晶光学素子は、液晶
が高分子マトリクス中に分散保持された高分子分散型液
晶を電極を設けた上下一対の液晶支持板間に挟持した液
晶光学素子であって、該液晶支持板の電極上に重合開始
剤の光吸収領域の光を遮断し得る紫外線吸収剤を混合し
た絶縁膜を有することを特徴とする液晶光学素子であ
る。
【０００９】また、本発明の請求項４にかかる液晶光学
素子の製造方法は、液晶材料とオリゴマー、モノマー及
び重合開始剤からなる高分子形成材料とからなる均一組
成物を、片側の液晶支持板の電極上にのみ紫外線吸収剤
を混合した絶縁膜を有する上下一対の液晶支持板間に挟
持し、紫外線吸収剤を混合した絶縁膜を有さない液晶支
持板側から、紫外線を照射し前記高分子形成材料を重合
する工程を含むことを特徴とする液晶光学素子の製造方
法であり、紫外線吸収剤の存在下にも関わらず、混合組
成物の重合が充分に進行するよう考慮した液晶光学素子
の製造方法である。
素子の製造方法は、液晶材料とオリゴマー、モノマー及
び重合開始剤からなる高分子形成材料とからなる均一組
成物を、片側の液晶支持板の電極上にのみ紫外線吸収剤
を混合した絶縁膜を有する上下一対の液晶支持板間に挟
持し、紫外線吸収剤を混合した絶縁膜を有さない液晶支
持板側から、紫外線を照射し前記高分子形成材料を重合
する工程を含むことを特徴とする液晶光学素子の製造方
法であり、紫外線吸収剤の存在下にも関わらず、混合組
成物の重合が充分に進行するよう考慮した液晶光学素子
の製造方法である。
【００１０】本発明の液晶光学素子を利用することで、
光カットフィルター等の光遮光手段を利用することな
く、ＰＤＬＣ材料の耐光性を効率よく確保することが可
能になり、液晶光学素子の耐光性が大幅に改善される。
光カットフィルター等の光遮光手段を利用することな
く、ＰＤＬＣ材料の耐光性を効率よく確保することが可
能になり、液晶光学素子の耐光性が大幅に改善される。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の液晶光学素子を利用する
ことでＰＤＬＣを利用した液晶光学素子の耐光性が大幅
に改善できる。これは、絶縁膜中に混合した紫外線吸収
剤がＰＤＬＣ形成後にＰＤＬＣ中に残存した重合開始剤
の光吸収を遮断する結果、光吸収によって起こる重合開
始剤のラジカル開裂及び液晶材料のラジカル分解を抑制
できることによる。
ことでＰＤＬＣを利用した液晶光学素子の耐光性が大幅
に改善できる。これは、絶縁膜中に混合した紫外線吸収
剤がＰＤＬＣ形成後にＰＤＬＣ中に残存した重合開始剤
の光吸収を遮断する結果、光吸収によって起こる重合開
始剤のラジカル開裂及び液晶材料のラジカル分解を抑制
できることによる。
【００１２】つまりは、本発明の液晶光学素子を利用す
ることで、光カットフィルター等の光遮光手段を利用す
ることなく、従って低コストかつ軽量で耐光性の優れた
液晶光学素子が実現できることになる。
ることで、光カットフィルター等の光遮光手段を利用す
ることなく、従って低コストかつ軽量で耐光性の優れた
液晶光学素子が実現できることになる。
【００１３】尚、高分子マトリクスの形成に用いるオリ
ゴマー、モノマー材料は、光または熱により重合を開始
させる重合開始剤を含むものであり、モノマー材料とし
ては、光または熱により重合硬化するものであれば特に
限定されないが、２−エチルヘキシルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールドアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリプロピ
レングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レートなど一般に市販されているアクリル系モノマー、
さらには広く、アクリル系以外の市販品も応用可能であ
る。オリゴマーもウレタンアクリレート系、エステルア
クリレート系、エポキシアクリレート系などが利用でき
る。
ゴマー、モノマー材料は、光または熱により重合を開始
させる重合開始剤を含むものであり、モノマー材料とし
ては、光または熱により重合硬化するものであれば特に
限定されないが、２−エチルヘキシルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールドアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリプロピ
レングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レートなど一般に市販されているアクリル系モノマー、
さらには広く、アクリル系以外の市販品も応用可能であ
る。オリゴマーもウレタンアクリレート系、エステルア
クリレート系、エポキシアクリレート系などが利用でき
る。
【００１４】また、重合開始剤もダロキュア１１７３
（日本チバガイギー（株）製）、ダロキュア４２６５や
イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュ
ア９０７など広く利用できる。
（日本チバガイギー（株）製）、ダロキュア４２６５や
イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュ
ア９０７など広く利用できる。
【００１５】また、液晶材料も下記の実施例に記載した
ＴＬ２０５に限定されるものではなく、絶縁膜材料も実
施例に記載した材料に限定されるものではない。紫外線
吸収剤は実施例に記載した材料に限定されるものでな
く、使用する重合開始剤に合わせ光吸収の関係から適し
たもの（重合開始剤の光吸収領域の光をカットし得る紫
外線吸収剤）を利用すればよい。
ＴＬ２０５に限定されるものではなく、絶縁膜材料も実
施例に記載した材料に限定されるものではない。紫外線
吸収剤は実施例に記載した材料に限定されるものでな
く、使用する重合開始剤に合わせ光吸収の関係から適し
たもの（重合開始剤の光吸収領域の光をカットし得る紫
外線吸収剤）を利用すればよい。
【００１６】図１は本発明の液晶光学素子の概略を示し
た断面図である。図１において、それぞれの表面にイン
ジウム・錫酸化物（以下、ＩＴＯと呼ぶ。）よりなる透
明電極層１３とその上に紫外線吸収剤１８が混合された
絶縁膜１４が形成された上側基板１１と透明電極層１３
上に絶縁膜１４が形成された下側基板１２が、互いの透
明電極層１３が所定の間隔を空けて対向するように配置
され、対向する上下基板１１、１２間に、高分子マトリ
クス１６中に液晶１７が分散保持されたＰＤＬＣが配置
されている。スペーサ兼シール樹脂１５により対向する
上下基板１１、１２が貼り合わされ、ＰＤＬＣは封止さ
れて、液晶光学素子が形成されている。
た断面図である。図１において、それぞれの表面にイン
ジウム・錫酸化物（以下、ＩＴＯと呼ぶ。）よりなる透
明電極層１３とその上に紫外線吸収剤１８が混合された
絶縁膜１４が形成された上側基板１１と透明電極層１３
上に絶縁膜１４が形成された下側基板１２が、互いの透
明電極層１３が所定の間隔を空けて対向するように配置
され、対向する上下基板１１、１２間に、高分子マトリ
クス１６中に液晶１７が分散保持されたＰＤＬＣが配置
されている。スペーサ兼シール樹脂１５により対向する
上下基板１１、１２が貼り合わされ、ＰＤＬＣは封止さ
れて、液晶光学素子が形成されている。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳しく説明
する。
する。
【００１８】（実施例）図３は本発明の液晶光学素子の
製造過程の状態を示した斜視図である。ＩＴＯよりなる
透明電極層３３を有するガラス基板を２枚用意し、一方
のガラス基板上の電極面に、紫外線吸収剤３４として５
-クロロ-２-ヒドロキシベンゾフェノン（最大吸光波長
範囲３２０〜３９０ｎｍ）を混合したポリイミド前駆体
溶液（ＪＡＬＳ２１４；日本合成ゴム（株）製、専用の
希釈剤で３％に希釈した溶液）を、他方のガラス基板上
の電極面には、紫外線吸収剤を混合していないポリイミ
ド前駆体溶液（ＪＡＬＳ２１４；日本合成ゴム（株）
製、専用の希釈剤で３％に希釈した溶液）をそれぞれス
ピンコートした。スピンコートの条件は５００ｒｐｍ．
１０秒，３０００ｒｐｍ．３０秒の条件で行った。
製造過程の状態を示した斜視図である。ＩＴＯよりなる
透明電極層３３を有するガラス基板を２枚用意し、一方
のガラス基板上の電極面に、紫外線吸収剤３４として５
-クロロ-２-ヒドロキシベンゾフェノン（最大吸光波長
範囲３２０〜３９０ｎｍ）を混合したポリイミド前駆体
溶液（ＪＡＬＳ２１４；日本合成ゴム（株）製、専用の
希釈剤で３％に希釈した溶液）を、他方のガラス基板上
の電極面には、紫外線吸収剤を混合していないポリイミ
ド前駆体溶液（ＪＡＬＳ２１４；日本合成ゴム（株）
製、専用の希釈剤で３％に希釈した溶液）をそれぞれス
ピンコートした。スピンコートの条件は５００ｒｐｍ．
１０秒，３０００ｒｐｍ．３０秒の条件で行った。
【００１９】尚、紫外線吸収剤の混合量はポリイミド前
駆体溶液に対し１重量％とした。１８０℃−６０分の条
件でポリイミド化し、ガラス基板上にポリイミドの絶縁
膜３５を形成した（以降、紫外線吸収剤を混合した絶縁
膜を有する基板を上側基板３１、紫外線吸収剤を混合し
ていない絶縁膜を有する基板を下側基板３２と記述す
る）。
駆体溶液に対し１重量％とした。１８０℃−６０分の条
件でポリイミド化し、ガラス基板上にポリイミドの絶縁
膜３５を形成した（以降、紫外線吸収剤を混合した絶縁
膜を有する基板を上側基板３１、紫外線吸収剤を混合し
ていない絶縁膜を有する基板を下側基板３２と記述す
る）。
【００２０】液晶光学素子の製造は以下の手順により完
成した。つまり、下側基板３２の表面にスペーサ兼シー
ル樹脂３９として直径１３μｍのガラス繊維を分散した
酸無水物硬化型エポキシ樹脂を４辺の端に５ｍｍ幅で印
刷した上で（一辺は開口部３６として１ｍｍ幅残し
た）、上側基板３１と下側基板３２を対向させた状態で
加圧し、１４０℃で４時間加熱して硬化接着し、空セル
を完成した。
成した。つまり、下側基板３２の表面にスペーサ兼シー
ル樹脂３９として直径１３μｍのガラス繊維を分散した
酸無水物硬化型エポキシ樹脂を４辺の端に５ｍｍ幅で印
刷した上で（一辺は開口部３６として１ｍｍ幅残し
た）、上側基板３１と下側基板３２を対向させた状態で
加圧し、１４０℃で４時間加熱して硬化接着し、空セル
を完成した。
【００２１】次に、液晶材料として、ＴＬ２０５（メル
ク（株）製）を７５．０グラム、高分子形成モノマーと
して、２エチルヘキシルアクリレート（ナカライテスク
（株）製）を１５．０グラム、オリゴマーとしてＫＡＹ
ＡＲＡＤ ＨＸ６２０（日本化薬（株）製）を９．５グ
ラム、光重合開始剤としてイルガキュア９０７（チバガ
イギー（株）製：光吸収の吸収端は３８０ｎｍ）を０．
５ｇを用意し、各材料を加え合わせ重合性組成物３７を
形成した。
ク（株）製）を７５．０グラム、高分子形成モノマーと
して、２エチルヘキシルアクリレート（ナカライテスク
（株）製）を１５．０グラム、オリゴマーとしてＫＡＹ
ＡＲＡＤ ＨＸ６２０（日本化薬（株）製）を９．５グ
ラム、光重合開始剤としてイルガキュア９０７（チバガ
イギー（株）製：光吸収の吸収端は３８０ｎｍ）を０．
５ｇを用意し、各材料を加え合わせ重合性組成物３７を
形成した。
【００２２】続いて、重合性組成物３７を２５℃で十分
撹拌した後、２５℃で前記した空セルに、その開口部３
６から、注入し、注入完了後、開口部を封止した後、２
５℃で３６５ｎｍの紫外光３８（２４．５ｍＷ／ｃ
ｍ2）を下側基板側から１００秒照射し、ＰＤＬＣがガ
ラス基板間に挟持された液晶光学素子を完成した。
撹拌した後、２５℃で前記した空セルに、その開口部３
６から、注入し、注入完了後、開口部を封止した後、２
５℃で３６５ｎｍの紫外光３８（２４．５ｍＷ／ｃ
ｍ2）を下側基板側から１００秒照射し、ＰＤＬＣがガ
ラス基板間に挟持された液晶光学素子を完成した。
【００２３】この様に完成した液晶光学素子にメタルハ
ライドランプを光源とし耐光性試験を行った。光照度は
液晶光学素子の表面で約６０万ルクス、表面温度は約６
０℃であった。尚、液晶光学素子は紫外線吸収剤を混合
した絶縁膜を有する液晶支持板面を光源に向けて配置し
た。液晶光学素子の性能は６０℃での電圧保持特性を指
標にした。結果を（表１）に示す。
ライドランプを光源とし耐光性試験を行った。光照度は
液晶光学素子の表面で約６０万ルクス、表面温度は約６
０℃であった。尚、液晶光学素子は紫外線吸収剤を混合
した絶縁膜を有する液晶支持板面を光源に向けて配置し
た。液晶光学素子の性能は６０℃での電圧保持特性を指
標にした。結果を（表１）に示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】紫外線吸収剤を混合した絶縁膜を有する実
施例１記載の液晶光学素子は５００時間照射後も電圧保
持率９８％をキープし、耐光性は大幅に改善された。
施例１記載の液晶光学素子は５００時間照射後も電圧保
持率９８％をキープし、耐光性は大幅に改善された。
【００２６】（比較例）絶縁膜材料及び液晶材料、モノ
マー材料、オリゴマー材料、重合開始剤は同じで、紫外
線吸収剤を用いずに実施例記載の手法に従い液晶光学素
子を完成した。このようにして完成した液晶光学素子の
耐光性試験の結果を（表１）に示すが、５００時間照射
後の電圧保持率は約６０％まで低下し、光によって特性
が悪化していることが分かった。
マー材料、オリゴマー材料、重合開始剤は同じで、紫外
線吸収剤を用いずに実施例記載の手法に従い液晶光学素
子を完成した。このようにして完成した液晶光学素子の
耐光性試験の結果を（表１）に示すが、５００時間照射
後の電圧保持率は約６０％まで低下し、光によって特性
が悪化していることが分かった。
【００２７】
【発明の効果】上述したように、ＰＤＬＣを利用した液
晶光学素子に於いて、液晶支持板上にＰＤＬＣの形成に
用いる重合開始剤の光吸収を遮断できる紫外線吸収剤を
混合した絶縁膜を設けることで耐光性が大幅に改善され
た液晶光学素子が実現できる。
晶光学素子に於いて、液晶支持板上にＰＤＬＣの形成に
用いる重合開始剤の光吸収を遮断できる紫外線吸収剤を
混合した絶縁膜を設けることで耐光性が大幅に改善され
た液晶光学素子が実現できる。
【図１】本発明の液晶光学素子の構成を示す断面図
【図２】高分子分散型液晶を用いて作製したデバイスの
表示原理を示す概略図
表示原理を示す概略図
【図３】本発明の液晶光学素子の製造方法の概略を示す
斜視図
斜視図
【符号の説明】 １１ 上側基板 １２ 下側基板 １３ 透明電極層 １４ 絶縁膜 １５ スペーサ兼シール樹脂 １６ 高分子マトリクス １７ 液晶 １８ 紫外線吸収剤 ２１ 透明電極層 ２２ 入射光 ２３ 散乱光 ２４ 液晶 ２５ 高分子相 ２６ 透過光 ３１ 上側基板 ３２ 下側基板 ３３ 透明電極層 ３４ 紫外線吸収剤 ３５ 絶縁膜 ３６ 開口部 ３７ 重合性組成物 ３８ 紫外光 ３９ スぺーサ兼シール樹脂
Claims (4)
- 【請求項１】 液晶が高分子マトリクス中に分散保持さ
れた高分子分散型液晶を電極を設けた上下一対の液晶支
持板間に挟持した液晶光学素子において、該液晶支持板
の電極上に紫外線吸収剤を混合した絶縁膜を有すること
を特徴とする液晶光学素子。 - 【請求項２】 紫外線吸収剤を混合した絶縁膜を液晶支
持板の片側の電極上にのみ有することを特徴とする請求
項１記載の液晶光学素子。 - 【請求項３】 紫外線吸収剤が、高分子分散型液晶の形
成に利用する重合開始剤の光吸収領域の光を遮断し得る
材料であることを特徴とする請求項１及び請求項２記載
の液晶光学素子。 - 【請求項４】 液晶材料とオリゴマー、モノマー及び重
合開始剤からなる高分子形成材料とからなる均一組成物
を、片側の液晶支持板の電極上にのみ紫外線吸収剤を混
合した絶縁膜を有する上下一対の液晶支持板間に挟持
し、紫外線吸収剤を混合した絶縁膜を有さない液晶支持
板側から、紫外線を照射し前記高分子形成材料を重合す
る工程を含むことを特徴とする液晶光学素子の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29063197A JPH11125808A (ja) | 1997-10-23 | 1997-10-23 | 液晶光学素子とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29063197A JPH11125808A (ja) | 1997-10-23 | 1997-10-23 | 液晶光学素子とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11125808A true JPH11125808A (ja) | 1999-05-11 |
Family
ID=17758488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29063197A Pending JPH11125808A (ja) | 1997-10-23 | 1997-10-23 | 液晶光学素子とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11125808A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006189582A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Toppan Printing Co Ltd | マイクロカプセル型電気泳動式表示パネル |
| JP2007501445A (ja) * | 2003-05-27 | 2007-01-25 | イーストマン コダック カンパニー | ポリマー分散型液晶ディスプレイ |
| US7969535B2 (en) | 2008-02-26 | 2011-06-28 | Au Optronics Corporation | Pixel unit, liquid crystal display panel, electro-optical apparatus, and methods for manufacturing the same |
| CN105759487A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-07-13 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 调光膜与其制备方法 |
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1997
- 1997-10-23 JP JP29063197A patent/JPH11125808A/ja active Pending
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